JP2020037181A - ウェハの高精度加工装置 - Google Patents
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Abstract
Description
11 装置本体
12 回転機構部
13 回転チャックテーブル
14 研削部
15 ノズル
16 回転加工ホイール
16a 研削用砥石
17 チャックベース
18 チャック
18a 吸引板
18b 枠体
19 恒温制御部
119 水路
119a〜119d 環状水路部
119e連通水路部
119f 給水口
119g 排水口
20 ロータリジョイント
21 給水配管
22 恒温チラー水源
22a 給水口
22b 回収口
23 チャック用配管
24 切換弁
25 排水配管
26 研削水
27 恒温チラー水
50 制御部
W ウェハ
S1,S2 誤差
S3 高さの差
Claims (6)
- 円板状のウェハを吸引保持する円板状のチャックと、該チャックと一体に回転するチャックベースを有する回転チャックテーブルと、該回転チャックテーブル上のウェハを研削する回転加工ホイールと、前記回転チャックテーブル上に研削水を供給するノズルと、を備えるウェハの高精度加工装置であって、
前記回転チャックテーブルは、前記回転チャックテーブルを略定温に保持するための恒温チラー水を流す水路を設けた恒温制御部を有する、ことを特徴とするウェハの高精度加工装置。 - 前記恒温制御部の水路は、前記チャックの底面に隣接して前記チャックベースに設けた、ことを特徴とする請求項1に記載のウェハの高精度加工装置。
- 前記恒温制御部の水路は、前記チャックベースの中心側で恒温チラー水源に接続される給水口と、前記チャックベースの外周側近傍に形成される排水口と、を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のウェハの高精度加工装置。
- 前記水路の排水口は、前記恒温チラー水源の回収口に接続される、ことを特徴とする請求項3に記載のウェハの高精度加工装置。
- 前記恒温制御部の水路は、連通水路部を通して連通されている複数の同心状に配置された環状水路部を有する、ことを特徴とする請求項1、2、3又は4に記載のウェハの高精度加工装置。
- 前記恒温制御部に供給される恒温チラー水の温度と前記ノズルから前記回転チャックテーブル上に供給される研削水の温度を略同じに設定してなる、ことを特徴とする請求項1、2、3、4又は5に記載のウェハの高精度加工装置。
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---|---|---|---|---|
TWI823656B (zh) * | 2022-03-28 | 2023-11-21 | 日商日本東京精密股份有限公司 | 晶圓加工裝置 |
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JP2002540611A (ja) * | 1999-03-29 | 2002-11-26 | ラム リサーチ コーポレイション | 化学機械研磨中の処理温度を安定させる方法及び装置 |
JP2002373875A (ja) * | 2001-06-13 | 2002-12-26 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法および化学的機械研磨装置 |
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2019
- 2019-11-06 JP JP2019201238A patent/JP2020037181A/ja active Pending
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