JP2020037064A - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents

Abstract

【課題】複数個の噴霧ノズルの走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物の塗布面に塗布液を塗布することができ、複数個の噴霧ノズルにより塗布の処理速度を向上する塗布方法の提供。【解決手段】被塗布物Ｗの塗布面Ｗ１に塗布液Ｅを噴霧する噴霧ノズルがノズルヘッドＤに複数個配置され、複数個の噴霧ノズルＱ１、Ｑ２はＹ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、配置ピッチＰｚは、次式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たす塗布方法。式（１）：Ｐｓ＝Ｎ×Ｐｃ、式（２）：Ｐｚ＝ｎ×Ｐｃ、式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂ、式（４）：Ｐｚ≧Ｂ（ここに、ＰｓはノズルヘッドのＹ軸方向の移動ピッチ、Ｎは噴霧ノズルの数、Ｐｃは塗り重ねピッチ、ｎは係数（噴霧ノズルの数の１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）、Ｎｂは噴霧ノズルの外幅寸法、Ｂは塗布面上の塗布幅）【選択図】図１

Description

本発明は、例えば、工業製品の外装塗装やディスプレー、タッチパネル、燃料電池等の成膜技術として用いられる塗布方法及び塗布装置に関するものである。

従来、この種の塗布方法及び塗布装置として、被塗布物の塗布面にノズルヘッドに配置された噴霧ノズルから塗布液を噴霧し、ノズルヘッドを被塗布物の幅方向としてのＸ軸方向及び幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に複合動作をさせ、複合動作によりノズルヘッドは噴霧ノズルの被塗布物の一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動、他方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動、他方側部での噴霧ノズルの被塗布物の他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動、及び、一方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動からなる走査サイクルを行い、走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物の塗布面に塗布液を塗布する塗布方法及び塗布装置が知られている。

又、他の塗布方法及び塗布装置として、上記被塗布物の移送状態で上記走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物の塗布面に塗布液を連続塗布するに際し、上記ノズルヘッドを上記被塗布物の幅方向に８の字走査サイクルからなる８の字軌跡運動をさせ、上記被塗布物の移送速度ＶｒをＶｒ＝Ｖｎ×ｓｉｎθ（ここに、Ｖｒは被塗布物の移送速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、Ｖｎは噴霧ノズルの走査速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、θは噴霧ノズルの走査傾斜角[°]を示す。）に設定し、被塗布物の移送及び８の字軌跡運動により被塗布物に対して上記噴霧ノズルの走査サイクルを相対的に行い、被塗布物に対する相対的となる走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物の塗布面に塗布液を塗布する塗布方法及び塗布装置も知られている。

特開昭６２−１４９３８８号公報 特公平６−７１５７４号公報 特開昭６２−２３４６７号公報

しかしながらこれら従来構造の場合、上記噴霧ノズルの上記走査サイクルをＹ軸方向に順次繰り返す動作により被塗布物の塗布面に塗布液を塗布することになるため、上記走査サイクルのうちの上記噴霧ノズルの移動ピッチは５ｍｍ〜２０ｍｍ程度とされ、塗布処理速度の向上に対して限界が生ずることがある。

この処理速度を向上させる手段として、噴霧ノズルの数を増やすことが有効ではあるが、上記噴霧ノズルの構造上、形状の小型化に限界があり、噴霧ノズルの配置ピッチに限界があり、しかも、隣り合う噴霧ノズルからの塗布液の干渉を回避するため、噴霧ノズルを千鳥状に配置して配置ピッチを広げる必要があり、複数の噴霧ノズルで交互に塗布を行うには、単一の噴霧ノズルのときよりも噴霧ノズルの走査サイクルの移動ピッチ分を大きくする必要があり、被塗布物の無駄な消費による材料効率の悪化、移動ピッチ分の拡大による装置の大型化等の問題が生ずることがある。

又、他の従来構造として、被塗布物の塗布面を噴霧ノズルの数で分割し、各分割領域を単一の噴霧ノズルで塗布するという方法もあるが、隣り合う噴霧ノズルの境界部で、塗り重ねの際に乾燥状態が著しく異なるため塗布品質において問題が生ずることがあるという不都合を有している。

本発明はこのような不都合を解決することを目的とするもので、本発明のうち、請求項１記載の方法の発明は、被塗布物の塗布面にノズルヘッドに配置された噴霧ノズルから塗布液を噴霧し、該ノズルヘッドを該被塗布物の幅方向としてのＸ軸方向及び該幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に複合動作をさせ、該複合動作により該ノズルヘッドは該噴霧ノズルの被塗布物の一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動、他方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動、他方側部での該噴霧ノズルの被塗布物の他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動、及び、該一方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動からなる走査サイクルを行い、該走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に該塗布液を塗布する方法において、上記噴霧ノズルは上記ノズルヘッドに複数個配置され、該複数個の噴霧ノズルは上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが下記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とする塗布方法にある。
式（１）：Ｐｓ＝Ｎ×Ｐｃ
式（２）：Ｐｚ＝ｎ×Ｐｃ
式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂ
式（４）：Ｐｚ≧Ｂ
（ここに、ＰｓはノズルヘッドのＹ軸方向の移動ピッチ[ｍｍ]、Ｎは噴霧ノズルの数[個]、Ｐｃは塗り重ねピッチ[ｍｍ]、Ｐｚは噴霧ノズルの配置ピッチ[ｍｍ]、ｎは係数（噴霧ノズルの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）、Ｎｂは噴霧ノズルの外幅寸法[ｍｍ]、Ｂは塗布面上の塗布幅[ｍｍ]を示す。）

又、請求項２記載の方法の発明は、上記被塗布物の静止状態で上記走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に上記塗布液を枚葉塗布する方法において、上記複数個の噴霧ノズルの配置ピッチが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）のすべてを満たすことを特徴とするものである。

又、請求項３記載の方法の発明は、上記被塗布物の移送状態で上記走査サイクルの繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に上記塗布液を連続塗布する方法において、上記ノズルヘッドを上記被塗布物の幅方向に８の字走査サイクルからなる８の字軌跡運動をさせ、上記被塗布物の移送速度Ｖｒが下記式（５）を満たし、上記被塗布物の移送及び該８の字軌跡運動により上記被塗布物に対して上記噴霧ノズルの走査サイクルを相対的に行い、該複数個の該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とするものである。
式（５）：Ｖｒ＝Ｖｎ×ｓｉｎθ
（ここに、Ｖｒは被塗布物の移送速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、Ｖｎは噴霧ノズルの走査速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、θは噴霧ノズルの被塗布物の移送方向へ先上がり傾斜した走査方向とＸ軸方向とのなす走査傾斜角[°]を示す。）

又、請求項４記載の方法の発明は、被塗布物の塗布面に塗布液を噴霧する噴霧ノズルがノズルヘッドに配置され、該ノズルヘッドを該被塗布物の幅方向としてのＸ軸方向に往復動作をさせると共に該被塗布物を該幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に間欠移送をさせ、該ノズルヘッドのＸ軸方向の往復動作及び被塗布物のＹ軸方向の間欠移送の複合動作により該ノズルヘッドは該噴霧ノズルの被塗布物の一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動・停止、他方側部での被塗布物のＹ軸方向の移動ピッチ分の移動、他方側部での該噴霧ノズルの被塗布物の他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動・停止、及び、該一方側部での被塗布物のＹ軸方向の移動ピッチ分の移動からなる走査サイクルを行い、該走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に該塗布液を塗布する方法において、上記噴霧ノズルは上記ノズルヘッドに複数個配置され、該複数個の噴霧ノズルは上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが下記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とする塗布方法。
式（１）：Ｐｓ＝Ｎ×Ｐｃ
式（２）：Ｐｚ＝ｎ×Ｐｃ
式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂ
式（４）：Ｐｚ≧Ｂ
（ここに、Ｐｓは被塗布物の移送ピッチ、いいかえると、ノズルヘッドのＹ軸方向の被塗布物に対する相対的な移動ピッチ[ｍｍ]、Ｎは噴霧ノズルの数[個]、Ｐｃは塗り重ねピッチ[ｍｍ]、Ｐｚは噴霧ノズルの配置ピッチ[ｍｍ]、ｎは係数（噴霧ノズルの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）、Ｎｂは噴霧ノズルの外幅寸法[ｍｍ]、Ｂは塗布面上の塗布幅[ｍｍ]を示す。）

又、請求項５記載の装置の発明は、被塗布物の塗布面に塗布液を噴霧する噴霧ノズルがノズルヘッドに配置され、該ノズルヘッドを該被塗布物の幅方向としてのＸ軸方向及び該幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に複合動作をさせる複合動作機構が備えられ、該複合動作により該ノズルヘッドは該噴霧ノズルの被塗布物の一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動、他方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動、他方側部での該噴霧ノズルの被塗布物の他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動、及び、該一方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動からなる走査サイクルを行い、該走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に該塗布液を塗布する装置において、上記噴霧ノズルは上記ノズルヘッドに複数個配置され、該複数個の噴霧ノズルは上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが下記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とする塗布装置にある。
式（１）：Ｐｓ＝Ｎ×Ｐｃ
式（２）：Ｐｚ＝ｎ×Ｐｃ
式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂ
式（４）：Ｐｚ≧Ｂ
（ここに、ＰｓはノズルヘッドのＹ軸方向の移動ピッチ[ｍｍ]、Ｎは噴霧ノズルの数[個]、Ｐｃは塗り重ねピッチ[ｍｍ]、Ｐｚは噴霧ノズルの配置ピッチ[ｍｍ]、ｎは係数（噴霧ノズルの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）、Ｎｂは噴霧ノズルの外幅寸法[ｍｍ]、Ｂは塗布面上の塗布幅[ｍｍ]を示す。）

又、請求項６記載の装置の発明は、上記被塗布物の静止状態で上記走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に上記塗布液を枚葉塗布する装置において、上記複数個の噴霧ノズルの配置ピッチが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）のすべてを満たすことを特徴とするものである。

又、請求項７記載の装置の発明は、上記被塗布物の移送状態で上記走査サイクルの繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に上記塗布液を連続塗布する装置において、上記ノズルヘッドを上記複合動作機構により上記被塗布物の幅方向に８の字走査サイクルからなる８の字軌跡運動をさせ、上記被塗布物の移送速度Ｖｒが下記式（５）を満たし、上記被塗布物の移送及び該８の字軌跡運動により上記被塗布物に対して上記噴霧ノズルの走査サイクルを相対的に行い、該複数個の該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とするものである。
式（５）：Ｖｒ＝Ｖｎ×ｓｉｎθ
（ここに、Ｖｒは被塗布物の移送速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、Ｖｎは噴霧ノズルの走査速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、θは噴霧ノズルの被塗布物の移送方向へ先上がり傾斜した走査方向とＸ軸方向とのなす走査傾斜角[°]を示す。）

又、請求項８記載の装置の発明は、被塗布物の塗布面に塗布液を噴霧する噴霧ノズルがノズルヘッドに配置され、該ノズルヘッドを該被塗布物の幅方向としてのＸ軸方向に往復動作をさせる往復動機構及び該被塗布物を該幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に間欠移送をさせる間欠移送機構が備えられ、該ノズルヘッドのＸ軸方向の往復動作及び被塗布物のＹ軸方向の間欠移送の複合動作により該ノズルヘッドは該噴霧ノズルの被塗布物の一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動・停止、他方側部での被塗布物のＹ軸方向の移動ピッチ分の移動、他方側部での該噴霧ノズルの被塗布物の他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動・停止、及び、該一方側部での被塗布物のＹ軸方向の移動ピッチ分の移動からなる走査サイクルを行い、該走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に該塗布液を塗布する装置において、上記噴霧ノズルは上記ノズルヘッドに複数個配置され、該複数個の噴霧ノズルは上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが下記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とする塗布装置。
式（１）：Ｐｓ＝Ｎ×Ｐｃ
式（２）：Ｐｚ＝ｎ×Ｐｃ
式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂ
式（４）：Ｐｚ≧Ｂ
（ここに、Ｐｓは被塗布物の移送ピッチ、いいかえると、ノズルヘッドのＹ軸方向の被塗布物に対する相対的な移動ピッチ[ｍｍ]、Ｎは噴霧ノズルの数[個]、Ｐｃは塗り重ねピッチ[ｍｍ]、Ｐｚは噴霧ノズルの配置ピッチ[ｍｍ]、ｎは係数（噴霧ノズルの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）、Ｎｂは噴霧ノズルの外幅寸法[ｍｍ]、Ｂは塗布面上の塗布幅[ｍｍ]を示す。）

本発明は上述の如く、請求項１及び請求項５記載の発明にあっては、被塗布物に塗布液を噴霧する噴霧ノズルがノズルヘッドに配置され、ノズルヘッドを被塗布物の幅方向としてのＸ軸方向及び幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に複合動作をさせる複合動作機構が備えられ、複合動作によりノズルヘッドは噴霧ノズルの被塗布物の一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動、他方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動、他方側部での噴霧ノズルの被塗布物の他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動、及び、一方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動からなる走査サイクルを行い、走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物の塗布面に塗布液を塗布するに際し、上記噴霧ノズルは上記ノズルヘッドに複数個配置され、複数個の噴霧ノズルは上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすから、複数個の噴霧ノズルの走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物の塗布面に塗布液を塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルの移動軌跡及び移動ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡により塗布液を塗り重ねて均一な成膜を行うことができ、複数個の噴霧ノズルにより塗布の処理速度を向上することができ、被塗布物の無駄な消費を抑制することができ、装置の小型化を図ることができる。

又、請求項２及び請求項６記載の発明にあっては、上記被塗布物の静止状態で上記走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物の塗布面に上記塗布液を枚葉塗布するに際し、上記複数個の噴霧ノズルの配置ピッチが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）のすべてを満たすから、上記被塗布物の静止状態で上記走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物の塗布面に複数個の噴霧ノズルで塗布液を枚葉塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルの移動軌跡及び移動ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡により塗布液を塗り重ねて均一な成膜を行うことができ、複数個の噴霧ノズルにより塗布の処理速度を向上することができ、被塗布物の無駄な消費を抑制することができ、装置の小型化を図ることができる。

又、請求項３及び請求項７記載の発明にあっては、被塗布物の連続的な移送状態で噴霧ノズルの８の字走査サイクルからなる８の字軌跡運動の協動により被塗布物の塗布面に対する上記相対的な走査サイクルを行い、複数個の噴霧ノズルの相対的な走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物の塗布面に塗布液を塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルの移動軌跡及び移動ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡により塗布液を塗り重ねて均一な成膜を行うことができ、複数個の噴霧ノズルにより塗布の処理速度を向上することができ、被塗布物の無駄な消費を抑制することができ、装置の小型化を図ることができる。

又、請求項４及び請求項８記載の発明にあっては、被塗布物の塗布面に塗布液を噴霧する噴霧ノズルがノズルヘッドに配置され、ノズルヘッドを被塗布物の幅方向としてのＸ軸方向に往復動作をさせる往復動機構及び被塗布物を幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に間欠移送をさせる間欠移送機構が備えられ、ノズルヘッドのＸ軸方向の往復動作及び被塗布物のＹ軸方向の間欠移送の複合動作によりノズルヘッドは噴霧ノズルの被塗布物の一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動・停止、他方側部での被塗布物のＹ軸方向の移動ピッチ分の移動、他方側部での噴霧ノズルの被塗布物の他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動・停止、及び、一方側部での被塗布物のＹ軸方向の移動ピッチ分の移動からなる走査サイクルを行い、走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物の塗布面に塗布液を塗布するに際し、上記噴霧ノズルは上記ノズルヘッドに複数個配置され、複数個の噴霧ノズルは上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすから、複数個の噴霧ノズルのＸ軸方向の往復動作及び被塗布物のＹ軸方向の間欠移送による走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物の塗布面に塗布液を塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルの移動軌跡及び被塗布物の移送ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡により塗布液を塗り重ねて均一な成膜を行うことができ、複数個の噴霧ノズルにより塗布の処理速度を向上することができ、被塗布物の無駄な消費を抑制することができ、装置の小型化を図ることができる。

本発明の実施の第一形態例の説明斜視図である。 本発明の実施の第一形態例の説明平面図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例１の噴霧ノズルの移動軌跡説明図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例１の噴霧ノズルの移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例１の噴霧ノズルの移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例２の噴霧ノズルの移動軌跡説明図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例２の噴霧ノズルの移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例２の噴霧ノズルの移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例３の噴霧ノズルの移動軌跡説明図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例３の噴霧ノズルの移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例３の噴霧ノズルの移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例４の噴霧ノズルの移動軌跡説明図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例４の噴霧ノズルの移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第一形態例の実施例４の噴霧ノズルの移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第二形態例の説明斜視図である。 本発明の実施の第二形態例の実施例１の噴霧ノズルの相対的移動軌跡説明図である。 本発明の実施の第二形態例の実施例１の噴霧ノズルの相対的移動軌跡説明図である。 本発明の実施の第二形態例の実施例１の噴霧ノズルの相対的移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第二形態例の実施例１の噴霧ノズルの相対的移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第二形態例の実施例２の噴霧ノズルの相対的移動軌跡説明図である。 本発明の実施の第二形態例の実施例２の噴霧ノズルの相対的移動軌跡説明図である。 本発明の実施の第二形態例の実施例２の噴霧ノズルの相対的移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第二形態例の実施例２の噴霧ノズルの相対的移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第三形態例の説明斜視図である。 本発明の実施の第三形態例の説明平面図である。 本発明の実施の第三形態例の噴霧ノズルの相対的移動軌跡説明図である。 本発明の実施の第三形態例の噴霧ノズルの相対的移動軌跡及び塗布断面説明図である。 本発明の実施の第四形態例の説明斜視図である。

図１乃至図１５は本発明の実施の形態例であって、図１乃至図６−２の第一形態例は、上記請求項１、請求項２及び請求項５、請求項６記載の発明に対応するものであり、図７乃至図１１−２の第二形態例は、上記請求項３及び請求項７記載の発明に対応するものであり、図１２乃至図１４−１の第三形態例及び図１５の第四形態例は、上記請求項４及び請求項８記載の発明に対応するものである。

図１乃至図６−２の第一形態例において、Ｑは噴霧ノズルであって、図１、図２の如く、被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを噴霧する複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２がノズルヘッドＤに配置され、ノズルヘッドＤは複合動作機構Ｍにより被塗布物Ｗの幅方向としてのＸ軸方向及び幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に複合動作をされることになる。

この複合動作機構ＭによるノズルヘッドＤの複合動作により、図３の如く、ノズルヘッドＤは、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の被塗布物Ｗの一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動Ｘ_１、他方側部での噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２のＹ軸方向の移動ピッチＰｓ分の移動Ｙ_１、他方側部での噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の被塗布物Ｗの他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動Ｘ_２、及び、一方側部での噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２のＹ軸方向の移動ピッチＰｓ分の移動Ｙ_２の４つの移動Ｘ_１・Ｙ_１・Ｘ_２・Ｙ_２からなる走査サイクルＣ（Ｘ_１→Ｙ_１→Ｘ_２→Ｙ_２）を行い、走査サイクルＣのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布するように構成している。この場合、上記複合動作機構Ｍは、上記ノズルヘッドＤを被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に対して上下方向としてのＺ軸方向に移動自在とする構造に構成されている。

なお、上記噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２のＹ軸方向の移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２では移動ピッチＰｓ分の送り動作及び一方側部から他方側部、又は、他方側部から一方側部への反転動作時においては、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動速度が一定ではないため塗布対象範囲外で行う必要がある。すなわち、塗布液Ｅの塗布を行う範囲は、これら送り動作及び反転動作を行う範囲を除く、Ｘ軸方向の有効塗布範囲Ｌ内で行うことになる。

Ｓは保持台であって、図１、図２の如く、上記被塗布物Ｗが載置可能に配設され、被塗布物Ｗは保持台Ｓに一枚宛、人為的又は自動的に供給取出自在に設けられ、所謂、枚葉式の塗布方法及び装置が採用されている。

この際、図３の如く、上記複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２は上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の配置ピッチＰｚが下記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすように配置している。
式（１）：Ｐｓ＝Ｎ×Ｐｃ
式（２）：Ｐｚ＝ｎ×Ｐｃ
式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂ
式（４）：Ｐｚ≧Ｂ
ここに、上記ＰｓはノズルヘッドＤのＹ軸方向の移動ピッチ[ｍｍ]、上記Ｎは噴霧ノズルＱの数[個]、上記Ｐｃは塗り重ねピッチ[ｍｍ]、上記Ｐｚは噴霧ノズルＱ・Ｑの配置ピッチ[ｍｍ]、上記ｎは係数（噴霧ノズルＱの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）、上記Ｎｂは噴霧ノズルＱの外幅寸法[ｍｍ]、上記Ｂは塗布面Ｗ_１上の塗布幅[ｍｍ]を示している。ここに、自然数とは正の整数をいい、０（ゼロ）や負の数は含まない。

表１は噴霧ノズルＱの数Ｎと係数ｎとの関係において、噴霧ノズルＱの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数という条件が成立する係数ｎには○、不成立となる係数ｎには×とした表である。

すなわち、表１中、ノズルの数Ｎが２のとき、成立する係数ｎは３、５、７、（９、１１・・）、不成立となる係数ｎは２、４、６、８、（１０、１２・・）となり、ノズルの数Ｎが３のとき、成立する係数ｎは２、４、５、７、８、（１０、１１・・）、不成立となる係数ｎは３、６、（９、１２・・）となる。

なお、上記式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂは、対向する２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２が互いに衝接せずに並列配置が可能となるための条件であり、式（４）：Ｐｚ≧Ｂは、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２からの塗布液Ｅの噴霧が互いに干渉しないとするための条件である。

なお、上記配置ピッチＰｚは、噴霧ノズルＱ・Ｑのサイズ、及び、互いの噴霧が影響しない範囲でなるべく小さい方が望ましい。これは装置が無駄に大きくならず、かつ、塗布開始と終了時の無駄になる塗布範囲が小さくなるためである。

これらの一般的な具体的数値を示すと、上記噴霧ノズルＱの外幅寸法Ｎｂは約５０ｍｍ、上記塗布面Ｗ_１上の塗布幅Ｂは約３０ｍｍ、移動ピッチＰｓ（Ｙ_１・Ｙ_２、Ｙ_１＝Ｙ_２）は約５ｍｍ〜約２０ｍｍとされる。

ここに、上記式（１）を満たすという成立条件は、もともと、噴霧ノズルＱ１個による塗布の場合、同じピッチで塗り重ねていくこと（Ｐｓ＝Ｐｃ）が精密成膜の基本であり、噴霧ノズルＱを複数個配置する場合、それぞれの噴霧ノズルＱ・Ｑからの噴霧が交互に同じピッチで塗り重ねられることが条件となり、このため、複数個の噴霧ノズルＱ・・を配置した場合、各々の噴霧ノズルＱ・・による塗布が繰り返され、全ての噴霧ノズルＱ・・が一度ずつ塗布を重ねた後に再び最初の噴霧ノズルＱの塗布が行われることになるという条件を定めたものである。この場合、噴霧ノズルＱの配置順と塗り重ねの順番は必ずしも一致はせず噴霧ノズルＱ・Ｑの配置ピッチＰｚによりその順番が入れ替わる。このため、噴霧ノズルＱ・Ｑの移動ピッチＰｓは噴霧ノズルＱの数Ｎと塗り重ねピッチＰｃの積にする必要があり、例えば２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の場合、塗り重ねピッチＰｃの２倍の移動ピッチＰｓで動作させる必要があり、また、例えば３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３の場合、３倍の移動ピッチＰｓで動作させる必要があり、４個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３・Ｑ_４の場合、以降も同様となる。

又、上記式（２）、式（３）及び式（４）を満たすという成立条件については、噴霧ノズルＱ・Ｑの配置ピッチＰｚに関しては、小さすぎると噴霧ノズルＱのサイズから物理的に配置できないし、さらに、近すぎると隣り合う噴霧が互いに干渉し合い、正常な塗布ができないことから定められている。このため、この場合、配置ピッチＰｚを約５０ｍｍ以上にする必要があり、又、噴霧ノズルＱを複数個配置する場合、それぞれの噴霧ノズルＱ・Ｑからの噴霧が交互に同じピッチで塗り重ねられることが条件となり、このため、噴霧ノズルＱ・Ｑの配置ピッチＰｚは塗り重ねピッチＰｃの倍数になっている必要があり、言い換えると、塗り重ねピッチＰｃの倍数でないときは均一ピッチにならず、よって、ｎは自然数である必要がある。

又、上記係数ｎの条件については、複数個の噴霧ノズルＱ・・の場合、1番目の噴霧ノズルＱの通過点と２番目以降の噴霧ノズルＱの配置が一致する場合、塗り重ねピッチＰｃが０（ゼロ）になる箇所が存在し、正しい塗布が行えないことになり、言い換えると、噴霧ノズルＱ・Ｑの配置ピッチＰｚ及びその倍数と移動ピッチＰｓ並びにその倍数が一致する場合を除外する必要がある。よって、係数ｎは噴霧ノズルＱの数Ｎの約数、及びその倍数以外の自然数という排除条件が必要となる。

この実施の第一形態例は上記構成であるから、例えば、（実施例１）表１中、噴霧ノズルＱの数Ｎが２、係数ｎが３の場合、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動軌跡は図３、図３−１、図３−２において、先ず、図３−１中、（１）の如く、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に走査サイクルＣのうちの移動Ｘ_１により２個の塗膜Ｑ_１１・Ｑ_２１が形成され、移動Ｙ_１を経由した後、図３−１中、（２）の如く、移動Ｘ_２により２個の塗膜Ｑ_１２・Ｑ_２２が形成され、塗り重ねピッチＰｃが形成され、移動Ｙ_２を経て一回目の走査サイクルＣがなされ、引き続き、図３−２中、（１）の如く、二回目の走査サイクルＣがＹ軸方向に繰り返され、２個の塗膜Ｑ_１３・Ｑ_２３が形成され、塗り重ねピッチＰｃ・Ｐｃが形成され、次いで、図３−２中、（２）の如く、２個の塗膜Ｑ_１４・Ｑ_２４が形成され、塗り重ねピッチＰｃが形成され、これら走査サイクルＣがＹ軸方向に繰り返され、走査サイクルＣの繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動軌跡Ｘ_１・Ｘ_２及び移動ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができる。

又、例えば、（実施例２）表１中、噴霧ノズルＱの数Ｎが２、不成立となる係数ｎが４の場合、すなわち、噴霧ノズルＱの数Ｎが２の場合、上記係数ｎの条件（噴霧ノズルＱの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）を満たさない場合、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動軌跡は図４、図４−１、図４−２において、先ず、図４−１中、（１）の如く、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に走査サイクルＣのうちの移動Ｘ_１により２個の塗膜Ｑ_１１・Ｑ_２１が形成され、移動Ｙ_１を経由した後、図４−１中、（２）の如く、移動Ｘ_２により２個の塗膜Ｑ_１２・Ｑ_２２が形成され、移動Ｙ_２を経て一回目の走査サイクルＣがなされ、引き続き、図４−２中、（１）の如く、二回目の走査サイクルＣがＹ軸方向に繰り返され、２個の塗膜Ｑ_１３・Ｑ_２３が形成され、塗膜Ｑ_１３は上記塗膜Ｑ_２１上に形成され、塗り重ねピッチＰｃは形成されず、次いで、図４−２中、（２）の如く、２個の塗膜Ｑ_１４・Ｑ_２４が形成され、塗膜Ｑ_１４は上記塗膜Ｑ_２２上に形成され、塗り重ねピッチＰｃは形成されず、したがって、噴霧ノズルＱ_１と噴霧ノズルＱ_２との移動軌跡が一致して塗り重ねピッチＰｃは形成されず、係数ｎの条件を満たさない場合、すなわち、不成立の場合の噴霧ノズルＱの移動軌跡の状態が理解される。

なお、図示省略しているが、係数ｎの条件を満たさない、係数ｎが自然数でない（整数でもない）小数・分数の場合、例えば、ｎ＝１．２の小数の場合、塗り重ねピッチＰｃが不均一となり、噴霧ノズルＱの塗り重ねが行われず、移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができない状態が理解される。

又、例えば、（実施例３）表１中、噴霧ノズルＱの数Ｎが２、係数ｎが５の場合、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動軌跡は、図５、図５−１、図５−２において、先ず、図５−１中、（１）の如く、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に走査サイクルＣのうちの移動Ｘ_１により２個の塗膜Ｑ_１１・Ｑ_２１が形成され、移動Ｙ_１を経由した後、図５−１中、（２）の如く、移動Ｘ_２により２個の塗膜Ｑ_１２・Ｑ_２２が形成され、移動Ｙ_２を経て一回目の走査サイクルＣがなされ、引き続き、図５−２中、（１）の如く、二回目の走査サイクルＣがＹ軸方向に繰り返され、２個の塗膜Ｑ_１３・Ｑ_２３が形成され、塗り重ねピッチＰｃが形成され、次いで、図５−２中、（２）の如く、２個の塗膜Ｑ_１４・Ｑ_２４が形成され、塗り重ねピッチＰｃ・Ｐｃが形成され、これら走査サイクルＣがＹ軸方向に繰り返され、走査サイクルＣの繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動軌跡Ｘ_１・Ｘ_２及び移動ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができる。

又、例えば、（実施例４）表１中、噴霧ノズルＱの数Ｎが３、係数ｎが２の場合、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動軌跡は、図６、図６−１、図６−２において、先ず、図６−１中、（１）の如く、３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に走査サイクルＣのうちの移動Ｘ_１により３個の塗膜Ｑ_１１・Ｑ_２１・Ｑ_３１が形成され、移動Ｙ_１を経由した後、図６−１中、（２）の如く、移動Ｘ_２により３個の塗膜Ｑ_１２・Ｑ_２２・Ｑ_３２が形成され、塗り重ねピッチＰｃ・Ｐｃ・Ｐｃが形成され、移動Ｙ_２を経て一回目の走査サイクルＣがなされ、引き続き、図６−２中、（１）の如く、二回目の走査サイクルＣがＹ軸方向に繰り返され、３個の塗膜Ｑ_１３・Ｑ_２３・Ｑ_３３が形成され、塗り重ねピッチＰｃ・Ｐｃ・Ｐｃが形成され、次いで、図６−２中、（２）の如く、３個の塗膜Ｑ_１４・Ｑ_２４・Ｑ_３４が形成され、塗り重ねピッチＰｃ・Ｐｃ・Ｐｃが形成され、これら走査サイクルＣがＹ軸方向に繰り返され、走査サイクルＣの繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３の移動軌跡Ｘ_１・Ｘ_２及び移動ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができる。

したがって、複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２或いは３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３の走査サイクルＣ（Ｘ_１→Ｙ_１→Ｘ_２→Ｙ_２）のＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２或いは３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３の移動軌跡Ｘ_１・Ｘ_２及び移動ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができ、複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２又は３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３により塗布の処理速度を向上することができ、被塗布物Ｗの無駄な消費を抑制することができ、装置の小型化を図ることができる。

又、この場合、上記被塗布物Ｗの静止状態で上記走査サイクルＣのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２又は３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３により塗布液Ｅを枚葉塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２又は３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３の移動軌跡Ｘ_１・Ｘ_２及び移動ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができ、複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２又は３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３により塗布の処理速度を向上することができ、被塗布物Ｗの無駄な消費を抑制することができ、装置の小型化を図ることができる。

図７乃至図１１−２の第二形態例にあっては、シート状の被塗布物Ｗを巻出ロールＲｄから巻取ロールＲｍに保持台Ｓ上を介して連続移送し、所謂、ロール・ｔｏ・ロール（ｒｏｌｌ ｔｏ ｒｏｌｌ）の連続塗布式の塗布方法及び装置が採用され、上記保持台Ｓの上方に上記複合動作機構ＭのノズルヘッドＤを配設した構造となっている。なお、上記第一形態例と同一態様部分には同符号を付して説明を省略する。

この場合、上記ノズルヘッドＤを上記複合動作機構Ｍにより上記被塗布物Ｗの幅方向に８の字走査サイクルＨからなる８の字軌跡運動をさせ、被塗布物Ｗの移送速度Ｖｒが下記式（５）を満たし、被塗布物Ｗの移送及び８の字軌跡運動の協動により、上記被塗布物Ｗに対して上記噴霧ノズルＱの走査サイクルＣを相対的に行い、複数個の噴霧ノズルＱ・Ｑの配置ピッチＰｚが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすこととしている。
式（５）：Ｖｒ＝Ｖｎ×ｓｉｎθ
（ここに、Ｖｒは被塗布物Ｗの移送速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、Ｖｎは噴霧ノズルＱの走査速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、θは噴霧ノズルＱの被塗布物Ｗの移送方向へ先上がり傾斜した走査方向とＸ軸方向とのなす走査傾斜角[°]を示す。）

ここに、噴霧ノズルＱの走査速度ＶｎのＹ軸方向の走査速度成分Ｖｎ×ｓｉｎθを被塗布物Ｗの移送速度Ｖｒに合わせることにより連続移送される被塗布物Ｗにおいても、枚葉式と同様に塗布を行えるようにしたものである。

すなわち、上記複合動作機構ＭによるノズルヘッドＤの複合動作により、図８の如く、ノズルヘッドＤは噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の戻移動ｄを介して被塗布物Ｗの一方側部から他方側部への被塗布物Ｗの移送方向へ先上がり傾斜した走査方向とＸ軸方向とのなす走査傾斜角θをもっての移動ａ、他方側部における被塗布物Ｗの移送方向と反対向きの戻移動ｂ、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の被塗布物Ｗの他方側部から一方側部への被塗布物Ｗの移送方向へ先上がり傾斜した走査方向とＸ軸方向とのなす走査傾斜角θをもっての移動ｃ及び一方側部における被塗布物Ｗの移送方向と反対向きの上記戻移動ｂと同距離の戻移動ｄの４つの移動ａ・ｂ・ｃ・ｄからなる８の字走査サイクルＨ（ａ→ｂ→ｃ→ｄ）を繰り返し、被塗布物Ｗの移送及び８の字軌跡運動の協動により被塗布物Ｗに対して上記噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・・の走査サイクルＣ（Ｘ_１→Ｙ_１→Ｘ_２→Ｙ_２）を相対的に行い、相対的な走査サイクルＣの繰り返しにより被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布するように構成している。

この実施の第二形態例は上記構成であるから、例えば、（実施例１）表１中、噴霧ノズルＱの数Ｎが２、係数ｎが３の場合、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の配置ピッチＰｚを上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすこととし、かつ、図８の如く、上記ノズルヘッドＤを上記複合動作機構Ｍにより上記被塗布物Ｗの幅方向に８の字走査サイクルＨからなる８の字軌跡運動をさせ、被塗布物Ｗの移送速度Ｖｒが上記式（５）を満たすことにより、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に対する相対的な移動軌跡は図９、図９−１、図９−２となり、すなわち、上記図３、図３−１、図３−２と同じ相対的な軌跡となり、先ず、図９−１中、（１）の如く、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に相対的な走査サイクルＣのうちの移動Ｘ_１により２個の塗膜Ｑ_１１・Ｑ_２１が形成され、移動Ｙ_１を経由した後、図９−１中、（２）の如く、移動Ｘ_２により２個の塗膜Ｑ_１２・Ｑ_２２が形成され、塗り重ねピッチＰｃが形成され、移動Ｙ_２を経て一回目の相対的な走査サイクルＣがなされ、引き続き、図９−２中、（１）の如く、二回目の相対的な走査サイクルＣがＹ軸方向に繰り返され、２個の塗膜Ｑ_１３・Ｑ_２３が形成され、塗り重ねピッチＰｃ・Ｐｃが形成され、次いで、図９−２中、（２）の如く、２個の塗膜Ｑ_１４・Ｑ_２４が形成され、塗り重ねピッチＰｃ・Ｐｃが形成され、これら相対的な走査サイクルＣがＹ軸方向に繰り返され、被塗布物Ｗの移送及び８の字軌跡運動の協動による相対的な走査サイクルＣの繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動軌跡Ｘ_１・Ｘ_２及び移動ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができる。

又、例えば、（実施例２）表１中、噴霧ノズルＱの数Ｎが３、係数ｎが２の場合、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３の配置ピッチＰｚを上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすこととし、かつ、図１０の如く、上記ノズルヘッドＤを上記複合動作機構Ｍにより上記被塗布物Ｗの幅方向に８の字走査サイクルＨからなる８の字軌跡運動をさせ、被塗布物Ｗの移送速度Ｖｒが上記式（５）を満たすことにより、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３の被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に対する相対的な移動軌跡は図１１、図１１−１、図１１−２となり、すなわち、３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３の移動軌跡は、図１１、図１１−１、図１１−２において、先ず、図１１−１中、（１）の如く、３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に走査サイクルＣのうちの移動Ｘ_１により３個の塗膜Ｑ_１１・Ｑ_２１・Ｑ_３１が形成され、移動Ｙ_１を経由した後、図１１−１中、（２）の如く、移動Ｘ_２により３個の塗膜Ｑ_１２・Ｑ_２２・Ｑ_３２が形成され、塗り重ねピッチＰｃ・Ｐｃ・Ｐｃが形成され、移動Ｙ_２を経て一回目の走査サイクルＣがなされ、引き続き、図１１−２中、（１）の如く、二回目の走査サイクルＣがＹ軸方向に繰り返され、３個の塗膜Ｑ_１３・Ｑ_２３・Ｑ_３３が形成され、塗り重ねピッチＰｃ・Ｐｃ・Ｐｃが形成され、次いで、図１１−２中、（２）の如く、３個の塗膜Ｑ_１４・Ｑ_２４・Ｑ_３４が形成され、塗り重ねピッチＰｃ・Ｐｃ・Ｐｃが形成され、これら走査サイクルＣが相対的にＹ軸方向に繰り返され、被塗布物Ｗの移送及び８の字軌跡運動の協動による相対的な走査サイクルＣの繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３の移動軌跡Ｘ_１・Ｘ_２及び移動ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができる。

したがって、被塗布物Ｗの連続的な移送状態で噴霧ノズルＱの８の字走査サイクルＨからなる８の字軌跡運動の協動により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に対する上記相対的な走査サイクルＣを行い、複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２或いは３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３の相対的な走査サイクルＣ（Ｘ_１→Ｙ_１→Ｘ_２→Ｙ_２）のＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２或いは３個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２・Ｑ_３の移動軌跡Ｘ_１・Ｘ_２及び移動ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができ、複数個の噴霧ノズルＱ・・により塗布の処理速度を向上することができ、被塗布物Ｗの無駄な消費を抑制することができ、装置の小型化を図ることができる。

図１２乃至図１４−１の第三形態例にあっては、図１２、図１３の如く、被塗布物の塗布面に塗布液を噴霧する複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２がノズルヘッドＤに配置され、ノズルヘッドＤを被塗布物Ｗの幅方向としてのＸ軸方向に往復動作をさせる往復動機構Ｔ及び被塗布物Ｗを被塗布物Ｗの幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に間欠移送をさせる間欠移送機構Ｆが備えられている。尚、上記第一形態例と同一態様部分には同符号を付して説明を省略する。

この往復動機構Ｔ及び間欠移送機構Ｆにより、図１４、図１４−１の如く、ノズルヘッドＤは、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の被塗布物Ｗの一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動Ｘ_１・停止、他方側部での被塗布物ＷのＹ軸方向の移動ピッチＰｓ分の移動Ｙ_１、他方側部での噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の被塗布物Ｗの他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動Ｘ_２・停止、及び、一方側部での被塗布物ＷのＹ軸方向の移動ピッチＰｓ分の移動Ｙ_２の４つの移動Ｘ_１・Ｙ_１・Ｘ_２・Ｙ_２からなる走査サイクルＣ（Ｘ_１→Ｙ_１→Ｘ_２→Ｙ_２）を行い、ノズルヘッドＤのＸ軸方向の往復動作及び被塗布物ＷのＹ軸方向の間欠移送による走査サイクルＣのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布するように構成している。

Ｓは保持台であって、図１２、図１３の如く、上記被塗布物Ｗが載置可能に配設され、被塗布物Ｗは保持台Ｓに一枚宛、人為的又は自動的に供給取出自在に設けられ、所謂、枚葉式の塗布方法及び装置が採用されている。

この際、図１２、図１３の如く、上記複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２は上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の配置ピッチＰｚが下記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすように配置している。
式（１）：Ｐｓ＝Ｎ×Ｐｃ
式（２）：Ｐｚ＝ｎ×Ｐｃ
式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂ
式（４）：Ｐｚ≧Ｂ
ここに、Ｐｓは被塗布物Ｗの移送ピッチ、いいかえると、ノズルヘッドＤのＹ軸方向の被塗布物Ｗに対する相対的な移動ピッチ[ｍｍ]、Ｎは噴霧ノズルＱの数[個]、Ｐｃは塗り重ねピッチ[ｍｍ]、Ｐｚは噴霧ノズルＱの配置ピッチ[ｍｍ]、ｎは係数（噴霧ノズルＱの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）、Ｎｂは噴霧ノズルＱの外幅寸法[ｍｍ]、Ｂは塗布面Ｗ_１上の塗布幅[ｍｍ]を示している。）

この実施の第三形態例は上記構成であるから、例えば、表１中、噴霧ノズルＱの数Ｎが２、係数ｎが３の場合、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動軌跡は図１４、図１４−１において、先ず、図１４−１中、（１）の如く、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に走査サイクルＣのうちの移動Ｘ_１により２個の塗膜Ｑ_１１・Ｑ_２１が形成され、移動Ｘ_１後、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２は一旦停止し、次いで、図１４−１中、（２）の如く、被塗布物Ｗは移動ピッチＰｓ分移動Ｙ_１し、その後、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２は移動Ｘ_２して２個の塗膜Ｑ_１２・Ｑ_２２が形成され、塗り重ねピッチＰｃが形成され、移動Ｘ_２後、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２は一旦停止し、被塗布物Ｗの移送ピッチＰｓ分の移動Ｙ_２を経て一回目の走査サイクルＣがなされ、これら走査サイクルＣがＹ軸方向に繰り返され、走査サイクルＣの繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動軌跡Ｘ_１・Ｘ_２及び被塗布物ＷのＹ軸方向の間欠移送による移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができる。

したがって、複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２のＸ軸方向の往復動作及び被塗布物ＷのＹ軸方向の間欠移送による走査サイクルＣ（Ｘ_１→Ｙ_１→Ｘ_２→Ｙ_２）のＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動軌跡Ｘ_１・Ｘ_２及び被塗布物Ｗの移送ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができ、複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２により塗布の処理速度を向上することができ、被塗布物Ｗの無駄な消費を抑制することができ、装置の小型化を図ることができる。

図１５の第四形態例は上記第三形態例の別例構造であって、この場合、シート状の被塗布物Ｗを巻出ロールＲｄから巻取ロールＲｍに保持台Ｓ上を介して間欠移送し、所謂、ロール・ｔｏ・ロールの連続塗布式の塗布方法及び装置が採用され、上記保持台Ｓの上方にノズルヘッドＤを往復動機構Ｔにより被塗布物Ｗの幅方向としてのＸ軸方向に往復動作をさせると共に被塗布物Ｗを間欠移送機構Ｆにより被塗布物Ｗの幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に間欠移送並びに連続移送をさせる構造となっている。なお、上記第三形態例と同一態様部分には同符号を付して説明を省略する。

しかして、上記第三形態例と同様に、上記往復動機構Ｔ及び間欠移送機構Ｆにより、図１５の如く、ノズルヘッドＤは、噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の被塗布物Ｗの一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動Ｘ_１・停止、他方側部での被塗布物ＷのＹ軸方向の移動ピッチＰｓ分の移動Ｙ_１、他方側部での噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の被塗布物Ｗの他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動Ｘ_２・停止、及び、一方側部での被塗布物ＷのＹ軸方向の移動ピッチＰｓ分の移動Ｙ_２の４つの移動Ｘ_１・Ｙ_１・Ｘ_２・Ｙ_２からなる走査サイクルＣ（Ｘ_１→Ｙ_１→Ｘ_２→Ｙ_２）を行い、ノズルヘッドＤのＸ軸方向の往復動作及び被塗布物ＷのＹ軸方向の間欠移送による走査サイクルＣのＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布するように構成している。

したがって、複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２のＸ軸方向の往復動作及び被塗布物ＷのＹ軸方向の間欠移送による走査サイクルＣ（Ｘ_１→Ｙ_１→Ｘ_２→Ｙ_２）のＹ軸方向の繰り返し動作により被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布することができ、互いに平行なＸ軸方向の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２の移動軌跡Ｘ_１・Ｘ_２及び被塗布物Ｗの移送ピッチＰｓ分のＹ軸方向の移動軌跡Ｙ_１・Ｙ_２により塗布液Ｅを塗り重ねて均一な成膜を行うことができ、複数個、この場合、２個の噴霧ノズルＱ_１・Ｑ_２により塗布の処理速度を向上することができ、被塗布物Ｗの無駄な消費を抑制することができ、装置の小型化を図ることができる。

尚、本発明は上記実施の形態例に限られるものではなく、例えば、噴霧ノズルＱの数、係数ｎ、ノズルヘッドＤや複合動作機構Ｍの形状や構造等は適宜変更して設計される。

又、上記第二形態例はロール・ｔｏ・ロールの連続塗布式の塗布方法及び装置であり、ロール・ｔｏ・ロールの連続塗布式に代えて搬送コンベヤにより被塗布物Ｗを搬送する連続塗布式の塗布方法及び装置とし、被塗布物Ｗの移送及び８の字走査サイクルＨからなる８の字軌跡運動の協動による相対的な走査サイクルＣの繰り返し動作により複数個の噴霧ノズルＱ・・で被塗布物Ｗの塗布面Ｗ_１に塗布液Ｅを塗布することも可能である。

又、上記第四形態例はロール・ｔｏ・ロールの連続塗布式の塗布方法及び装置であり、ロール・ｔｏ・ロールの連続塗布式に代えて搬送コンベヤにより被塗布物Ｗを搬送する連続塗布式の塗布方法及び装置とすることもできる。

以上、所期の目的を充分達成することができる。

Ｗ 被塗布物
Ｗ_１ 塗布面
Ｅ 塗布液
Ｄ ノズルヘッド
Ｑ 噴霧ノズル
Ｑ_１ 噴霧ノズル
Ｑ_２ 噴霧ノズル
Ｑ_３ 噴霧ノズル
Ｍ 複合動作機構
Ｔ 往復動機構
Ｆ 間欠移送機構
Ｃ 走査サイクル
Ｘ_１ 移動
Ｘ_２ 移動
Ｙ_１ 移動
Ｙ_２ 移動
Ｐｓ 移動ピッチ
Ｐｃ 塗り重ねピッチ
Ｐｚ 噴霧ノズルの配置ピッチ
Ｎ 噴霧ノズルの数
ｎ 係数
Ｖｒ 被塗布物の移送速度
Ｖｎ 噴霧ノズルの走査速度
θ 走査傾斜角
Ｈ ８の字走査サイクル
Ｎｂ 噴霧ノズルの外幅寸法
Ｂ 塗布面上の塗布幅

Claims (8)

1. 被塗布物の塗布面にノズルヘッドに配置された噴霧ノズルから塗布液を噴霧し、該ノズルヘッドを該被塗布物の幅方向としてのＸ軸方向及び該幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に複合動作をさせ、該複合動作により該ノズルヘッドは該噴霧ノズルの被塗布物の一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動、該他方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動、他方側部での該噴霧ノズルの被塗布物の他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動、及び、該一方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動からなる走査サイクルを行い、該走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に該塗布液を塗布する方法において、上記噴霧ノズルは上記ノズルヘッドに複数個配置され、該複数個の噴霧ノズルは上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが下記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とする塗布方法。
   式（１）：Ｐｓ＝Ｎ×Ｐｃ
   式（２）：Ｐｚ＝ｎ×Ｐｃ
   式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂ
   式（４）：Ｐｚ≧Ｂ
   （ここに、ＰｓはノズルヘッドのＹ軸方向の移動ピッチ[ｍｍ]、Ｎは噴霧ノズルの数[個]、Ｐｃは塗り重ねピッチ[ｍｍ]、Ｐｚは噴霧ノズルの配置ピッチ[ｍｍ]、ｎは係数（噴霧ノズルの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）、Ｎｂは噴霧ノズルの外幅寸法[ｍｍ]、Ｂは塗布面上の塗布幅[ｍｍ]を示す。）
2. 上記被塗布物の静止状態で上記走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に上記塗布液を枚葉塗布する方法において、上記複数個の噴霧ノズルの配置ピッチが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）のすべてを満たすことを特徴とする請求項１記載の塗布方法。
3. 上記被塗布物の移送状態で上記走査サイクルの繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に上記塗布液を連続塗布する方法において、上記ノズルヘッドを上記被塗布物の幅方向に８の字走査サイクルからなる８の字軌跡運動をさせ、上記被塗布物の移送速度Ｖｒが下記式（５）を満たし、上記被塗布物の移送及び該８の字軌跡運動により上記被塗布物に対して上記噴霧ノズルの走査サイクルを相対的に行い、該複数個の該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とする請求項１記載の塗布方法。
   式（５）：Ｖｒ＝Ｖｎ×ｓｉｎθ
   （ここに、Ｖｒは被塗布物の移送速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、Ｖｎは噴霧ノズルの走査速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、θは噴霧ノズルの被塗布物の移送方向へ先上がり傾斜した走査方向とＸ軸方向とのなす走査傾斜角[°]を示す。）
4. 被塗布物の塗布面に塗布液を噴霧する噴霧ノズルがノズルヘッドに配置され、該ノズルヘッドを該被塗布物の幅方向としてのＸ軸方向に往復動作をさせると共に該被塗布物を該幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に間欠移送をさせ、該ノズルヘッドのＸ軸方向の往復動作及び被塗布物のＹ軸方向の間欠移送の複合動作により該ノズルヘッドは該噴霧ノズルの被塗布物の一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動・停止、他方側部での被塗布物のＹ軸方向の移動ピッチ分の移動、他方側部での該噴霧ノズルの被塗布物の他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動・停止、及び、該一方側部での被塗布物のＹ軸方向の移動ピッチ分の移動からなる走査サイクルを行い、該走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に該塗布液を塗布する方法において、上記噴霧ノズルは上記ノズルヘッドに複数個配置され、該複数個の噴霧ノズルは上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが下記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とする塗布方法。
   式（１）：Ｐｓ＝Ｎ×Ｐｃ
   式（２）：Ｐｚ＝ｎ×Ｐｃ
   式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂ
   式（４）：Ｐｚ≧Ｂ
   （ここに、Ｐｓは被塗布物の移送ピッチ、いいかえると、ノズルヘッドのＹ軸方向の被塗布物に対する相対的な移動ピッチ[ｍｍ]、Ｎは噴霧ノズルの数[個]、Ｐｃは塗り重ねピッチ[ｍｍ]、Ｐｚは噴霧ノズルの配置ピッチ[ｍｍ]、ｎは係数（噴霧ノズルの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）、Ｎｂは噴霧ノズルの外幅寸法[ｍｍ]、Ｂは塗布面上の塗布幅[ｍｍ]を示す。）
5. 被塗布物の塗布面に塗布液を噴霧する噴霧ノズルがノズルヘッドに配置され、該ノズルヘッドを該被塗布物の幅方向としてのＸ軸方向及び該幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に複合動作をさせる複合動作機構が備えられ、該複合動作により該ノズルヘッドは該噴霧ノズルの被塗布物の一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動、他方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動、他方側部での該噴霧ノズルの被塗布物の他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動、及び、該一方側部での噴霧ノズルのＹ軸方向の移動ピッチ分の移動からなる走査サイクルを行い、該走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に該塗布液を塗布する装置において、上記噴霧ノズルは上記ノズルヘッドに複数個配置され、該複数個の噴霧ノズルは上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが下記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とする塗布装置。
   式（１）：Ｐｓ＝Ｎ×Ｐｃ
   式（２）：Ｐｚ＝ｎ×Ｐｃ
   式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂ
   式（４）：Ｐｚ≧Ｂ
   （ここに、ＰｓはノズルヘッドのＹ軸方向の移動ピッチ[ｍｍ]、Ｎは噴霧ノズルの数[個]、Ｐｃは塗り重ねピッチ[ｍｍ]、Ｐｚは噴霧ノズルの配置ピッチ[ｍｍ]、ｎは係数（噴霧ノズルの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）、Ｎｂは噴霧ノズルの外幅寸法[ｍｍ]、Ｂは塗布面上の塗布幅[ｍｍ]を示す。）
6. 上記被塗布物の静止状態で上記走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に上記塗布液を枚葉塗布する装置において、上記複数個の噴霧ノズルの配置ピッチが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）のすべてを満たすことを特徴とする請求項４記載の塗布装置。
7. 上記被塗布物の移送状態で上記走査サイクルの繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に上記塗布液を連続塗布する装置において、上記ノズルヘッドを上記複合動作機構により上記被塗布物の幅方向に８の字走査サイクルからなる８の字軌跡運動をさせ、上記被塗布物の移送速度Ｖｒが下記式（５）を満たし、上記被塗布物の移送及び該８の字軌跡運動により上記被塗布物に対して上記噴霧ノズルの走査サイクルを相対的に行い、該複数個の該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが上記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とする請求項４記載の塗布装置。
   式（５）：Ｖｒ＝Ｖｎ×ｓｉｎθ
   （ここに、Ｖｒは被塗布物の移送速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、Ｖｎは噴霧ノズルの走査速度[ｍｍ／ｓｅｃ]、θは噴霧ノズルの被塗布物の移送方向へ先上がり傾斜した走査方向とＸ軸方向とのなす走査傾斜角[°]を示す。）
8. 被塗布物の塗布面に塗布液を噴霧する噴霧ノズルがノズルヘッドに配置され、該ノズルヘッドを該被塗布物の幅方向としてのＸ軸方向に往復動作をさせる往復動機構及び該被塗布物を該幅方向に直交する方向としてのＹ軸方向に間欠移送をさせる間欠移送機構が備えられ、該ノズルヘッドのＸ軸方向の往復動作及び被塗布物のＹ軸方向の間欠移送の複合動作により該ノズルヘッドは該噴霧ノズルの被塗布物の一方側部から他方側部へのＸ軸方向の移動・停止、他方側部での被塗布物のＹ軸方向の移動ピッチ分の移動、他方側部での該噴霧ノズルの被塗布物の他方側部から一方側部へのＸ軸方向の移動・停止、及び、該一方側部での被塗布物のＹ軸方向の移動ピッチ分の移動からなる走査サイクルを行い、該走査サイクルのＹ軸方向の繰り返し動作により該被塗布物の塗布面に該塗布液を塗布する装置において、上記噴霧ノズルは上記ノズルヘッドに複数個配置され、該複数個の噴霧ノズルは上記Ｙ軸方向に所定の配置ピッチＰｚで並列配置され、該噴霧ノズルの配置ピッチＰｚが下記式（１）、式（２）、式（３）及び式（４）の全てを満たすことを特徴とする塗布装置。
   式（１）：Ｐｓ＝Ｎ×Ｐｃ
   式（２）：Ｐｚ＝ｎ×Ｐｃ
   式（３）：Ｐｚ≧Ｎｂ
   式（４）：Ｐｚ≧Ｂ
   （ここに、Ｐｓは被塗布物の移送ピッチ、いいかえると、ノズルヘッドのＹ軸方向の被塗布物に対する相対的な移動ピッチ[ｍｍ]、Ｎは噴霧ノズルの数[個]、Ｐｃは塗り重ねピッチ[ｍｍ]、Ｐｚは噴霧ノズルの配置ピッチ[ｍｍ]、ｎは係数（噴霧ノズルの数Ｎの１以外の約数、及びその倍数以外の自然数）、Ｎｂは噴霧ノズルの外幅寸法[ｍｍ]、Ｂは塗布面上の塗布幅[ｍｍ]を示す。）