JP2003122021A - 現像処理装置 - Google Patents
現像処理装置Info
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- JP2003122021A JP2003122021A JP2001319829A JP2001319829A JP2003122021A JP 2003122021 A JP2003122021 A JP 2003122021A JP 2001319829 A JP2001319829 A JP 2001319829A JP 2001319829 A JP2001319829 A JP 2001319829A JP 2003122021 A JP2003122021 A JP 2003122021A
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- pipe
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- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 現像液の噴射の打力のムラをなくし、基板面
内パターン寸法のバラツキを低減し、面内の寸法精度を
高めることができる現像処理装置を提供する。 【解決手段】 基板上にパターン形成をするための現像
処理装置であって、基板を搬送する基板搬送装置と現像
液を搬送装置上の基板に噴射する複数のシャワーノズル
を備えたシャワーパイプとを具備し、シャワーパイプを
基板搬送装置の搬送面に平行、かつ搬送方向に対して角
度θをもって配置して、シャワーパイプの軸心に直交す
る方向にストローク幅Ａにて揺動し、シャワーパイプに
複数配置されたシャワーノズルの両端の間隔をＬとした
場合において、 θ＝ｔａｎ−１（Ａ／２Ｌ） なる関係が成立するように構成する。
内パターン寸法のバラツキを低減し、面内の寸法精度を
高めることができる現像処理装置を提供する。 【解決手段】 基板上にパターン形成をするための現像
処理装置であって、基板を搬送する基板搬送装置と現像
液を搬送装置上の基板に噴射する複数のシャワーノズル
を備えたシャワーパイプとを具備し、シャワーパイプを
基板搬送装置の搬送面に平行、かつ搬送方向に対して角
度θをもって配置して、シャワーパイプの軸心に直交す
る方向にストローク幅Ａにて揺動し、シャワーパイプに
複数配置されたシャワーノズルの両端の間隔をＬとした
場合において、 θ＝ｔａｎ−１（Ａ／２Ｌ） なる関係が成立するように構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板にパターン形
成をするための現像処理装置の技術分野、特に現像液の
シャワーパイプ、及びシャワーノズルの配置に関する。
成をするための現像処理装置の技術分野、特に現像液の
シャワーパイプ、及びシャワーノズルの配置に関する。
【０００２】
【従来の技術】基板にパターン形成を形成しようとする
場合、基板上に感光性ペーストやドライフィルムレジス
トなど感光性材料の膜を形成し、この感光性の膜に所定
形状のパターンを露光した後、現像処理が行われる。こ
の現像処理工程では、搬送面上を搬送方向に移動されて
ゆく基板の上方から、現像液が噴射されて基板表面に供
給されることにより、現像液中のアルカリ成分と、露光
された感光性材料との間に所定の化学反応が進行して、
いわゆるパターニングが実現される。
場合、基板上に感光性ペーストやドライフィルムレジス
トなど感光性材料の膜を形成し、この感光性の膜に所定
形状のパターンを露光した後、現像処理が行われる。こ
の現像処理工程では、搬送面上を搬送方向に移動されて
ゆく基板の上方から、現像液が噴射されて基板表面に供
給されることにより、現像液中のアルカリ成分と、露光
された感光性材料との間に所定の化学反応が進行して、
いわゆるパターニングが実現される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、現像液の噴射
を行うノズルが配列されているパターンによっては、噴
射の打力にムラが生じ、これが基板面内のパターン寸法
のバラツキの原因になることがあるという問題があっ
た。
を行うノズルが配列されているパターンによっては、噴
射の打力にムラが生じ、これが基板面内のパターン寸法
のバラツキの原因になることがあるという問題があっ
た。
【０００４】そこで、本発明は、現像液の噴射の打力の
ムラをなくし、基板面内パターン寸法のバラツキを低減
し、面内の寸法精度を高めることができる現像処理装置
を提供することを課題とする。
ムラをなくし、基板面内パターン寸法のバラツキを低減
し、面内の寸法精度を高めることができる現像処理装置
を提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】以下、本発明について説
明する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図
面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それにより本
発明が図示の形態に限定されるものではない。
明する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図
面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それにより本
発明が図示の形態に限定されるものではない。
【０００６】本発明の一態様にかかる現像処理装置は、
基板上にパターン形成をするための現像処理装置であっ
て、基板を搬送する基板搬送装置と現像液を搬送装置上
の基板に噴射するシャワーノズルを複数備えたシャワー
パイプとを具備し、シャワーパイプは基板搬送装置の搬
送面に平行、かつ搬送方向に対して所定の角度をもって
配置されていることを特徴とする。
基板上にパターン形成をするための現像処理装置であっ
て、基板を搬送する基板搬送装置と現像液を搬送装置上
の基板に噴射するシャワーノズルを複数備えたシャワー
パイプとを具備し、シャワーパイプは基板搬送装置の搬
送面に平行、かつ搬送方向に対して所定の角度をもって
配置されていることを特徴とする。
【０００７】この現像処理装置によれば、シャワーパイ
プは搬送方向に所定の角度をもって配置されているの
で、搬送に伴って、基板状の同一個所が同一シャワーパ
イプのシャワーノズルにより繰り返し現像液の噴射を受
けることが緩和される。したがって、シャワーの打力ム
ラに起因する基板面内のパターン寸法のバラツキが低減
され、面内寸法の精度を高めることができる。
プは搬送方向に所定の角度をもって配置されているの
で、搬送に伴って、基板状の同一個所が同一シャワーパ
イプのシャワーノズルにより繰り返し現像液の噴射を受
けることが緩和される。したがって、シャワーの打力ム
ラに起因する基板面内のパターン寸法のバラツキが低減
され、面内寸法の精度を高めることができる。
【０００８】上記態様の現像処理装置において、シャワ
ーパイプを搬送面に対して所定のストロークにて揺動す
るようにしてもよい。ここにシャワーパイプの揺動は、
シャワーパイプをその軸心の周りに所定角度の回動を繰
り返すことにより行ってもよく、また、シャワーパイプ
全体を水平面上にてその軸心に直交する方向に所定幅を
もって往復動させてもよい。
ーパイプを搬送面に対して所定のストロークにて揺動す
るようにしてもよい。ここにシャワーパイプの揺動は、
シャワーパイプをその軸心の周りに所定角度の回動を繰
り返すことにより行ってもよく、また、シャワーパイプ
全体を水平面上にてその軸心に直交する方向に所定幅を
もって往復動させてもよい。
【０００９】このようにした場合には、シャワーパイプ
の揺動により搬送方向に略直交する方向（厳密には直交
する方向から下記のθだけ傾いている方向）への現像液
噴射の広がりを持たせることができるので、シャワーパ
イプを搬送方向に所定角度をもって配置することとあい
まって、シャワーの打力ムラの低減に資することができ
る。
の揺動により搬送方向に略直交する方向（厳密には直交
する方向から下記のθだけ傾いている方向）への現像液
噴射の広がりを持たせることができるので、シャワーパ
イプを搬送方向に所定角度をもって配置することとあい
まって、シャワーの打力ムラの低減に資することができ
る。
【００１０】また上記のようにした場合にはさらに、シ
ャワーパイプを搬送方向に対して角度θをもって配置す
るとともに、シャワーパイプの軸心に直交する方向にス
トローク幅Ａにて揺動し、シャワーパイプに複数配置さ
れたシャワーノズルの両端の間隔はＬである場合におい
て、θ＝ｔａｎ−１（Ａ／２Ｌ）なる関係が成立するよ
うに構成してもよい。
ャワーパイプを搬送方向に対して角度θをもって配置す
るとともに、シャワーパイプの軸心に直交する方向にス
トローク幅Ａにて揺動し、シャワーパイプに複数配置さ
れたシャワーノズルの両端の間隔はＬである場合におい
て、θ＝ｔａｎ−１（Ａ／２Ｌ）なる関係が成立するよ
うに構成してもよい。
【００１１】このように構成した場合には、一本のシャ
ワーパイプに関して、各シャワーノズルの直下を搬送さ
れる基板の所定幅の部分に、ほぼ均等な打力を持ったシ
ャワーをあてることができる。
ワーパイプに関して、各シャワーノズルの直下を搬送さ
れる基板の所定幅の部分に、ほぼ均等な打力を持ったシ
ャワーをあてることができる。
【００１２】また上記構成にて、シャワーノズルをシャ
ワーパイプの下面に等間隔に設けてもよい。
ワーパイプの下面に等間隔に設けてもよい。
【００１３】このようにした場合には、さらに両端ノズ
ル間に均等な打力を持ったシャワーをあてることができ
る。
ル間に均等な打力を持ったシャワーをあてることができ
る。
【００１４】また上記のように構成した場合、さらにシ
ャワーパイプを、所定の間隔Ｑをもって複数配列して、
Ｑ＝Ａ／２なる関係が成立するように構成することもで
きる。
ャワーパイプを、所定の間隔Ｑをもって複数配列して、
Ｑ＝Ａ／２なる関係が成立するように構成することもで
きる。
【００１５】このように構成した場合には、上記のほぼ
均等な打力を持ったシャワーがあたる幅を横方向に連続
して配列することができる。
均等な打力を持ったシャワーがあたる幅を横方向に連続
して配列することができる。
【００１６】上記のように構成した場合またさらに、シ
ャワーパイプの設置本数をｍ、現像処理される基板のう
ち最大の幅を有する基板の前記幅をＷｍａｘとすると
き、Ｗｍａｘ＜ｍＱｃｏｓθなる関係を有するように構
成してもよい。
ャワーパイプの設置本数をｍ、現像処理される基板のう
ち最大の幅を有する基板の前記幅をＷｍａｘとすると
き、Ｗｍａｘ＜ｍＱｃｏｓθなる関係を有するように構
成してもよい。
【００１７】このように構成すれば、上記のほぼ均等な
打力を持ったシャワーの幅の中に、現像処理を行う全て
の基板を収めることができる。換言すれば、全てのサイ
ズの基板をほぼ均等な打力を持った現像液シャワーにて
処理することができる。
打力を持ったシャワーの幅の中に、現像処理を行う全て
の基板を収めることができる。換言すれば、全てのサイ
ズの基板をほぼ均等な打力を持った現像液シャワーにて
処理することができる。
【００１８】本発明のこのような作用及び利得は、次に
説明する実施の形態から明らかにされる。
説明する実施の形態から明らかにされる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下本発明を図面に示す実施形態
に基づき説明する。本実施形態は、プラズマディスプレ
イパネル用基板の、電極部、隔壁部等の構成層を形成す
るための感光性ペースト膜、あるいは乾燥ペースト膜上
の感光性レジスト膜のパターニングを行なう現像処理装
置に関するものである。
に基づき説明する。本実施形態は、プラズマディスプレ
イパネル用基板の、電極部、隔壁部等の構成層を形成す
るための感光性ペースト膜、あるいは乾燥ペースト膜上
の感光性レジスト膜のパターニングを行なう現像処理装
置に関するものである。
【００２０】図１は、処理基板と搬送面上方に配置され
たシャワーパイプを示す図である。処理基板上にはプラ
ズマディスプレイパネルの、電極部、隔壁部等の構成層
を形成するための感光性ペースト膜、あるいは乾燥ペー
スト膜上の感光性レジスト膜が形成され、すでに所定の
パターンにて露光されている。この処理基板は搬送面上
を図の左から右方向に送られ、その間に搬送面上方に配
置されたシャワーパイプのシャワーノズルから噴射され
る現像液に浸漬され、現像にかかる所定化学反応が行わ
れる。図１からも明らかなように、複数のシャワーパイ
プが搬送面上に設けられ、各シャワーパイプには等間隔
に複数のシャワーノズルが備えられている。各シャワー
パイプは搬送方向に所定の角度θをもって配置されてい
る。
たシャワーパイプを示す図である。処理基板上にはプラ
ズマディスプレイパネルの、電極部、隔壁部等の構成層
を形成するための感光性ペースト膜、あるいは乾燥ペー
スト膜上の感光性レジスト膜が形成され、すでに所定の
パターンにて露光されている。この処理基板は搬送面上
を図の左から右方向に送られ、その間に搬送面上方に配
置されたシャワーパイプのシャワーノズルから噴射され
る現像液に浸漬され、現像にかかる所定化学反応が行わ
れる。図１からも明らかなように、複数のシャワーパイ
プが搬送面上に設けられ、各シャワーパイプには等間隔
に複数のシャワーノズルが備えられている。各シャワー
パイプは搬送方向に所定の角度θをもって配置されてい
る。
【００２１】図２は、各シャワーパイプに設けられたシ
ャワーノズルの配置と、シャワーの広がり範囲を示す図
である。隣り合う各シャワーパイプは長さＱのピッチに
より隔てられている。また、各シャワーパイプには、シ
ャワーノズルが等間隔のピッチＰで設けられている。し
たがって、一つのシャワーパイプに設けられているシャ
ワーノズル数をｎとすると、両端に位置するシャワーノ
ズル間の長さＬはＬ＝（ｎ−１）Ｐにて表される。
ャワーノズルの配置と、シャワーの広がり範囲を示す図
である。隣り合う各シャワーパイプは長さＱのピッチに
より隔てられている。また、各シャワーパイプには、シ
ャワーノズルが等間隔のピッチＰで設けられている。し
たがって、一つのシャワーパイプに設けられているシャ
ワーノズル数をｎとすると、両端に位置するシャワーノ
ズル間の長さＬはＬ＝（ｎ−１）Ｐにて表される。
【００２２】図３は、シャワーノズルの揺動を示す図で
ある。図３（ａ）においては、ノズルが回転揺動されて
いる様子が示され、図３（ｂ）においては、ノズルがス
ライド揺動されている様子が示されている。回転揺動に
おいては、現像液噴射範囲（以下において「噴射円」と
いう。）の中心は、図３における点ｃ１を中心に左右に
それぞれａ１、ｂ１の位置まで移動される。スライド揺
動においては、噴射円の中心は、点ｃ２を中心に左右に
それぞれａ２、ｂ２の位置まで移動される。これらａ１
からｂ１、またはａ２からｂ２までの長さは揺動ストロ
ークであって、ここではそれをＡとする。本発明におい
ては、上記回転揺動であっても、スライド揺動であって
もいずれも適用可能である。
ある。図３（ａ）においては、ノズルが回転揺動されて
いる様子が示され、図３（ｂ）においては、ノズルがス
ライド揺動されている様子が示されている。回転揺動に
おいては、現像液噴射範囲（以下において「噴射円」と
いう。）の中心は、図３における点ｃ１を中心に左右に
それぞれａ１、ｂ１の位置まで移動される。スライド揺
動においては、噴射円の中心は、点ｃ２を中心に左右に
それぞれａ２、ｂ２の位置まで移動される。これらａ１
からｂ１、またはａ２からｂ２までの長さは揺動ストロ
ークであって、ここではそれをＡとする。本発明におい
ては、上記回転揺動であっても、スライド揺動であって
もいずれも適用可能である。
【００２３】図４は、１本のシャワーパイプにおけるシ
ャワーの範囲を示す図である。シャワーパイプ左端に設
けられたシャワーノズルによる噴射円の中心点は揺動に
よりノズル直下の点Ｙから点Ｘまで移動され、その距離
はＡ／２である。点Ｘまで移動された噴射円の中心点は
その後再び点Ｙに戻され、さらにその先の点Ｖまで移動
される。線分ＹＶの長さもＡ／２である。さらに噴射円
の中心点は点Ｘに戻される。シャワーパイプが揺動され
る間は、これらの動きが繰り返される。図４においてシ
ャワーパイプの右端側シャワーノズル直下の噴射円の中
心点をＺとした場合に、両端部のノズルＡ及びＣ、並び
に中央部のノズルＣの噴射円中心点移動範囲を模式的に
表したのが図５である。
ャワーの範囲を示す図である。シャワーパイプ左端に設
けられたシャワーノズルによる噴射円の中心点は揺動に
よりノズル直下の点Ｙから点Ｘまで移動され、その距離
はＡ／２である。点Ｘまで移動された噴射円の中心点は
その後再び点Ｙに戻され、さらにその先の点Ｖまで移動
される。線分ＹＶの長さもＡ／２である。さらに噴射円
の中心点は点Ｘに戻される。シャワーパイプが揺動され
る間は、これらの動きが繰り返される。図４においてシ
ャワーパイプの右端側シャワーノズル直下の噴射円の中
心点をＺとした場合に、両端部のノズルＡ及びＣ、並び
に中央部のノズルＣの噴射円中心点移動範囲を模式的に
表したのが図５である。
【００２４】基板は図５において図の左から右方向に搬
送されるので、Ｙ点におけるノズルＡの噴射円中心点移
動範囲は線分Ａ１−Ａ２の幅と搬送方向に長さを持つ平
面であらわされれる。また、中央部のノズルＢの噴射円
中心点移動範囲は線分Ｂ１−Ｂ２の幅と搬送方向に長さ
を持つ平面であらわされれる。さらにＺ点におけるノズ
ルＣの噴射円中心点移動範囲は線分Ｃ１−Ｃ２の幅と搬
送方向に長さを持つ平面であらわされれる。このシャワ
ーノズルにより均等なシャワーの打力が供給される範囲
は上記３つの平面が重なる範囲（幅Ｓ１−Ｓ２を持つ平
面）にあるものと考えられる。この範囲に均等なシャワ
ーの打力が供給されるのは、この範囲が一つのシャワー
パイプのどのシャワーノズルの噴射円中心点の揺動範囲
ともなりえるからである。この関係は、ＹＺ間に均等間
隔にノズルが配置される限り、ノズル数がいくつあって
も成り立つものである。（厳密には、均等なシャワーの
打力が供給される範囲は上記のような長方形ではなく、
線分ＸＶを一辺とし、搬送方向に長さを持つ平行四辺形
の面であると考えられるが、ここでは搬送方向に対する
幅を中心に考察するので、簡略的に上記のように考える
ものとする。）ここに、幅Ｓ１−Ｓ２、すなわち線分Ｘ
Ｙは、シャワーストロークＡの１／２、線分ＹＺは、Ｌ
（＝（ｎ−１）Ｐ）であるから、 ｔａｎθ＝Ａ／２Ｌ すなわち θ＝ｔａｎ−１（Ａ／２Ｌ） また、 （線分ＹＨ）＝（線分ＸＹ）ｃｏｓθ＝（Ａ／２）ｃｏ
ｓθ 上記が均等なシャワーの打力が供給される搬送方向に直
交する方向の幅である。したがって、このような均等に
シャワー打力が供給される範囲を搬送方向に直交する方
向に連ねれば、所定の大きさを持つ基盤の幅をフルにカ
バーすることができる。この場合、隣り合うシャワーパ
イプ間の間隔Ｑを揺動幅Ａの１／２とすればよい。すな
わち Ｑ＝Ａ／２ したがって、均等なシャワーの打力が供給される搬送方
向に直交する方向の幅Ｒは、 Ｒ＝Ｑｃｏｓθ 図６は、処理基板の大きさと、シャワーの範囲とを示す
図である。間隔Ｇをもって、ｍ本設けられたシャワーパ
イプによる搬送方向に直交する方向の有効な幅は、ｍＱ
ｃｏｓθである。現像処理される基板の最大幅をＷとし
たとき、 Ｗ＜ｍＱｃｏｓθ なる関係が成立すれば、処理基板は均等なシャワーの打
力が供給される範囲内に搬送されることができる。
送されるので、Ｙ点におけるノズルＡの噴射円中心点移
動範囲は線分Ａ１−Ａ２の幅と搬送方向に長さを持つ平
面であらわされれる。また、中央部のノズルＢの噴射円
中心点移動範囲は線分Ｂ１−Ｂ２の幅と搬送方向に長さ
を持つ平面であらわされれる。さらにＺ点におけるノズ
ルＣの噴射円中心点移動範囲は線分Ｃ１−Ｃ２の幅と搬
送方向に長さを持つ平面であらわされれる。このシャワ
ーノズルにより均等なシャワーの打力が供給される範囲
は上記３つの平面が重なる範囲（幅Ｓ１−Ｓ２を持つ平
面）にあるものと考えられる。この範囲に均等なシャワ
ーの打力が供給されるのは、この範囲が一つのシャワー
パイプのどのシャワーノズルの噴射円中心点の揺動範囲
ともなりえるからである。この関係は、ＹＺ間に均等間
隔にノズルが配置される限り、ノズル数がいくつあって
も成り立つものである。（厳密には、均等なシャワーの
打力が供給される範囲は上記のような長方形ではなく、
線分ＸＶを一辺とし、搬送方向に長さを持つ平行四辺形
の面であると考えられるが、ここでは搬送方向に対する
幅を中心に考察するので、簡略的に上記のように考える
ものとする。）ここに、幅Ｓ１−Ｓ２、すなわち線分Ｘ
Ｙは、シャワーストロークＡの１／２、線分ＹＺは、Ｌ
（＝（ｎ−１）Ｐ）であるから、 ｔａｎθ＝Ａ／２Ｌ すなわち θ＝ｔａｎ−１（Ａ／２Ｌ） また、 （線分ＹＨ）＝（線分ＸＹ）ｃｏｓθ＝（Ａ／２）ｃｏ
ｓθ 上記が均等なシャワーの打力が供給される搬送方向に直
交する方向の幅である。したがって、このような均等に
シャワー打力が供給される範囲を搬送方向に直交する方
向に連ねれば、所定の大きさを持つ基盤の幅をフルにカ
バーすることができる。この場合、隣り合うシャワーパ
イプ間の間隔Ｑを揺動幅Ａの１／２とすればよい。すな
わち Ｑ＝Ａ／２ したがって、均等なシャワーの打力が供給される搬送方
向に直交する方向の幅Ｒは、 Ｒ＝Ｑｃｏｓθ 図６は、処理基板の大きさと、シャワーの範囲とを示す
図である。間隔Ｇをもって、ｍ本設けられたシャワーパ
イプによる搬送方向に直交する方向の有効な幅は、ｍＱ
ｃｏｓθである。現像処理される基板の最大幅をＷとし
たとき、 Ｗ＜ｍＱｃｏｓθ なる関係が成立すれば、処理基板は均等なシャワーの打
力が供給される範囲内に搬送されることができる。
【００２５】以上、現時点において、もっとも、実践的
であり、かつ、好ましいと思われる実施形態に関連して
本発明を説明したが、本発明は、本願明細書中に開示さ
れた実施形態に限定されるものではなく、請求の範囲お
よび明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に
反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を
伴う現像処理装置もまた本発明の技術的範囲に包含され
るものとして理解されなければならない。
であり、かつ、好ましいと思われる実施形態に関連して
本発明を説明したが、本発明は、本願明細書中に開示さ
れた実施形態に限定されるものではなく、請求の範囲お
よび明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に
反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を
伴う現像処理装置もまた本発明の技術的範囲に包含され
るものとして理解されなければならない。
【００２６】
【発明の効果】以上に説明したように、基板上にパター
ン形成をするための現像処理装置であって、基板を搬送
する基板搬送装置と現像液を搬送装置上の基板に噴射す
るシャワーノズルを複数備えたシャワーパイプとを具備
し、シャワーパイプは基板搬送装置の搬送面に平行、か
つ搬送方向に対して所定の角度をもって配置されている
ことを特徴とする現像処理装置によれば、シャワーパイ
プは搬送方向に所定の角度をもって配置されているの
で、搬送に伴って、基板状の同一個所が同一シャワーパ
イプのシャワーノズルにより繰り返し現像液の噴射を受
けることが緩和される。したがって、シャワーの打力ム
ラに起因する基板面内のパターン寸法のバラツキが低減
され、面内寸法の精度を高めることができる。
ン形成をするための現像処理装置であって、基板を搬送
する基板搬送装置と現像液を搬送装置上の基板に噴射す
るシャワーノズルを複数備えたシャワーパイプとを具備
し、シャワーパイプは基板搬送装置の搬送面に平行、か
つ搬送方向に対して所定の角度をもって配置されている
ことを特徴とする現像処理装置によれば、シャワーパイ
プは搬送方向に所定の角度をもって配置されているの
で、搬送に伴って、基板状の同一個所が同一シャワーパ
イプのシャワーノズルにより繰り返し現像液の噴射を受
けることが緩和される。したがって、シャワーの打力ム
ラに起因する基板面内のパターン寸法のバラツキが低減
され、面内寸法の精度を高めることができる。
【００２７】上記態様の現像処理装置において、シャワ
ーパイプを搬送面に対して所定のストロークにて揺動す
るようにした場合には、シャワーパイプの揺動により搬
送方向に略直交する方向への現像液噴射の広がりを持た
せることができるので、シャワーパイプを搬送方向に所
定角度をもって配置することとあいまって、シャワーの
打力ムラの低減に資することができる。
ーパイプを搬送面に対して所定のストロークにて揺動す
るようにした場合には、シャワーパイプの揺動により搬
送方向に略直交する方向への現像液噴射の広がりを持た
せることができるので、シャワーパイプを搬送方向に所
定角度をもって配置することとあいまって、シャワーの
打力ムラの低減に資することができる。
【００２８】また上記のようにした場合にはさらに、シ
ャワーパイプを搬送方向に対して角度θをもって配置す
るとともに、シャワーパイプの軸心に直交する方向にス
トローク幅Ａにて揺動し、シャワーパイプに複数配置さ
れたシャワーノズルの両端の間隔はＬである場合におい
て、 θ＝ｔａｎ−１（Ａ／２Ｌ） なる関係が成立するように構成した場合には、一本のシ
ャワーパイプに関して、各シャワーノズルの直下を搬送
される基板の所定幅の部分に、ほぼ均等な打力を持った
シャワーをあてることができる。
ャワーパイプを搬送方向に対して角度θをもって配置す
るとともに、シャワーパイプの軸心に直交する方向にス
トローク幅Ａにて揺動し、シャワーパイプに複数配置さ
れたシャワーノズルの両端の間隔はＬである場合におい
て、 θ＝ｔａｎ−１（Ａ／２Ｌ） なる関係が成立するように構成した場合には、一本のシ
ャワーパイプに関して、各シャワーノズルの直下を搬送
される基板の所定幅の部分に、ほぼ均等な打力を持った
シャワーをあてることができる。
【００２９】また上記構成にて、シャワーノズルをシャ
ワーパイプにの下面に等間隔に設けた場合には、さらに
両端ノズル間に均等な打力を持ったシャワーをあてるこ
とができる。
ワーパイプにの下面に等間隔に設けた場合には、さらに
両端ノズル間に均等な打力を持ったシャワーをあてるこ
とができる。
【００３０】また上記のように構成した場合、さらにシ
ャワーパイプを、所定の間隔Ｑをもって複数配列して、 Ｑ＝Ａ／２ なる関係が成立するように構成した場合には、上記のほ
ぼ均等な打力を持ったシャワーがあたる幅を横方向に連
続して配列することができる。
ャワーパイプを、所定の間隔Ｑをもって複数配列して、 Ｑ＝Ａ／２ なる関係が成立するように構成した場合には、上記のほ
ぼ均等な打力を持ったシャワーがあたる幅を横方向に連
続して配列することができる。
【００３１】上記のように構成した場合またさらに、シ
ャワーパイプの設置本数をｍ、現像処理される基板のう
ち最大の幅を有する基板の前記幅をＷｍａｘとすると
き、 Ｗｍａｘ＜ｍＱｃｏｓθ なる関係を有するように構成すれば、上記のほぼ均等な
打力を持ったシャワーの幅の中に、現像処理を行う全て
の基板を収めることができる。換言すれば、全てのサイ
ズの基板をほぼ均等な打力を持った現像液シャワーにて
処理することができる。
ャワーパイプの設置本数をｍ、現像処理される基板のう
ち最大の幅を有する基板の前記幅をＷｍａｘとすると
き、 Ｗｍａｘ＜ｍＱｃｏｓθ なる関係を有するように構成すれば、上記のほぼ均等な
打力を持ったシャワーの幅の中に、現像処理を行う全て
の基板を収めることができる。換言すれば、全てのサイ
ズの基板をほぼ均等な打力を持った現像液シャワーにて
処理することができる。
【図１】処理基板と搬送面上方に配置されたシャワーパ
イプを示す図である。
イプを示す図である。
【図２】各シャワーパイプに設けられたシャワーノズル
の配置と、シャワーの広がり範囲を示す図である。
の配置と、シャワーの広がり範囲を示す図である。
【図３】シャワーノズルの揺動を示す図である。
【図４】１本のシャワーパイプにおけるシャワーの範囲
を示す図である。
を示す図である。
【図５】ほぼ均等なシャワーが供給される範囲を示す図
である。
である。
【図６】処理基板の大きさと、シャワーの範囲とを示す
図である。
図である。
Claims (7)
- 【請求項１】 基板上にパターン形成をするための現像
処理装置であって、前記基板を搬送する基板搬送装置
と、現像液を前記搬送装置上の基板に噴射するシャワー
ノズルを複数備えたシャワーパイプとを具備し、 前記シャワーパイプは、前記基板搬送装置の搬送面に平
行、かつ搬送方向に対して所定の角度をもって配置され
ていることを特徴とする現像処理装置。 - 【請求項２】 前記シャワーパイプは、前記搬送面に対
して所定のストロークにて揺動されていることを特徴と
する請求項１に記載の現像処理装置。 - 【請求項３】 前記シャワーパイプは、搬送方向に対し
て角度θをもって配置されるとともに、前記シャワーパ
イプの軸心に直交する方向にストローク幅Ａにて揺動さ
れ、 前記シャワーパイプに複数配置された前記シャワーノズ
ルの両端の間隔はＬである場合において、 θ＝ｔａｎ−１（Ａ／２Ｌ） なる関係を有することを特徴とする請求項２に記載の現
像処理装置。 - 【請求項４】 前記シャワーノズルは前記シャワーパイ
プの下面に等間隔に設けられていることを特徴とする請
求項３に記載の現像処理装置。 - 【請求項５】 前記シャワーパイプは所定の間隔Ｑをも
って複数配列されており、 Ｑ＝Ａ／２ なる関係を有することを特徴とする請求項３又は４のい
ずれかに記載の現像処理装置。 - 【請求項６】 前記シャワーパイプの設置本数をｍ、現
像処理される前記基板のうち最大の幅を有する基板の前
記幅をＷｍａｘとするとき、 Ｗｍａｘ＜ｍＱｃｏｓθ なる関係を有することを特徴とする請求項３〜５のいず
れかに記載の現像処理装置。 - 【請求項７】 前記基板は、プラズマディスプレイ用基
板であり、前記現像処理は隔壁パターン及び電極パター
ンを形成するための現像処理であることを特徴とする請
求項１〜６のいずれかに記載の現像処理装置。
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|---|---|---|---|
| JP2001319829A JP4053759B2 (ja) | 2001-10-17 | 2001-10-17 | 現像処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001319829A JP4053759B2 (ja) | 2001-10-17 | 2001-10-17 | 現像処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003122021A true JP2003122021A (ja) | 2003-04-25 |
| JP4053759B2 JP4053759B2 (ja) | 2008-02-27 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001319829A Expired - Fee Related JP4053759B2 (ja) | 2001-10-17 | 2001-10-17 | 現像処理装置 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP4053759B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103207537A (zh) * | 2012-01-13 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种显影机的喷淋显影系统 |
| WO2014205889A1 (zh) * | 2013-06-25 | 2014-12-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显影装置及显影方法 |
| CN104785401A (zh) * | 2015-05-13 | 2015-07-22 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种喷涂装置和喷涂方法 |
| WO2017164126A1 (ja) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | 東レ株式会社 | 現像装置及び回路基板の製造方法 |
| CN110349856A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-10-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 湿式蚀刻方法及装置 |
-
2001
- 2001-10-17 JP JP2001319829A patent/JP4053759B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103207537A (zh) * | 2012-01-13 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种显影机的喷淋显影系统 |
| WO2014205889A1 (zh) * | 2013-06-25 | 2014-12-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显影装置及显影方法 |
| US9581939B2 (en) | 2013-06-25 | 2017-02-28 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Developing device and developing method |
| CN104785401A (zh) * | 2015-05-13 | 2015-07-22 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种喷涂装置和喷涂方法 |
| WO2017164126A1 (ja) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | 東レ株式会社 | 現像装置及び回路基板の製造方法 |
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| CN110349856B (zh) * | 2019-06-28 | 2021-04-27 | Tcl华星光电技术有限公司 | 湿式蚀刻方法及装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4053759B2 (ja) | 2008-02-27 |
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