JP2020019102A - Memsデバイス - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 43
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 21
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 9
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910020751 SixGe1-x Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
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- B81B3/0037—For increasing stroke, i.e. achieve large displacement of actuated parts
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/24—Constructional features of resonators of material which is not piezoelectric, electrostrictive, or magnetostrictive
- H03H9/2405—Constructional features of resonators of material which is not piezoelectric, electrostrictive, or magnetostrictive of microelectro-mechanical resonators
- H03H9/2436—Disk resonators
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- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
- B81B3/0018—Structures acting upon the moving or flexible element for transforming energy into mechanical movement or vice versa, i.e. actuators, sensors, generators
- B81B3/0021—Transducers for transforming electrical into mechanical energy or vice versa
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- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
- B81B3/0064—Constitution or structural means for improving or controlling the physical properties of a device
- B81B3/0067—Mechanical properties
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
- B81B3/0064—Constitution or structural means for improving or controlling the physical properties of a device
- B81B3/0086—Electrical characteristics, e.g. reducing driving voltage, improving resistance to peak voltage
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
- B81B7/0032—Packages or encapsulation
- B81B7/007—Interconnections between the MEMS and external electrical signals
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/0072—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks of microelectro-mechanical resonators or networks
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02244—Details of microelectro-mechanical resonators
- H03H9/02393—Post-fabrication trimming of parameters, e.g. resonance frequency, Q factor
- H03H9/02409—Post-fabrication trimming of parameters, e.g. resonance frequency, Q factor by application of a DC-bias voltage
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Abstract
Description
図1は第1の実施形態に係るMEMS共振器(MEMSデバイス)1を示す平面図であり、図2は図1の矢視2−2断面図である。
MEMS共振器1は、基板10と、基板10上に設けられたMEMS振動子20とを含む。
基板10は、例えば、図2に示すように、シリコン基板11、シリコン酸化膜12、シリコン窒化膜13が順次積層された構造を有する。
検出電極23は、振動子21の側面に接触せずに当該側面の一部に対向して配置された部分23aを含む。この部分23aと振動子21の側面との間隔は、例えば、100nm以上2000nm以下である。駆動電極24は、振動子21の側面に接触せずに当該側面の一部に対向して配置された部分24aを含む。この部分24aと振動子21の側面との間隔は、例えば、100nm以上2000nm以下である。
MEMS共振器1は、周知の犠牲膜プロセスを利用することにより製造することができる。図3(a)〜図3(f)は、MEMS共振器1の製造方法の一例を説明するための断面図である。
次に、図3(b)に示すように、配線層14と配線層15との間の隙間を埋めるようにシリコン窒化膜13上に犠牲膜2を形成し、その後、配線層15に達する貫通孔を犠牲膜2中に形成する。ここでは、犠牲膜2はシリコン酸化膜である。
次に、図3(e)に示すように、犠牲膜33上にレジストパターン(不図示)を形成し、当該レジストパターンをマスクにして犠牲膜3よび振動子21をエッチングすることにより、図1および図2に示した形状および寸法を有する振動子21を得る。
その後、犠牲膜2,3を除去することにより、図1および図2に示したMEMS共振器1が得られる。
本実施形態では、制御電極25は、振動子21の中央部に設けられた貫通孔を通るように配置されている。その理由は、振動子21の中央部は共振の振幅が小さいからである。制御電極25は、図4(a)に示すように、振動子21の振動の節となる部分(共振の振幅が小さい部分)に設けられた貫通孔を通るように配置されても構わない。振動の節となる部分は振動子21の共振モードに依存する。また、本実施形態では、1つの制御電極25を用いたが、図4(b)〜図4(d)に示すように、2つ以上の制御電極25を用いても構わない。2つ以上の制御電極25は、振動子21の振動の節となる部分に設けられた貫通孔を通るように配置される。
図5は第2の実施形態に係るMEMS共振器1を示す平面図である。
本実施形態のMEMS共振器1は、振動子(振動部)21に並列に連結された複数の可動電極(振動部)301〜304を含んでいる。複数の可動電極の個数は4には限定されない。各可動電極301〜304は連結部31を介して振動子21に連結されている。本実施形態では、振動子21には貫通孔は設けられていない。
ここで、本実施形態のMEMS共振器1のモーション抵抗は、図6に示す比較例のMEMS共振器のモーション抵抗よりも小さい。以下、この点についてさらに説明する。
Rx=(ωr/Q)・(mre/ηe 2) (1)
ηe=Vdc・(ε0・A/d2) (2)
ここで、ωrは振動子21の共振時の角振動数、mreは振動子21の実効質量、ηeは電気機械結合係数、Vdcは駆動電圧、ε0は真空の誘電率、Aは振動子21と検出(駆動)電極23との対向面積、dは振動子21と検出(駆動)電極23との間隔である。
Rx'=(ω0/nQ)・(mre/ηe'2) (3)
ηe'=Vdc・(ε0・nA/d2) (4)
ここで、nは可動電極の個数である。
式(3)に(4)を代入すると、
Rx'=Rx/n3 (5)
が得られる。式(5)から分かるように、モーション抵抗Rx'はモーション抵抗Rxよりも小さい。図6に示した可動電極の個数が4であるMEMS共振器1の場合、Rx'はRxの43(=64)分の1という小さな値となる。したがって、本実施形態によれば、低い駆動電圧でMEMS共振器1を駆動することができ、その結果としてMEMS共振器1の駆動回路の低消費電力化を図ることができる。
図7は第3の実施形態に係るMEMS共振器1を示す平面図である。
本実施形態のMEMS共振器1が第2の実施形態のそれと異なる点は、第1の実施形態で説明した制御電極を備えていることにある。より詳細には、振動子21に設けられた貫通孔を通る制御電極25、および、各可動電極301〜304に設けられた貫通孔を通る制御電極251〜254を含む。
(第4の実施形態)
図9は第4の実施形態に係るMEMS共振器1を示す平面図である。
図11は第5の実施形態に係るMEMS共振器1を示す平面図である。
本実施形態のMEMS共振器1は、振動子21に直列に連結された第1および第2の可動電極301,302を備えている。検出電極23と可動電極301,302との対向面積の増加に加えて、可動電極301,302の個数(N個)に比例してQ値(N・Q)は高くなる。これにより、消費電力の低減化を図れる。検出電極と可動電極との対向面積がn倍になると、モーション抵抗は1/(2n・M)となる。
図13は第6の実施形態に係るMEMS共振器1を示す平面図である。
本実施形態のMEMS共振器1は、直列に連結された複数のMEMS振動子201,202と、MEMS振動子201に直列に連結された可動電極301とを備えている。MEMS振動子の個数は2つには限定されず、そして、可動電極の数は1つには限定されない。MEMS振動子201,202の個数(N個)に比例してQ値(N・Q)は高くなる。これにより、消費電力の低減化を図れる。検出電極と可動電極との対向面積がn倍になると、モーション抵抗は1/(2n・M)となる。
図14は第7の実施形態に係るMEMSガスセンサ(MEMSデバイス)5を示す平面図であり、図15は図14の矢視15−15断面図である。
本実施形態のMEMSガスセンサ5は、第1の実施形態のMEMS共振器1と、MEMS共振器1の振動子21の上面に設けられ、所定のガス(検出ガス)を吸収または吸着する感応膜40とを備えている。検出ガスは例えばCO2ガスである。
また、第1〜第6の実施形態のMEMS共振器1は、発振器、ジャイロセンサ、圧力センサ等の他のデバイスにも適用できる。
[付記1]
基板と、
前記基板上に設けられたMEMS振動子とを具備し、
前記MEMS振動子は、
前記基板の上方に配置された第1の振動部と、
前記第1の振動部に接触せずに配置され、前記第1の振動部の振動特性を制御するための制御電極と
を具備するMEMSデバイス。
[付記2]
前記制御電極は、前記第1の振動部に設けられた貫通孔を通る付記1に記載のMEMSデバイス。
[付記3]
前記第1の振動部の側面に接触せずに前記側面の一部に対向して配置された部分を含む固定電極をさらに具備する付記1または2に記載のMEMSデバイス。
[付記4]
前記第1の振動部の前記側面と前記固定電極の前記部分との間隔が変化するように、前記第1の振動部は振動する付記3に記載のMEMSデバイス。
[付記5]
基板と、
前記基板上に設けられたMEMS振動子とを具備し、
前記MEMS振動子は、
前記基板の上方に配置され、第1の共振周波数を有する第1の振動部と、
前記第1の振動部に連結され、前記第1の共振周波数を有する第2の振動部と、
前記第1の振動部または前記第2の振動部に連結され、前記第1の共振周波数を有する第3の振動部と
を具備するMEMSデバイス。
[付記6]
前記第2の振動部は前記第1の振動部に連結され、前記第3の振動部は前記第1の振動部に連結されている付記5に記載のMEMSデバイス。
[付記7]
前記MEMS振動子は、
前記第1の振動部に接触せずに配置され、前記第1の振動部の振動特性を制御するための第1の制御電極、
前記第2の振動部に接触せずに配置され、前記第2の振動部の振動特性を制御するための第2の制御電極、および、
前記第3の振動部に接触せずに配置され、前記第3の振動部の振動特性を制御するための第3の制御電極の少なくとも1つをさらに具備する付記5または6に記載のMEMSデバイス。
[付記8]
前記第1の制御電極、前記第2の制御電極および前記第3の制御電極は、それぞれ、前記第1の振動部、前記第2の振動部および前記第3の振動部に設けられた貫通孔を通る付記7に記載のMEMSデバイス。
[付記9]
前記MEMS振動子は、
前記第2の振動部の側面に接触せずに前記側面の一部に対向して配置された部分を含む第1の固定電極と、
前記第3の振動部の側面に接触せずに前記側面の一部に対向して配置された部分を含む第2の固定電極とをさらに具備する付記6ないし8のいずれに記載のMEMSデバイス。
[付記10]
前記第2の振動部の前記側面と前記第1の固定電極の前記部分との間隔が変化し、かつ、前記第3の振動部の前記側面と前記第2の固定電極の前記部分との間隔が変化するように、前記第1の振動部、前記第2の振動部および前記第3の振動部は振動する付記9に記載のMEMSデバイス。
[付記11]
前記第2の振動部は前記第1の振動部に連結され、前記第3の振動部は前記第2の振動部に連結されている付記5に記載のMEMSデバイス
[付記12]
前記第3の振動部の側面に接触せずに前記側面の一部に対向して配置された部分を含む固定電極をさらに含む付記11に記載のMEMSデバイス。
[付記13]
前記第3の振動部の前記側面と前記固定電極の前記部分との間隔が変化するように、前記第1の振動部、前記第2の振動部および前記第3の振動部は振動する付記12に記載のMEMSデバイス。
[付記14]
前記第1の振動部を前記基板に支持する支持部をさらに具備する付記1ないし13のいずれかに記載のMEMSデバイス。
[付記15]
基板と、
前記基板の上方に配置され、第1の共振周波数を有する第1の振動部を含む第1のMEMS振動子と、
前記基板の上方に配置され、前記第1の振動部に連結された前記第1の共振周波数を有する第2の振動部を含む第2のMEMS振動子と、
前記基板の上方に配置され、前記第1の振動部または前記第2の振動部に連結された前記第1の共振周波数を有する第3の振動部と
を具備するMEMSデバイス。
[付記16]
前記第3の振動部の側面に接触せずに前記側面の一部に対向して配置された部分を含む固定電極をさらに具備する付記15に記載のMEMSデバイス。
[付記17]
前記第3の振動部の前記側面と前記固定電極の部分との間隔が変化するように、前記第1の振動部、前記第2の振動部および前記第3の振動部は振動する付記16に記載のMEMSデバイス。
[付記18]
前記第1の振動部を前記基板に支持する支持部と、
前記第2の振動部を前記基板に支持する支持部と
をさらに具備する付記15または16に記載のMEMSデバイス。
[付記19]
前記振動部上に設けられ、所定のガスを吸収または吸着する感応膜をさらに具備する付記1ないし18のいずれかに記載足のMEMSデバイス
[付記20]
前記所定のガスは二酸化炭素を含む付記19に記載のMEMSデバイス。
Claims (20)
- 基板と、
前記基板上に設けられたMEMS振動子とを具備し、
前記MEMS振動子は、
前記基板の上方に配置された第1の振動部と、
前記第1の振動部に接触せずに配置され、前記第1の振動部の振動特性を制御するための制御電極と
を具備するMEMSデバイス。 - 前記制御電極は、前記第1の振動部に設けられた貫通孔を通る請求項1に記載のMEMSデバイス。
- 前記第1の振動部の側面に接触せずに前記側面の一部に対向して配置された部分を含む固定電極をさらに具備する請求項1または2に記載のMEMSデバイス。
- 前記第1の振動部の前記側面と前記固定電極の前記部分との間隔が変化するように、前記第1の振動部は振動する請求項3に記載のMEMSデバイス。
- 基板と、
前記基板上に設けられたMEMS振動子とを具備し、
前記MEMS振動子は、
前記基板の上方に配置され、第1の共振周波数を有する第1の振動部と、
前記第1の振動部に連結され、前記第1の共振周波数を有する第2の振動部と、
前記第1の振動部または前記第2の振動部に連結され、前記第1の共振周波数を有する第3の振動部と
を具備するMEMSデバイス。 - 前記第2の振動部は前記第1の振動部に連結され、前記第3の振動部は前記第1の振動部に連結されている請求項5に記載のMEMSデバイス。
- 前記MEMS振動子は、
前記第1の振動部に接触せずに配置され、前記第1の振動部の振動特性を制御するための第1の制御電極、
前記第2の振動部に接触せずに配置され、前記第2の振動部の振動特性を制御するための第2の制御電極、および、
前記第3の振動部に接触せずに配置され、前記第3の振動部の振動特性を制御するための第3の制御電極の少なくとも1つをさらに具備する請求項5または6に記載のMEMSデバイス。 - 前記第1の制御電極、前記第2の制御電極および前記第3の制御電極は、それぞれ、前記第1の振動部、前記第2の振動部および前記第3の振動部に設けられた貫通孔を通る請求項7に記載のMEMSデバイス。
- 前記MEMS振動子は、
前記第2の振動部の側面に接触せずに前記側面の一部に対向して配置された部分を含む第1の固定電極と、
前記第3の振動部の側面に接触せずに前記側面の一部に対向して配置された部分を含む第2の固定電極とをさらに具備する請求項6ないし8のいずれに記載のMEMSデバイス。 - 前記第2の振動部の前記側面と前記第1の固定電極の前記部分との間隔が変化し、かつ、前記第3の振動部の前記側面と前記第2の固定電極の前記部分との間隔が変化するように、前記第1の振動部、前記第2の振動部および前記第3の振動部は振動する請求項9に記載のMEMSデバイス。
- 前記第2の振動部は前記第1の振動部に連結され、前記第3の振動部は前記第2の振動部に連結されている請求項5に記載のMEMSデバイス。
- 前記第3の振動部の側面に接触せずに前記側面の一部に対向して配置された部分を含む固定電極をさらに含む請求項11に記載のMEMSデバイス。
- 前記第3の振動部の前記側面と前記固定電極の前記部分との間隔が変化するように、前記第1の振動部、前記第2の振動部および前記第3の振動部は振動する請求項12に記載のMEMSデバイス。
- 前記第1の振動部を前記基板に支持する支持部をさらに具備する請求項1ないし13のいずれかに記載のMEMSデバイス。
- 基板と、
前記基板の上方に配置され、第1の共振周波数を有する第1の振動部を含む第1のMEMS振動子と、
前記基板の上方に配置され、前記第1の振動部に連結された前記第1の共振周波数を有する第2の振動部を含む第2のMEMS振動子と、
前記基板の上方に配置され、前記第1の振動部または前記第2の振動部に連結された前記第1の共振周波数を有する第3の振動部と
を具備するMEMSデバイス。 - 前記第3の振動部の側面に接触せずに前記側面の一部に対向して配置された部分を含む固定電極をさらに具備する請求項15に記載のMEMSデバイス。
- 前記第3の振動部の前記側面と前記固定電極の部分との間隔が変化するように、前記第1の振動部、前記第2の振動部および前記第3の振動部は振動する請求項16に記載のMEMSデバイス。
- 前記第1の振動部を前記基板に支持する支持部と、
前記第2の振動部を前記基板に支持する支持部と
をさらに具備する請求項15または16に記載のMEMSデバイス。 - 前記振動部上に設けられ、所定のガスを吸収または吸着する感応膜をさらに具備する請求項1ないし18のいずれかに記載足のMEMSデバイス。
- 前記所定のガスは二酸化炭素を含む請求項19に記載のMEMSデバイス。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018145204A JP7074605B2 (ja) | 2018-08-01 | 2018-08-01 | Memsデバイス |
US16/352,376 US20200039813A1 (en) | 2018-08-01 | 2019-03-13 | Mems device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018145204A JP7074605B2 (ja) | 2018-08-01 | 2018-08-01 | Memsデバイス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020019102A true JP2020019102A (ja) | 2020-02-06 |
JP7074605B2 JP7074605B2 (ja) | 2022-05-24 |
Family
ID=69228265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018145204A Active JP7074605B2 (ja) | 2018-08-01 | 2018-08-01 | Memsデバイス |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200039813A1 (ja) |
JP (1) | JP7074605B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Publication number | Publication date |
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JP7074605B2 (ja) | 2022-05-24 |
US20200039813A1 (en) | 2020-02-06 |
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