JP2020008113A - パイロット作動式の電磁弁 - Google Patents

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由浩 武藤
池田 英生
Hideo Ikeda
英生 池田
康二 羽生
Koji Haniyu
康二 羽生
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Yoshiaki Kuwabara
義明 桑原
聡 日下
Satoshi Kusaka
聡 日下
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Abstract

【課題】パイロット作動式の電磁弁において、異物の侵入によるパイロット弁の作動性の低下を防止又は抑制する。【解決手段】電磁弁2は、主弁54と、パイロット弁56と、パイロット弁56を駆動するソレノイド52とを備える。主弁体64は、上流側通路17aと背圧室68とを区画する区画部66と、主弁座60に着脱して主弁54を開閉するシール部70と、上流側通路17aと背圧室68との連通させるリーク通路71とを有する。プランジャ78とスリーブ80との隙間が背圧室68に開口している。上流側通路17aに配設された第1フィルタ部材とは別に、リーク通路71を覆う第2フィルタ部材25が設けられている。【選択図】図2

Description

本発明は、パイロット作動式の電磁弁に関する。
大きな弁を小さな駆動力で開閉させるパイロット作動式の電磁弁が汎用されている。この電磁弁は、主通路に設けられた主弁と、副通路に設けられたパイロット弁と、パイロット弁を駆動するソレノイドを備える。主弁の弁体(主弁体)は、主通路と背圧室とを区画する区画部を一体に有する。主弁体には、上流側圧力を背圧室へ導入するためのリーク通路が形成されている。パイロット弁を閉じると、背圧室の圧力が上昇する。それにより、主弁体に閉弁方向の差圧を付与し、主弁を閉じることができる。パイロット弁を開くと、背圧室の圧力が降下する。それにより、主弁体に開弁方向の差圧を付与し、主弁を開くことができる(特許文献1参照)。
特開2014−139528号公報
このような電磁弁は一般に、主通路の上流側にフィルタ部材を配設することで、異物の通過が抑制されている。フィルタ部材のメッシュサイズを小さくするほど、異物侵入防止効果を期待できる。しかし、フィルタ部材そのものが流体の流動抵抗となるため、そのメッシュサイズを小さくするには限界があった。そのため、そのフィルタ部材を通過した小さな異物が、リーク通路を通過して背圧室に導かれ、ソレノイドの摺動部に侵入してパイロット弁の作動性を低下させる懸念がある。
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的の1つは、パイロット作動式の電磁弁において、異物の侵入によるパイロット弁の作動性の低下を防止又は抑制することにある。
本発明のある態様は、パイロット作動式の電磁弁である。この電磁弁は、上流側通路と下流側通路とを含む主通路と、上流側通路と下流側通路との間に設けられた主弁座とを有するボディと、上流側通路と背圧室とを区画する区画部と、主弁座に着脱して主弁を開閉するシール部と、背圧室と下流側通路とを連通させるパイロット通路と、上流側通路と背圧室とを連通させるリーク通路とを有する主弁体と、パイロット通路の背圧室側の開口端に設けられたパイロット弁座と、パイロット弁座に着脱してパイロット弁を開閉するパイロット弁体と、ボディに対して固定されたスリーブと、スリーブに摺動可能に支持されるプランジャとを含み、プランジャがパイロット弁体と一体に軸線方向に変位し、プランジャとスリーブとの隙間が背圧室に開口するソレノイドと、上流側通路に配設された第1フィルタ部材と、主弁体に固定され、リーク通路を覆う第2フィルタ部材と、を備える。
この態様によると、主通路に設けられた第1フィルタ部材とは別に第2フィルタ部材が設けられ、リーク通路を覆う。このため、第1フィルタ部材を通過した異物がリーク通路の側に導かれたとしても、第2フィルタ部材により捕捉可能となる。それにより、小さな異物がプランジャとスリーブとの隙間に侵入することを防止又は抑制できる。
本発明の別の態様もパイロット作動式の電磁弁である。この電磁弁は、第1フィルタ部材を備えた外部配管の下流側に設置される。この電磁弁は、上流側通路と下流側通路とを含む主通路と、上流側通路と下流側通路との間に設けられた主弁座とを有するボディと、上流側通路と背圧室とを区画する区画部と、主弁座に着脱して主弁を開閉するシール部と、背圧室と下流側通路とを連通させるパイロット通路と、上流側通路と背圧室とを連通させるリーク通路とを有する主弁体と、パイロット通路の背圧室側の開口端に設けられたパイロット弁座と、パイロット弁座に着脱してパイロット弁を開閉するパイロット弁体と、ボディに対して固定されたスリーブと、スリーブに摺動可能に支持されるプランジャとを含み、プランジャがパイロット弁体と一体に軸線方向に変位し、プランジャとスリーブとの隙間が背圧室に開口するソレノイドと、主弁体に固定され、リーク通路を覆う第2フィルタ部材と、を備える。
この態様によると、主弁体に第2フィルタ部材が設けられ、リーク通路を覆う。このため、外部配管の第1フィルタ部材を通過した異物が上流側通路に導入され、リーク通路の側に導かれたとしても、第2フィルタ部材により捕捉可能となる。それにより、小さな異物がプランジャとスリーブとの隙間に侵入することを防止又は抑制できる。
本発明によれば、パイロット作動式の電磁弁において、異物の侵入によるパイロット弁の作動性の低下を防止又は抑制できる。
実施形態に係る電磁弁を含む制御弁ユニットを表す断面図である。 図1の電磁弁周辺の詳細を表す部分拡大図である。 弁部材の構成を表す図である。 ダイアフラムの構成を表す図である。 リーク通路およびその周辺の構造を表す図である。 ストレーナの構成を表す図である。 第1変形例に係る弁部材と第2フィルタ部材の各構成を表す図である。 第2変形例に係る弁部材の各構成を表す図である。 第3〜第5変形例に係る第2フィルタ部材とその周辺構造を表す断面図である。 第6変形例に係る第2フィルタ部材とその周辺構造を表す図である。 第7変形例に係る第2フィルタ部材とその周辺構造を表す図である。
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明においては便宜上、図示の状態を基準に各構造の位置関係を表現することがある。また、以下の実施形態およびその変形例について、ほぼ同一の構成要素については同一の符号を付し、その説明を適宜省略する。
図1は、実施形態に係る電磁弁を含む制御弁ユニットを表す断面図である。図2は、図1の電磁弁周辺の詳細を表す部分拡大図である。
図1に示すように、制御弁ユニット1は、共用のボディ12に上流側から電磁弁2、逆止弁4、大気開放弁6、および逆止弁8を組み付けて構成される。電磁弁2は、注湯電磁弁であり、その弁部を開閉することにより浴槽への湯水の供給を許容又は遮断する。以下、電磁弁2の弁部の上流側を「一次側」、下流側を「二次側」ともいう。電磁弁2の上流側圧力を「一次圧」、下流側圧力を「二次圧」ともいう。
ボディ12は、樹脂材の一体成形(射出成形)により得られ、一次側から湯水を導入する導入ポート13、二次側へ湯水を導出する導出ポート15、およびこれらをつなぐ流体通路17を有する。流体通路17の中途(ほぼ中央)に、電磁弁2の弁部が配置されている。流体通路17は、電磁弁2における後述の「主通路」に対応し、弁部を境とした上流側通路17aと下流側通路17bを含む。
より詳細には、ボディ12は、本体14と、本体14の側部に連設された一次側管部16と、本体14の底部に連設された二次側管部18と、大気開放弁6につながる排出管部22とを有する。一次側管部16は、導入ポート13を有し、一次側の外部配管に接続される。一次側管部16の内方(上流側通路17a)には、一次側からの異物の侵入を抑制するストレーナ24(「第1フィルタ部材」として機能する)が配設されている。
二次側管部18は、導出ポート15を有し、二次側の外部配管に接続される。本体14と二次側管部18とは同軸状に設けられている。ボディ12は、一次側管部16と二次側管部18の互いの軸線が直交し、一次側管部16と排出管部22の互いの軸線が平行となるように設けられている。
本体14の上端開口部は、電磁弁2が組み付けられることにより封止されている。本体14と二次側管部18との接続部には、本体14と同心状に上流側に延出する円ボス部23が設けられている。このため、円ボス部23の側部が一次側管部16の軸線上に位置する。導入ポート13を介して一次側管部16に導入された湯水は、円ボス部23の周囲を回り込むようにして本体14に流入する。
逆止弁8および逆止弁4は、浴槽から給湯装置側への湯水の逆流を段階的に防止する。大気開放弁6は、一次側の圧力低下に応動して逆止弁4と逆止弁8との間の空間を大気に開放する。例えば浴槽が給湯装置よりも高い位置に設置されるような場合、浴槽の側に配置された逆止弁8が異物の噛み込みなどにより水密不良となっていた場合には、浴槽内の汚水がその水頭圧により逆止弁8を介して大気開放弁6まで逆流してくる。このような場合であっても、その汚水は大気開放弁6によって大気に放出されるため、浴槽内の汚水が一次側へ逆流することを防止できる。なお、給湯装置の構成は、例えば特許文献1に記載のように公知であるため、その詳細な説明については省略する。
図2に示すように、電磁弁2は、駆動部としてのソレノイド52を備える。本体14の開口部は、ソレノイド52が組み付けられることで封止されている。電磁弁2は、一次側から二次側へ流れる湯水の流れを制御する主弁54と、主弁54の開閉状態を制御するパイロット弁56を備える。
上述した円ボス部23の内周部により主弁孔58が形成され、その上流側開口端部に主弁座60が形成されている。円ボス部23を取り囲む空間は、一次側管部16に連通する圧力室62となっており、上流側通路17aを構成している。圧力室62には大径の主弁体64が配設されている。主弁体64は、主弁座60に着脱して主弁54を開閉する。円ボス部23の下流側端部には逆止弁4の弁孔65が設けられ、その開口端部に弁座67が形成されている。
主弁体64は、段付円板状の弁部材63と、弁部材63を支持するダイアフラム66を有する。ダイアフラム66は、その外周縁部がボディ12とソレノイド52との間に挟持され、軸線方向に変位可能に支持されている。弁部材63は、ダイアフラム66の中央を貫通しつつ固定されている。すなわち、弁部材63の側面に環状の凹部69が形成され、その凹部69にダイアフラム66の内周縁部が嵌着されている。
ダイアフラム66は、その中央部が弁部材63の底部に密着しており、その底部に沿った厚肉部分が主弁座60に着脱するシール部70を構成している。ダイアフラム66は、圧力室62とは反対側に背圧室68を区画する「区画部」として機能する。また、主弁体64には、背圧室68の内外を連通させ、一次側管部16からの湯水の一部を背圧室68に導入可能なリーク通路71が設けられている。このリーク通路71およびその周辺の詳細については後述する。
弁部材63の中央部には背圧室68側に突出するボス部が設けられ、そのボス部の上端面にパイロット弁座72が形成されている。また、弁部材63の中央部を軸線方向に貫通するようにパイロット通路73が設けられている。パイロット通路73の上部の小径部がパイロット弁孔74を形成している。また、背圧室68には、ソレノイド52により駆動されるパイロット弁体76が配設されている。パイロット弁体76は、パイロット弁座72に着脱してパイロット弁56を開閉する。パイロット弁体76は、弾性体(本実施例ではゴム)からなり、ソレノイド52のプランジャ78に固定されている。
一方、ソレノイド52は、ボディ12の開口端部を封止するように固定された有底段付円筒状のスリーブ80と、スリーブ80に摺動可能に支持されたプランジャ78と、スリーブ80の外側に設けられたボビン84と、ボビン84に巻回された電磁コイル86とを含む。パイロット弁体76は、プランジャ78の先端部に嵌合され、プランジャ78と一体に軸線方向に変位する。スリーブ80の底部とプランジャ78との間には、プランジャ78を介してパイロット弁体76を閉弁方向に付勢するスプリング88(「付勢部材」に該当する)が介装されている。図示のように、プランジャ78とスリーブ80との隙間が背圧室68に開口している。
大気開放弁6は、二次側管部18に対して一次側管部16とは反対側に設けられている。大気開放弁6のボディ90は、ボディ12と一体成形された本体92と、本体92を側方から封止するハウジング94とをOリング96およびダイアフラム98を介して組み付けることにより構成される。本体92は、排出管部22を介して二次側管部18とつながっている。排出管部22の内方に接続通路110が形成されている。ボディ90は、ダイアフラム98により感圧室100と開放室102に区画されている。感圧室100は、検圧通路104および小孔106を介して本体14の圧力室62に連通し、導入ポート13から導入される湯水の一次圧を導入する。
開放室102は、一方で接続通路110を介して二次側管部18の内方に連通し、他方で排出通路112を介して大気に開放されている。接続通路110は、二次側管部18における弁孔65よりも下流側に連通している。開放室102と接続通路110との間に円ボス部が設けられ、その円ボス部の先端に弁座114が形成されている。
ダイアフラム98に支持されるように弁体116が配設されている。弁体116は、ダイアフラム98の中央部(厚肉部)にて構成される着脱部118と、その着脱部118を軸線方向両側から挟むようにして支持する支持部材115,117にて構成される。支持部材115が感圧室100側から着脱部118を支持し、支持部材117が開放室102側から着脱部118を支持する。着脱部118が弁座114に着脱して大気開放弁6を開閉する。支持部材117が本体92により軸線方向に摺動可能に支持されることで、弁体116の安定した動作を確保している。弁体116とボディ12との間には、弁体116を開弁方向に付勢するスプリング119が介装されている。
逆止弁4および逆止弁8は、二次側管部18に組み込まれる逆止弁ユニットとして構成されている。すなわち、この逆止弁ユニットは、段付円筒状のボディ120に第1弁体122および第2弁体124を同軸状に組み付けて構成されている。ボディ120は、二次側管部18にOリング126を介して圧入されている。ボディ120の上流側開口端部と下流側開口端部には、円ボス状の軸受部128,140が設けられている。第1弁体122は、軸受部128に摺動可能に支持され、弁座67に下流側から着脱して逆止弁4を開閉する。第1弁体122と軸受部128との間には、第1弁体122を閉弁方向に付勢するスプリング132が介装されている。軸受部128には、その上流側と下流側とを連通させる連通孔134が設けられている。
第2弁体124は、第1弁体122と同様の構成を有する。ボディ120の上半部は縮径されており、その内周部により弁孔136が形成されている。そして、弁孔136の下流側開口端部により弁座138が形成されている。第2弁体124は、軸受部140に摺動可能に支持され、弁座138に下流側から着脱して逆止弁8を開閉する。第2弁体124と軸受部140との間には、第2弁体124を閉弁方向に付勢するスプリング142が介装されている。軸受部140には、その上流側と下流側とを連通させる連通孔144が設けられている。
次に、背圧室68への異物侵入防止構造について説明する。
図3は、弁部材63の構成を表す図である。(A)は下方からみた斜視図、(B)は平面図、(C)は正面図、(D)は底面図である。図4は、ダイアフラム66の構成を表す図である。(A)は平面図、(B)は(A)のB−B矢視断面図である。図5は、リーク通路71およびその周辺の構造を表す図である。(A)は主弁体64の構成表す底面図である。(B)は図2のA部拡大図である。(C)は(A)のC−C矢視断面図である。
図3に示すように、弁部材63は、段付円板状の本体150を有する。本体150の上面中央に弁座形成部152が突設され、その上端面にパイロット弁座72が形成されている。本体150の下面中央から下方に向けて通路形成部154が延設されている。弁座形成部152および通路形成部154を軸線方向に貫通するようにパイロット通路73が形成されている。通路形成部154の側面から小フランジ156が延出し、その下面に補強用の複数のリブ158が配設されている。本体150の下面中央部と小フランジ156との間に凹部69が形成されている。
本体150の下面周縁部には、段付柱状の係止突起160が突設されている。係止突起160は、弁部材63とダイアフラム66との固定に関わる。本体150の下面周縁部にはまた、その係止突起160から180度ずれた位置に取付孔162が設けられている。取付孔162は平面視長方形状をなし、その長手方向中央部が一段低くされた段差形状を有する。その段差の底面が非当接面164となっている。その段差における非当接面164の両側が係止面166とされている。係止面166には、後述するストレーナ25(「第2フィルタ部材」として機能する)が係止される。リーク通路71の上端は、本体150の上面周縁部に開口し、下端は非当接面164の中央に開口している。
図4に示すように、ダイアフラム66は、円板状の本体170と、本体170の外周縁から半径方向外向きに延出するコルゲート部172を有する。本体170の中央に嵌合孔174が形成されている。嵌合孔174の内周縁部が、弁部材63の凹部69に嵌着される。本体170の下面にシール部70が設定され、そのシール部70の外側に長方形状の開口部176が形成されている。本体170にはまた、開口部176と180度ずれた位置に円形状の嵌合孔178が形成されている。
図5に示すように、主弁体64は、ストレーナ25を弁部材63に組み付け、さらに弁部材63をダイアフラム66に組み付けて得られる。係止突起160が嵌合孔178に挿通されることで、弁部材63がダイアフラム66に対して位置決めされる。
図6は、ストレーナ25の構成を表す図である。(A)は平面図であり、(B)は正面図であり、(C)は側面図である。
ストレーナ25は、有底枠体状(平面視長方形状)をなし、ストレーナ24よりも細かいメッシュを有する。具体的には、ストレーナ24のメッシュの開口幅(目開き)は、リーク通路71の直径よりも小さいが、プランジャ78とスリーブ80との隙間(クリアランス)よりも大きい。一方、ストレーナ25のメッシュの開口幅は、ストレーナ24のメッシュの開口幅よりも小さく、さらにプランジャ78とスリーブ80との隙間よりも小さい。ストレーナ25は、全体として可撓性を有する。
図5に戻り、ストレーナ25は、弁部材63の取付孔162に嵌合する態様で取り付けられる。ストレーナ25は、その底面が係止面166に当接するまで押し込まれる。このとき、ストレーナ25の下端開口部がやや内方に撓み、その弾性反力により取付孔162に引っ掛かる。図5(B)に示すように、取付孔162は上流側通路17aに連通する。
図5(A)および(C)に示すように、開口部176の長手方向の幅が、取付孔162のそれよりやや小さい。このため、弁部材63とダイアフラム66とを組み付けたときには、図示のように、ダイアフラム66における開口部176の周辺が、ストレーナ25の長手方向両端にややオーバーラップする。それにより、ストレーナ25の取付孔162からの脱落が防止される。本実施形態において、リーク通路71、取付孔162および開口部176が、上流側通路17aと背圧室68とを連通させる「連通孔180」を構成する。連通孔180は、シール部70の外側に位置する。
また、ストレーナ25と非当接面164との間に空隙Sが形成されることで、リーク通路71の上流側でストレーナ25の流路面積を大きくとることができ、異物の目詰まりによる流路の閉塞を防止又は抑制できる。
次に、制御弁ユニット1の動作について図1および図2を参照しつつ説明する。
上述した構成おいて、上流側通路17aと下流側通路17bとを背圧室68を介することなくつなぐ通路が「主通路」を構成する。上流側通路17aと下流側通路17bとを背圧室68を介してつなぐ通路が「副通路」を構成する。背圧室68の圧力は、パイロット弁56の開閉状態によって変化する。
ソレノイド52がオフにされた状態(非通電状態)では、パイロット弁56が閉弁して副通路を閉じ、主弁54が閉弁して主通路を遮断する。すなわち、ソレノイド力が作用しないため、スプリング88によってパイロット弁体76が閉弁方向に付勢され、パイロット弁56が閉弁状態となる。このとき、背圧室68の圧力と主弁54の上流側圧力とがほぼ等しくなり、主弁体64には主弁54の上流側圧力(一次圧)と下流側圧力(二次圧)との差圧が閉弁方向に作用する。一次圧が高い通常の状態では主弁体64が押し下げられ、主弁座60に着座して主弁54を閉じる。
一方、ソレノイド52がオンにされた状態(通電状態)では、パイロット弁56が開弁して副通路を開き、主弁54が開弁して主通路を開放する。すなわち、ソレノイド力が作用するため、スプリング88の付勢力に抗してパイロット弁体76が開弁方向に駆動され、パイロット弁56が開弁状態となる。このとき、背圧室68の圧力と主弁54の下流側圧力とがほぼ等しくなり、主弁体64には一次圧と二次圧との差圧が開弁方向に作用する。一次圧が高い通常の状態では主弁体64が押し上げられ、主弁座60から離間して主弁54を開く。
湯張り時においてはソレノイド52への通電がなされ、電磁弁2が全開状態に維持される。このとき、上流側から導入ポート13を介して湯水が導入され、その水圧により逆止弁4および逆止弁8が開弁状態となる。一方、このような通水時においては、一次圧のほうが二次圧よりも高くなるため、大気開放弁6は閉弁状態を維持する。
一方、湯張りを停止させる際には、ソレノイド52への通電をオフにする。それにより、ソレノイド52による吸引力がなくなるため、スプリング88の付勢力によりパイロット弁体76がパイロット弁座72に着座して、パイロット弁56を閉じる。その結果、主弁54が主弁座60に着座し、電磁弁2が閉弁状態となる。
このとき、電磁弁2により湯水の導入が遮断されるため、逆止弁4および逆止弁8はスプリング132,142の付勢力により閉弁状態となる。一方、給湯装置が正常に動作する限り、一次側管部16から導入される圧力のほうが、逆止弁4と逆止弁8との間の圧力よりも高くなるため、大気開放弁6は閉弁状態を維持する。
このようにして浴槽に湯が供給された状態において、大気開放弁6の感圧室100には、検圧通路104を介して一次圧が導入されている。この一次圧は通常、二次圧より大きいため、大気開放弁6は閉弁状態を保持する。しかし、例えば停電や断水により給水装置において負圧が発生すると、大気開放弁6がその一次圧の低下を感知して開弁し、逆止弁4と逆止弁8との間の空間にある水を大気に放出する。このとき、仮に逆止弁8が異物の噛み込み等、何らかの要因で水密不良となっていた場合、浴槽の汚水がその水頭圧により逆止弁8を介して大気開放弁6まで逆流する。しかし、その汚水は大気開放弁6により大気に放出されるため、給湯装置の内部ひいては上水道へ逆流することはない。
以上の動作において、ソレノイド52がオン・オフされるごと、つまりパイロット弁56が開閉するごとに背圧室68への湯水の導入および排出がなされる。この湯水の導入の際に、仮にストレーナ24を通過した微小な異物が連通孔180に差しかかったとしても、ストレーナ25がこれを捕捉し、背圧室68への侵入を防止又は抑制できる。つまり、プランジャ78とスリーブ80との隙間に異物が侵入することを防止又は抑制できる。プランジャ78がロックしてパイロット弁56の作動性を低下させるような事態を防止又は抑制できる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はその特定の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術思想の範囲内で種々の変形が可能であることはいうまでもない。以下、上記実施形態の変形例を示す。
図7は、第1変形例に係る弁部材および第2フィルタ部材の各構成を表す図である。(A)は弁部材の斜視図であり、(B)は底面図である。(C)は第2フィルタ部材の平面図であり、(D)は側面図である。
第1変形例では、上記実施形態の弁部材63に代えて弁部材163を、ストレーナ25に代えてストレーナ125(「第2フィルタ部材」として機能する)を採用する。弁部材163の下面周縁部には、半円弧状の取付孔165が設けられている。取付孔165の両端部に係止面166が設けられ、それらの間に非当接面164が設定されている。リーク通路71は、非当接面164の中央に開口している。一方、ストレーナ125は、取付孔165と相補形状となるよう半円弧状に構成されている。なお、弁部材163が取り付けられるダイアフラムには、ストレーナ125を露出させるための半円弧状の開口部が設けられるが、図示を省略する。
本変形例によれば、上記実施形態と比較して第2フィルタ部材の面積を大きくできる。ストレーナ125の面積が大きいため、部分的に異物による目詰まりが生じたとしても、リーク通路への流体の流れを確保しやすい。その結果、ソレノイドをオンにした際に背圧室への流体の供給を確保でき、主弁54を閉じることができる。
図8は、第2変形例に係る弁部材の各構成を表す図である。(A)は斜視図であり、(B)は底面図である。
第2変形例では、上記実施形態の弁部材63に代えて弁部材263を採用する。弁部材263には、その下面周縁部の二箇所に取付孔162が設けられている。2つの取付孔162は、弁部材263の軸線に対して互いに90度ずれた位置に設けられている。各取付孔162にリーク通路71が開口しており、それぞれストレーナ25が取り付けられる。本変形例では、弁部材263の2箇所にリーク通路71が設けられることになるが、その2つのリーク通路71の総断面積は、パイロット弁孔74の断面積よりも小さい。それにより、主弁54の開弁動作を確保できる。
本変形例によれば、万が一、2つの連通孔180の一方について異物により流体の流れが阻害されたとしても、他方の連通孔180により背圧室68への流体の供給を確保できる。なお、本変形例では、リーク通路および第2フィルタ部材を複数設けることとしたが、それらの数については適宜設定できる。複数の第2フィルタ部材が互いに異なる形状を有してもよい。ただし、複数の第2フィルタ部材が覆う各リーク通路の総断面積がパイロット弁孔の断面積よりも小さくなるようにする。
図9は、第3〜第5変形例に係る第2フィルタ部材とその周辺構造を表す断面図であり、図5(C)に対応する。(A)は第3変形例を示し、(B)は第4変形例を示し、(C)は第5変形例を示す。
第3変形例では、ダイアフラム366の上面中央に円ボス状のシール部310が突設されている。シール部310がストレーナ25の開口部から挿入されることで、シール部310の外周面と取付孔162の内周面との間にストレーナ25の側部を挟み込む。また、シール部310の上面と取付孔162の係止面166との間にストレーナ25の底部を挟み込む。本変形例によれば、開口部176に導かれた流体が、弁部材63とダイアフラム366との間隙を通って背圧室68に導かれることを抑制できる。
第4変形例では、ストレーナ25がその開口部を上にして取付孔462に取り付けられている(ストレーナ25の弁部材63への取付態様が上記実施形態とは上下逆)。本変形例によれば、ストレーナ25の底面がリーク通路71から離隔することとなり、ストレーナ25の内部に空隙Sを設定できる。このため、上記実施形態のように係止面166と非当接面164との間に段差を設ける必要がなく(取付孔462を段差形状とする必要がない)、弁部材463の構造を簡素化できる。
第5変形例では、平板状のストレーナ525(「第2フィルタ部材」として機能する)が採用されている。ダイアフラム566の上面中央に円ボス状の支持部510が突設されている。支持部510が、ストレーナ525を下方から支持している。支持部510は、第3変形例と同様にシール部としても機能する。本変形例によれば、第2フィルタ部材の構造をシンプルにできる。
図10は、第6変形例に係る第2フィルタ部材とその周辺構造を表す図であり、図5(B)に対応する。
第6変形例では、ストレーナ625(「第2フィルタ部材」として機能する)を弁部材663に対して外付けする。弁部材663は、一対の係止突起160を有し、そのうち一つを軸線方向に貫通するようにリーク通路71が形成されている。
ダイアフラム666には一対の嵌合孔178が設けられ、各係止突起160が貫通して留められることで、弁部材663とダイアフラム666とが固定されている。ストレーナ625は、有底円筒形状を有し、係止突起160を外側から覆うようにしてダイアフラム666に取り付けられている。リーク通路71の開口端と、ストレーナ625の底面との間に空隙Sを設けることで、異物の侵入を抑制しつつ流体の導入を促進している。本変形例によっても上記実施形態と同様の効果が得られる。なお、ストレーナ625の形状は有底円筒形状に限らず、有底角筒形状その他の形状を適宜採用できる。
図11は、第7変形例に係る第2フィルタ部材とその周辺構造を表す図である。(A)は主弁体の平面図であり、(B)は(A)のD−D矢視断面図である。(C)は第2フィルタ部材の平面図であり、(D)は(C)のE−E矢視断面図である。
図11(A)および(B)に示すように、第7変形例では、弁部材763の上面側にストレーナ725(「第2フィルタ部材」として機能する)が配置される。弁部材763は、第6変形例の弁部材663とほぼ同様の構成を有するが、リーク通路71が開口する上面部分710がやや低くされている。
図11(C)および(D)に示すように、ストレーナ725は円板状をなし、その中央に弁座形成部152を挿通させるための挿通孔726を有する。ストレーナ725のメッシュサイズおよび材質等は上記実施形態と同様でよい。図11(B)に示すように、本変形例ではストレーナ725が弁部材763の上部環状枠に圧入されているが、接着、加締め、締結その他の手段により弁部材763に固定されてもよい。弁部材763の上面とストレーナ725との間に空隙Sが形成される。
本変形例によれば、リーク通路71の出口側で異物を捕捉できる。すなわち、異物がプランジャ78とスリーブ80との隙間に導かれることを防止又は抑制でき、パイロット弁56の作動安定性を確保できる。なお、本変形例では、ストレーナ725により弁部材763の上面の大部分を覆う構成を示したが、リーク通路71およびその近傍のみを覆う構成としてもよい。
[他の変形例]
上記実施形態では、給湯装置の制御弁ユニットに電磁弁2(上記パイロット作動式の電磁弁)を適用する例を示した。他の変形例においては、空調装置その他の装置の制御弁ユニットに対し、同様の電磁弁(主弁体に第2フィルタ部材を設ける構造)を適用してもよい。また、電磁弁単体として独立させてもよい。
上記実施形態では、主弁体の区画部をダイアフラムで構成する例を示した。変形例においては、区画部をピストン等により構成してもよい。その場合、ピストンに連通孔(リーク通路、取付孔)が設けられ、第2フィルタ部材が配置される。ピストンは、ボディに摺動可能に支持される。背圧室への流体の導入又は導出に応じて、主弁体が主弁の開閉方向に動作する。
上記実施形態では、ストレーナ25のメッシュの粗さ(目開き)をストレーナ24のそれよりも細かくしたが、同等としてもよい。ストレーナ25のメッシュの開口幅(目開き)をプランジャ78とスリーブ80とのクリアランス以上に設定したとしても、主通路における流体の流れを阻害しない位置にもう一つのストレーナ25(第2フィルタ部材)を設けることで、背圧室への異物の侵入を抑制できる。ただし、主通路における流体の流れを良好に確保しつつ、背圧室への異物の侵入を防止する観点からは、ストレーナ24のメッシュの開口幅を上記クリアランス以上に設定し、ストレーナ25のメッシュの開口幅を同クリアランスよりも小さく設定するのが好ましい。
上記実施形態では、リーク通路71の上流側(上流側通路17a側)に取付孔162を設け、ストレーナ25(第2フィルタ部材)を配置する例を示した。変形例においては、リーク通路71の下流側(背圧室68側)に取付孔を設け、第2フィルタ部材を配置してもよい。
上記実施形態では、一つの連通孔につきリーク通路を一つ設ける例を示した。変形例においては、一つの連通孔につきリーク通路を複数設けてもよい。例えば、図7に示した取付孔165に複数のリーク通路が連通する構成としてもよい。
上記実施形態では述べなかったが、リーク通路の中途に第2フィルタ部材を設けてもよい。例えば、上流側リーク通路と下流側リーク通路を同軸状に設け、両リーク通路の間に第2フィルタ部材を介装してもよい。
上記実施形態では、本体14と一体成形された一次側管部16にストレーナ24(第1フィルタ部材)を設ける構成を例示した。変形例においては、本体と一次側管部(上流側配管)とを着脱可能に構成し、その上流側配管に第1フィルタ部材を配設してもよい。
上記実施形態では、電磁弁が2つのフィルタ部材(第1フィルタ部材,第2フィルタ部材)を備える構成を例示したが、電磁弁の上流側の外部配管(一次側の外部配管)がフィルタ部材を備える場合、電磁弁の第1フィルタ部材を省略してもよい。電磁弁が、主弁体に設けられる第2フィルタ部材のみを備えてもよい。その場合、外部配管のフィルタ部材が「第1フィルタ部材」として機能する。なお、外部配管は、電磁弁に直に接続されてもよいし、他の配管等を介して電磁弁に接続されてもよい。外部配管は、配管構造のみならず外部装置の通路を含む概念であってもよい。
なお、本発明は上記実施形態や変形例に限定されるものではなく、要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化することができる。上記実施形態や変形例に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることにより種々の発明を形成してもよい。また、上記実施形態や変形例に示される全構成要素からいくつかの構成要素を削除してもよい。
1 制御弁ユニット、2 電磁弁、4 逆止弁、6 大気開放弁、8 逆止弁、12 ボディ、13 導入ポート、15 導出ポート、17a 上流側通路、17b 下流側通路、24 ストレーナ、25 ストレーナ、52 ソレノイド、54 主弁、56 パイロット弁、60 主弁座、63 弁部材、64 主弁体、66 ダイアフラム、68 背圧室、70 シール部、71 リーク通路、72 パイロット弁座、73 パイロット通路、76 パイロット弁体、78 プランジャ、80 スリーブ、86 電磁コイル、125 ストレーナ、150 本体、152 弁座形成部、154 通路形成部、156 小フランジ、158 リブ、160 係止突起、162 取付孔、163 弁部材、164 非当接面、165 取付孔、166 係止面、174 嵌合孔、176 開口部、178 嵌合孔、180 連通孔、263 弁部材、310 シール部、366 ダイアフラム、462 取付孔、463 弁部材、510 支持部、525 ストレーナ、566 ダイアフラム、625 ストレーナ、663 弁部材、666 ダイアフラム、710 上面部分、725 ストレーナ、726 挿通孔、763 弁部材、S 空隙。

Claims (8)

  1. パイロット作動式の電磁弁において、
    上流側通路と下流側通路とを含む主通路と、前記上流側通路と前記下流側通路との間に設けられた主弁座とを有するボディと、
    前記上流側通路と背圧室とを区画する区画部と、前記主弁座に着脱して主弁を開閉するシール部と、前記背圧室と前記下流側通路とを連通させるパイロット通路と、前記上流側通路と前記背圧室とを連通させるリーク通路とを有する主弁体と、
    前記パイロット通路の前記背圧室側の開口端に設けられたパイロット弁座と、
    前記パイロット弁座に着脱してパイロット弁を開閉するパイロット弁体と、
    前記ボディに対して固定されたスリーブと、前記スリーブに摺動可能に支持されるプランジャとを含み、前記プランジャが前記パイロット弁体と一体に軸線方向に変位し、前記プランジャと前記スリーブとの隙間が前記背圧室に開口するソレノイドと、
    前記上流側通路に配設された第1フィルタ部材と、
    前記主弁体に固定され、前記リーク通路を覆う第2フィルタ部材と、
    を備えることを特徴とする電磁弁。
  2. 前記第2フィルタ部材のメッシュの開口幅が、前記第1フィルタ部材のメッシュの開口幅よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の電磁弁。
  3. 前記第2フィルタ部材のメッシュの開口幅が、前記プランジャと前記スリーブとの隙間よりも小さいことを特徴とする請求項2に記載の電磁弁。
  4. 前記主弁体が、前記リーク通路と連通する取付孔を有し、
    前記取付孔の断面が前記リーク通路の断面よりも大きく、
    前記第2フィルタ部材が、前記取付孔に嵌合するように前記主弁体に取り付けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の電磁弁。
  5. 前記取付孔は、前記第2フィルタ部材と前記リーク通路との間に空隙を形成するための段差を有することを特徴とする請求項4に記載の電磁弁。
  6. 前記主弁体は、
    前記ボディに周縁部が固定されたダイアフラムと、
    前記ダイアフラムの中央を貫通しつつ固定された弁部材と、
    を含み、
    前記パイロット通路が、前記弁部材の中央を貫通するように設けられ、
    前記取付孔が前記リーク通路の上流側に設けられ、
    前記ダイアフラムは、前記取付孔と連通する開口部を有し、
    前記開口部が前記取付孔よりも小幅となる部分を有することにより、前記第2フィルタ部材の脱落が防止されていることを特徴とする請求項4又は5に記載の電磁弁。
  7. 前記リーク通路および前記取付孔が、前記シール部の周囲に複数設けられ、
    前記第2フィルタ部材が、複数の取付孔のそれぞれに配設されていることを特徴とする請求項4〜6のいずれかに記載の電磁弁。
  8. 第1フィルタ部材を備えた外部配管の下流側に設置される電磁弁であって、
    上流側通路と下流側通路とを含む主通路と、前記上流側通路と前記下流側通路との間に設けられた主弁座とを有するボディと、
    前記上流側通路と背圧室とを区画する区画部と、前記主弁座に着脱して主弁を開閉するシール部と、前記背圧室と前記下流側通路とを連通させるパイロット通路と、前記上流側通路と前記背圧室とを連通させるリーク通路とを有する主弁体と、
    前記パイロット通路の前記背圧室側の開口端に設けられたパイロット弁座と、
    前記パイロット弁座に着脱してパイロット弁を開閉するパイロット弁体と、
    前記ボディに対して固定されたスリーブと、前記スリーブに摺動可能に支持されるプランジャとを含み、前記プランジャが前記パイロット弁体と一体に軸線方向に変位し、前記プランジャと前記スリーブとの隙間が前記背圧室に開口するソレノイドと、
    前記主弁体に固定され、前記リーク通路を覆う第2フィルタ部材と、
    を備えることを特徴とする電磁弁。
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