JP2020007430A - 溶剤組成物、洗浄方法、塗膜形成用組成物及び塗膜付き物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【目的】環境への影響が小さく、かつ各種有機物の溶解性に優れ、従来のHCFC−225の代替組成物として使用できる溶剤組成物を提供する。【構成】ハイドロクロロフルオロオレフィンと、1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパン(HCFC−225ca)及び1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン(HCFC−225cb)から選ばれる少なくとも1種のハイドロクロロフルオロカーボンと、を含む溶剤組成物。【選択図】なし
Description
本発明は、環境への影響が小さく、かつ各種有機物の溶解性に優れる溶剤組成物に関する。具体的に本発明の溶剤組成物は洗浄剤や塗膜形成用組成物として好適に用いることができる。
さらに、本発明は、この溶剤組成物を用いた洗浄方法、塗膜付き物品の製造方法に関する。
さらに、本発明は、この溶剤組成物を用いた洗浄方法、塗膜付き物品の製造方法に関する。
プリント基板、IC等の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等に付着した油、グリース、ワックス、フラックスなどの洗浄には、不燃性、低毒性、安定性に優れる等の特徴を有するハイドロクロロフルオロカーボン(HCFC)である1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパンや1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパンという「HCFC−225」と略称される化合物を含む溶剤組成物が広く使用されてきた。
さらに、このHCFC−225は金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解する特徴を有するため、金属、プラスチック、エラストマー等からなる各種電気、電子部品、基板類、精密機械部品などの洗浄に最適であった。
ところが、従来使用されてきたHCFC−225は種々の利点を有するにもかかわらず、成層圏において紫外線により分解され、塩素ラジカルを発生してオゾン層を破壊する懸念があるため2019年に洗浄用途での使用ができなくなる予定である。このため、従来使用されてきたHCFCに替わり、環境影響の小さな代替溶剤の提案が行われている。
本発明は、従来のHCFC−225が有している優れた特性を満足しながら代替溶剤として使用できる新規な溶剤組成物を提供することを目的とするものである。
本発明は、環境への影響が小さく、各種有機物の溶解性に優れた溶剤組成物、該溶剤組成物を用いた洗浄方法、該溶剤組成物を用いた塗膜付き物品の製造方法、を提供することを目的とする。
本発明者らは上記の点を鑑み検討を行った結果、本発明を完成した。すなわち本発明は以下よりなる。
[1]ハイドロクロロフルオロオレフィンと、1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパン及び1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパンから選ばれる少なくとも1種のハイドロクロロフルオロカーボンと、を含む溶剤組成物。
[2]前記ハイドロクロロフルオロオレフィンの沸点が35〜65℃である、[1]に記載の溶剤組成物。
[3]前記ハイドロクロロフルオロオレフィンが、1−クロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのE体、1−クロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのZ体、1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンのZ体、1,3−ジクロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのE体及び1,3−ジクロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのZ体から選ばれる少なくとも1種を含む、[1]又は[2]に記載の溶剤組成物。
[4]前記ハイドロクロロフルオロオレフィンと前記ハイドロクロロフルオロカーボンの合計量を100質量%としたとき、前記ハイドロクロロフルオロオレフィンを20〜99.9質量%、前記ハイドロクロロフルオロカーボンを0.1〜80質量%含む、[1]〜[3]のいずれかに記載の溶剤組成物。
[5][1]〜[4]のいずれかに記載の溶剤組成物を用いて物品を洗浄することを特徴とする、洗浄方法。
[6]前記物品の材質が、繊維、金属、樹脂、エラストマー、ガラス、セラミックス及びこれらの複合材料から選ばれる少なくとも1種である、[5]に記載の洗浄方法。
[7][1]〜[4]のいずれかに記載の溶剤組成物と不揮発性物質とを含む、塗膜形成用組成物。
[8][7]に記載の塗膜形成用組成物を物品に塗布し、前記溶剤組成物を蒸発させて除去する、塗膜付き物品の製造方法。
[2]前記ハイドロクロロフルオロオレフィンの沸点が35〜65℃である、[1]に記載の溶剤組成物。
[3]前記ハイドロクロロフルオロオレフィンが、1−クロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのE体、1−クロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのZ体、1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンのZ体、1,3−ジクロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのE体及び1,3−ジクロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのZ体から選ばれる少なくとも1種を含む、[1]又は[2]に記載の溶剤組成物。
[4]前記ハイドロクロロフルオロオレフィンと前記ハイドロクロロフルオロカーボンの合計量を100質量%としたとき、前記ハイドロクロロフルオロオレフィンを20〜99.9質量%、前記ハイドロクロロフルオロカーボンを0.1〜80質量%含む、[1]〜[3]のいずれかに記載の溶剤組成物。
[5][1]〜[4]のいずれかに記載の溶剤組成物を用いて物品を洗浄することを特徴とする、洗浄方法。
[6]前記物品の材質が、繊維、金属、樹脂、エラストマー、ガラス、セラミックス及びこれらの複合材料から選ばれる少なくとも1種である、[5]に記載の洗浄方法。
[7][1]〜[4]のいずれかに記載の溶剤組成物と不揮発性物質とを含む、塗膜形成用組成物。
[8][7]に記載の塗膜形成用組成物を物品に塗布し、前記溶剤組成物を蒸発させて除去する、塗膜付き物品の製造方法。
本発明の溶剤組成物は、従来のHCFC−225が有している優れた特性を満足しながら代替溶剤として使用できる環境への影響が小さい溶剤組成物を提供し、従来のHCFC−225で使用してきた洗浄や塗布への溶媒用途に適用することができる。
本発明の洗浄方法は、環境への影響が小さく、洗浄性に優れる。
本発明の塗膜付き物品の製造方法は、環境への影響が小さく、均一な塗膜を有する物品を製造することができる。
本発明の塗膜付き物品の製造方法は、環境への影響が小さく、均一な塗膜を有する物品を製造することができる。
本明細書において、ハロゲン化炭化水素については、化合物名の後の括弧内にその化合物の略称を記すが、本明細書では必要に応じて化合物名に代えてその略称を用いる。また、略称として、ハイフン(−)より後ろの数字及びアルファベット小文字部分だけ(例えば、「HCFO−1233yd」においては「1233yd」)を用いることがある。さらに、幾何異性体を有する化合物の名称及びその略称に付けられた(E)は、E体(トランス体)を示し、(Z)はZ体(シス体)を示す。該化合物の名称、略称において、E体、Z体の明記がない場合、該名称、略称は、E体、Z体、及びE体とZ体の混合物を含む総称を意味する。
本明細書において、飽和炭化水素化合物の水素原子の一部をフッ素原子及び塩素原子に置き換えた化合物をハイドロクロロフルオロカーボン(HCFC)、炭素−炭素二重結合を有し、炭素原子、塩素原子、フッ素原子及び水素原子から構成される化合物をハイドロクロロフルオロオレフィン(HCFO)という。
本発明の溶剤組成物は、上記のように、ハイドロクロロフルオロオレフィンと、1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパン(以降、「HCFC−225ca」とも記載)及び1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン(以降、「HCFC−225cb」とも記載)から選ばれる少なくとも1種のハイドロクロロフルオロカーボンと、を含む溶剤組成物である。
本明細書において、飽和炭化水素化合物の水素原子の一部をフッ素原子及び塩素原子に置き換えた化合物をハイドロクロロフルオロカーボン(HCFC)、炭素−炭素二重結合を有し、炭素原子、塩素原子、フッ素原子及び水素原子から構成される化合物をハイドロクロロフルオロオレフィン(HCFO)という。
本発明の溶剤組成物は、上記のように、ハイドロクロロフルオロオレフィンと、1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパン(以降、「HCFC−225ca」とも記載)及び1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン(以降、「HCFC−225cb」とも記載)から選ばれる少なくとも1種のハイドロクロロフルオロカーボンと、を含む溶剤組成物である。
以下、本発明について一実施形態である溶剤組成物を参照して詳細に説明する。
本発明の一実施形態である溶剤組成物は、HCFOと、HCFC−225ca及びHCFC−225cbから選ばれる少なくとも1種のHCFCと、を含んでなる。
本発明の一実施形態である溶剤組成物は、HCFOと、HCFC−225ca及びHCFC−225cbから選ばれる少なくとも1種のHCFCと、を含んでなる。
ここで用いるHCFOは、混合するHCFC−225と相溶性を有する常温で液状の化合物であることが好ましい。さらに、HCFOは、油などの溶質成分の溶解性が上記HCFC−225と同等であること、取り扱いの面から沸点が35〜65℃であること、等の特性を有することが好ましい。
このようなHCFOとしては、例えば、1−クロロ−2,3,3−トリフルオロプロペン(以降、「HCFO−1233yd」とも記載)のE体(沸点48℃)及びZ体(沸点54℃)、1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(以降、「HCFO−1233zd」とも記載)のZ体(沸点40℃)、1,3−ジクロロ−2,3,3−トリフルオロプロペン(以降、「HCFO−1223yd」とも記載)のE体(沸点60℃)及びZ体(沸点56℃)が挙げられる。HCFOは、1種でもよく、2種以上用いてもよい。
上記化合物のうち、HCFO−1233ydは、炭素原子−炭素原子間に二重結合を持つフルオロオレフィンであるため、大気中での寿命が短く、オゾン破壊係数や地球温暖化係数が小さい。
HCFO−1233ydは、その沸点から、乾燥性に優れた物質であり、また、沸騰させて蒸気となっても、熱による影響を受けやすい部品(例えば、樹脂部品等)に対しても悪影響を及ぼし難い。また、HCFO−1233ydは引火点を持たず、表面張力や粘度も低く浸透性に優れ、室温でも容易に蒸発する等、洗浄剤や塗布溶剤として優れた性能を有している。
HCFO−1233ydは公知の方法で製造できる。例えば、国際公開第2017/018412号に記載の方法で、E体、Z体ともに合成することができ、適宜精製することによりE体、Z体、及びこれら異性体の任意の割合の混合物として得られる。
HCFO−1233zdのZ体は、炭素原子−炭素原子間に二重結合を持つフルオロオレフィンであるため、大気中での寿命が短く、オゾン破壊係数や地球温暖化係数が小さい。
HCFO−1233zdのZ体は、その沸点から、乾燥性に優れた物質であり、また、沸騰させて蒸気となっても、熱による影響を受けやすい部品(例えば、樹脂部品等)に対しても悪影響を及ぼし難い。また、HCFO−1233zdのZ体は引火点を持たず、表面張力や粘度も低く浸透性に優れ、室温でも容易に蒸発する等、洗浄剤や塗布溶剤として優れた性能を有している。
HCFO−1233zdのZ体は公知の方法で製造できる。例えば、特開2013−87066号公報記載の方法で合成することができ、適宜精製することによりZ体を得ることができる。
HCFO−1223ydは、炭素原子−炭素原子間に二重結合を持つフルオロオレフィンであるため、大気中での寿命が短く、オゾン破壊係数や地球温暖化係数が小さい。
HCFO−1223ydは、その沸点から、乾燥性に優れた物質であり、また、沸騰させて蒸気となっても、熱による影響を受けやすい部品(例えば、樹脂部品等)に対しても悪影響を及ぼし難い。また、HCFO−1223ydは引火点を持たず、表面張力や粘度も低く浸透性に優れ、室温でも容易に蒸発する等、洗浄剤や塗布溶剤として優れた性能を有している。
HCFO−1223ydは公知の方法で製造できる。例えば、英国特許出願公開709887号公報記載の方法で、E体、Z体ともに合成することができ、適宜精製することによりE体、Z体及びこれら異性体の任意の割合の混合物として得られる。
また、上記の具体的に例示したHCFOは、いずれも沸点が35℃〜65℃の範囲であることが好ましい。沸点が35℃以上であれば、溶剤組成物の蒸発量が少ないので消耗量を抑えられる。沸点が65℃以下であれば、材料への影響が小さい。そのため、高い揮発性、浸透性及び溶解性というフッ素系溶剤のもつ優れた性能を有効に発揮できる。
また、HCFOの沸点が35℃〜65℃であると、HCFC−225との沸点が近いため、この溶剤組成物を洗浄機で使用する場合、ヒータの容量などの設備変更を最低限に抑えることができる。この場合、機器中のHCFC−225に本実施形態の溶剤組成物を継ぎ足して使用することもでき、抜き出して廃棄する等の操作も不要とできる。
なお、HCFOを2種以上用いる場合には、それぞれの化合物の沸点が35〜65℃であることが好ましい。
なお、HCFOを2種以上用いる場合には、それぞれの化合物の沸点が35〜65℃であることが好ましい。
次に、ここで用いるHCFCとしては、溶剤組成物として用いられる従来公知のHCFC−225であり、HCFC−225ca及びHCFC−225cbから選ばれる少なくとも1種を含んでなる。
上記HCFOと組み合わせるHCFC−225ca及びHCFC−225cbは、蒸発熱がHCFOと比較して小さい。そのため、蒸発時の熱量がHCFO単体の蒸発時の熱量と比較して小さくなり、揮発性に優れる。
また、蒸発熱が小さくなることは、蒸留再生を繰り返す洗浄装置において溶剤の気化凝縮で必要な熱量が小さくなることを意味するため、溶剤組成物を使用した装置の運転時のエネルギー削減にもなることから好ましい。
上記化合物の蒸発潜熱は次の通りである。
上記化合物の蒸発潜熱は次の通りである。
なお、表中の“*”を付した値は、Advanced Chemistry Development (ACD/Labs) Software V11.02から算出される推算値を表す。
本実施形態のHCFOとHCFC−225とを含有する溶剤組成物における、両化合物の組成比は特に限定されるものではないが、HCFOとHCFC−225との合量を100質量%としたとき、環境への影響をより小さくできる点から、HCFOが20〜99.9質量%、HCFCが0.1〜80質量%であることがよりに好ましく、HCFOが90〜99.9質量%、HCFCが0.1〜10質量%であることがさらに好ましい。
また、本実施形態の溶剤組成物は、必要に応じて溶解性を向上させる化合物や、溶剤組成物の安定性を高める安定剤など、その他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、例えば、2−メチルブタン、n−ヘプタン、2−メチルヘキサン、2,3−ジメチルブタン、メチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン、2,2,4−トリメチルペンタン、n−オクタン、2−メチル−2−ブテン、2,4,4−トリメチル−1−ペンテン、2,4,4−トリメチル−2−ペンテン等の炭化水素、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、N−メチルピロール等のアミン、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアルコール、s−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、プロパルギルアルコール等のアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル、フェノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、p−メチルフェノール、トコフェロール等のフェノール類、1,2−ブチレンオキシド、エピクロルヒドリン等のエポキシド、1,2,3−ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類、ジクロロメタン、cis−1,2−ジクロロエチレン、trans−1,2−ジクロロエチレンのハロゲン化炭化水素、1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン、1,1,1,2,3,4,4,5,5,5−デカフルオロヘプタン、1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−トリデカフルオロオクタン、1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−トリデカフルオロヘキサン、ノナフルオロメチルエーテル、ノナフルオロエチルエーテル、1,1,2,2−テトラフルオロエチル−2,2,2−トリフルオロエチルエーテル等のフッ素化炭化水素等が挙げられる。
また、その他の成分として、溶解性を向上させる成分を用いる場合、該成分の含有量は溶剤組成物の100質量%中0.1〜40質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。安定性を向上させる成分を用いる場合、該成分の含有量は溶剤組成物の100質量%中0.0001〜10質量%が好ましく、0.001〜5質量%がより好ましい。
以上説明した本実施形態は、各種有機物の溶解性に優れ、かつ従来のHCFC−225と同様に使用できる溶剤組成物である。
本実施形態の溶剤組成物は、特に、物品を洗浄するための洗浄剤、不揮発性溶質を溶解して物品に塗膜を形成するための塗膜形成用組成物の溶媒などに適している。
<洗浄方法>
本実施形態の溶剤組成物を用いた物品の洗浄方法は、本実施形態の溶剤組成物を物品の表面に接触させて、物品に付着する汚れを除去すること以外は特に限定されない。洗浄の具体的手法としては、例えば、手拭き洗浄、浸漬洗浄、スプレー洗浄、揺動洗浄、超音波洗浄、蒸気洗浄、及びこれらを組み合わせた方法等を採用すればよい。洗浄装置、洗浄条件等も公知のものを適宜選択でき、長期間繰り返し使用することができる。
本実施形態の溶剤組成物を用いた物品の洗浄方法は、本実施形態の溶剤組成物を物品の表面に接触させて、物品に付着する汚れを除去すること以外は特に限定されない。洗浄の具体的手法としては、例えば、手拭き洗浄、浸漬洗浄、スプレー洗浄、揺動洗浄、超音波洗浄、蒸気洗浄、及びこれらを組み合わせた方法等を採用すればよい。洗浄装置、洗浄条件等も公知のものを適宜選択でき、長期間繰り返し使用することができる。
この溶剤組成物が適用可能な物品の材質としては、繊維、金属、樹脂、エラストマー、ガラス、セラミックス及びこれらの複合材料が挙げられる。複合材料としては、金属と樹脂の積層体等が好ましいものとして挙げられる。
物品に付着した汚れとしてはフラックス、加工油、防錆油、ワックス、離型剤、ほこり等が挙げられる。ここで、物品のより具体的な例としては、繊維製品、医療器具、電気機器、精密機械、光学物品及びそれらの部品等が挙げられる。電気機器、精密機械、光学物品及びそれらの部品の具体例としては、IC、コンデンサ、プリント基板、マイクロモーター、リレー、ベアリング、光学レンズ、ガラス基板等が挙げられる。
本実施形態の溶剤組成物を用いて国際公開第2008/149907号に示される洗浄装置にて洗浄を行う場合、第1浸漬槽内の本実施形態の溶剤組成物の温度を25℃以上、溶剤組成物の沸点以下とすることが好ましい。上記範囲内であれば、加工油等の脱脂洗浄を容易に行うことができ、超音波による洗浄効果が高い。また、第2浸漬槽内の本実施形態の溶剤組成物の温度を20〜30℃とすることが好ましい。上記範囲内であれば、蒸気洗浄工程において、物品の温度と溶剤蒸気の温度差が十分に得られるため、蒸気洗浄のために十分量の溶剤が物品表面で凝縮できるためすすぎ洗浄効果が高い。また、洗浄性の点から第2浸漬槽の溶剤組成物の温度より第1浸漬槽内の本実施形態の溶剤組成物の温度が高いことが好ましい。
なお、洗浄装置の各槽に従来のHCFC−225が収容されている場合、各槽にHCFOを添加することにより、本実施形態の溶剤組成物を調製してもよい。
また、本実施形態の溶剤組成物を用いて洗浄装置にて洗浄を行う場合、蒸気槽において溶剤組成物の蒸気を冷却により液化させて再利用することにより、溶剤組成物を繰り返し洗浄に用いることができる。その際、一部の蒸気は洗浄装置外に放出されるため、洗浄装置の各槽における溶剤組成物の量は次第に減少する。このような場合には、各槽にHCFOを添加することにより、より環境への影響を小さい溶剤組成物を用いて洗浄することができる。
なお、洗浄装置の各槽に従来のHCFC−225が収容されている場合、各槽にHCFOを添加することにより、本実施形態の溶剤組成物を調製してもよい。
また、本実施形態の溶剤組成物を用いて洗浄装置にて洗浄を行う場合、蒸気槽において溶剤組成物の蒸気を冷却により液化させて再利用することにより、溶剤組成物を繰り返し洗浄に用いることができる。その際、一部の蒸気は洗浄装置外に放出されるため、洗浄装置の各槽における溶剤組成物の量は次第に減少する。このような場合には、各槽にHCFOを添加することにより、より環境への影響を小さい溶剤組成物を用いて洗浄することができる。
<塗膜形成用組成物及び塗膜付き物品の製造方法>
本実施形態の溶剤組成物は、不揮発性成分を物品表面に塗布するための溶剤として使用することもできる。溶質成分を本実施形態の溶剤組成物に溶解して塗膜形成用組成物とし、その塗膜形成用組成物をを物品上に塗布し、溶剤組成物を蒸発させることで、上記物品上に不揮発性成分の塗膜を形成できる。
本実施形態の溶剤組成物は、不揮発性成分を物品表面に塗布するための溶剤として使用することもできる。溶質成分を本実施形態の溶剤組成物に溶解して塗膜形成用組成物とし、その塗膜形成用組成物をを物品上に塗布し、溶剤組成物を蒸発させることで、上記物品上に不揮発性成分の塗膜を形成できる。
ここでいう不揮発性成分とは、物品に潤滑性を付与するための潤滑剤、金属部品の防錆効果を付与するための塗料や防錆剤、物品にはっ水性を付与するための塗料や防湿コート剤、物品への防汚性能を付与するための塗料や指紋付着防止剤等が挙げられる。
本実施形態の溶剤組成物に潤滑剤を溶解させて潤滑剤溶液とすることもできる。潤滑剤とは、2つの部材が互いの面を接触させた状態で運動するときに、接触面における摩擦を軽減し、熱の発生や摩耗損傷を防ぐために用いるものを意味する。潤滑剤は、液体(オイル)、半固体(グリース)、固体のいずれの形態であってもよい。潤滑剤としては、本実施形態の溶剤組成物への溶解性が優れる点から、鉱物油系潤滑剤、合成油系潤滑剤、フッ素系潤滑剤又はシリコーン系潤滑剤が好ましい。なお、フッ素系潤滑剤とは、分子内にフッ素原子を有する潤滑剤を意味する。また、シリコーン系潤滑剤とは、シリコーンを含む潤滑剤を意味する。前記潤滑剤溶液に含まれる潤滑剤は、1種であってもよく、2種以上であってもよい。フッ素系潤滑剤とシリコーン系潤滑剤は、それぞれを単独で使用してもよく、それらを併用してもよい。
上記潤滑剤溶液(100質量%)中の潤滑剤の含有量は、0.01〜50質量%が好ましく、0.05〜30質量%がより好ましく、0.1〜20質量%がさらに好ましい。潤滑剤の含有量が前記範囲内であれば、潤滑剤溶液を塗布したときの塗布膜の膜厚、及び乾燥後の潤滑剤塗膜の厚さを適正範囲に調製しやすい。
潤滑剤溶液の塗布方法としては、たとえば、刷毛による塗布、スプレーによる塗布、物品を潤滑剤溶液に浸漬することによる塗布、潤滑剤溶液を吸い上げることによりチューブや注射針の内壁に潤滑剤溶液を接触させる塗布方法等が挙げられる。
また、上記防錆剤、防湿コート剤や指紋付着防止剤としては、従来公知の物が使用でき、例えば、防錆剤は空気中の酸素によって容易に酸化されて錆を生じる金属の表面を覆い、金属表面と酸素を遮断することで金属材料の錆を防止する物質である。
これら防錆剤、防湿コート剤、指紋付着防止剤は、上記潤滑剤と同様に本実施形態の溶剤組成物に溶解して溶液とし、各種機能を付与する物品に対して、同様の方法でその物品表面に塗布することで塗膜を形成し、塗膜付き物品を製造できる。
潤滑剤や防錆剤、防湿コート剤、指紋付着防止剤、が塗布される物品としては、金属、プラスチック、エラストマー、ガラス、セラミックス等、様々な材質の物品を採用できる。
本実施形態の溶剤組成物を塗布溶剤として用いる場合、物品に塗布した後に蒸発させた溶剤組成物を回収することにより、再利用することができる。
この塗布溶剤として従来のHCFC−225を使用している場合には、所定量のHCFOを添加することにより、溶剤組成物を調製してもよい。また、溶剤組成物を塗布溶剤として繰り返し使用する場合、溶剤組成物を100%回収することはできず、次第に溶剤組成物の量が減少する。その際は、所定量のHCFOを添加することにより、より環境への影響を小さくできる。
本実施形態の溶剤組成物を塗布溶剤として用いる場合、物品に塗布した後に蒸発させた溶剤組成物を回収することにより、再利用することができる。
この塗布溶剤として従来のHCFC−225を使用している場合には、所定量のHCFOを添加することにより、溶剤組成物を調製してもよい。また、溶剤組成物を塗布溶剤として繰り返し使用する場合、溶剤組成物を100%回収することはできず、次第に溶剤組成物の量が減少する。その際は、所定量のHCFOを添加することにより、より環境への影響を小さくできる。
次に、本発明について実施例を参照しながら説明する。
本実施例で用いる各物質は以下の方法により市販品の入手又は合成により入手した。
本実施例で用いる各物質は以下の方法により市販品の入手又は合成により入手した。
HCFO−1233ydは、国際公開第2017/018412号に記載の方法で合成し、10kgのHCFO−1233ydのZ体が95質量%、E体が5質量%である純度が99.5%の異性体混合物を得た。この異性体混合物を表1においてHCFO−1233ydと記す。
HCFO−1233zdのZ体は、特開2013−87066号公報に記載の方法で製造した。製造後に生成して純度99.5%のHCFO−1233zdのZ体を得た。このZ体を表1においてHCFO−1233zd(Z)と記す。
HCFO−1223ydは、英国特許出願公開第709887号明細書に記載の方法で合成し、10kgのHCFO−1223ydのZ体が50%、E体が50%の純度が99.5質量%の異性体混合物を得た。この異性体混合物を表1においてHCFO−1223ydと記す。
HCFC−225は、市販品である1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパンと1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパンの混合物である旭硝子株式会社製のアサヒクリンAK−225(商品名)を使用した。
上記のように得られた各化合物を使用して、表2〜4の例1〜18に示す溶剤組成物を調製した。表中の含有量の数値はいずれも質量%である。
<洗浄性の評価>
SUS−304の試験片(25mm×30mm×厚さ2mm)を金属加工油(日本グリース株式会社製 サンカットS200)に1分間浸漬し、引き揚げたのち一晩静置したものを洗浄試験片とした。例1〜18の溶剤組成物の500mlを1Lトールビーカーに入れ、洗浄試験片1枚を1分間浸漬して行い、金属加工油の除去状態を目視で評価したところ、いずれの溶剤組成物でも金属加工油が完全に除去された。
SUS−304の試験片(25mm×30mm×厚さ2mm)を金属加工油(日本グリース株式会社製 サンカットS200)に1分間浸漬し、引き揚げたのち一晩静置したものを洗浄試験片とした。例1〜18の溶剤組成物の500mlを1Lトールビーカーに入れ、洗浄試験片1枚を1分間浸漬して行い、金属加工油の除去状態を目視で評価したところ、いずれの溶剤組成物でも金属加工油が完全に除去された。
<塗膜の評価>
例1〜18の溶剤組成物を用いて試験を実施した。各溶剤組成物にシリコーン油(信越化学株式会社製 KF−96)を1質量%溶解し、潤滑剤溶液としたところ、いずれの溶剤組成物とも均一に溶解した。調製した潤滑剤溶液をSUS316製試験片(25mm×30mm×厚さ2mm)に塗布し、乾燥後の状態を目視で評価したところ、いずれの試験片にも塗膜が形成された。
例1〜18の溶剤組成物を用いて試験を実施した。各溶剤組成物にシリコーン油(信越化学株式会社製 KF−96)を1質量%溶解し、潤滑剤溶液としたところ、いずれの溶剤組成物とも均一に溶解した。調製した潤滑剤溶液をSUS316製試験片(25mm×30mm×厚さ2mm)に塗布し、乾燥後の状態を目視で評価したところ、いずれの試験片にも塗膜が形成された。
以上より、本実施形態の溶剤組成物は、HCFC−225が有している優れた特性を満足し、十分に代替し得ることが確認できた。
よって、本発明の溶剤組成物は、従来のHCFC−225が有している優れた特性を満足し、従来技術の大幅な変更を要しない利点がある。
本発明の溶剤組成物は、各種有機物の溶解性に優れ、かつ環境への影響が小さい溶剤組成物である。この溶剤組成物は、洗浄や塗布用途等の広範囲の工業用途に有用であり、金属、プラスチック、エラストマー等の様々な材質の物品に対し、悪影響を与えることなく使用することができる。
Claims (8)
- ハイドロクロロフルオロオレフィンと、1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパン及び1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパンから選ばれる少なくとも1種のハイドロクロロフルオロカーボンと、を含む溶剤組成物。
- 前記ハイドロクロロフルオロオレフィンの沸点が35〜65℃である、請求項1に記載の溶剤組成物。
- 前記ハイドロクロロフルオロオレフィンが、1−クロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのE体、1−クロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのZ体、1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンのZ体、1,3−ジクロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのE体及び1,3−ジクロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンのZ体から選ばれる少なくとも1種を含む、請求項1又は2に記載の溶剤組成物。
- 前記ハイドロクロロフルオロオレフィンと前記ハイドロクロロフルオロカーボンの合計量を100質量%としたとき、前記ハイドロクロロフルオロオレフィンを20〜99.9質量%、前記ハイドロクロロフルオロカーボンを0.1〜80質量%含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の溶剤組成物。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の溶剤組成物を用いて物品を洗浄することを特徴とする、洗浄方法。
- 前記物品の材質が、繊維、金属、樹脂、エラストマー、ガラス、セラミックス及びこれらの複合材料から選ばれる少なくとも1種である、請求項5に記載の洗浄方法。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の溶剤組成物と不揮発性物質とを含む、塗膜形成用組成物。
- 請求項7に記載の塗膜形成用組成物を物品に塗布し、前記溶剤組成物を蒸発させて除去する、塗膜付き物品の製造方法。
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