JP2019520322A - カチオン性ケイ素（ｉｉ）化合物およびその製造方法 - Google Patents
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- -1 Cationic silicon (II) compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 3
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims abstract description 7
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- 229920006395 saturated elastomer Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 239000012039 electrophile Substances 0.000 claims description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 claims 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 22
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 abstract description 7
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 abstract description 3
- SCWWYQXYCQMLOY-UHFFFAOYSA-N silicon(2+) Chemical class [Si+2] SCWWYQXYCQMLOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 101100237844 Mus musculus Mmp19 gene Proteins 0.000 abstract 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 12
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- RYLMKTLFCIGRQD-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5-tetramethylfulvene Chemical compound CC1=C(C)C(=C)C(C)=C1C RYLMKTLFCIGRQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- OIKHZBFJHONJJB-UHFFFAOYSA-N dimethyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si](C)C1=CC=CC=C1 OIKHZBFJHONJJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N tris(pentafluorophenyl)borane Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1B(C=1C(=C(F)C(F)=C(F)C=1F)F)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLBUUNANYHWUKK-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C)C(C)=C(C)C1(C)[Si]C1(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C(C)C1(C)[Si]C1(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C LLBUUNANYHWUKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N D-xylopyranose Chemical group O[C@@H]1COC(O)[C@H](O)[C@H]1O SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100070104 Mus musculus Hacl1 gene Proteins 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006736 (C6-C20) aryl group Chemical group 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003860 C1-C20 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N Decamethylcyclopentasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018287 SbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- RMBAPONOUCXFTE-UHFFFAOYSA-N dimethyl(pentyl)silane Chemical compound CCCCC[SiH](C)C RMBAPONOUCXFTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001640 fractional crystallisation Methods 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006464 oxidative addition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
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Abstract
本発明は、一般式Ｉ：（ＲａＳｉ）＋ＨＡ−（Ｉ）のカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物を、一般式ＩＩ：（Ｒｂ−Ｈ）（ＲａＳｉ）＋（ＩＩ）のケイ素（ＩＩ）化合物と、水素化物受容体化合物Ａとの反応により製造する方法であって、式中、Ｒａ、（Ｒｂ−Ｈ）およびＡは、請求項１に記載された定義を有する、方法、一般式Ｉのカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物、および触媒としてのその使用に関する。
Description
本発明は、カチオン性Ｓｉ（ＩＩ）化合物およびその製造方法、ならびに触媒としてのその使用に関する。
カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物は、高反応性化合物であり、それらの電子構造、具体的には触媒特性に関して、工業的に興味深いものである。例えば、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．２０１１，１２３，６９７５で示されるように、カチオン性Ｓｉ（ＩＩ）化合物（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４ −は、高選択的にエーテルの転換を触媒する。
特に、この化合物群の使用の点において、合成容易性の欠如は、長い間そのままである。化合物（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４ −は、Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊｏｃ．２０１４，２０，９１９２に記載されている通り、シリコセン（Ｃ５Ｍｅ５）２Ｓｉから、例えば、シリコセンと特定のプロトン酸（Ｃ５Ｈ２Ｍｅ５）＋Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４ −との反応により独占的に調製することができる。これは、Ｓｃｉｅｎｃｅ，２００４，３０５，８４９に関連して、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２０００，１９，１４４２に従う、非常に複雑で、安全性が重視された７段階の低温合成においてのみで入手可能である。Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．１９９３，４４６，１３９に示されるように、常に接近しやすいプロトン酸が、４価のケイ素を有する付加物の形成を伴う酸化的付加において得られる。
特に、この化合物群の使用の点において、合成容易性の欠如は、長い間そのままである。化合物（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４ −は、Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊｏｃ．２０１４，２０，９１９２に記載されている通り、シリコセン（Ｃ５Ｍｅ５）２Ｓｉから、例えば、シリコセンと特定のプロトン酸（Ｃ５Ｈ２Ｍｅ５）＋Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４ −との反応により独占的に調製することができる。これは、Ｓｃｉｅｎｃｅ，２００４，３０５，８４９に関連して、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２０００，１９，１４４２に従う、非常に複雑で、安全性が重視された７段階の低温合成においてのみで入手可能である。Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．１９９３，４４６，１３９に示されるように、常に接近しやすいプロトン酸が、４価のケイ素を有する付加物の形成を伴う酸化的付加において得られる。
従って、カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物を入手可能にできるより容易な方法が必要である。
本発明は、 一般式Ｉ：
（ＲａＳｉ）＋ＨＡ− （Ｉ）
のカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物を、一般式ＩＩ：
（Ｒｂ−Ｈ）（ＲａＳｉ）＋ （ＩＩ）
のケイ素（ＩＩ）化合物と、化合物Ａとの反応により製造する方法であって、
式中、
Ｒａは、共有結合、イオン結合を介してカチオン性ケイ素原子に結合したか、またはカチオン性ケイ素原子と１つ以上のπ結合を介して結合した 、窒素、酸素または硫黄などのヘテロ原子を追加的に含んでもよい炭素含有基であり、
（Ｒｂ−Ｈ）は、一般式ＩＩＩ：
のπ結合した一価の負に帯電した基であり、
ＲＸは、互いに結合して縮合環を形成してもよい一価または多価の有機基であり（但し、基ＲＸの少なくとも１つは、好ましくは前記環に対してアルファ位に、少なくとも１つの水素原子を有する炭素原子を介して結合した有機基である）、および
Ａは、求電子剤として電子対を受容することが可能な化合物である、
方法、に関する。
（ＲａＳｉ）＋ＨＡ− （Ｉ）
のカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物を、一般式ＩＩ：
（Ｒｂ−Ｈ）（ＲａＳｉ）＋ （ＩＩ）
のケイ素（ＩＩ）化合物と、化合物Ａとの反応により製造する方法であって、
式中、
Ｒａは、共有結合、イオン結合を介してカチオン性ケイ素原子に結合したか、またはカチオン性ケイ素原子と１つ以上のπ結合を介して結合した 、窒素、酸素または硫黄などのヘテロ原子を追加的に含んでもよい炭素含有基であり、
（Ｒｂ−Ｈ）は、一般式ＩＩＩ：
ＲＸは、互いに結合して縮合環を形成してもよい一価または多価の有機基であり（但し、基ＲＸの少なくとも１つは、好ましくは前記環に対してアルファ位に、少なくとも１つの水素原子を有する炭素原子を介して結合した有機基である）、および
Ａは、求電子剤として電子対を受容することが可能な化合物である、
方法、に関する。
驚くべきことに、カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物は、負に帯電した水素原子（水素化物イオン）を水素化物受容体に移動させることにより調製することができることが見出された。水素化物受容体は、非常に手軽に、合成的に入手可能である。従って、このようにして、カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物の入手可能性は、実質的に容易化される。更なる利益は、反応が副生成物を形成することなく、室温において高収率で起こることである。
本方法で起こる反応の例は、一般式ＩＩＩの好ましいシクロペンタジエニル基（Ｒｂ−Ｈ）、すなわち（Ｃｐ−ＣＨＲ１Ｒ２）−を使用することによって解明される。
本方法では、反応方程式１：
（Ｃｐ−ＣＨＲ１Ｒ２）−（ＲａＳｉ）＋ ＋ Ａ ＝＞ Ｃｐ＝ＣＲ１Ｒ２ ＋ （ＲａＳｉ）＋ ＋ ＨＡ− （１）、
（式中、Ｃｐはシクロペンタジエニル基である）
に従って、水素化物イオンが、水素化物受容体Ａに移動され、ＨＡ−および化合物Ｃｐ＝ＣＲ１Ｒ２（Ｒｂに対応）を形成する。
また、反応で形成される化合物ＨＡ−は、カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物（ＲａＳｉ）＋に対する対イオンを形成する。
本方法では、反応方程式１：
（Ｃｐ−ＣＨＲ１Ｒ２）−（ＲａＳｉ）＋ ＋ Ａ ＝＞ Ｃｐ＝ＣＲ１Ｒ２ ＋ （ＲａＳｉ）＋ ＋ ＨＡ− （１）、
（式中、Ｃｐはシクロペンタジエニル基である）
に従って、水素化物イオンが、水素化物受容体Ａに移動され、ＨＡ−および化合物Ｃｐ＝ＣＲ１Ｒ２（Ｒｂに対応）を形成する。
また、反応で形成される化合物ＨＡ−は、カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物（ＲａＳｉ）＋に対する対イオンを形成する。
基Ｒａは、好ましくはπ結合され、かつ少なくとも２つ以上の共役炭素−炭素二重結合を含んでなる。
Ｒａは、著しく好ましくは基Ｒｙ（Ｒｙ ５Ｃｐ）で置換されたπ結合したシクロペンタジエニル基であり、
式中、Ｒｙは、互いに結合して縮合環を形成してもよい一価または多価の有機基である。
この場合、一般式Ｉの化合物は、一般式Ｉａ：
の構造を有する。
Ｒａは、著しく好ましくは基Ｒｙ（Ｒｙ ５Ｃｐ）で置換されたπ結合したシクロペンタジエニル基であり、
式中、Ｒｙは、互いに結合して縮合環を形成してもよい一価または多価の有機基である。
この場合、一般式Ｉの化合物は、一般式Ｉａ：
また、基ＲａおよびＲｂは、好ましくは１つ以上の炭素基を介して、互いに結合してもよい。
基Ｒｙは、それぞれ独立して、水素、直鎖もしくは分岐の、非環状もしくは環状の、飽和、もしくは一価もしくは多価不飽和の、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基またはＣ６〜Ｃ２０のアリール基であることが好ましく、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基であることが特に好ましく、メチル基であることが著しく好ましい。基Ｒｙの例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチルまたはｔｅｒｔ−ペンチル基などのアルキル基：ｎ−ヘキシル基などのヘキシル基；ｎ−ヘプチル基などのヘプチル基；ｎ−オクチル基およびイソオクチル基（２，４，４−トリメチルペンチル基など）などのオクチル基；ｎ−ノニル基などのノニル基；ｎ−デシル基などのデシル基；ｎ−ドデシル基などのドデシル基；ｎ−ヘキサデシル基などのヘキサデシル基；ｎ−オクタデシル基などのオクタデシル基；シクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチル基およびメチルシクロヘキシル基などのシクロアルキル基；フェニル、ナフチル、アントラリルおよびフェナントリル基などのアリール基；ｏ−、ｍ−およびｐ−トリル、キシル、メシチレニル、およびｏ−、ｍ−およびｐ−エチルフェニル基などのアルカリル基；ならびにベンジル基、α−およびβ−フェニルエチル基などのアラルキル基である。
基（Ｒｂ−Ｈ）は、基Ｒｘで置換された一価の負に帯電した芳香族五員環系Ｃ５Ｒｘ ５ −からなるシクロペンタジエニルアニオンである。
一般式ＩＩＩの化合物において基Ｒｘは、それぞれ独立して、水素、直鎖もしくは分岐の、非環状もしくは環状の、飽和、もしくは一価もしくは多価不飽和の、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基またはＣ６〜Ｃ２０のアリール基であることが好ましく、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基であることが特に好ましく、メチル基であることが著しく好ましい。
基Ｒｘの少なくとも１つは、基−ＣＨＲ１Ｒ２であることが好ましく、式中、基Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、直鎖もしくは分岐の、非環状もしくは環状の、飽和、もしくは一価もしくは多価不飽和の、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基またはＣ６〜Ｃ２０のアリール基であることが好ましく、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基であることが特に好ましく、メチル基であることが著しく好ましい。
基Ｒｘの例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチルまたはｔｅｒｔ−ペンチル基などのアルキル基：ｎ−ヘキシル基などのヘキシル基；ｎ−ヘプチル基などのヘプチル基；ｎ−オクチル基およびイソオクチル基（２，４，４−トリメチルペンチル基など）などのオクチル基；ｎ−ノニル基などのノニル基；ｎ−デシル基などのデシル基；ｎ−ドデシル基などのドデシル基；ｎ−ヘキサデシル基などのヘキサデシル基；ｎ−オクタデシル基などのオクタデシル基；シクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチル基およびメチルシクロヘキシル基などのシクロアルキル基；フェニル、ナフチル、アントラリルおよびフェナントリル基などのアリール基；ｏ−、ｍ−およびｐ−トリル、キシル、メシチレニル、およびｏ−、ｍ−およびｐ−エチルフェニル基などのアルカリル基；ならびにベンジル基、α−およびβ−フェニルエチル基などのアラルキル基である。
基Ｒｘの少なくとも１つは、基−ＣＨＲ１Ｒ２であることが好ましく、式中、基Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、直鎖もしくは分岐の、非環状もしくは環状の、飽和、もしくは一価もしくは多価不飽和の、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基またはＣ６〜Ｃ２０のアリール基であることが好ましく、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基であることが特に好ましく、メチル基であることが著しく好ましい。
基Ｒｘの例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチルまたはｔｅｒｔ−ペンチル基などのアルキル基：ｎ−ヘキシル基などのヘキシル基；ｎ−ヘプチル基などのヘプチル基；ｎ−オクチル基およびイソオクチル基（２，４，４−トリメチルペンチル基など）などのオクチル基；ｎ−ノニル基などのノニル基；ｎ−デシル基などのデシル基；ｎ−ドデシル基などのドデシル基；ｎ−ヘキサデシル基などのヘキサデシル基；ｎ−オクタデシル基などのオクタデシル基；シクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチル基およびメチルシクロヘキシル基などのシクロアルキル基；フェニル、ナフチル、アントラリルおよびフェナントリル基などのアリール基；ｏ−、ｍ−およびｐ−トリル、キシル、メシチレニル、およびｏ−、ｍ−およびｐ−エチルフェニル基などのアルカリル基；ならびにベンジル基、α−およびβ−フェニルエチル基などのアラルキル基である。
化合物Ａは、水素化物受容体である。好ましい化合物ＡはＭＸ３（式中、Ｍ＝Ｂ、ＡｌまたはＧａ）、およびＭＸ５（式中、Ｍ＝Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、ＩｒまたはＰｔ）である。基Ｘは、それぞれ独立して、場合により置換された、飽和、非飽和、非環状もしくは環状の、場合により置換された炭素基もしくはカルボンオキシ基の定義を有するか、またはハロゲンの定義を有する。
化合物ＭＸ３において特に好ましい基Ｘは、ハロゲン、好ましくはフッ素で置換されたＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ２０のアルコキシ基、Ｃ６〜Ｃ２０のアリール基もしくはＣ６〜Ｃ２０のアリールオキシ基、またはフッ素、塩素および臭素である。
化合物ＭＸ５において特に好ましい基Ｘは、フッ素、塩素および臭素である。
化合物ＭＸ５において特に好ましい基Ｘは、フッ素、塩素および臭素である。
化合物Ａの好ましい例は、ＢＦ３、ＢＣｌ３、ＡｌＦ３、ＡｌＣｌ３、ＰＣｌ３、ＡｓＦ５、ＳｂＦ５、ＳｂＣｌ５、ＰＣｌ５、ＰＦ５、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３、Ｂ（ＣＦ３）３、Ｂ（Ｃ６Ｃｌ５）３、Ｂ（Ｃ６Ｈ５）３、Ｂ（２，６−ジフルオロ−Ｃ６Ｈ３）３、Ｂ（２，４，６−トリフルオロ−Ｃ６Ｈ２）３、Ｂ（２−Ｃ６Ｆ５−Ｃ６Ｆ４）３、Ｂ（２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｃ６Ｈ）３、Ｂ（４，５，６，７−テトラフルオロ−２−ナフチル）３、Ａｌ（Ｃ６Ｆ５）３、Ｇａ（Ｃ６Ｆ５）３、Ｂ［Ｃ６Ｈ２（ＣＦ３）３］３、Ａｌ（ＯＲＰＦ）３、ＦＡｌ（ＯＲＰＦ）２、およびＳｂ（ＯＴｅＦ５）５である。
反応方程式１に従った反応で形成される化合物ＨＡ−は、カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物（ＲａＳｉ）＋に対する対イオンを形成する。
しかしながら、他のアニオンによって、例えば、本発明の例に従った反応の下流である結果として得られる反応物によって、アニオンＨＡ−を代替することも可能である。
しかしながら、他のアニオンによって、例えば、本発明の例に従った反応の下流である結果として得られる反応物によって、アニオンＨＡ−を代替することも可能である。
反応では、例示的な反応方程式１に従った、Ｃｐ＝ＣＲ１Ｒ２の定義を有する開裂生成物Ｒｂも形成される。開裂生成物Ｒｂは、反応混合物中に残してもよいが、これは有利な場合、例えばＲｂが触媒プロセスを妨害する場合には、除去することができる。
除去は、当業者に公知の手法、例えば、蒸留または分別晶出によって行うことができる。化合物Ｒｂは、減圧下であることが好ましい蒸留プロセスによって蒸留除去されることが好ましい。除去が晶出によって行われる場合、結果として、一般式Ｉの化合物は、好ましくは、沈殿剤を添加することによって晶出させ、例えば、溶液中に残存する一般式Ｒｂの化合物を濾過することができる。
除去は、当業者に公知の手法、例えば、蒸留または分別晶出によって行うことができる。化合物Ｒｂは、減圧下であることが好ましい蒸留プロセスによって蒸留除去されることが好ましい。除去が晶出によって行われる場合、結果として、一般式Ｉの化合物は、好ましくは、沈殿剤を添加することによって晶出させ、例えば、溶液中に残存する一般式Ｒｂの化合物を濾過することができる。
一般式ＩＩの化合物と水素化物受容体Ａとのモル分率は、少なくとも１：１０および最大で１０：１であることが好ましく、少なくとも１：５および最大で５：１であることが特に好ましく、少なくとも１：３および最大で３：１であることが著しく好ましい。２つ成分は、ここでは任意の順序で混合することができ、混合は当業者に公知の手法で実施される。
本発明による反応は、１つ以上の更なる成分の存在下、例えば、１つの溶媒または２つ以上の混合物の存在下で実施することができる。
一般式ＩＩの化合物もしくは化合物Ａのいずれか、または両方の成分は、１つの溶媒または溶媒混合物に溶解することができる。溶媒または溶媒混合物の割合は、一般式ＩＩおよびＡの化合物の合計に基づいて、少なくとも０．１重量％および最大で重量で１０００倍であることが好ましく、少なくとも１０重量％および最大で重量で１００倍であることが特に好ましく、少なくとも３０重量％および最大で重量で１０倍であることが著しく好ましい。
一般式ＩＩの化合物もしくは化合物Ａのいずれか、または両方の成分は、１つの溶媒または溶媒混合物に溶解することができる。溶媒または溶媒混合物の割合は、一般式ＩＩおよびＡの化合物の合計に基づいて、少なくとも０．１重量％および最大で重量で１０００倍であることが好ましく、少なくとも１０重量％および最大で重量で１００倍であることが特に好ましく、少なくとも３０重量％および最大で重量で１０倍であることが著しく好ましい。
溶媒は、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンもしくはトルエンなどの炭化水素、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼンもしくは１，２−ジクロロエタンなどの塩化炭化水素、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、アニソール、テトラヒドロフランもしくはジオキサンなどのエーテル、またはアセトニトリルもしくはプロピオニトリルなどのニトリルを使用することができる。
一般式Ｉの化合物を与えるための本発明による反応は、一般式Ｉの化合物の存在下で反応する成分の存在下で実施してもよい。この場合、更なる成分の反応のための触媒として有効な一般式Ｉの化合物は、反応物の存在下で生成される。
反応は、大気圧において、または減圧下もしくは高圧下で実施することができる。
圧力は、少なくとも０．０１ｂａｒおよび最大で１００ｂａｒであることが好ましく、少なくとも０．１ｂａｒおよび最大で１０ｂａｒであることが特に好ましく、反応は大気圧で実施されることが著しく好ましい。
本発明による反応は、少なくとも−１００℃および最大で＋２５０℃の温度で実施されることが好ましく、少なくとも−２０℃および最大で＋１５０℃の温度で実施されることが特に好ましく、少なくとも０℃および最大で＋１００℃で実施されることが著しく好ましい。
圧力は、少なくとも０．０１ｂａｒおよび最大で１００ｂａｒであることが好ましく、少なくとも０．１ｂａｒおよび最大で１０ｂａｒであることが特に好ましく、反応は大気圧で実施されることが著しく好ましい。
本発明による反応は、少なくとも−１００℃および最大で＋２５０℃の温度で実施されることが好ましく、少なくとも−２０℃および最大で＋１５０℃の温度で実施されることが特に好ましく、少なくとも０℃および最大で＋１００℃で実施されることが著しく好ましい。
さらに、本発明は、一般式Ｉ：
（ＲａＳｉ）＋ＨＡ− （Ｉ）
のカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物に関する。
（ＲａＳｉ）＋ＨＡ− （Ｉ）
のカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物に関する。
一般式Ｉの化合物の例は、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢ（Ｃ６Ｆ５）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢＦ３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢ（ＣＦ３）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢ（Ｃ６Ｃｌ５）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢ（Ｃ６Ｈ５）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢ（２，６−ジフルオロ−Ｃ６Ｈ３）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢ（２，４，６−トリフルオロ−Ｃ６Ｈ２）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢ（２−Ｃ６Ｆ５−Ｃ６Ｆ４）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢ（２，３，５，６−テトラフルオロ−Ｃ６Ｈ）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢ（４，５，６，７−テトラフルオロ−２−ナフチル）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢ［Ｃ６Ｈ２（ＣＦ３）３］３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＡｌ（Ｃ６Ｆ５）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＧａ（Ｃ６Ｆ５）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋Ａｌ（ＯＲＰＦ）３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＦＡｌ（ＯＲＰＦ）２ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋Ｓｂ（ＯＴｅＦ５）５ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢＣｌ３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＡｌＦ３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＡｌＣｌ３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＰＣｌ３ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＡｓＦ５ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＳｂＦ５ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＳｂＣｌ５ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＰＣｌ５ −、（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＰＦ５ −、（Ｃ５ｉＰｒ５）Ｓｉ＋ＨＢ（Ｃ６Ｆ５）３ −、および（Ｃ５ｉＰｒ５）Ｓｉ＋ＨＢＦ３ −、（Ｃ５Ｈ２Ｍｅ３）Ｓｉ＋ＨＢ（Ｃ６Ｆ５）３ −、（Ｃ５Ｈ２Ｍｅ３）Ｓｉ＋ＨＢＦ３ −である。
一般式Ｉのカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物は、例えば、エーテル交換反応、カチオン重合、ヒドロシリル化のための触媒として使用することができる。ヒドロシリル化の例において示されるように、一般式Ｉのケイ素（ＩＩ）化合物によって触媒されるプロセスは、特に一様に進行し、副生成物の顕著な形成を伴わない。
上記の式の上述の全ての記号は、互いに独立してそれぞれ定義される。全ての式において、ケイ素原子は４価である。
いずれの場合も別段の定めがない限り、全ての量およびパーセントは重量に基づくものであり、全ての温度は２０℃である。
２０℃でのシリコセン（Ｃ５Ｍｅ５）２Ｓｉと水素化物受容体Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３との反応は、カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋ＨＢ（Ｃ６Ｆ５）３ −とテトラメチルフルベン（Ｃ５Ｍｅ４）＝ＣＨ２を定量的に生じる。
例１
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。２０．１ｍｇ（０．０６７ｍｍｏｌ）のデカメチルシリコセン［（Ｃ５Ｍｅ５）２Ｓｉ、式ＩＩ（式中、Ｒａ＝Ｃ５Ｍｅ５および（Ｒｂ−Ｈ）＝Ｃ５Ｍｅ５ −］と、３０．０ｍｇ（０．０５９ｍｍｏｌ）のトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランとが、０．５ｍｌのＣＤ２Ｃｌ２にそれぞれ溶解され、溶液をＮＭＲ管中で混ぜ合わせた。テトラメチルフルベンの形成を示す暗黄色の着色が直ぐに形成される。溶液は、化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −を含んでなる。
この化合物のシグナルは２０℃で３５日の期間にわたって変化しないままである。、すなわち、転換分解は起こっていない。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２）：δ＝１．８３および１．８８（２ｓ，テトラメチルフルベンの４つのＭｅ）、２．１９［ｓ，（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋］、３．５７［ｑ，ブロード，Ｊ（ＨＢ）＝１７Ｈｚ，Ｈ−Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３ −］、５．４０（ｓ，２Ｈ，テトラメチルフルベンのＨ２Ｃ＝）；
１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２）：δ＝−１３３．６（ｍ，２Ｆ）；−１６４．１（ｍ，１Ｆ）；−１６７．２（ｍ，２Ｆ）；
２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２）：δ＝−３９９．１
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。２０．１ｍｇ（０．０６７ｍｍｏｌ）のデカメチルシリコセン［（Ｃ５Ｍｅ５）２Ｓｉ、式ＩＩ（式中、Ｒａ＝Ｃ５Ｍｅ５および（Ｒｂ−Ｈ）＝Ｃ５Ｍｅ５ −］と、３０．０ｍｇ（０．０５９ｍｍｏｌ）のトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランとが、０．５ｍｌのＣＤ２Ｃｌ２にそれぞれ溶解され、溶液をＮＭＲ管中で混ぜ合わせた。テトラメチルフルベンの形成を示す暗黄色の着色が直ぐに形成される。溶液は、化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −を含んでなる。
この化合物のシグナルは２０℃で３５日の期間にわたって変化しないままである。、すなわち、転換分解は起こっていない。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２）：δ＝１．８３および１．８８（２ｓ，テトラメチルフルベンの４つのＭｅ）、２．１９［ｓ，（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋］、３．５７［ｑ，ブロード，Ｊ（ＨＢ）＝１７Ｈｚ，Ｈ−Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３ −］、５．４０（ｓ，２Ｈ，テトラメチルフルベンのＨ２Ｃ＝）；
１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２）：δ＝−１３３．６（ｍ，２Ｆ）；−１６４．１（ｍ，１Ｆ）；−１６７．２（ｍ，２Ｆ）；
２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２）：δ＝−３９９．１
例２
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。１１．８ｍｇ（０．０４６ｍｍｏｌ）のデカメチルシリコセン［（Ｃ５Ｍｅ５）２Ｓｉ］と、２３．３ｇ（０．０４６ｍｍｏｌ）のトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランとが、ＮＭＲ管中に連続して計量され、１ｍｌのＣＤＣｌ3が添加される。２つの成分は溶解し、テトラメチルフルベンの形成を示す暗黄色の着色が直ぐに形成される。溶液は、化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −を含んでなる。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．７６および１．８２（２ｓ，テトラメチルフルベンの４つのＭｅ）、２．１０［ｓ，（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋］、３．４８［ｑ，ブロード，Ｈ−Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３ −］、５．４０（ｓ，２Ｈ，Ｈ２Ｃ＝）；
２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝−３９９．９
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。１１．８ｍｇ（０．０４６ｍｍｏｌ）のデカメチルシリコセン［（Ｃ５Ｍｅ５）２Ｓｉ］と、２３．３ｇ（０．０４６ｍｍｏｌ）のトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランとが、ＮＭＲ管中に連続して計量され、１ｍｌのＣＤＣｌ3が添加される。２つの成分は溶解し、テトラメチルフルベンの形成を示す暗黄色の着色が直ぐに形成される。溶液は、化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −を含んでなる。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．７６および１．８２（２ｓ，テトラメチルフルベンの４つのＭｅ）、２．１０［ｓ，（Ｃ５Ｍｅ５）Ｓｉ＋］、３．４８［ｑ，ブロード，Ｈ−Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３ −］、５．４０（ｓ，２Ｈ，Ｈ２Ｃ＝）；
２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝−３９９．９
例３
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。１００ｍｇ（０．３３５ｍｍｏｌ）のデカメチルシリコセンと、１７２ｍｇ（０．３３５ｍｍｏｌ）のトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランとが、０．５ｍｌのＣＤ２Ｃｌ２にそれぞれ溶解され、２つの溶液は混ぜ合わされる。テトラメチルフルベンの形成に起因して、溶液は直ぐに暗黄色に変色する。ヘプタンが添加されると直ぐに、化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −の無色の結晶沈殿物が形成される。ＣＤ２Ｃｌ２を除去するために、懸濁液は減圧下で少し濃縮され、１ｍｌのヘプタンが再度添加される。シリンジを使用して溶液が除去され、結晶残渣が毎回１ｍｌのヘプタンで２回洗浄される。それを高真空下、２０℃で乾燥させ、フラベンを含まない純粋な１５５ｍｇ（６４％）の生成物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −が得られる。
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。１００ｍｇ（０．３３５ｍｍｏｌ）のデカメチルシリコセンと、１７２ｍｇ（０．３３５ｍｍｏｌ）のトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランとが、０．５ｍｌのＣＤ２Ｃｌ２にそれぞれ溶解され、２つの溶液は混ぜ合わされる。テトラメチルフルベンの形成に起因して、溶液は直ぐに暗黄色に変色する。ヘプタンが添加されると直ぐに、化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −の無色の結晶沈殿物が形成される。ＣＤ２Ｃｌ２を除去するために、懸濁液は減圧下で少し濃縮され、１ｍｌのヘプタンが再度添加される。シリンジを使用して溶液が除去され、結晶残渣が毎回１ｍｌのヘプタンで２回洗浄される。それを高真空下、２０℃で乾燥させ、フラベンを含まない純粋な１５５ｍｇ（６４％）の生成物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −が得られる。
例４：ヒドロシリル化反応
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。１１８．５ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）のα−メチルスチレンと、１３６．７ｍｌ（１．００ｍｍｏｌ）のジメチルペンチルシランとが、０．５ｍｌのＣＤ２Ｃｌ２に溶解され、２０℃において、０．５ｍｌのＣＤ２Ｃｌ２中の２．８ｍｇ（０．００４１ｍｍｏｌ）の（例３で調製された）化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −の溶液が添加される。生成物ＰｈＳｉＭｅ２−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）Ｐｈの形成を自発的に生じるヒドロシリル化反応は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルで観察される。２０分後、５０％生成物が形成され、反応は２４時間後に完了する。
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。１１８．５ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）のα−メチルスチレンと、１３６．７ｍｌ（１．００ｍｍｏｌ）のジメチルペンチルシランとが、０．５ｍｌのＣＤ２Ｃｌ２に溶解され、２０℃において、０．５ｍｌのＣＤ２Ｃｌ２中の２．８ｍｇ（０．００４１ｍｍｏｌ）の（例３で調製された）化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −の溶液が添加される。生成物ＰｈＳｉＭｅ２−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）Ｐｈの形成を自発的に生じるヒドロシリル化反応は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルで観察される。２０分後、５０％生成物が形成され、反応は２４時間後に完了する。
例５：ヒドロシリル化反応
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。例１により調製された、化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −とテトラメチルフルベン含んでなるＮＭＲ試料に、９．１ｍｇ（０．０６７ｍｍｏｌ）のジメチルフェニルシランが添加される。最初に、まだ暗黄色溶液が、数時間以内に脱色する。黄色に変色したテトラメチルフラベンは、ジメチルフェニルシランと完全に反応し、ヒドロシリル化生成物ＰｈＳｉＭｅ２−ＣＨ２−Ｃ５Ｍｅ４（ＮＭＲスペクトルにより調査）を形成する。化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（δ＝２．２ｐｐｍにおけるシングレット）で不変の量で確認される。
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。例１により調製された、化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −とテトラメチルフルベン含んでなるＮＭＲ試料に、９．１ｍｇ（０．０６７ｍｍｏｌ）のジメチルフェニルシランが添加される。最初に、まだ暗黄色溶液が、数時間以内に脱色する。黄色に変色したテトラメチルフラベンは、ジメチルフェニルシランと完全に反応し、ヒドロシリル化生成物ＰｈＳｉＭｅ２−ＣＨ２−Ｃ５Ｍｅ４（ＮＭＲスペクトルにより調査）を形成する。化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（δ＝２．２ｐｐｍにおけるシングレット）で不変の量で確認される。
例６：ヒドロシリル化反応
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。例１により調製された、それぞれ０．０３３ｍｍｏｌの化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −とテトラメチルフルベンとを含んでなるＮＭＲ試料に、１７．４ｍｇ（０．１４７ｍｍｏｌ）のα−メチルスチレンと、１４．３ｍｇ（０．１０５ｍｍｏｌ）のジメチルフェニルシランとの混合物が添加される。ジメチルフェニルシランとα−メチルスチレンとのヒドロシリル化反応の生成物［ＰｈＳｉＭｅ２−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）Ｐｈ］、およびジメチルフェニルシランとテトラメチルフラベンとのヒドロシリル化反応の生成物（ＰｈＳｉＭｅ２−ＣＨ２−Ｃ５Ｍｅ４）が形成される。
全てのプロセス工程は、Ａｒ下で実施される。例１により調製された、それぞれ０．０３３ｍｍｏｌの化合物（Ｍｅ５Ｃ５）Ｓｉ＋ＢＨ（Ｃ６Ｆ５）３ −とテトラメチルフルベンとを含んでなるＮＭＲ試料に、１７．４ｍｇ（０．１４７ｍｍｏｌ）のα−メチルスチレンと、１４．３ｍｇ（０．１０５ｍｍｏｌ）のジメチルフェニルシランとの混合物が添加される。ジメチルフェニルシランとα−メチルスチレンとのヒドロシリル化反応の生成物［ＰｈＳｉＭｅ２−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）Ｐｈ］、およびジメチルフェニルシランとテトラメチルフラベンとのヒドロシリル化反応の生成物（ＰｈＳｉＭｅ２−ＣＨ２−Ｃ５Ｍｅ４）が形成される。
Claims (7)
- 一般式Ｉ：
（ＲａＳｉ）＋ＨＡ− （Ｉ）
のカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物を、一般式ＩＩ：
（Ｒｂ−Ｈ）（ＲａＳｉ）＋ （ＩＩ）
のケイ素（ＩＩ）化合物と、化合物Ａとの反応により製造する方法であって、
式中、
Ｒａは、共有結合、イオン結合を介して前記カチオン性ケイ素原子に結合したか、または前記カチオン性ケイ素原子と１つ以上のπ結合を介して結合した、ヘテロ原子を追加的に含んでもよい炭素含有基であり、
（Ｒｂ−Ｈ）は、一般式ＩＩＩ：
ＲＸは、互いに結合して縮合環を形成してもよい一価または多価の有機基であり（但し、基ＲＸの少なくとも１つは、少なくとも１つの水素原子を有する炭素原子を介して結合した有機基である）、および
Ａは、求電子剤として電子対を受容することが可能な化合物である、
方法。 - 一般式Ｉ：
（ＲａＳｉ）＋ＨＡ− （Ｉ）
のカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物であって、
式中、
Ｒａは、共有結合、イオン結合を介して前記カチオン性ケイ素原子に結合したか、または前記カチオン性ケイ素原子と１つ以上のπ結合を介して結合した、ヘテロ原子を追加的に含んでもよい炭素含有基であり、および
Ａは、求電子剤として電子対を受容することが可能な化合物である、
カチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物。 - 前記基Ｒｘが、それぞれ独立して、水素、直鎖または分岐の、非環状または環状の、飽和または一価もしくは多価不飽和の、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基またはＣ６〜Ｃ２０のアリール基である、請求項１に記載の方法。
- 化合物Ａが、式：ＭＸ３（式中、Ｍ＝Ｂ、ＡｌまたはＧａ）および式：ＭＸ５（式中、Ｍ＝Ｐ，Ａｓ、Ｓｂ、ＩｒまたはＰｔ）の化合物から選択され、前記基Ｘが、それぞれ独立して、場合により置換された、飽和、非飽和、非環状または環状の、場合により置換された炭素またはカルボンオキシ基の定義を有するか、またはハロゲンの定義を有する、請求項１もしくは３記載の方法、または請求項２に記載のケイ素（ＩＩ）化合物。
- Ｒａが、基Ｒｙ（Ｒｙ ５Ｃｐ）によって置換されたπ結合したシクロペンタジエニル基であり、
式中、Ｒｙは、互いに結合して縮合環を形成してもよい一価または多価の有機基である、請求項１、３または４に記載の方法。 - 炭化水素、塩化炭化水素、エーテル、ニトリル、オルガノシランまたはオルガノシロキサンから選択される非プロトン性溶媒中で実施される、請求項１、３、４または５に記載の方法。
- 触媒としての、請求項２または４に記載のカチオン性ケイ素（ＩＩ）化合物の使用。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/EP2016/060531 WO2017194100A1 (de) | 2016-05-11 | 2016-05-11 | Kationische silicium(ii)-verbindungen und verfahren zu ihrer herstellung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019520322A true JP2019520322A (ja) | 2019-07-18 |
| JP6707668B2 JP6707668B2 (ja) | 2020-06-10 |
Family
ID=56014980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018559237A Expired - Fee Related JP6707668B2 (ja) | 2016-05-11 | 2016-05-11 | カチオン性ケイ素（ｉｉ）化合物およびその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10457696B2 (ja) |
| EP (1) | EP3455230B1 (ja) |
| JP (1) | JP6707668B2 (ja) |
| KR (1) | KR102124345B1 (ja) |
| CN (1) | CN109153695A (ja) |
| WO (1) | WO2017194100A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11325923B2 (en) * | 2017-10-06 | 2022-05-10 | Wacker Chemie Ag | Preparation of siloxanes in the presence of cationic silicon (II) compounds |
| WO2020244772A1 (de) * | 2019-06-06 | 2020-12-10 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur herstellung von polyolefinen |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019515945A (ja) * | 2016-04-04 | 2019-06-13 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトＷａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＡＧ | 貴金属を含まないヒドロシリル化可能な混合物 |
-
2016
- 2016-05-11 CN CN201680085545.4A patent/CN109153695A/zh not_active Withdrawn
- 2016-05-11 US US16/098,274 patent/US10457696B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2016-05-11 JP JP2018559237A patent/JP6707668B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2016-05-11 EP EP16723327.9A patent/EP3455230B1/de active Active
- 2016-05-11 KR KR1020187032584A patent/KR102124345B1/ko active IP Right Grant
- 2016-05-11 WO PCT/EP2016/060531 patent/WO2017194100A1/de unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019515945A (ja) * | 2016-04-04 | 2019-06-13 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトＷａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＡＧ | 貴金属を含まないヒドロシリル化可能な混合物 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| UDO HOLTMANN; ET AL: "REACTION OF DECAMETHYLSILICOCENE WITH GROUP 13 ELEMENT HALIDES: INSERTIONS, REARRANGEMENTS, AND ELIM", ORGANOMETALLICS, vol. VOL:18, NR:26, JPN5019003862, 30 November 1999 (1999-11-30), US, pages 5531 - 5538, ISSN: 0004151348 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP3455230B1 (de) | 2019-09-04 |
| KR20180126598A (ko) | 2018-11-27 |
| US10457696B2 (en) | 2019-10-29 |
| KR102124345B1 (ko) | 2020-06-29 |
| CN109153695A (zh) | 2019-01-04 |
| JP6707668B2 (ja) | 2020-06-10 |
| EP3455230A1 (de) | 2019-03-20 |
| US20190152999A1 (en) | 2019-05-23 |
| WO2017194100A1 (de) | 2017-11-16 |
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|
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |