JP2019511747A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2019511747A5
JP2019511747A5 JP2018550689A JP2018550689A JP2019511747A5 JP 2019511747 A5 JP2019511747 A5 JP 2019511747A5 JP 2018550689 A JP2018550689 A JP 2018550689A JP 2018550689 A JP2018550689 A JP 2018550689A JP 2019511747 A5 JP2019511747 A5 JP 2019511747A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mark
reticle
alignment
reticle alignment
light beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018550689A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6856263B2 (ja
JP2019511747A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from CN201610200702.3A external-priority patent/CN107290943B/zh
Application filed filed Critical
Publication of JP2019511747A publication Critical patent/JP2019511747A/ja
Publication of JP2019511747A5 publication Critical patent/JP2019511747A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6856263B2 publication Critical patent/JP6856263B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2018550689A 2016-03-31 2017-03-31 同軸マスク位置合せデバイス、フォトリトグラフィ装置および位置合せ方法 Active JP6856263B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610200702.3A CN107290943B (zh) 2016-03-31 2016-03-31 同轴掩模对准装置、光刻设备及对准方法
CN201610200702.3 2016-03-31
PCT/CN2017/078939 WO2017167260A1 (zh) 2016-03-31 2017-03-31 同轴掩模对准装置、光刻设备及对准方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019511747A JP2019511747A (ja) 2019-04-25
JP2019511747A5 true JP2019511747A5 (enExample) 2020-03-12
JP6856263B2 JP6856263B2 (ja) 2021-04-07

Family

ID=59962643

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018550689A Active JP6856263B2 (ja) 2016-03-31 2017-03-31 同軸マスク位置合せデバイス、フォトリトグラフィ装置および位置合せ方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10901331B2 (enExample)
JP (1) JP6856263B2 (enExample)
KR (1) KR102190328B1 (enExample)
CN (1) CN107290943B (enExample)
SG (1) SG11201808604XA (enExample)
TW (1) TW201737402A (enExample)
WO (1) WO2017167260A1 (enExample)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020021778A1 (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 日本電気株式会社 情報処理装置、システム、方法、及びコンピュータ可読媒体
CN109240047B (zh) * 2018-11-06 2023-11-21 苏州源卓光电科技有限公司 一种直写式曝光机及其标定方法
CN111380509B (zh) * 2018-12-28 2022-04-01 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种掩模版姿态监测方法、装置及掩模版颗粒度检测设备
CN113514477B (zh) * 2020-04-10 2024-06-11 深圳中科飞测科技股份有限公司 一种光学设备及其对准方法和检测方法
CN114323577B (zh) * 2021-12-10 2024-04-02 智慧星空(上海)工程技术有限公司 成像镜头性能检测系统
CN116466551A (zh) * 2023-04-17 2023-07-21 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 背面对准装置及其方法和曝光设备

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2897330B2 (ja) * 1990-04-06 1999-05-31 キヤノン株式会社 マーク検出装置及び露光装置
JPH0950959A (ja) * 1995-06-01 1997-02-18 Nikon Corp 投影露光装置
JPH09312251A (ja) * 1996-05-22 1997-12-02 Nikon Corp 投影露光装置
JPH1048845A (ja) * 1996-08-01 1998-02-20 Ushio Inc マスクとワークステージの位置合わせ方法および装置
JP3538073B2 (ja) * 1999-07-29 2004-06-14 Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 Ｔｆｔを搭載する基板側に色層を有するアクティブマトリクス型液晶表示装置及びその製造方法
US20050128449A1 (en) * 2003-12-12 2005-06-16 Nikon Corporation, A Japanese Corporation Utilities transfer system in a lithography system
JP2005175383A (ja) * 2003-12-15 2005-06-30 Canon Inc 露光装置、アライメント方法、及び、デバイスの製造方法
US8614830B2 (en) * 2004-09-27 2013-12-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Pixel exposure as a function of subpixels
JP2006242722A (ja) * 2005-03-02 2006-09-14 Nikon Corp 位置計測方法、この位置計測方法を実施する位置計測装置、この位置計測方法を使用するデバイス製造方法、及びこの位置計測装置を装備する露光装置
CN1794095A (zh) * 2006-01-06 2006-06-28 上海微电子装备有限公司 投影曝光装置中的同轴位置对准系统和对准方法
JP2007250947A (ja) * 2006-03-17 2007-09-27 Canon Inc 露光装置および像面検出方法
CN100578369C (zh) * 2006-04-04 2010-01-06 上海微电子装备有限公司 用于投影曝光装置中的自动位置对准装置和位置对准方法
CN100526999C (zh) * 2007-08-03 2009-08-12 上海微电子装备有限公司 光刻装置的对准方法及系统
JP2009200105A (ja) * 2008-02-19 2009-09-03 Canon Inc 露光装置
CN101382743B (zh) 2008-10-27 2011-12-21 上海微电子装备有限公司 同轴双面位置对准系统及位置对准方法
JP5445905B2 (ja) * 2009-03-18 2014-03-19 株式会社ニコン 位置合わせ方法及び装置、並びに露光方法及び装置
CN102081312B (zh) 2009-11-26 2012-08-29 上海微电子装备有限公司 双面对准装置及其对准方法
CN102540782A (zh) 2010-12-28 2012-07-04 上海微电子装备有限公司 用于光刻设备的对准装置及方法
CN102890422B (zh) 2011-07-20 2016-04-20 上海微电子装备有限公司 用于掩模对准的探测器系统及方法
CN103197518B (zh) * 2012-01-05 2015-03-25 上海微电子装备有限公司 一种对准装置和方法
CN103365098B (zh) * 2012-03-27 2016-04-20 上海微电子装备有限公司 一种用于曝光装置的对准标记
CN103383531B (zh) * 2012-05-02 2016-07-06 上海微电子装备有限公司 掩模对准装置及使用该装置的光刻设备
CN104678720B (zh) 2013-12-03 2017-01-04 上海微电子装备有限公司 利用掩模对准系统进行工件台基准板旋转探测的方法
CN205608393U (zh) * 2016-03-31 2016-09-28 上海微电子装备有限公司 同轴掩模对准装置及光刻设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2019511747A5 (enExample)
JP6856263B2 (ja) 同軸マスク位置合せデバイス、フォトリトグラフィ装置および位置合せ方法
IL277841B2 (en) Localized telecentricity and focus optimization for overlay metrology
KR101755615B1 (ko) 광학 장치 및 이를 포함하는 광학 검사 장치
JP2008263092A (ja) 投影露光装置
US20110292362A1 (en) Exposure apparatus
US10310385B2 (en) Optical system for producing lithographic structures
CN113093487A (zh) 掩模对准系统、掩模对准方法和光刻设备
JP3048168B2 (ja) 表面状態検査装置及びこれを備える露光装置
US9915871B2 (en) Method for measuring an angularly resolved intensity distribution and projection exposure apparatus
CN205608393U (zh) 同轴掩模对准装置及光刻设备
JP2006242722A (ja) 位置計測方法、この位置計測方法を実施する位置計測装置、この位置計測方法を使用するデバイス製造方法、及びこの位置計測装置を装備する露光装置
JP6513980B2 (ja) 撮像装置及び撮像方法
KR101985859B1 (ko) 노광 광학계에서 dmd를 정렬하기 위한 장치 및 그 방법
JP2020170118A5 (enExample)
KR100922203B1 (ko) 레이저 디렉트 이미징 시스템용 상하부 노광 엔진의위치정렬방법 및 장치
CN108008607B (zh) 兼顾对准和调焦调平的测量系统及其测量方法和光刻机
JP2000019012A (ja) 照明系輝度分布計測装置
JP5288477B2 (ja) 露光装置
CN111512240A (zh) 光敏记录介质上至少一幅存储图像的曝光方法和曝光设备
JPH079500B2 (ja) アライメント光学装置
KR101985857B1 (ko) 노광 광학계에서 dmd를 정렬하기 위한 장치
KR100915452B1 (ko) Ｓｌｍ을 이용한 상 하부 동시 노광 방식의 빔 미러 픽셀영상 위치정렬방법 및 장치
JP2006234769A (ja) 位置測定方法および位置測定装置
TW202537755A (zh) 雷射加工裝置及雷射加工方法