KR100915452B1

KR100915452B1 - Ｓｌｍ을 이용한 상 하부 동시 노광 방식의 빔 미러 픽셀영상 위치정렬방법 및 장치

Info

Publication number: KR100915452B1
Application number: KR1020080039336A
Authority: KR
Inventors: 김종수
Original assignee: 주식회사 프로텍
Priority date: 2008-04-28
Filing date: 2008-04-28
Publication date: 2009-09-04

Abstract

본 발명은 SLM을 이용한 상 하부 동시 노광방식의 빔 미러 픽셀 영상 위치정렬방법 및 장치에 관한 것으로서, 좀더 상세하게는 SLM(Spatial Light Modulator)를 이용한 상 하부 동시 노광 방식에서 상기 상 하부 SLM과 노광면 사이에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 노광 면과 동일한 간격, 거리가 유지되도록 프리즘에 의해 수평 방향으로 90도 방향 전환하여 반사시킨 후, 측방에서 CCD 카메라에 집광시켜 빔 미러 픽셀의 위치 오차를 측정하여 위치 정렬하도록 함으로써, 상하 노광부의 스테이지 이동시 종래 SLM과 카메라 등의 기구적인 간섭 및 이동거리 제한 등의 문제를 해결하므로 작업성, 안전성을 우수하게 제공하는데 그 특징이 있다.

Description

ＳＬＭ을 이용한 상 하부 동시 노광 방식의 빔 미러 픽셀 영상 위치정렬방법 및 장치{LOCATING METHOD AND APPARATUS OF PIXEL IMAGE USING SPATIAL LIGHT MODULATOR}

본 발명은 SLM(Spatial Light Modulator)를 이용한 상 하부 동시 노광 방식에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 CCD 카메라로 촬영, 분석하여 위치 정렬하되, 스테이지 이동시 SLM과 카메라 등의 기구적인 간섭 및 이동거리 제한 등의 문제점을 해결하는 SLM을 이용한 상 하부 동시 노광 방식의 빔 미러 픽셀 영상 위치정렬방법 및 장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체, FPD, PCB 제조공정에서는 패턴을 형성하기 위해 노광 공정을 행하고 있다.

이러한 노광 공정은 작업 전에 노광부 위치 정렬 작업이 반드시 선행되어야 정밀한 패턴 작업을 행할 수 있게 되는 것이다.

이와 같은 노광부 위치 정렬 작업은 마스크(Mask) 방식과 마스크 리스(Maskless) 방식으로 구분된다.

상기 마스크 방식은 도 1의 도시된 것으로 반도체 PCB인 Lead Frame 및 COF에서만 적용되고 있는데, 상 하부면의 노광시에도 마스크를 정렬한 상태로 사용하게 되는 것이다.

그리고 SLM을 이용한 마스크 리스 방식은 마스크를 사용하지 않기 때문에 SLM에서 반사된 빔 미러 픽셀을 CCD 카메라로 촬영, 분석하여 위치 정렬하게 되는 것이다.

이때 상기 마스크 리스 방식에서 단면 노광인 경우에는 도 2에 도시된 바와 같이 노광부(2)의 SLM에서 반사된 빔미러 픽셀의 위치와 일치된 부분에 CCD 카메라(5)를 위치하여 미세 정렬할 수 있는 영상을 얻을 수 있게 된다.

그러나 상 하부 동시 노광인 경우에는 도 3에 도시된 바와 같이 SLM에서 반사된 빔미러 픽셀의 영상을 얻기 위한 CCD 카메라(5)가 노광부(2)가 상호 엇갈리게 대향 된 구조를 갖기 때문에 노광부(2)와 CCD 카메라(5) 등의 기구적인 간섭 및 이동거리 제한 등의 문제점으로 노광 작업을 원활히 행할 수 없는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기한 종래 기술이 갖는 제반 문제점을 해결하고자 발명된 것으로서, SLM(Spatial Light Modulator)를 이용한 상 하부 동시 노광 방식에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 CCD 카메라로 촬영, 분석하여 위치 정렬하되, 스테이지 이동시 SLM과 카메라 등의 기구적인 간섭 및 이동거리 제한 등의 문제점을 해결함으로써 작업성, 안전성을 우수하게 제공하는데 그 목적이 있다.

이러한 본 발명은,

SLM(Spatial Light Modulator)를 이용한 상 하부 동시 노광 방식에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 CCD 카메라로 촬영, 분석하여 위치 정렬하되,

상기 상 하부 SLM과 노광면 사이에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 노광면과 동일한 간격, 거리가 유지되도록 프리즘에 의해 수평 방향으로 90도 방향 전환하여 반사시킨 후, 측방에서 CCD 카메라에 집광시켜 빔 미러 픽셀의 위치 오차를 측정하여 위치 정렬하는 방법과;

상기 상 하부 SLM과 노광면 사이에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 노광면과 동일한 간격, 거리가 유지되도록 수평 방향으로 90도 방향 전환하여 반사시키는 프리즘과,

상기 프리즘에서 반사되는 빔 미러 픽셀을 측방에서 집광시켜 투영하는 CCD 카메라로 구성되는 장치에 의해 달성된다.

이러한 본 발명은 SLM(Spatial Light Modulator)를 이용한 상 하부 동시 노광 방식에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 CCD 카메라로 촬영, 분석하여 위치 정렬하되, 스테이지 이동시 SLM과 카메라 등의 기구적인 간섭 및 이동거리 제한 등의 문제를 빔 미러 픽셀을 프리즘에 의해 방향전환 하여 측방의 CCD 카메라로 촬영, 분석하여 위치 정렬하므로 종래 문제점을 해결하여 작업성, 안전성을 우수하게 제공하는 효과를 갖는 것이다.

도 1은 종래 마스크 방식의 노광 구조를 보여주는 개념도.

도 2는 종래 SLM을 이용한 단면 노광 구조를 보여주는 개념도.

도 3은 종래 SLM을 이용한 상 하부 동시 노광 구조를 보여주는 개념도.

도 4는 본 발명의 구조를 보여주는 개념도.

도 5는 본 발명에 적용된 프리즘 광학계의 구조를 도시한 단면도.

**도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명**

2: 노광부 3: 노광면

20: CCD 카메라 10: 프리즘

먼저, 본 발명의 방법에 대해 살펴보기로 한다.

본 발명은 SLM(Spatial Light Modulator)를 이용한 상 하부 동시 노광 방식에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 CCD 카메라로 촬영, 분석하여 위치 정렬하는 방법을 제공한다.

즉, 상기 상 하부 SLM과 노광면 사이에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 노광면과 동일한 간격, 거리가 유지되도록 프리즘에 의해 수평 방향으로 90도 방향 전환하여 반사시킨 후, 측방에서 CCD 카메라에 집광시켜 빔 미러 픽셀의 위치 오차를 측정하여 위치 정렬하는 방법을 제공하는 것이다.

이때 상기 CCD 카메라에 집광 된 빔 미러 픽셀은 기준 좌표계와 위치 오차를 측정하여 측정된 오차 데이터만큼 위치 정렬하게 되는 것이다.

이러한 본 발명의 방법은 SLM(Spatial Light Modulator)를 이용한 상 하부 동시 노광 과정에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 프리즘에 의해 수평 방향으로 90도 방향 전환하여 반사시킨 후, 측방에서 CCD 카메라에 집광시켜 빔 미러 픽셀의 위치 오차를 측정하여 위치 정렬하게 되는 것이다.

따라서, 종래와 같이 SLM 에서 반사된 빔 미러 픽셀의 영상을 얻기 위한 CCD 카메라가 노광부와 기구적인 간섭 및 이동거리 제한 등의 문제점을 해결하게 되는 것이다.

다음은 상기한 본 발명의 방법을 구현하기 위한 장치를 도 4를 참조하여 구체적으로 살펴보기로 한다.

본 발명은 SLM(Spatial Light Modulator)를 이용한 상 하부 동시 노광 방식에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 CCD 카메라로 촬영, 분석하여 위치 정렬하기 위한 장치로서 프리즘 광학계를 제공한다.

즉, 상기 상 하부 SLM과 노광면(3) 사이에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 노광면과 동일한 간격, 거리가 유지되도록 수평 방향으로 90도 방향 전환하여 반사시키는 프리즘(10)과,

상기 프리즘에서 반사되는 빔 미러 픽셀을 측방에서 집광시켜 투영하는 CCD 카메라(20)를 구성하여 이루어진다.

이때, 상기 프리즘(10)과 CCD 카메라(20)는 케이스(100) 상에 조립되어 상기 프리즘에서 반사되는 빔 미러 픽셀을 튜브렌즈(30)를 통해 CCD 카메라(20)에 일정하게 반사하도록 구성된다.

이러한 본 발명의 장치는 SLM(Spatial Light Modulator)를 이용한 상 하부 동시 노광 방식에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀의 위치 오차를 확인하고 정렬하게 되는 것이다.

이는 상하 노광부(2)의 광원에서 램프나 레이저에 의해 조사되는 빔을 SLM에 의해 빔 미러 픽셀로 반사시키게 된다.

이때 상기 상하 SLM에 의한 빔 미러 픽셀은 상 하부 SLM과 노광면(3) 사이에서 프리즘(10)에 의해 수평방향으로 90도 방향 전환하여 반사시키게 된다.

이때 상기 상하 프리즘(10)에 반사되는 빔 미러 픽셀은 노광면에서 동일한 간격, 거리가 유지되도록 반사된다.

이와 같이 상하 프리즘(10)에서 동일하게 반사되는 빔 미러 픽셀은 측방의 각 CCD 카메라(20)에 집광시켜 빔 미러 픽셀의 위치 오차를 측정하게 되는 것이다.

그리고 상기 CCD 카메라(20)에 집광 된 빔 미러 픽셀의 위치 정보는 기준 좌표계와 위치 오차를 측정하여 측정된 오차 데이터만큼 SLM의 위치 정렬을 행하게 되는 것이다.

이때 본 발명에서는 종래와 같이 노광부(2)가 스테이지를 이동하여도 SLM과 카메라 등의 기구적인 간섭 및 이동거리 제한 등의 문제가 발생하지 않아 작업성, 안전성을 높이게 되는 것이다.

한편, 본 발명의 장치인 프리즘 광학계의 구성요소인 프리즘(10)과 CCD 카메라(20)는 도 5에서와 같이 케이스(100) 상에 조립되어 상기 프리즘에서 반사되는 빔 미러 픽셀을 튜브렌즈(30)를 통해 CCD 카메라(20)에 일정하게 반사하기 때문에 위치 정렬의 정밀성을 더욱 높일 수 있게 되는 것이다.

Claims

SLM(Spatial Light Modulator)를 이용한 상 하부 동시 노광 방식에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 CCD 카메라로 촬영, 분석하여 위치 정렬하는 방법에 있어서,

상기 상 하부 SLM과 노광면 사이에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 노광면과 동일한 간격, 거리가 유지되도록 프리즘에 의해 수평 방향으로 90도 방향 전환하여 반사시킨 후, 측방에서 CCD 카메라에 집광시켜 빔 미러 픽셀의 위치 오차를 측정하여 위치 정렬하는 것을 특징으로 하는 SLM을 이용한 상 하부 동시 노광 방식의 빔 미러 픽셀 영상 위치정렬방법.
SLM(Spatial Light Modulator)를 이용한 상 하부 동시 노광 방식에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 CCD 카메라로 촬영, 분석하여 위치 정렬하는 장치에 있어서,

상기 상 하부 SLM과 노광면(3) 사이에서 SLM에 반사된 빔 미러 픽셀을 노광면과 동일한 간격, 거리가 유지되도록 수평 방향으로 90도 방향 전환하여 반사시키는 프리즘(10)과,

상기 프리즘에서 반사되는 빔 미러 픽셀을 측방에서 집광시켜 투영하는 CCD 카메라(20)를 구성하여 이루어진 것을 특징으로 하는 SLM을 이용한 상 하부 동시 노광 방식의 빔 미러 픽셀 영상 위치정렬장치.
제2항에 있어서,

상기 프리즘(10)과 CCD 카메라(20)는 케이스(100) 상에 조립되어 상기 프리즘에서 반사되는 빔 미러 픽셀을 튜브렌즈(30)를 통해 CCD 카메라(20)에 일정하게 반사하도록 구성된 프리즘 광학계로 이루어진 것을 특징으로 하는 SLM을 이용한 상 하부 동시 노광 방식의 빔 미러 픽셀 영상 위치정렬장치.