JP2019504332A - カラムスペーサを調製するための方法 - Google Patents
カラムスペーサを調製するための方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019504332A JP2019504332A JP2018520416A JP2018520416A JP2019504332A JP 2019504332 A JP2019504332 A JP 2019504332A JP 2018520416 A JP2018520416 A JP 2018520416A JP 2018520416 A JP2018520416 A JP 2018520416A JP 2019504332 A JP2019504332 A JP 2019504332A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- light transmittance
- mask
- meth
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13398—Spacer materials; Spacer properties
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2202/00—Materials and properties
- G02F2202/02—Materials and properties organic material
- G02F2202/022—Materials and properties organic material polymeric
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
Description
マスクは、(1)スペーサ部分を形成するための第1のパターンと、(2)マトリクス部分を形成するための第2のパターンであって、第1のパターンに隣接して配置され、第1のパターンよりも低い光透過率を有する、第2のパターンと、(3)第1のパターンと第2のパターンとの境界に配置された第3のパターンであって、第2のパターンよりも低い光透過率を有する、第3のパターンと、を備え、
マスクの第3のパターンによって、マトリクス部分と、カラムスペーサのスペーサ部分との境界に、マトリクス部分から窪んだ谷が形成される。
本発明は、(1)第1のパターンと、(2)第1のパターンに隣接して配置され、第1のパターンよりも低い光透過率を有する、第2のパターンと、(3)第1のパターンと第2のパターンとの間の境界に配置され、第2のパターンよりも低い光透過率を有する、第3のパターンと、を備える、カラムスペーサのためのマスクを提供する。
マスクの第1のパターンは、カラムスペーサ内にカラムスペーサ部分を形成するためであり、光照射中に形成されるスペーサ部分に対応して配置される。
マスクの第2のパターンは、カラムスペーサにおいてマトリックス部分を形成するためのものであり、第1のパターンに隣接して、すなわち、光照射中に形成されるマトリックス部分に対応する位置に配置される。
マスクの第3のパターンは、マトリクス部分とカラムスペーサのスペーサ部分との境界において、マトリクス部分から窪んだ谷を形成するための部分であり、第3のパターンは、光照射中に、マトリクス部分とスペーサ部分との境界に対応するように、第1のパターンと第2のパターンとの境界に配置される。
マスクは、(1)スペーサ部分を形成するための第1のパターンと、(2)マトリクス部分を形成するための第2のパターンであって、第1のパターンに隣接して配置され、第1のパターンよりも低い光透過率を有する、第2のパターンと、(3)第1のパターンと第2のパターンとの境界に配置された第3のパターンであって、第2のパターンよりも低い光透過率を有する、第3のパターンと、を備え、
マスクの第3のパターンによって、マトリクス部分と、カラムスペーサのスペーサ部分との境界に、マトリクス部分から窪んだ谷が形成される。
本発明で用いられるコポリマーは、(a−1)エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、またはその組み合わせから誘導される構造単位と、(a−2)芳香環を含有するエチレン性不飽和化合物から誘導される構造単位を含むことができ、またさらに、(a−3)構造単位(a−1)及び(a−2)とは異なるエチレン性不飽和化合物から誘導される構造単位を含むことができる。
本発明では、構造単位(a−1)は、エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの組み合わせから誘導される。エチレン性不飽和カルボン酸またはエチレン性不飽和カルボン酸無水物は、分子内に少なくとも1つのカルボキシル基を有する重合性不飽和モノマーである。それらの好ましい例としては、不飽和モノカルボン酸、例えば(メタ)アクリル酸、クロトン酸、α−クロロアクリル酸、及び桂皮酸;不飽和ジカルボン酸及びその無水物、例えばマレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸;3価以上の不飽和ポリカルボン酸及びその無水物;2価以上のポリカルボン酸のモノ[(メタ)アクリロイルオキシアルキル]エステル、例えばモノ[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]スクシネート、モノ[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]フタレートなどを挙げることができる。上記の例示化合物から誘導される構造単位は、コポリマーにおいて、単独でまたは2つ以上の組み合わせで含まれ得る。
構造単位(a−2)は、芳香環を含有するエチレン性不飽和化合物から誘導され、そして芳香環を含有するエチレン性不飽和化合物の好ましい例としては、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、p−ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、p−ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート;スチレン;アルキル置換基を有するスチレン、例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、及びオクチルスチレン;ハロゲンを有するスチレン、例えばフルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、及びヨードスチレン;アルコキシ置換基を有するスチレン、例えばメトキシスチレン、エトキシスチレン、及びプロポキシスチレン;4−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、アセチルスチレン;ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ビニルフェノール、o−ビニルベンジルメチルエーテル、m−ビニルベンジルメチルエーテル、p−ビニルベンジルメチルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどを挙げることができる。
本発明で用いられるコポリマーは、(a−1)及び(a−2)に加えて、構成単位(a−1)及び(a−2)とは異なるエチレン性不飽和化合物から誘導される構造単位をさらに含むことができる。
本発明で用いられる重合性化合物は、重合開始剤の作用によって重合させることができる任意の化合物であることができ、また、感光性樹脂組成物で通常用いられる多官能のモノマー、オリゴマー、またはポリマーであり得る。
本発明で用いられる光重合開始剤は、任意の公知の光重合開始剤であってもよい。
本発明の感光性樹脂組成物には、遮光性を付与するために着色剤が含有される。
本発明の感光性樹脂組成物は、被覆性を改善し、欠陥の発生を防止するために界面活性剤をさらに含むことができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂化合物またはそれから誘導される化合物をさらに含むことができる。
Xはそれぞれ独立して、
R1〜R7はそれぞれ独立して、H、C1−10アルキル基、C1−10アルコキシ基、C2−10アルケニル基、またはC6−14アリール基であり、
R8はH、メチル、エチル、CH3CHCl−、CH3CHOH−、CH2=CHCH2−、またはフェニルであり、
nは0〜10の整数である。
R9はそれぞれ独立して、H、C1−10アルキル基、C1−10アルコキシ基、C2−10アルケニル基、またはC6−14アリール基であり、
R10及びR11はそれぞれ独立して、飽和または不飽和C6脂肪族環、またはベンゼン環であり、
nは1〜10の整数であり、
X、R1、R2、及びL1は式1において定義したものと同じである。
本発明の感光性樹脂組成物は、好ましくは、溶媒と一緒に上記成分を混合することによって、液体組成物として調製することができる。感光性樹脂組成物中の成分と相溶性であるが反応性ではない当技術分野で知られている任意の溶媒を使用することができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、カルボキシル、(メタ)アクリロイル、イソシアネート、アミノ、メルカプト、ビニル、エポキシ、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される反応性置換基を有するシランカップリング剤をさらに含み、必要に応じて基板に対する接着性を改善することができる。
以下、本発明を以下の実施例を参照して詳細に説明する。実施例は、その範囲を限定せずに、本発明をさらに説明することを意図している。
還流冷却器と撹拌機とを備えた500mL丸底フラスコに、モル比で51モル%のN−フェニルマレイミドと、4モル%のスチレンと、10モル%の4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルと、35モル%のメタクリル酸とを有する100gのモノマー混合物、及び溶媒として300gのPGMEA、ならびにラジカル重合開始剤として2gの2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を加えた。次いで、反応温度を70℃に上昇させて、その反応混合物を5時間撹拌して、31重量%の固形分を有するコポリマーを得た。このようにして調製されたコポリマーは、100mgKOH/gの酸価、及びゲル透過クロマトグラフィーによって測定された20,000のポリスチレン基準の重量平均分子量(Mw)を有していた。
3000mLの3つ口丸底フラスコに、トルエン200g、4,4′−(9−フルオレニリデン)ジフェノール125.4g、及びエピクロロヒドリン78.6gを加え、撹拌しながら40℃に加熱して溶液を得た。0.1386gのt−ブチルアンモニウムブロミド及び50%NaOH水溶液(3当量)を容器中で混合し、その混合物を、得られた溶液にゆっくりと撹拌しながら添加した。
工程(1)で得られた化合物115g、テトラメチルアンモニウムクロリド50mg、2,6−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−メチルフェノール50mg、及びアクリル酸35gを1,000mLの3つ口フラスコに入れた。その混合物を、空気を25mL/分の流量で空気を吹き込みながら90〜100℃まで加熱し、さらに120℃まで加熱して溶液を得た。得られた溶液を、その酸価が1.0mgKOH/g未満に低下するまで約12時間撹拌し、次いで、室温まで冷却した。その反応混合物にジクロロメタン300mL及び蒸留水300mLを撹拌しながら添加した。次いで、有機層を分離し、300mLの蒸留水で2または3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、そして減圧蒸留してジクロロメタンを除去し、それにより標記化合物を提供した。
PGMEA中の工程(2)で得られた化合物を1,000mLの3つ口フラスコに入れ、そこに1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物(0.75当量)、1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物(0.5当量)、及びトリフェニルホスフィン(0.01当量)をさらに添加した。その反応混合物を撹拌しながら120〜130℃に2時間加熱し、次いで80〜90℃に冷却し、続いて6時間撹拌した。室温まで冷却後、重量平均分子量(Mw)6,000及び酸価107mgKOH/g(固形分を基準として)を有するポリマーの溶液(固形分49重量%)を得た。
上記の調製例1で得られた8gのコポリマー、8gのポリマー分散剤(DISPERBYK−2000、BYK Co.)、12gのカーボンブラック、有機ブラックとして53gのラクタムブラック(Black 582、BASF Co.)、16gのC.I.Pigment Blue 15:6、及び溶剤として384gのPGMEAを、ペイントシェーカーを用いて室温で6時間分散させた。この分散工程は0.3mmジルコニアビーズを用いて行った。分散工程が完了したら、ビーズをフィルターを用いて分散液から分離し、それにより23重量%の固形分を有する着色分散を生成させた。
調製例1で得られたコポリマー7.7g、カルド骨格構造を有するエポキシ樹脂化合物から誘導され、調製例2で得られた化合物7.5g、重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、Nippon Kayaku Co.)4.3g、オキシム光開始剤(N−1919、ADEKA Co.)0.22g、及び光重合開始剤としてトリアジン光開始剤(T−Y、PHARMASYNTEHSE Co.)0.19g、界面活性剤(BYK−307、BYK Co.)0.009g、及び調製例3で調製された着色分散36.0gを、PGMEA溶媒44g中で混合し、続いて常法に従って5時間混合及び撹拌して感光性樹脂組成物を得た。
調製例4で得られた感光性樹脂組成物をガラス基板上にスピンコーターを用いてコーティングし、次いで80℃で150秒間プリベークして塗膜を形成した。このようにして得られた塗膜を、図1に示したカラムスペーサのためのマスクを用いて、露光強度40mJ/cm2及び露光ギャップ約200μmを有する365nmの波長の光で露光した(図3を参照されたい)。マスクは、第1のパターンとして円形(1)を有する。第1のパターンの光透過率は100%、第2のパターン(2)の光透過率は20%、第3のパターン(3)の光透過率は0%であった。第1のパターンの幅(直径)は14μmであり、第3のパターン(3)の幅(X)は2μmであった。
以下の表1に示すように、露光方法、カラムスペーサのためのマスクパターン形状、及びパターン幅を用いた以外は実施例1で説明したのと同じ手順を行うことによってブラックカラムスペーサを製造した。
第3のパターンを含まないマスクを用い、第3のパターンを第2のパターンに変更した以外は、実施例1で説明したのと同じ手順を行うことによってブラックカラムスペーサ(図4の(a)を参照されたい)を製造した(図4の(b)を参照されたい)。
実施例1〜10及び参考例1(図5を参照されたい)のブラックカラムスペーサを製造し、段差測定装置(SIS−2000、SNU Precision)及び走査型電子顕微鏡(SEM)(S−4300、Hitachi Co.)を用いてカラムスペーサ部分のテーパー角を測定した。テーパー角は、カラムスペーサ(A−B)の厚さを基準として、上側位置(カラムスペーサ(A−B)の厚さの90%に相当する部分)と下側位置(カラムスペーサ(A−B)の厚さの10%に相当する部分)とのテーパー角と定義した。カラムスペーサのテーパー角は、現像後及びベーク後に測定した。この場合、カラムスペーサ部分のテーパー角が高いほど、ブラックカラムスペーサのより高い解像度が達成されることが期待できる。
実施例1〜10及び参考例1(図5を参照されたい)のブラックカラムスペーサを製造し、段差測定装置(SIS−2000、SNU Precision)を用いて、カラムスペーサの厚さ(A)、ブラックマトリックス部分の厚さ(B)、及び遮光領域の厚さ(C)を測定した。この場合、ブラックマトリクス部分の厚さ(B)が2.0±0.5μmのレベルである場合、良好な遮光性が期待できる。
Claims (10)
- マトリクス部分と、前記マトリクス部分から突出したスペーサ部分とが一体的に形成されているカラムスペーサを調製する方法であって、前記方法が、パターンを有するマスクを用いて感光性樹脂組成物の塗膜に光を照射し、次いで現像を行うことを含み、
前記マスクが、(1)前記スペーサ部分を形成するための第1のパターンと、(2)前記マトリクス部分を形成するための第2のパターンであって、前記第1のパターンに隣接して配置されていて、かつ前記第1のパターンよりも低い光透過率を有する、第2のパターンと、(3)前記第1のパターンと前記第2のパターンとの境界に配置された第3のパターンであって、前記第2のパターンよりも低い光透過率を有する、第3のパターンと、を備え、
前記マスクの前記第3のパターンによって、前記マトリクス部分と、前記カラムスペーサの前記スペーサ部分との境界に、前記マトリクス部分から窪んだ谷が形成されている、方法。 - 前記第3のパターンの幅が前記第1のパターンの幅の14〜60%であり、前記第2のパターンの前記光透過率が前記第1のパターンの前記光透過率の15〜25%であり、前記第3のパターンの前記光透過率が前記第2のパターンの前記光透過率の0〜25%である、請求項1に記載の方法。
- 前記マスクの全領域において、前記第1のパターンが少なくとも1つの閉領域を形成し、前記第3のパターンが前記第1のパターンの前記閉領域を囲む境界領域を形成し、前記第2のパターンが前記第1のパターン及び前記第3のパターン以外の残りの領域を形成する、請求項1に記載の方法。
- 前記感光性樹脂組成物が、(a)コポリマー、(b)重合性化合物、(c)光重合開始剤、及び(d)着色剤を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記感光性樹脂組成物が、エポキシ樹脂化合物またはそれから誘導された化合物をさらに含む、請求項4に記載の方法。
- 前記エポキシ樹脂化合物が、カルド骨格構造を有する、請求項5に記載の方法。
- 前記感光性樹脂組成物が、着色剤として、前記感光性樹脂組成物の固形分の総重量を基準として0〜20重量%の黒色無機着色剤、10〜40重量%の黒色有機着色剤、及び0〜15重量%の青色着色剤を含む、請求項4に記載の方法。
- カラムスペーサのためのマスクであって、
(a)第1のパターンと、
(b)前記第1のパターンに隣接して配置されていて、前記第1のパターンよりも低い光透過率を有する、第2のパターンと、
(c)前記第1のパターンと前記第2のパターンとの境界に配置されていて、前記第2のパターンよりも低い光透過率を有する、第3のパターンと、を含む、マスク。 - 前記第3のパターンの幅が前記第1のパターンの幅の14〜60%であり、前記第2のパターンの前記光透過率が前記第1のパターンの前記光透過率の15〜25%であり、前記第3のパターンの前記光透過率が前記第2のパターンの前記光透過率の0〜25%である、請求項8に記載のマスク。
- 前記マスクの全領域において、前記第1のパターンが少なくとも1つの閉領域を形成し、前記第3のパターンが前記第1のパターンの閉領域を囲む境界領域を形成し、前記第2のパターンが前記第1のパターン及び前記第3のパターン以外の残りの領域を形成する、請求項8に記載のマスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021178015A JP2022028693A (ja) | 2015-11-19 | 2021-10-29 | カラムスペーサを調製するための方法 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20150162300 | 2015-11-19 | ||
KR10-2015-0162300 | 2015-11-19 | ||
KR1020160121859A KR101755318B1 (ko) | 2015-11-19 | 2016-09-23 | 컬럼 스페이서의 제조방법 |
KR10-2016-0121859 | 2016-09-23 | ||
PCT/KR2016/010851 WO2017086590A1 (en) | 2015-11-19 | 2016-09-28 | Method for preparing column spacer |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021178015A Division JP2022028693A (ja) | 2015-11-19 | 2021-10-29 | カラムスペーサを調製するための方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019504332A true JP2019504332A (ja) | 2019-02-14 |
Family
ID=59053655
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018520416A Pending JP2019504332A (ja) | 2015-11-19 | 2016-09-28 | カラムスペーサを調製するための方法 |
JP2021178015A Pending JP2022028693A (ja) | 2015-11-19 | 2021-10-29 | カラムスペーサを調製するための方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021178015A Pending JP2022028693A (ja) | 2015-11-19 | 2021-10-29 | カラムスペーサを調製するための方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10859907B2 (ja) |
JP (2) | JP2019504332A (ja) |
KR (1) | KR101755318B1 (ja) |
CN (2) | CN108351560A (ja) |
TW (1) | TWI720043B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106094427B (zh) * | 2016-08-17 | 2021-01-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种隔垫物的制备方法 |
CN206523720U (zh) * | 2017-03-14 | 2017-09-26 | 北京京东方显示技术有限公司 | 一种基板、显示面板、显示装置 |
KR102166474B1 (ko) * | 2017-06-30 | 2020-10-16 | 주식회사 엘지화학 | 기판 |
TWI690751B (zh) * | 2017-07-27 | 2020-04-11 | 南韓商Lg化學股份有限公司 | 基板、生產基板的方法及光學裝置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008026668A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 階調マスク |
US20140175343A1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Cheil Industries Inc. | Photosensitive Resin Composition and Light Blocking Layer Using the Same |
JP2014146029A (ja) * | 2013-01-25 | 2014-08-14 | Rohm & Haas Electronic Materials Korea Ltd | カラムスペーサーとブラックマトリックスの両方に適した着色感光性樹脂組成物 |
JP2014157349A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-08-28 | Samsung Display Co Ltd | 表示基板、それを製造するためのマスク、及び表示基板の製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003177506A (ja) | 2001-12-13 | 2003-06-27 | Sony Corp | フォトリソグラフィ用マスク、薄膜形成方法、並びに液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
JP3746497B2 (ja) * | 2003-06-24 | 2006-02-15 | 松下電器産業株式会社 | フォトマスク |
KR101204347B1 (ko) | 2005-10-14 | 2012-11-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정표시장치의 제조방법 |
KR100787715B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2007-12-21 | 제일모직주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙매트릭스 |
JP4745093B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2011-08-10 | 東京応化工業株式会社 | 黒色感光性組成物 |
JP4848932B2 (ja) | 2006-11-13 | 2011-12-28 | 大日本印刷株式会社 | プロキシミティ露光用階調マスク |
JP5315646B2 (ja) | 2007-08-30 | 2013-10-16 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
US9217070B2 (en) * | 2012-06-01 | 2015-12-22 | Basf Se | Black colorant mixture |
JP5916680B2 (ja) | 2012-10-25 | 2016-05-11 | Hoya株式会社 | 表示装置製造用フォトマスク、及びパターン転写方法 |
-
2016
- 2016-09-23 KR KR1020160121859A patent/KR101755318B1/ko active IP Right Grant
- 2016-09-28 JP JP2018520416A patent/JP2019504332A/ja active Pending
- 2016-09-28 CN CN201680061943.2A patent/CN108351560A/zh active Pending
- 2016-09-28 US US15/774,426 patent/US10859907B2/en active Active
- 2016-09-28 CN CN202111464482.2A patent/CN114114761A/zh not_active Withdrawn
- 2016-10-26 TW TW105134613A patent/TWI720043B/zh active
-
2021
- 2021-10-29 JP JP2021178015A patent/JP2022028693A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008026668A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 階調マスク |
US20140175343A1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Cheil Industries Inc. | Photosensitive Resin Composition and Light Blocking Layer Using the Same |
JP2014146029A (ja) * | 2013-01-25 | 2014-08-14 | Rohm & Haas Electronic Materials Korea Ltd | カラムスペーサーとブラックマトリックスの両方に適した着色感光性樹脂組成物 |
JP2014157349A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-08-28 | Samsung Display Co Ltd | 表示基板、それを製造するためのマスク、及び表示基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108351560A (zh) | 2018-07-31 |
US20180321535A1 (en) | 2018-11-08 |
TWI720043B (zh) | 2021-03-01 |
JP2022028693A (ja) | 2022-02-16 |
KR101755318B1 (ko) | 2017-07-10 |
TW201719253A (zh) | 2017-06-01 |
KR20170058845A (ko) | 2017-05-29 |
CN114114761A (zh) | 2022-03-01 |
US10859907B2 (en) | 2020-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2020144396A (ja) | カラムスペーサーとブラックマトリックスの両方に適した着色感光性樹脂組成物 | |
JP2022028693A (ja) | カラムスペーサを調製するための方法 | |
JP2023093544A (ja) | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ | |
JP7240807B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ | |
KR102437844B1 (ko) | 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 | |
JP7079198B2 (ja) | 黒色感光性樹脂組成物及びそれから調製される黒色カラムスペーサ | |
JP6917364B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ | |
JP2019003180A (ja) | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ | |
TWI751966B (zh) | 著色感光性樹脂組成物以及由其製備之遮光隔片 | |
US10747109B2 (en) | Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom | |
KR102565582B1 (ko) | 착색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 차광성 스페이서 | |
US10747110B2 (en) | Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20180501 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20180724 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190924 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200828 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200904 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20201130 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210129 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20210702 |