JP2019215410A - 液晶表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 より信頼性の高い液晶表示装置を提供する。【解決手段】 液晶表示装置は、第1及び第2基板11、12と、第1及び第2基板11、12間に挟持された液晶層13と、液晶層13を囲み、第1及び第2基板11、12間に液晶層13を封止する第1シール材21と、間隔を空けて第1シール材21を囲む第2シール材22とを含む。【選択図】 図1

Description

本発明は、液晶表示装置に関する。
液晶表示装置は、時計や電卓などの通常の生活仕様に用いられるだけでなく、高い信頼性が要求される車載用にも応用されている。車載用の液晶表示装置は、使用環境の条件が厳しいため、製品出荷前の信頼性試験も厳しい条件で行うことが必要である。信頼性試験には、環境試験が含まれる。
典型的な液晶表示装置では、高温高湿環境で長時間維持する環境試験を行った場合、水分が液晶表示装置のシール材を透過し、液晶層内に水分が侵入する。この水分により液晶層の比抵抗が下がった結果、静電容量の保持率が低下した領域が発生する。これにより、液晶表示装置に表示不良が発生してしまう。
特許第4302381号公報 特開2005−156752号公報
本発明は、より信頼性の高い液晶表示装置を提供する。
本発明の一態様に係る液晶表示装置は、第1及び第2基板と、前記第1及び第2基板間に挟持された第1液晶層と、前記第1液晶層を囲み、前記第1及び第2基板間に前記第1液晶層を封止する第1シール材と、間隔を空けて前記第1シール材を囲む第2シール材とを具備する。
本発明によれば、より信頼性の高い液晶表示装置を提供することができる。
第1実施形態に係る液晶表示装置の平面図。 図1のA−A´線に沿った液晶表示装置の断面図。 液晶表示装置の具体的な断面構造を説明する図。 比較例に係る液晶表示装置の平面図。 第2実施形態に係る液晶表示装置の平面図。 第3実施形態に係る液晶表示装置の平面図。 第4実施形態に係る液晶表示装置の平面図。 図7のB−B´線に沿った液晶表示装置の断面図。 第5実施形態に係る液晶表示装置の平面図。 図9のA−A´線に沿った液晶表示装置の断面図。 第6実施形態に係る液晶表示装置の平面図。 図11のA−A´線に沿った液晶表示装置の断面図。 第7実施形態に係る液晶表示装置の平面図。 図13のA−A´線に沿った液晶表示装置の断面図。
以下、実施形態について図面を参照して説明する。ただし、図面は模式的または概念的なものであり、各図面の寸法および比率等は必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、図面の相互間で同じ部分を表す場合においても、互いの寸法の関係や比率が異なって表される場合もある。特に、以下に示す幾つかの実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための装置および方法を例示したものであって、構成部品の形状、構造、配置等によって、本発明の技術思想が特定されるものではない。なお、以下の説明において、同一の機能及び構成を有する要素については同一符号を付し、重複説明は必要な場合にのみ行う。
[1] 第1実施形態
[1−1] 液晶表示装置10の構成
図1は、第1実施形態に係る液晶表示装置10の平面図である。図2は、図1のA−A´線に沿った液晶表示装置10の断面図である。なお、図1の平面図では、構成の理解が容易になるように、シール材及び封止材を実線で示し、液晶層をドットハッチングで示している。図1以外の平面図についても同様である。
液晶表示装置10は、TFT及び画素電極等が形成されるTFT基板11と、カラーフィルター及び共通電極等が形成されかつTFT基板11に対向配置されるカラーフィルター基板(CF基板)12とを備える。TFT基板11及びCF基板12の各々は、透明基板(例えば、ガラス基板、又はプラスチック基板)から構成される。
液晶層13は、TFT基板11及びCF基板12間に充填される。具体的には、液晶層13は、TFT基板11及びCF基板12と、シール材21、22とによって包囲された領域内に封入される。シール材21、22の具体的な構成については後述する。
液晶層13を構成する液晶材料は、TFT基板11及びCF基板12間に印加された電界に応じて液晶分子の配向が操作されて光学特性が変化する。液晶モードとしては、VA(Vertical Alignment)モード、TN(Twisted Nematic)モード、及びホモジニアスモードなど種々の液晶モードを適用することができる。
TFT基板11の液晶層13側には、複数の画素に対応する数の複数のスイッチング素子(図示せず)が設けられる。複数の画素は、マトリクス状に配置される。スイッチング素子の構成については後述する。複数のスイッチング素子上には、絶縁層15が設けられる。
絶縁層15上には、複数の画素に対応する数の複数の画素電極16が設けられる。1個の画素電極16は、1個の画素領域の概略全体に設けられる。
CF基板12の液晶層13側には、カラーフィルター(図示せず)が設けられる。カラーフィルターの構成については後述する。
カラーフィルター上には、共通電極20が設けられる。共通電極20は、液晶表示装置10の表示領域全体に平面状に形成される。
(液晶表示装置10の具体的な断面構造)
図3は、液晶表示装置10の具体的な断面構造を説明する図である。図3は、シール材21、22より内側の表示領域の一部を抽出した断面図であり、また、X方向に沿った断面図である。
TFT基板11の液晶層13側には、複数の画素に対応する数の複数のスイッチング素子14が設けられる。スイッチング素子14としては、例えばTFT(Thin Film Transistor)が用いられ、またnチャネルTFTが用いられる。図3には、TFT14を簡略化して示している。具体的には、TFT14は、走査線として機能するゲート電極と、ゲート電極上に設けられたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に設けられた半導体層(例えばアモルファスシリコン層)と、半導体層に部分的に接しかつ互いに離間して設けられたソース電極及びドレイン電極とを備える。ソース電極は、信号線(図示せず)に電気的に接続される。
絶縁層15内かつTFT14のドレイン電極上には、画素電極16に電気的に接続されたコンタクトプラグ(コンタクトホール)17が設けられる。
絶縁層15上かつ複数の画素電極16上には、液晶層13の初期配向を制御する配向膜(図示せず)が設けられる。
CF基板12の液晶層13側には、カラーフィルター18が設けられる。カラーフィルター18は、複数の着色フィルター(着色部材)を備え、具体的には、複数の赤フィルター18−R、複数の緑フィルター18−G、及び複数の青フィルター18−Bを備える。一般的なカラーフィルターは光の三原色である赤(R)、緑(G)、青(B)で構成される。隣接したR、G、Bの三色のセットが表示の単位(画素)となっており、1つの画素中のR、G、Bのいずれか単色の部分はサブピクセル(サブ画素)と呼ばれる最小駆動単位である。TFT14及び画素電極16は、サブ画素ごとに設けられる。本明細書では、画素とサブ画素との区別が特に必要な場合を除き、サブ画素を画素と呼ぶものとする。
赤フィルター18−R、緑フィルター18−G、及び青フィルター18−Bの境界部分、及び画素(サブ画素)の境界部分には、遮光用のブラックマトリクス(遮光層)19が設けられる。すなわち、ブラックマトリクス19は、網目状に形成される。ブラックマトリクス19は、例えば、着色部材間の不要な光を遮蔽し、コントラストを向上させる機能を有する。
共通電極20上には、液晶層13の初期配向を制御する配向膜(図示せず)が設けられる。
画素電極16、コンタクトプラグ17、及び共通電極20は、透明電極から構成され、例えばITO(インジウム錫酸化物)が用いられる。絶縁層15としては、透明な絶縁材料が用いられ、例えば、シリコン窒化物(SiN)が用いられる。
[1−2] シール材21、22の具体的な構成
図1及び図2を参照して、前述したシール材21、22の具体的な構成について説明する。
シール材21は、絶縁層15とCF基板12とに接するように設けられる。シール材21は、例えば枠状かつ四角形を有する。すなわち、シール材21は、X方向に延びる2つの辺と、X方向に直交するY方向に延びる2つの辺とを含む。シール材21の内側の領域が、画像を表示可能な表示領域となる。
シール材22は、絶縁層15とCF基板12とに接するように設けられる。シール材22は、例えば枠状かつ四角形を有する。シール材22は、シール材21を囲むように構成される。シール材22は、シール材21と間隔を空けて、シール材21の外側に配置される。
シール材21とシール材22との間には、液晶層23が設けられる。液晶層23は、例えば液晶層13と同じ材料である。
シール材21は、例えば図1の上側の辺(X方向に延びる辺)の中央部に、液晶を注入するための注入口(開口部)を有する。シール材21の注入口は、四角形のシール材の一部からY方向に延びる2本のシール材21A、21Bで構成される。シール材21A、21Bは、TFT基板11の端部まで延びる。
シール材22は、例えば図1の上側の辺(X方向に延びる辺)の中央部に、液晶を注入するための注入口を有する。シール材22の注入口は、四角形のシール材の一部からY方向に延びる2本のシール材22A、22Bで構成される。シール材22A、22Bは、TFT基板11の端部まで延びる。
シール材21、22は、例えば印刷で形成される。シール材は、例えば、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、又は紫外線・熱併用型硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてTFT基板11及び/又はCF基板12に印刷された後、紫外線照射、又は加熱等により硬化させられる。
封止材24は、シール材21の注入口、及びシール材22の注入口を封止する。封止材24は、例えば紫外線硬化樹脂で構成される。封止材24は、TFT基板11及びCF基板12間に液晶が注入された後、シール材21の注入口、及びシール材22の注入口を埋めるように塗布される。その後、封止材24は、紫外線照射より硬化させられる。
液晶の注入方式としては、例えば真空注入方式を用いることが可能である。真空注入方式では、シール材21、22の注入口から液晶が注入される。
このように構成された液晶表示装置10では、外部から液晶層13内に水分が侵入するのを抑制することができる。
[1−3] 変形例
外側のシール材22は、よりバリア性が高い材料で構成してもよい。シール材22は、無機材料を含むシール材で構成される。無機材料としては、水分を透過しない材料が選択される。内側のシール材21は、例えば樹脂で構成される。
変形例では、シール材22のバリア性をより高くすることができる。これにより、液晶層13水分が侵入するのをより抑制できる。
[1−4] 比較例
図4は、比較例に係る液晶表示装置の平面図である。
液晶層13は、一層のシール材22によって、TFT基板11及びCF基板12間に封入される。シール材22の注入口は、封止材24で封止される。
液晶表示装置は、例えば、使用環境が過酷な車両などに搭載される場合がある。車載用の液晶表示装置には、高い信頼性が要求される。このため、より厳しい条件で信頼性試験(環境試験)が行われる。
環境試験の一例として、高温高湿環境(例えば、85度、85%RH(relative humidity))を2000hr(時間)維持する試験を実施するものとする。
比較例に係る液晶表示装置では、図4に示すように、数100hr経過した時点で、表示領域の一部(特に、シール材22の近くでシール材22の4隅)に、静電容量の保持率が低下した領域ができてしまう。これは、高温高湿環境下における水分がシール材22を透過して液晶層13に侵入し、この水分に起因して液晶の比抵抗が低下した結果、静電容量の保持率が低下するためである。
静電容量の保持率が低下した領域は、液晶層に印加される電界が低くなり、液晶層の配向を制御することが困難になる。この結果、比較例に係る液晶表示装置では、正常な表示動作を実現することができない。
これに対して、本実施形態に係る液晶表示装置10は、液晶層13に外部から水分が侵入しにくい構造を有する。例えば、シール材22を透過した水分は、液晶層23に吸収されるため、シール材21を介して液晶層13に水分が侵入するのを抑制できる。
[1−5] 第1実施形態の効果
以上詳述したように第1実施形態では、液晶表示装置10は、TFT基板11及びCF基板12間に挟持された液晶層13と、液晶層13を囲み、TFT基板11及びCF基板12間に液晶層13を封止するシール材21と、間隔を空けてシール材21を囲むシール材22と、シール材21、22間に設けられた液晶層23とを備える。
例えば液晶表示装置10に環境試験が実施された場合、外側のシール材22を透過した水分は、液晶層23に吸収され、かつシール材22でブロックされる。これにより、液晶層13に水分が侵入するのを抑制できる。第1実施形態によれば、液晶表示装置10が不良になるのを抑制でき、より信頼性の高い液晶表示装置10を実現できる。本実施形態に係る液晶表示装置10は、車載用など高い信頼性が要求される用途に特に有効である。
また、シール材21の注入口と、シール材22の注入口とを同じ位置に配置するようにしている。これにより、液晶層13、23の注入工程を一緒に行うことができる。また、1つの封止材24を用いて、2つの液晶層13、23を封止することができる。この結果、製造工程が増えるのを抑制できる。
[2] 第2実施形態
図5は、第2実施形態に係る液晶表示装置10の平面図である。
シール材21は、図5の下側の辺(X方向に延びる辺)の中央部に開口部21Cを有する。第1実施形態と異なり、シール材21は、図5の上側の辺(X方向に延びる辺)の中央部に注入口が設けられていない。
シール材22は、図5の上側の辺(X方向に延びる辺)の中央部に注入口を有する。液晶は、シール材22の注入口からTFT基板11及びCF基板12間に注入される。シール材22の内側に注入された液晶はさらに、シール材21の開口部21Cを通ってシール材21の内側に注入される。封止材24は、シール材22の注入口を封止する。
水分は、封止材24の付近から多く侵入する場合がある。第2実施形態では、シール材21の開口部21Cがシール材22の注入口から多い位置に配置されているため、封止材24の付近から液晶層23に侵入した水分が、シール材21の内側に侵入するのを抑制できる。
[3] 第3実施形態
図6は、第3実施形態に係る液晶表示装置10の平面図である。
第3実施形態では、液晶表示装置10は、第1実施形態で示した、液晶を封止するための封止材24を備えていない。
シール材21は、例えば枠状かつ四角形を有する。シール材21は、液晶を注入するための注入口を有していない。シール材22は、例えば枠状かつ四角形を有する。シール材22は、液晶を注入するための注入口を有していない。シール材21とシール材22との間には、液晶層23が設けられる。
第3実施形態は、液晶の注入方式として、ODF(one drop fill)方式が用いられる。ODF方式の場合、液晶の注入口は不要である。ODF方式では、1つ又は2つの基板にシール材が印刷された後、シール材で囲まれた領域に液晶が満たされる。その後、2つの基板が貼り合わされる。
第3実施形態では、封止材が無いため、封止材付近から水分が侵入するのを防ぐことができる。
[4] 第4実施形態
図7は、第4実施形態に係る液晶表示装置10の平面図である。図8は、図7のB−B´線に沿った液晶表示装置10の断面図である。
シール材21は、例えば図1の右側の辺(Y方向に延びる辺)の中央部に、液晶を注入するための注入口を有する。シール材21の注入口は、四角形のシール材の一部からX方向に延びる2本のシール材21A、21Bで構成される。シール材21A、21Bは、TFT基板11の端部まで延びる。
シール材22は、例えば図1の上側の辺(X方向に延びる辺)の中央部に、物質を注入するための注入口を有する。シール材22の注入口は、シール材22の上側の辺の中央部からY方向に延びる2本のシール材22A、22Bで構成される。シール材22A、22Bは、TFT基板11の端部まで延びる。シール材22の右側の辺は、シール材21A、21Bによって分断され、シール材22の分断された部分は、シール材21A、21Bに接する。
シール材21とシール材22との間には、液晶層13と異なる物質からなり、かつ吸水性を有する充填層(吸収材)26が設けられる。充填層26は、シール材22を透過した水分を吸収する機能を有する。充填層26として、個体では、シリカゲル、ポリマーでは、ポリビニルアルコール、又はポリエチレングリコールなどが挙げられる。
液晶層13は、シール材21の注入口から注入される。充填層26は、シール材22の注入口から注入される。
封止材25は、シール材21の注入口を封止する。封止材24は、シール材22の注入口を封止する。封止材24、25は、例えば紫外線硬化樹脂で構成される。
第4実施形態では、シール材22を透過した水分は、充填層26によって吸収される。これにより、液晶層13に水分が侵入するのを抑制できる。
[5] 第5実施形態
図9は、第5実施形態に係る液晶表示装置10の平面図である。図10は、図9のA−A´線に沿った液晶表示装置10の断面図である。
シール材21、22の形状は、第3実施形態と同じである。
シール材21とシール材22との間には、空気層27が設けられる。すなわち、シール材21とシール材22との間には、何の物質も注入されていない。
外側のシール材22は、よりバリア性が高い材料で構成され、例えば、無機材料を含むシール材で構成される。内側のシール材21は、例えば樹脂で構成される。
第5実施形態は、液晶の注入方式として、ODF方式が用いられる。第5実施形態においても、液晶層13に水分が侵入するのを抑制できる。
[6] 第6実施形態
図11は、第6実施形態に係る液晶表示装置10の平面図である。図12は、図11のA−A´線に沿った液晶表示装置10の断面図である。
液晶表示装置10は、3層のシール材21、22、28を備える。
シール材28は、絶縁層15とCF基板12とに接するように設けられる。シール材28は、例えば枠状かつ四角形を有する。シール材28は、シール材22を囲むように構成される。シール材28は、シール材22と間隔を空けて、シール材22の外側に配置される。シール材22とシール材28との間には、液晶層29が設けられる。
シール材28は、シール材21、22の注入口と同じ位置に、液晶を注入するための注入口を有する。すなわち、シール材28の注入口は、シール材28の上側の辺の中央部からY方向に延びる2本のシール材28A、28Bで構成される。シール材28A、28Bは、TFT基板11の端部まで延びる。
第6実施形態によれば、液晶表示装置10は、3層のシール材21、22、28、及び2層の液晶層23、29を備えているので、液晶層13に水分が侵入するのをより抑制できる。
[7] 第7実施形態
図13は、第7実施形態に係る液晶表示装置10の平面図である。図14は、図13のA−A´線に沿った液晶表示装置10の断面図である。
液晶表示装置10は、3層のシール材21、22、28を備える。
シール材21とシール材22との間には、空気層27が設けられる。すなわち、シール材21とシール材22との間には、何の物質も注入されていない。
シール材21、28は、同じ位置(例えば図1の上側の辺の中央部)に、液晶を注入するための注入口を有する。
シール材22の上側の辺は、シール材21A、21Bによって分断され、シール材22の分断された部分は、シール材21A、21Bに接する。
第7実施形態においても、液晶層13に水分が侵入するのを抑制できる。
なお、上記第1乃至第7実施形態は、適宜組み合わせることが可能である。例えば、第1乃至第7実施形態の複数のシール材のうち1つ又は2つ以上に、無機材料を有するシール材を適用してもよい。また、第1乃至第7実施形態の液晶層に、吸水性を有する充填層を適用してもよい。
また、液晶表示装置の種類については限定されず、様々な種類の液晶表示装置に適用可能である。例えば、液晶表示装置は、単純マトリクス型であってもよい。この場合、シール材は、対向する2つの基板に接触するように構成される。
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で、構成要素を変形して具体化することが可能である。さらに、上記実施形態には種々の段階の発明が含まれており、1つの実施形態に開示される複数の構成要素の適宜な組み合わせ、若しくは異なる実施形態に開示される構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を構成することができる。例えば、実施形態に開示される全構成要素から幾つかの構成要素が削除されても、発明が解決しようとする課題が解決でき、発明の効果が得られる場合には、これらの構成要素が削除された実施形態が発明として抽出されうる。
10…液晶表示装置、11…TFT基板、12…CF基板、13…液晶層、14…スイッチング素子、15…絶縁層、16…画素電極、17…コンタクトプラグ、18…カラーフィルター、19…ブラックマトリクス、20…共通電極、21,22,28…シール材、23,29…液晶層、24,25…封止材、26…充填層、27…空気層

Claims (10)

  1. 第1及び第2基板と、
    前記第1及び第2基板間に挟持された第1液晶層と、
    前記第1液晶層を囲み、前記第1及び第2基板間に前記第1液晶層を封止する第1シール材と、
    間隔を空けて前記第1シール材を囲む第2シール材と
    を具備する液晶表示装置。
  2. 前記第1及び第2シール材間に設けられた第2液晶層をさらに具備する
    請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記第1シール材は、第1開口部を有し、
    前記第1液晶層と前記第2液晶層とは、前記第1開口部を通して連続している
    請求項2に記載の液晶表示装置。
  4. 前記第2シール材は、液晶を注入するための第2開口部を有し、
    前記第1開口部は、前記第1シール材のうち前記第2開口部から遠い辺に配置される
    請求項3に記載の液晶表示装置。
  5. 前記第1シール材は、前記第1液晶層を注入するための第1開口部を有し、
    前記第2シール材は、前記第2液晶層を注入するための第2開口部を有し、
    前記第1開口部と前記第2開口部は、同じ位置に配置される
    請求項3に記載の液晶表示装置。
  6. 前記第2シール材は、無機材料を含む
    請求項1乃至5のいずれかに記載の液晶表示装置。
  7. 前記第1及び第2シール材間に設けられ、前記第1液晶層と異なる材料からなる充填層をさらに具備する
    請求項1に記載の液晶表示装置。
  8. 前記第1シール材は、前記第1液晶層を注入するための第1開口部を有し、
    前記第2シール材は、前記充填層を注入するための第2開口部を有し、
    前記第1開口部と前記第2開口部とは、異なる位置に配置される
    請求項7に記載の液晶表示装置。
  9. 間隔を空けて前記第2シール材を囲む第3シール材をさらに具備する
    請求項1に記載の液晶表示装置。
  10. 前記第1及び第2シール材間に設けられた第2液晶層と、
    前記第2及び第3シール材間に設けられた第3液晶層と
    をさらに具備する
    請求項9に記載の液晶表示装置。
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