JP6498016B2 - 液晶パネルおよび液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、特定の領域の光の透過率が調整された液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。

昼間の屋外のような明るい環境で液晶表示装置を使用する際、当該液晶表示装置が表示する映像の視認性は悪い。そこで、上記の明るい環境における、液晶表示装置が表示する映像の視認性の向上が求められる。

特許文献１では、映像の視認性を向上させるために、各画素を構成する開口領域の光の透過率を向上させる技術（以下、「関連技術Ａ」ともいう）が開示されている。具体的には、関連技術Ａでは、ブラックマトリクスが酸化コバルト粒子を含むように構成される。これにより、液晶層に印加される電界パターンを調整することにより、開口領域の光の透過率を向上させている。

なお、映像の視認性を向上させるためには、バックライトが出射する光の輝度を大きくする構成、映像を表示するために使用される光の利用効率を向上させる構成等も考えられる。

一般に、液晶表示装置に含まれる液晶パネルでは、映像が表示される表示領域の周辺に設けられる周辺領域にも液晶層は存在する。なお、周辺領域の液晶層に対しても電界が印加されるため、周辺領域から意図しない光が生じるという光抜けが発生するという問題がある。

特許文献２では、上記の光抜けの対策として、表示領域の外周部（周辺領域）に、光学濃度（ＯＤ値）が大きいブラックマトリクスを設ける技術（以下、「関連技術Ｂ」ともいう）が開示されている。

特開平０９−０４３５９０号公報（段落００５６） 特開平１０−１７０９５８号公報

液晶パネルにおいて、表示領域の周辺に設けられる周辺領域には、電界を発生させる配線が設けられている領域（以下、「配線領域」ともいう）が存在する。当該配線は、表示領域に信号を供給するための配線である。当該配線は、例えば、接続配線（信号引き出し配線）、検査回路の配線等である。配線領域は、当該配線により電界が発生し、液晶層に電界が印加される領域であるため、周辺領域の他の領域よりも光抜けが発生しやすい。そのため、表示領域に設けられたブラックマトリクスの光の透過率（遮光度）を維持しつつ、配線領域を有する周辺領域の光の透過率を低くすることが求められる。

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、表示領域に設けられたブラックマトリクスの光の透過率を維持しつつ、配線領域を有する周辺領域の光の透過率を低くした液晶パネル等を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る液晶パネルは、透光性を有する第１基板と、透光性を有し、前記第１基板と対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられる液晶層と、を備え、前記第２基板は、平面視において、映像を表示するための表示領域と、平面視において、前記表示領域の周辺に設けられる周辺領域とを有し、平面視において、前記周辺領域は配線領域を有し、前記配線領域には、前記液晶層において電界を発生させる配線が設けられ、前記第２基板のうち前記液晶層に接する面側には、樹脂で構成されたブラックマトリクスが設けられ、前記ブラックマトリクスは、前記第２基板が有する前記表示領域において画素を形成するように、当該表示領域の一部に設けられ、前記ブラックマトリクスは、さらに、前記第２基板が有する前記周辺領域の一部または全てに設けられ、前記周辺領域のうち前記ブラックマトリクスが設けられた領域である第１領域の光の透過率は、前記表示領域に設けられた前記ブラックマトリクスの光の透過率より小さく、前記周辺領域の前記第１領域に設けられた前記ブラックマトリクス上には位相差膜が設けられ、前記位相差膜は、前記周辺領域の前記第１領域の光の透過率が、前記表示領域に設けられた前記ブラックマトリクスの光の透過率より小さくなるように、当該位相差膜を通過する光の位相を変化させるように構成される。

本発明によれば、第２基板は、表示領域と周辺領域とを有する。平面視において、前記周辺領域は液晶層において電界を発生させる配線が設けられる配線領域を有する。前記周辺領域のうち前記ブラックマトリクスが設けられた領域である第１領域の光の透過率は、前記表示領域に設けられた前記ブラックマトリクスの光の透過率より小さい。

これにより、表示領域に設けられたブラックマトリクスの光の透過率を維持しつつ、配線領域を有する周辺領域の光の透過率を低くした液晶パネルを提供することが実現できる。

本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置に含まれる液晶パネルの構成を示す平面図である。 本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置に含まれる液晶パネルの断面図である。 画素部を説明するための図である。 本発明の実施の形態１に係る液晶パネルの構成を示す平面図である。 本発明の実施の形態１に係る液晶パネルの断面図である。 ブラックマトリクスおよび色材の厚みを説明するための図である。 リタデーションと透過率との関係を示す図である。 本発明の実施の形態１の変形構成Ｘ１ａに係る液晶パネルの断面図である。 本発明の実施の形態２に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 本発明の実施の形態２の変形構成Ａ１に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 本発明の実施の形態２の変形構成Ａ２に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 本発明の実施の形態２の変形構成Ａｘに係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 本発明の実施の形態２の変形構成Ａ１ｘに係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 本発明の実施の形態２の変形構成Ａ２ｘに係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 本発明の実施の形態３に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 本発明の実施の形態４に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 本発明の実施の形態４の変形構成Ｃｘに係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 本発明の実施の形態５に係る液晶パネルの構成を示す平面図である。 本発明の実施の形態５に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 本発明の実施の形態６に係る液晶パネルの構成を示す平面図である。 本発明の実施の形態６に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。 液晶パネルの製造方法のフローチャートである。 比較例に係る液晶パネルの平面図である。 色材の一部がＢＭ開口側部上に設けられていない構成を示す図である。

以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。以下の説明では、同一の構成要素には同一の符号を付してある。それらの名称および機能も同じである。したがって、それらについての詳細な説明を省略する場合がある。

なお、実施の形態において例示される各構成要素の寸法、材質、形状、それらの相対配置などは、本発明が適用される装置の構成や各種条件により適宜変更されるものであり、本発明はそれらの例示に限定されるものではない。また、各図における各構成要素の寸法は、実際の寸法と異なる場合がある。

＜実施の形態１＞
（液晶表示装置（液晶パネル）の構成）
図１は、本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置５００に含まれる液晶パネル１００の構成を示す平面図である。なお、図１では、液晶表示装置５００に含まれる液晶パネル１００の構成のみを示している。

また、図１では、構成を分かり易くするために、一部の構成要素を、省略または簡略化して示している。例えば、図１では、構成を分かり易くするために、後述の基板１２０については、当該基板１２０の輪郭のみを示している。

図１において、Ｘ方向、Ｙ方向およびＺ方向の各々は、互いに直交する。以下の図に示されるＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向の各々も、互いに直交する。以下においては、Ｘ方向と、当該Ｘ方向の反対の方向（−Ｘ方向）とを含む方向を「Ｘ軸方向」ともいう。また、以下においては、Ｙ方向と、当該Ｙ方向の反対の方向（−Ｙ方向）とを含む方向を「Ｙ軸方向」ともいう。また、以下においては、Ｚ方向と、当該Ｚ方向の反対の方向（−Ｚ方向）とを含む方向を「Ｚ軸方向」ともいう。

また、以下においては、Ｘ軸方向およびＹ軸方向を含む平面を、「ＸＹ面」ともいう。また、以下においては、Ｘ軸方向およびＺ軸方向を含む平面を、「ＸＺ面」ともいう。また、以下においては、Ｙ軸方向およびＺ軸方向を含む平面を、「ＹＺ面」ともいう。

図２は、本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置５００に含まれる液晶パネル１００の断面図である。なお、図２では、液晶表示装置５００に含まれる液晶パネル１００の構成のみを示している。具体的には、図２は、図１のＡ１−Ａ２線に沿った、液晶パネル１００の断面図である。図２では、構成を分かり易くするために、一部の構成要素を、省略または簡略化して示している。

図１および図２を参照して、液晶表示装置５００は、液晶パネル１００と、後述のバックライトユニット（図示せず）等とを備える。なお、液晶表示装置５００は、バックライトユニット（図示せず）が出射する光を利用して液晶パネル１００の後述の表示領域Ｒ１０に映像を表示する。

液晶パネル１００は、一例として、ＴＮ（Twisted Nematic）モードの液晶パネルである。液晶パネル１００は、制御基板１３５ａ，１３５ｂと、接続ケーブル１３６ａ，１３６ｂと、基板１１０，１２０と、液晶層３０と、シール材ＳＬ１と、複数のスペーサＳＰ１とを備える。

制御基板１３５ａ，１３５ｂは、液晶パネル１００を制御するための回路等が実装された基板である。

基板１１０，１２０の各々は、透光性を有する。基板１１０は、液晶層３０を制御するための構成を有するアレイ基板である。基板１２０は、当該基板１２０を透過する光を、色光として出射するカラーフィルタ基板である。当該色光は、例えば、赤色光、緑色光、青色光等である。基板１２０は、基板１１０と対向する。ＸＹ平面における基板１１０のサイズは、ＸＹ平面における基板１２０のサイズより大きい。

基板１１０および基板１２０は、シール材ＳＬ１により、互いに貼り合わせられる。シール材ＳＬ１は、例えば、樹脂で構成される。平面視（ＸＹ面）における、シール材ＳＬ１の形状は、閉ループ状（枠状）である。なお、基板１１０と基板１２０との間隔は、複数のスペーサＳＰ１により、所定の間隔に設定されている。すなわち、各スペーサＳＰ１は、基板１１０と基板１２０との間隔を規定するための部材である。すなわち、各スペーサＳＰ１は、液晶層３０の厚さを規定するための部材である。なお、平面視（ＸＹ面）において、各スペーサＳＰ１は、後述の表示領域Ｒ１０に設けられる。各スペーサＳＰ１は、例えば、樹脂で構成される。スペーサＳＰ１の形状は、例えば、柱状である。なお、スペーサＳＰ１の形状は、球状であってもよい。

液晶層３０は、複数の液晶３１を含む。なお、図２では、構成を見易くするために、２つの液晶３１のみを示しているが、実際には、液晶層３０は、非常に多くの液晶３１を含む。基板１１０、基板１２０およびシール材ＳＬ１により形成される領域（空間）には、液晶層３０が封入される。すなわち、液晶層３０は、基板１１０と基板１２０との間に設けられる。

なお、液晶パネル１００は、滴下注入方式であるＯＤＦ（One Drop Filling）方式により製造される。当該滴下注入方式では、シール材ＳＬ１が設けられた、基板１１０および基板１２０のいずれか一方の表面に、液滴としての複数の液晶が配置される。その後、各液晶は、基板１１０および基板１２０により挟まれる。これにより、基板１１０、基板１２０およびシール材ＳＬ１により形成される領域に液晶層３０が封入されたが液晶パネル１００が製造される。

従って、シール材ＳＬ１には、真空注入方式で製造される液晶パネルのように、液晶を注入するための開口部である注入口は形成されていない。そのため、シール材ＳＬ１は、当該シール材ＳＬ１に当該注入口を封止するための封止材が設けられていないという構造的な特徴を有する。

液晶パネル１００は、表示領域Ｒ１０と周辺領域Ｒ２０とを有する。表示領域Ｒ１０は、液晶パネル１００が、平面視（ＸＹ面）において、映像を表示するための領域である。表示領域Ｒ１０は、平面視（ＸＹ面）において行列状に配置された後述の複数の画素部５Ｐを含む。液晶パネル１００は、当該複数の画素部５Ｐを利用して映像を表示する。

図３は、画素部５Ｐを説明するための図である。画素部５Ｐは、画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂから構成される。画素５Ｒは、必要に応じて、赤色光を出射する画素である。画素５Ｇは、必要に応じて、緑色光を出射する画素である。画素５Ｂは、必要に応じて、青色光を出射する画素である。以下においては、画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの各々を、「画素５」ともいう。また、以下においては、画素５が形成されている領域を、「画素領域」ともいう。

再び、図１および図２を参照して、周辺領域Ｒ２０は、平面視（ＸＹ面）において、表示領域Ｒ１０の周辺に設けられる。具体的には、周辺領域Ｒ２０は、平面視（ＸＹ面）において、表示領域Ｒ１０を囲む領域である。平面視（ＸＹ面）における周辺領域Ｒ２０の形状は閉ループ状（額縁状）である。

なお、表示領域Ｒ１０および周辺領域Ｒ２０は、液晶パネル１００が構成される空間と、当該空間におけるＸＹ面、ＸＺ面およびＹＺ面とに対しても、液晶パネル１００と同様に適用される。すなわち、表示領域Ｒ１０および周辺領域Ｒ２０は、液晶パネル１００を構成する各構成要素（基板１１０，１２０、液晶層３０等）に対しても、液晶パネル１００と同様に適用される。そのため、例えば、液晶パネル１００の基板１２０は、表示領域Ｒ１０と周辺領域Ｒ２０とを有する。

なお、液晶層３０は、平面視（ＸＹ面）において、表示領域Ｒ１０全体に設けられる。また、液晶層３０は、平面視（ＸＹ面）において、周辺領域Ｒ２０の一部に設けられる。

次に、アレイ基板としての基板１１０について詳細に説明する。図１および図２を参照して、基板１１０は、偏光板５１と、ガラス基板１１１と、複数の画素電極１１３と、複数のスイッチング素子ＳＷ１と、検査用配線１１９と、検査回路（図示せず）と、絶縁膜１１５と、配向膜１１２と、複数のゲート配線ＷＧ１と、複数のソース配線ＷＳ１と、端子１１６ａ，１１６ｂと、駆動ＩＣ（Integrated Circuit）１４１ａ，１４１ｂと、トランスファ電極（図示せず）とを含む。

偏光板５１は、互いに直交する透過軸および吸収軸を有する。偏光板５１は、吸収軸に沿って振動する光を吸収する。すなわち、偏光板５１は、当該偏光板５１の吸収軸に沿って振動する光を透過させない。

ガラス基板１１１は、透光性を有する透明基板である。ガラス基板１１１の一方の面には、複数のスイッチング素子ＳＷ１と検査用配線１１９とが設けられる。なお、前述の偏光板５１は、ガラス基板１１１の他方の面に設けられる。

各スイッチング素子ＳＷ１は、オン状態またはオフ状態に設定される。各スイッチング素子ＳＷ１は、例えば、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）である。検査用配線１１９は、各種の検査を行うための検査回路（図示せず）に接続されている。当該検査回路は、液晶表示装置５００の製造が終了する前の状態（以下、「状態Ｓｔ１」ともいう）において使用される回路である。

状態Ｓｔ１は、例えば、液晶パネル１００に制御基板１３５ａ，１３５ｂが取付けられる直前の状態である。検査回路は、状態Ｓｔ１において、液晶パネル１００の動作テストを行うための回路である。

なお、ガラス基板１１１の一方の面には、さらに、図示されない複数の構成要素が設けられている。

絶縁膜１１５は、当該絶縁膜１１５が、検査用配線１１９、各スイッチング素子ＳＷ１等を覆うように、ガラス基板１１１の一方の面に設けられている。

各画素電極１１３は、表示領域Ｒ１０の各画素５に対応して設けられる。また、各画素電極１１３は、液晶層３０において電界を発生させるための電極である。具体的には、各画素電極１１３は、液晶層３０において、液晶３１の向きを変化させるための電界を発生させるために使用される。なお、当該電界は、基板１２０に設けられる後述の共通電極１２３と各画素電極１１３との間の領域において発生する。

配向膜１１２は、液晶３１を配向させるための膜である。配向膜１１２は、当該配向膜１１２が各画素電極１１３を覆うように、絶縁膜１１５の一方の面に設けられる。

各ゲート配線ＷＧ１および各ソース配線ＷＳ１は、詳細は後述するが、各スイッチング素子ＳＷ１を制御するための信号を、当該各スイッチング素子ＳＷ１へ伝達するための配線である。

各ゲート配線ＷＧ１は、図１のように、表示領域Ｒ１０において、行方向（Ｘ軸方向）に延在するように設けられる。また、各ソース配線ＷＳ１は、図１のように、表示領域Ｒ１０において、列方向（Ｙ軸方向）に延在するように設けられる。なお、各ゲート配線ＷＧ１と各ソース配線ＷＳ１とが交差する部分の近傍には、スイッチング素子ＳＷ１が設けられる。すなわち、各スイッチング素子ＳＷ１は、行列状に設けられる。

また、図１のように、各ゲート配線ＷＧ１と各ソース配線ＷＳ１とにより形成される各矩形（画素領域）内には、画素電極１１３（画素電極）が設けられる。すなわち、各画素電極１１３は、行列状に設けられる。画素電極１１３は、スイッチング素子ＳＷ１と電気的に接続される。

駆動ＩＣ１４１ａ，１４１ｂは、詳細は後述するが、各画素領域（画素５）を制御する。駆動ＩＣ１４１ａは、複数の接続配線（図示せず）により、各ソース配線ＷＳ１と接続される。また、駆動ＩＣ１４１ｂは、複数の接続配線（図示せず）により、各ゲート配線ＷＧ１と接続される。

また、基板１１０には、端子１１６ａ，１１６ｂが設けられる。端子１１６ａ，１１６ｂの各々は、外部からの信号等を受信するための端子である。

端子１１６ａは、接続ケーブル１３６ａにより、制御基板１３５ａと接続される。端子１１６ｂは、接続ケーブル１３６ｂにより、制御基板１３５ｂと接続される。制御基板１３５ａには、駆動ＩＣ１４１ａを制御する制御ＩＣ（図示せず）が設けられる。また、制御基板１３５ｂには、駆動ＩＣ１４１ｂを制御する制御ＩＣ（図示せず）が設けられる。接続ケーブル１３６ａ，１３６ｂの各々は、例えば、ＦＦＣ（Flexible Flat Cable）である。

以下においては、制御基板１３５ａ，１３５ｂの各々を、総括的に、「制御基板１３５」ともいう。また、以下においては、駆動ＩＣ１４１ａ，１４１ｂの各々を、総括的に、「駆動ＩＣ１４１」ともいう。また、以下においては、端子１１６ａ，１１６ｂの各々を、総括的に、「端子１１６」ともいう。また、以下においては、接続ケーブル１３６ａ，１３６ｂの各々を、総括的に、「接続ケーブル１３６」ともいう。

詳細は後述するが、制御基板１３５の制御ＩＣ（図示せず）が出力した制御信号は、端子１１６を介して、駆動ＩＣ１４１の入力端子へ送信される。これにより、駆動ＩＣ１４１の出力端子から制御信号が出力される。当該制御信号は、複数の接続配線（図示せず）を介して、表示領域Ｒ１０内のスイッチング素子ＳＷ１へ送信される。

前述のトランスファ電極（図示せず）は、接続配線（図示せず）により端子１１６と接続される。当該トランスファ電極は、端子１１６が受信した信号を、基板１２０へ伝達するための電極である。

なお、端子１１６ａ，１１６ｂ、トランスファ電極、接続配線、検査用配線１１９および検査回路は、周辺領域Ｒ２０内の基板１１０に設けられる。

次に、カラーフィルタ基板としての基板１２０について詳細に説明する。図１および図２を参照して、基板１２０は、偏光板５２と、ガラス基板１２１と、複数の色材７と、ブラックマトリクス２０と、共通電極１２３と、配向膜１２２とを含む。

偏光板５２は、偏光板５１と同じ機能および構成を有する板である。具体的には、偏光板５２は、平面視（ＸＹ面）において、当該偏光板５２の吸収軸が偏光板５１の吸収軸と直交するように、ガラス基板１２１に設けられる。言い換えれば、偏光板５１は、平面視（ＸＹ面）において、当該偏光板５１の吸収軸が偏光板５２の吸収軸と直交するように、ガラス基板１１１に設けられる。

ガラス基板１２１は、透光性を有する透明基板である。ガラス基板１２１の厚みは、例えば、約０．７ｍｍである。ガラス基板１２１の一方の面には、複数の色材７およびブラックマトリクス２０が設けられる。なお、前述の偏光板５２は、ガラス基板１２１の他方の面に設けられる。

図２および図３を参照して、各色材７は、透光性を有するカラーフィルタである。色材７は、例えば、樹脂内に、色を有する顔料を分散させることにより生成される。色材７は、赤、緑、青等に対応する特定の波長範囲の光を選択的に透過するフィルタとして機能する。

また、色材７は、当該色材７を透過する光を色光として出射する。すなわち、色材７は、当該色材７に光が照射されることにより色を表現するための部材である。なお、色材７は、当該色材７に光が照射された場合、当該光の一部を吸収する光量低減部材である。色材７は、表示領域Ｒ１０に設けられる。

以下においては、赤色光を出射する色材７を、「色材７Ｒ」ともいう。また、以下においては、緑色光を出射する色材７を、「色材７Ｇ」ともいう。また、以下においては、青色光を出射する色材７を、「色材７Ｂ」ともいう。

色材７Ｒは、画素５Ｒを形成するための色材である。色材７Ｇは、画素５Ｇを形成するための色材である。色材７Ｂは、画素５Ｂを形成するための色材である。すなわち、平面視（ＸＹ面）において行列状に配置される各画素部５Ｐは、色材７Ｒ，７Ｇ，７Ｂが、図３のように、規則的に配置して構成される。

ブラックマトリクス２０は、光の一部または全てを遮る遮光部材である。言い換えれば、ブラックマトリクス２０は、当該ブラックマトリクス２０に光が照射された場合、当該光の一部または全てを吸収する光量低減部材である。なお、ブラックマトリクス２０の厚みが大きい程、当該ブラックマトリクス２０の光の透過率は０に近くなる。すなわち、ブラックマトリクス２０の厚みが小さい程、当該ブラックマトリクス２０の光の透過率は１００に近くなる。以下においては、光の透過率を、単に、「透過率」と表現する場合がある。また、以下においては、ブラックマトリクスを、単に、「ＢＭ」と表現する場合がある。

ブラックマトリクス２０は、樹脂で構成されている。具体的には、ブラックマトリクス２０は、感光性樹脂内に黒色粒子を分散させることにより生成される黒色樹脂で構成される。当該黒色粒子は、カーボンブラック（炭素系黒色顔料）、チタンブラック（チタン系黒色顔料）等の粒子である。

また、ブラックマトリクス２０は、基板１２０が有する表示領域Ｒ１０において複数の画素５を形成するように、当該表示領域Ｒ１０の一部に設けられる。具体的には、ブラックマトリクス２０は、各画素５（画素領域）に形成される開口Ｈ１を有する。以下においては、開口Ｈ１に接する、ブラックマトリクス２０の一部を、「ＢＭ開口側部」ともいう。

色材７は、各画素領域の開口Ｈ１の内部から、ＢＭ開口側部の上面に渡って設けられる。例えば、色材７Ｒは、画素５Ｒが形成されている画素領域の開口Ｈ１の内部から、当該画素領域に存在するブラックマトリクス２０のＢＭ開口側部の上面に渡って設けられる。

以下においては、隣接する２つの色材７（画素５）の間に存在するブラックマトリクス２０を、「画素形成部２０ｘ」ともいう。画素形成部２０ｘは、隣接する２つの画素５の境界部に設けられる。画素形成部２０ｘは、画素５の輪郭を形成する。

なお、前述したように、色材７は、各画素領域の開口Ｈ１の内部から、ＢＭ開口側部の上面に渡って設けられる。すなわち、色材７の一部は、ＢＭ開口側部上に重なるように設けられる。この構成は、仮に、色材７の一部とＢＭ開口側部との重なりのずれが生じた状態を考慮した構成である。具体的には、当該構成は、ＢＭ開口側部と色材７との間に隙間が存在することにより、意図されない無彩色の光が、基板１２０を透過することを防止する構成である。

図２のように、ブラックマトリクス２０は、映像の表示において不要な光を遮光するために、基板１２０が有する周辺領域Ｒ２０のほぼ全体に設けられる。すなわち、図２のように、基板１２０が有する周辺領域Ｒ２０において、ブラックマトリクス２０が設けられていない領域が存在する。

なお、ブラックマトリクス２０は、基板１２０が有する周辺領域Ｒ２０全体に設けられてもよい。すなわち、ブラックマトリクス２０は、基板１２０が有する周辺領域Ｒ２０の一部または全てに設けられる。

共通電極１２３は、ブラックマトリクス２０および各色材７を覆うように設けられる。共通電極１２３は、前述の各画素電極１１３を利用して、液晶層３０において電界を発生させるための電極である。

配向膜１２２は、液晶３１を配向させるための膜である。配向膜１２２は、当該配向膜１２２が表示領域Ｒ１０内の共通電極１２３の一部を覆うように、設けられる。すなわち、基板１２０に含まれる配向膜１２２の一方の面と、ブラックマトリクス２０を覆う共通電極１２３の一部の一方の面は、液晶層３０に接する。そのため、ブラックマトリクス２０は、基板１２０のうち液晶層３０に接する面側に設けられる。

また、基板１１０のトランスファ電極（図示せず）と共通電極１２３とは、トランスファ材により電気的に接続されている。当該トランスファ材は、樹脂内に導電性粒子を分散させた部材である。当該導電性粒子は、導通状態を安定的に保つために、弾性変形可能なものが好ましい。当該導電性粒子は、例えば、表面に金メッキが施された球形の樹脂である。

なお、端子１１６は、外部から共通電極１２３へ向かう信号も受信する。当該信号は、端子１１６を介して、共通電極１２３へ送信される。

また、前述したように、液晶表示装置５００は、さらに、光源としてのバックライトユニット（図示せず）を備える。当該バックライトユニットは、液晶パネル１００が映像を表示するために使用される光を出射する。以下においては、バックライトユニットから出射される光を、「光Ｌａ」ともいう。

バックライトユニットは、図２において、基板１１０の下方に設けられる。なお、液晶パネル１００と、バックライトユニットとの間には、光学シート（図示せず）が設けられる。当該光学シートは、光の偏光状態、光の指向性等を制御するシートである。

バックライトユニットは、液晶パネル１００の基板１１０に向けて光Ｌａを出射する。当該光Ｌａは、表示領域Ｒ１０において、基板１１０を透過して、液晶層３０に入射する。液晶層３０は、外部からの制御に従って、バックライトユニットから出射される光Ｌａを透過させる量を変化させる。以下においては、液晶層３０に光Ｌａが入射されることにより、液晶層３０から出射される光Ｌａを、「出射光Ｌｂ」ともいう。

液晶パネル１００は、液晶層３０から出射される出射光Ｌｂを、基板１２０における前述の各色材７の一部または全てにおいて透過させることにより、表示領域Ｒ１０に映像を表示する。以下においては、基板１２０のうち、表示領域Ｒ１０に映像を表示する面を、「表示面」ともいう。表示面は、例えば、図２の基板１２０の上面である。

なお、液晶表示装置５００は、さらに、筐体（図示せず）を備える。当該筐体は、表示面を外部に露出させるための開口が設けられる。液晶表示装置５００の筐体は、当該液晶表示装置５００が備える各構成要素を収容する。当該各構成要素は、例えば、液晶パネル１００、バックライトユニット、光学シート等である。

次に、表示面に映像を表示するための処理（以下、「映像表示処理」ともいう）について簡単に説明する。映像表示処理では、例えば、制御基板１３５が出力した制御信号を、駆動ＩＣ１４１が受信する。当該駆動ＩＣ１４１は、各ゲート配線ＷＧ１、各ソース配線ＷＳ１および各スイッチング素子ＳＷ１を利用して、複数の画素領域（画素５）の一部または全てへ信号を送信する。

これにより、信号を受信した各画素領域の画素電極１１３と共通電極１２３と間に、所定の駆動電圧が発生する。当該駆動電圧の発生に応じて、当該駆動電圧が発生した画素領域の液晶３１の向きが変化する。そして、バックライトユニットが出射する光Ｌａは、表示領域Ｒ１０において、基板１１０を透過して、液晶層３０に入射する。そして、前述の出射光Ｌｂが、基板１２０における前述の各色材７の一部または全てにおいて透過することにより、表示面（表示領域Ｒ１０）に映像が表示される。

（特徴的な構成）
次に、本実施の形態における特徴的な構成（以下、「特徴構成Ｘ１」ともいう）について詳細に説明する。図４は、本発明の実施の形態１に係る液晶パネル１００の構成を示す平面図である。なお、図４では、構成を分かり易くするために、一部の構成要素を簡略化して示している。また、図４では、特徴構成Ｘ１を分かり易くするために、周辺領域Ｒ２０の一部の幅を、実際の幅よりも大きくしている。

図４を参照して、液晶パネル１００は、平面視（ＸＹ面）において、周辺領域Ｒ２０は配線領域Ｒ２０ｗを有する。配線領域Ｒ２０ｗは、平面視（ＸＹ面）において、液晶層３０、配線、回路等が設けられる領域である。配線領域Ｒ２０ｗには、平面視（ＸＹ面）において、配線Ｗ１が設けられる。配線Ｗ１は、前述の検査用配線１１９、前述の検査回路（図示せず）を構成する配線、前述の接続配線（図示せず）等である。すなわち、配線領域Ｒ２０ｗには、液晶層３０において電界を発生させる配線Ｗ１が設けられる。つまり、配線領域Ｒ２０ｗは、液晶層３０に電界が印加されることにより液晶３１の向きが変化する領域である。

なお、前述したように、平面視（ＸＹ面）において、ブラックマトリクス２０は、周辺領域Ｒ２０に設けられる。なお、平面視（ＸＹ面）において、ブラックマトリクス２０は、配線領域Ｒ２０ｗ全体に設けられる。なお、平面視（ＸＹ面）において、ブラックマトリクス２０は、配線領域Ｒ２０ｗの一部に設けられてもよい。

図５は、本発明の実施の形態１に係る液晶パネル１００の断面図である。具体的には、図５は、図４のＢ１−Ｂ２線に沿った、液晶パネル１００の断面図である。すなわち、図５は、液晶パネル１００の配線領域Ｒ２０ｗの断面図である。なお、図５では、特徴構成Ｘ１を分かり易くするために、図２に示される一部の構成要素を、省略または簡略化して示している。例えば、図５では、図２に示される、スペーサＳＰ１等は示していない。

以下においては、平面視（ＸＹ面）において、周辺領域Ｒ２０のうちブラックマトリクス２０が設けられた領域を、「周辺ＢＭ領域」ともいう。すなわち、周辺ＢＭ領域には、光量低減部材であるブラックマトリクス２０が設けられる。

また、以下においては、平面視（ＸＹ面）において、表示領域Ｒ１０のうちブラックマトリクス２０が設けられた領域を、「表示ＢＭ領域」ともいう。すなわち、平面視（ＸＹ面）において、表示領域Ｒ１０は、表示ＢＭ領域を有する。

また、以下においては、表示領域Ｒ１０に設けられたブラックマトリクス２０を、「表示領域用ＢＭ」ともいう。表示領域用ＢＭは、例えば、図３における前述の画素形成部２０ｘである。また、以下においては、周辺ＢＭ領域に設けられたブラックマトリクス２０を、「周辺領域用ＢＭ」ともいう。

特徴構成Ｘ１は、周辺領域Ｒ２０の周辺ＢＭ領域の光の透過率を、表示領域用ＢＭの光の透過率より小さくするための構成である。すなわち、特徴構成Ｘ１は、周辺領域用ＢＭの光の透過率を、表示領域用ＢＭの光の透過率より小さくするための構成である。

特徴構成Ｘ１では、平面視（ＸＹ面）において周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みが、平面視（ＸＹ面）において表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みより小さくなるように、周辺領域用ＢＭの厚みが、表示領域用ＢＭの厚みより大きくされる。具体的には、特徴構成Ｘ１では、表示領域用ＢＭを単層で構成し、周辺領域用ＢＭを複数の層で構成する。

また、特徴構成Ｘ１では、基板１２０が有する表示領域Ｒ１０および周辺領域Ｒ２０において、ブラックマトリクス２１が設けられる。ブラックマトリクス２１は、ブラックマトリクス２０を構成する前述した材料と同じ材料で構成される。ブラックマトリクス２１は、ガラス基板１２１の一方の面に設けられる。すなわち、特徴構成Ｘ１では、表示領域Ｒ１０に設けられるブラックマトリクス２０（表示領域用ＢＭ）は、ブラックマトリクス２１のみで構成される。

また、図２および図５のように、周辺ＢＭ領域のブラックマトリクス２１の一方の面にはブラックマトリクス２２が設けられる。すなわち、周辺ＢＭ領域に設けられたブラックマトリクス２０（周辺領域用ＢＭ）は、ブラックマトリクス２１，２２で構成される。ブラックマトリクス２２は、ブラックマトリクス２０を構成する前述した材料と同じ材料で構成される。また、ブラックマトリクス２２の厚みは、ブラックマトリクス２１の厚みと同じまたは同等である。なお、ブラックマトリクス２２の厚みは、ブラックマトリクス２１の厚みと同等でなくてもよい。

以上により、特徴構成Ｘ１では、平面視（ＸＹ面）において周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みが、平面視（ＸＹ面）において表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みより小さい。また、周辺領域用ＢＭの厚みは、表示領域用ＢＭの厚みより大きい。そのため、周辺ＢＭ領域の光の透過率は、表示領域用ＢＭの光の透過率より小さい。したがって、特徴構成Ｘ１により、以下の比較例に係る液晶パネルの周辺領域Ｒ２０、特に、配線領域Ｒ２０ｗにおける光抜けの発生を、抑制または防ぐことができる。

図２３は、比較例に係る液晶パネル９００の平面図である。液晶パネル９００は、図４および図５の液晶パネル１００と比較して、上記の特徴構成Ｘ１を有さない。液晶パネル９００のそれ以外の構成は、液晶パネル１００と同様なので詳細な説明は繰り返さない。

図２３のように、液晶パネル９００では、周辺領域Ｒ２０内の配線領域Ｒ２０ｗにおいて光抜け部ＬＰ１が発生している。光抜け部ＬＰ１とは、液晶パネル９００が映像（例えば、白色のベタ）を表示している際に、バックライトユニットからの出射光が、基板１２０を透過した部分である。すなわち、液晶パネル９００では、配線領域Ｒ２０ｗにおいて光抜けが発生している。光抜け部ＬＰ１は、例えば、配線Ｗ１が設けられた領域に存在する。配線Ｗ１は、前述したように、検査用配線１１９、検査回路を構成する配線、接続配線等である。

なお、本実施の形態では、表示領域用ＢＭの厚みは大きくしない。そのため、図６のように、表示領域用ＢＭ（ブラックマトリクス２０，２１）の厚みを色材７の厚みよりも小さくすることができる。

また、本実施の形態では、図３を用いて説明したように、色材７の一部は、ＢＭ開口側部上に重なるように設けられる。すなわち、色材７は、図６のように設けられる。そのため、図２４のように、色材７の一部がＢＭ開口側部上に設けられていない構成の領域Ｒ９を起因とする光抜けは発生しない。図２４の矢印は、光抜けに関わる光を示す。図６および図２４の領域Ｒ９は、ＢＭ開口側部（ブラックマトリクス２０，２１）と色材７との段差が存在する領域である。図２４の構成の光抜けは、領域Ｒ９における上記の段差による液晶の配向異常を起因とする光抜けである。

また、本実施の形態では、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みが、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みより小さい。これにより、周辺領域Ｒ２０における基板１１０と基板１２０とのギャップを狭くすることができる。そのため、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０のリタデーション値を、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０のリタデーション値よりも小さくすることが出来る。リタデーション値とは、液晶層を光が通過する際に発生する常光および異常光の位相差を示す値である。したがって、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率を、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率より小さくすることができる。

なお、この場合、リタデーション値と透過率との関係は、図７のようになる。図７において、横軸は、リタデーション値である。縦軸は、透過率を示す。図７を参照して、周辺領域Ｒ２０のリタデーション値に対応する透過率は、表示領域Ｒ１０のリタデーション値に対応する透過率より小さい。

以下においては、平面視（ＸＹ面）において、周辺領域Ｒ２０のうち液晶層３０が設けられた領域を、「周辺液晶領域Ｒ２ｃ」ともいう。また、以下においては、平面視（ＸＹ面）において、周辺液晶領域Ｒ２ｃのうち、配線Ｗ１が設けられている領域を、「周辺液晶領域Ｒ２ｃｗ」ともいう。周辺液晶領域Ｒ２ｃｗは、液晶層３０に電界が印加されることにより、液晶３１の向きが変化する領域である。

また、以下においては、平面視（ＸＹ面）において、周辺液晶領域Ｒ２ｃに存在する液晶３１を、「液晶３１ａ」ともいう。液晶３１ａは、周辺液晶領域Ｒ２ｃに存在する液晶層３０に電界が印加されることにより、当該液晶３１ａの向きが変化する液晶である。

また、以下においては、平面視（ＸＹ面）において、周辺液晶領域Ｒ２ｃのうち周辺液晶領域Ｒ２ｃｗ以外の領域に存在する液晶３１を、「液晶３１ｎ」ともいう。液晶３１ｎは、周辺液晶領域Ｒ２ｃに存在する液晶層３０に電界が印加された場合においても、当該液晶３１ｎの向きが変化しない液晶である。

なお、特徴構成Ｘ１は、以下の変形構成Ｘ１ａであってもよい。当該変形構成Ｘ１ａは、例えば、図８のように、ブラックマトリクス２２を周辺液晶領域Ｒ２ｃのみに設ける構成である。

図８の変形構成Ｘ１ａによれば、ギャップ長ｄ１ｂは、ギャップ長ｄ１ａより大きい。ギャップ長ｄ１ｂは、図８の変形構成Ｘ１ａにおいて、基板１２０のうち周辺液晶領域Ｒ２ｃ以外の領域に存在する部分と基板１１０との間隔である。ギャップ長ｄ１ａは、図５の構成における、基板１２０と基板１１０との間隔である。すなわち、図８の変形構成Ｘ１ａでは、シール材ＳＬ１を形成するための領域のギャップが小さくなることはない。そのため、図８の変形構成Ｘ１ａでは、シール材ＳＬ１の形成を、図５の構成よりも安定的に行うことができる。

なお、変形構成Ｘ１ａは、ブラックマトリクス２２を、周辺液晶領域Ｒ２ｃｗのみに設ける構成であってもよい。

また、本実施の形態のブラックマトリクス２０（ＢＭ）は、例えば、公知のハーフトーン露光技術を使用して生成される。当該ブラックマトリクス２０（ＢＭ）は、ＢＭ形成用の露光マスクにハーフトーンマスクを使用する技術である。これにより、ＢＭの形成工程は、１工程で完了するので、液晶パネルを製造するための工程数が増えることはない。

以上説明したように、本実施の形態によれば、基板１２０は、表示領域Ｒ１０と周辺領域Ｒ２０とを有する。平面視（ＸＹ面）において、周辺領域Ｒ２０は液晶層３０において電界を発生させる配線Ｗ１が設けられる配線領域Ｒ２０ｗを有する。周辺領域Ｒ２０のうちブラックマトリクス２０が設けられた周辺ＢＭ領域の光の透過率は、表示領域Ｒ１０に設けられたブラックマトリクス２０の光の透過率より小さい。

これにより、表示領域Ｒ１０に設けられたブラックマトリクス２０の光の透過率を維持しつつ、配線領域Ｒ２０ｗを有する周辺領域Ｒ２０の光の透過率を低くした液晶パネルを提供することが実現できる。すなわち、表示領域Ｒ１０に配置されるブラックマトリクス２０の特性および膜厚を変えることなく、周辺領域Ｒ２０の光抜けを改善することができる。

また、本実施の形態では、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みが、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みより小さい。すなわち、周辺領域Ｒ２０における基板１１０と基板１２０とのギャップを狭くすることができる。そのため、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０のリタデーション値を、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０のリタデーション値よりも小さくすることが出来る。そのため、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率を、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率より小さくすることができる。これにより、周辺領域Ｒ２０の光抜けに関わる光量を低減することができる。

また、本実施の形態では、周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）における光量低減部材（ブラックマトリクス２０）の厚みが、表示領域Ｒ１０のブラックマトリクス２０の厚みより大きい。そのため、所望の領域（周辺ＢＭ領域）においてのみ、光抜けに関わる光量を効果的に減らすことが出来る。

また、光量低減部材が厚いことにより、周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）の液晶層３０の厚みは小さくなる。そのため、当該液晶層３０の透過率を下げるができる。これにより、周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）の光抜けを、抑制または防止する効果も得られる。

以上により、本実施の形態では、高輝度な光を出射するバックライトを使用する構成においても、配線領域Ｒ２０ｗを含む周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）の光抜けを、抑制または防止することができる。

なお、本実施の形態では、液晶パネル１００は、制御基板１３５ａ，１３５ｂおよび接続ケーブル１３６ａ，１３６ｂを含む構成としたが、これに限定されない。液晶パネル１００は、例えば、制御基板１３５ａ，１３５ｂおよび接続ケーブル１３６ａ，１３６ｂを含まない構成としてもよい。当該構成では、液晶表示装置５００が、制御基板１３５ａ，１３５ｂおよび接続ケーブル１３６ａ，１３６ｂを含む。

なお、前述したように、一般に、液晶表示装置に含まれる液晶パネルでは、表示領域の周辺に設けられる周辺領域にも液晶層は存在する。なお、周辺領域の液晶層に対しても電界が印加される。そのため、液晶パネルが白色のベタ画像を表示した場合、周辺領域から意図しない光が発生するという光抜けが発生するという問題がある。

この光抜けを防ぐ方法には、電界を発生させるアレイ配線側の電界を遮蔽する方法がある。この方法は、ＩＰＳ（In Plane Switching）モードの液晶パネルのように、対向する２つの基板間において電界が生じないものに対しては有効である。しかしながら、ＴＮモードまたはＶＡモードの液晶パネルのように、対向する２つの基板間に電界が生じるものに対しては有効でない。

また、アレイ配線側の電界の遮蔽には、当該配線より上層に、別途、絶縁膜を介してシールド層を形成する必要がある。シールド層を形成する場合、プロセス増加によるコストの増加、設計における制約の発生等の新たな問題が発生する。

また、前述の関連技術Ｂでは、ＩＰＳ方式（モード）の液晶表示装置に設けられる、周辺領域の遮光層（ブラックマトリクス）は、十分な遮光性を実現するＯＤ値を有し、かつ、高い比抵抗を有する。これにより、関連技術Ｂにおける、ＩＰＳ方式の液晶表示装置のカラーフィルタ基板は十分な遮光性を有する。しかしながら、関連技術Ｂは、ＴＮモードまたはＶＡモードの液晶パネルに対し、バックライトが高輝度の光を照射する構成における周辺領域の光抜けの問題を解決する技術ではない。

また、関連技術Ｂは、周辺領域、特に配線領域における液晶の駆動による光抜けの問題を解決する技術ではない。当該配線領域は、電界が印加され液晶が駆動される領域である。例えば、当該配線領域は、接続配線（信号引き出し配線）および検査回路の配線の近傍の領域である。

そこで、本実施の形態の液晶パネル１００（液晶表示装置５００）は上記のように構成されるため、上記の問題点を解決することができる。

＜実施の形態２＞
実施の形態１では、周辺領域Ｒ２０のＢＭの厚みを大きくするためにブラックマトリクス２２を使用した。本実施の形態の構成は、周辺領域Ｒ２０のＢＭの厚みを大きくするために色材を用いる構成（以下、「変形構成Ａ」ともいう）である。以下においては、変形構成Ａを適用した液晶パネル１００を、「液晶パネル１００Ａ」ともいう。

図９は、本発明の実施の形態２に係る液晶パネル１００Ａの構成を示す断面図である。図９は、図５の構成が設けられる位置と同じ位置における液晶パネル１００Ａの構成を示す。すなわち、図９は、図４のＢ１−Ｂ２線に沿った、変形構成Ａを適用した液晶パネル１００Ａの断面図である。つまり、図９は、配線領域Ｒ２０ｗにおける、液晶パネル１００Ａの一部の構成を示す。

液晶パネル１００Ａは、図５の液晶パネル１００と比較して、基板１２０の代わりに基板１２０Ａを備える点が異なる。液晶パネル１００Ａのそれ以外の構成は、液晶パネル１００と同様なので詳細な説明は繰り返さない。

基板１２０Ａは、図５の基板１２０と比較して、ブラックマトリクス２２の代わりに色材７Ａを含む点が異なる。基板１２０Ａのそれ以外の構成は、基板１２０と同様なので詳細な説明は繰り返さない。

色材７Ａは、色材７を構成する材料と同じ材料で構成される色材である。すなわち、色材７Ａは、当該色材７Ａに光が照射された場合、当該光の一部を吸収する光量低減部材である。

なお、図９を参照して、周辺ＢＭ領域に設けられたブラックマトリクス２０（周辺領域用ＢＭ）は、ブラックマトリクス２１のみで構成される。また、図９の構成によれば、平面視（ＸＹ面）において、周辺領域Ｒ２０の前述の周辺ＢＭ領域には色材７Ａ（光量低減部材）が設けられる。すなわち、周辺領域用ＢＭ上には、色材７Ａ（光量低減部材）が設けられる。

色材７Ａは、単層で構成される。色材７Ａは、例えば、色材７Ｒ，７Ｇ，７Ｂのうち、最も透過率が低い色材７Ｂで構成される。なお、図９の色材７Ａは、前述の色材７Ｒまたは色材７Ｇで構成されてもよい。

また、図９の構成では、実施の形態１と同様、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みが、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みより小さい。これにより、周辺領域Ｒ２０における基板１１０と基板１２０Ａとのギャップを狭くすることができる。そのため、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０のリタデーション値を、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０のリタデーション値よりも小さくすることが出来る。したがって、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率を、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率より小さくすることができる。

なお、変形構成Ａにおける色材７Ａは、図１０のように、複数の層で構成されてもよい。当該複数の層は、透過光の波長依存性の異なる複数の色材である。すなわち、色材７Ａは、波長領域が殆ど重ならない、高透過率の２種類以上の色材を積み重ねて構成される。以下においては、図１０の構成を、「変形構成Ａ１」ともいう。

具体的には、図１０の変形構成Ａ１では、色材７Ａは、互いに異なる色を示す色材７ａ，７ｂを積み重ねて構成される。色材７ａは、例えば、色材７Ｂである。色材７ｂは、例えば、色材７Ｇである。これにより、変形構成Ａ１では、色材７Ａを単層で構成した場合よりも、遮光性能を向上させることができる。したがって、変形構成Ａ１では、周辺領域Ｒ２０、特に、配線領域Ｒ２０ｗにおける光抜けの発生を、十分に抑制することができる。

なお、図１０の構成において、色材７Ａを構成する色材の数は２に限定されず、３以上であってもよい。

色材７Ａを構成する各色材（各層）は、周辺領域Ｒ２０に対して必要とされる遮光性能に適応した方法により生成される。例えば、色材７Ａを構成する各色材は、ハーフトーンマスクを使用したハーフトーン露光技術を使用して生成される。また、例えば、色材７Ａを構成する各色材の一部のみがハーフトーン露光技術を使用して生成されてもよい。また、例えば、色材７Ａを構成する各色材は、ハーフトーン露光技術を使用せずに生成されてもよい。

なお、図１０の変形構成Ａ１でも、図９の構成と同様、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みが、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みより小さい。そのため、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率を、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率より小さくすることができる。

また、図１１のように、変形構成Ａにおける色材７Ａの厚みは、図９の色材７Ａの厚みより大きくなるように構成されてもよい。なお、図１１では、構成を分かりやすくするために、配線領域Ｒ２０ｗには存在しない色材７（表示領域Ｒ１０の色材７Ｒ，７Ｇ，７Ｂ）を示している。以下においては、図１１の構成を、「変形構成Ａ２」ともいう。

図１１の色材７Ａの厚さは、ハーフトーンマスクを使用したハーフトーン露光技術を使用して設定される。図１１の変形構成Ａ２においても、図１０の変形構成Ａ１と同様の効果が得られる。

また、図１１の変形構成Ａ２でも、図９の構成と同様、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みが、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みより小さい。そのため、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率を、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率より小さくすることができる。

なお、図９、図１０および図１１の構成は、色材７Ａを、周辺液晶領域Ｒ２ｃのみ、または、周辺液晶領域Ｒ２ｃｗのみに設ける構成であってもよい。

図１２の構成（以下、「変形構成Ａｘ」ともいう）は、一例として、図９の構成の色材７Ａを、周辺液晶領域Ｒ２ｃのみに設けた構成である。また、図１３の構成（以下、「変形構成Ａ１ｘ」ともいう）は、一例として、図１０の構成の色材７Ａを、周辺液晶領域Ｒ２ｃのみに設けた構成である。また、図１４の構成（以下、「変形構成Ａ２ｘ」ともいう）は、一例として、図１１の構成の色材７Ａを、周辺液晶領域Ｒ２ｃのみに設けた構成である。

図１２の変形構成Ａｘによれば、ギャップ長ｄ２１ｂは、ギャップ長ｄ２１ａより大きい。ギャップ長ｄ２１ｂは、変形構成Ａｘにおいて、基板１２０Ａのうち周辺液晶領域Ｒ２ｃ以外の領域に存在する部分と基板１１０との間隔である。ギャップ長ｄ２１ａは、図９の構成における、基板１２０Ａと基板１１０との間隔である。

また、図１３の変形構成Ａ１ｘによれば、ギャップ長ｄ２２ｂは、ギャップ長ｄ２２ａより大きい。ギャップ長ｄ２２ｂは、変形構成Ａ１ｘにおいて、基板１２０Ａのうち周辺液晶領域Ｒ２ｃ以外の領域に存在する部分と基板１１０との間隔である。ギャップ長ｄ２２ａは、図１０の変形構成Ａ１において、基板１２０Ａと基板１１０との間隔である。

また、図１４の変形構成Ａ２ｘによれば、ギャップ長ｄ２３ｂは、ギャップ長ｄ２３ａより大きい。ギャップ長ｄ２３ｂは、変形構成Ａ２ｘにいて、基板１２０Ａのうち周辺液晶領域Ｒ２ｃ以外の領域に存在する部分と基板１１０との間隔である。ギャップ長ｄ２３ａは、図１１の変形構成Ａ２において、基板１２０Ａと基板１１０との間隔である。

図１２、図１３および図１４の構成によれば、実施の形態１の図８の変形構成Ｘ１ａと同様な効果を得ることができる。すなわち、シール材ＳＬ１の形成を、安定的に行うことができる。

また、本実施の形態では、光量低減部材である色材７Ａは、色材７を構成する材料と同じ材料で構成される色材である。そのため、色材７Ａを、表示領域Ｒ１０の色材７と、同時に形成することができる。したがって、色材７Ａを低コストで形成することができる。

また、色材７Ａは、図１０の変形構成Ａ１のように、複数の層で構成されてもよい。すなわち、色材７Ａは、前述したように、当該複数の層は、透過光の波長依存性の異なる複数の色材である。すなわち、色材７Ａは、波長領域が殆ど重ならない２種類の色材を積み重ねて構成される。これにより、色材７Ａを、遮光作用の高い遮光部材として機能させることができる。

また、光量低減部材である色材７Ａが厚いことにより、周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）の液晶層３０の厚みは小さくなる。そのため、当該液晶層３０の透過率を下げるができる。これにより、周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）の光抜けを、抑制または防止する効果も得られる。

＜実施の形態３＞
本実施の形態の構成は、周辺ＢＭ領域のブラックマトリクスを、光学濃度であるＯＤ（Optical Density）値が高い材料で生成した構成（以下、「変形構成Ｂ」ともいう）である。以下においては、変形構成Ｂを適用した液晶パネル１００を、「液晶パネル１００Ｂ」ともいう。

図１５は、本発明の実施の形態３に係る液晶パネル１００Ｂの構成を示す断面図である。図１５は、図５の構成が設けられる位置と同じ位置における液晶パネル１００Ｂの構成を示す。すなわち、図１５は、図４のＢ１−Ｂ２線に沿った、変形構成Ｂを適用した液晶パネル１００Ｂの断面図である。つまり、図１５は、配線領域Ｒ２０ｗにおける、液晶パネル１００Ｂの一部の構成を示す。

液晶パネル１００Ｂは、図５の液晶パネル１００と比較して、基板１２０の代わりに基板１２０Ｂを備える点が異なる。液晶パネル１００Ｂのそれ以外の構成は、液晶パネル１００と同様なので詳細な説明は繰り返さない。

基板１２０Ｂは、図５の基板１２０と比較して、色材７Ａを含まない点と、ブラックマトリクス２０がブラックマトリクス２０ｄのみで構成される点とが異なる。基板１２０Ｂのそれ以外の構成は、基板１２０と同様なので詳細な説明は繰り返さない。

変形構成Ｂでは、周辺ＢＭ領域に設けられたブラックマトリクス２０（周辺領域用ＢＭ）を、ブラックマトリクス２０ｄのみで構成する。すなわち、配線領域Ｒ２０ｗ（周辺ＢＭ領域）には、ブラックマトリクス２０ｄが設けられる。

なお、変形構成Ｂでは、表示領域Ｒ１０に設けられるブラックマトリクス２０（表示領域用ＢＭ）は、ブラックマトリクス２１のみで構成される。すなわち、表示領域Ｒ１０には、ブラックマトリクス２１が設けられる。なお、後述のように、表示領域Ｒ１０に設けられたブラックマトリクス２０も、ブラックマトリクス２０ｄのみで構成されてもよい。

ブラックマトリクス２０ｄは、ブラックマトリクス２１よりも、光学濃度（ＯＤ値）が高い材料で構成される。すなわち、周辺ＢＭ領域に設けられたブラックマトリクス２０ｄの光学濃度（ＯＤ値）は、表示領域Ｒ１０に設けられたブラックマトリクス２１の光学濃度（ＯＤ値）より大きい。これにより、実施の形態１と同様、周辺領域Ｒ２０、特に、配線領域Ｒ２０ｗにおける光抜けの発生を、抑制または防ぐことができる。

なお、表示領域Ｒ１０に設けられたブラックマトリクス２０も、ブラックマトリクス２０ｄのみで構成（以下、「変形構成Ｂａ」ともいう）するようにしてもよい。変形構成Ｂａでは、表示領域Ｒ１０および周辺領域Ｒ２０にわたって設けられるブラックマトリクス２０を、ブラックマトリクス２０ｄのみで構成する。これにより、液晶パネル１００Ｂに設けられるブラックマトリクスを１回の工程で生成することができる。そのため、液晶パネルを製造するための工程数の増加を抑制できる。さらに、高価なハーフトーンマスクを使用せずに、ブラックマトリクス２０ｄは生成される。そのため、液晶パネルの製造における費用の削減を行うことができる。

なお、変形構成Ｂａにおいて、周辺領域Ｒ２０のブラックマトリクス２０ｄの厚みを、表示領域Ｒ１０のブラックマトリクス２０ｄの厚みより大きくしてもよい。この構成により、ブラックマトリクス２０ｄの厚みは以下のようになる。すなわち、周辺ＢＭ領域に設けられたブラックマトリクス２０ｄの厚みは、表示領域Ｒ１０に設けられたブラックマトリクス２０ｄの厚みより大きい。したがって、液晶層３０の厚みは以下のようになる。すなわち、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みは、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みより小さい。そのため、実施の形態１と同様、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率を、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率より小さくすることができる。

また、本実施の形態では、ブラックマトリクス２０ｄを構成する光学濃度（ＯＤ値）を調整することにより、所望の領域（周辺ＢＭ領域）においてのみ、光抜けに関わる光量を効果的に減らすことが出来る。

＜実施の形態４＞
本実施の形態の構成は、位相差膜を使用した構成（以下、「変形構成Ｃ」ともいう）である。以下においては、変形構成Ｃを適用した液晶パネル１００を、「液晶パネル１００Ｃ」ともいう。

図１６は、本発明の実施の形態４に係る液晶パネル１００Ｃの構成を示す断面図である。図１６は、図５の構成が設けられる位置と同じ位置における液晶パネル１００Ｃの構成を示す。すなわち、図１６は、図４のＢ１−Ｂ２線に沿った、変形構成Ｃを適用した液晶パネル１００Ｃの断面図である。つまり、図１６は、配線領域Ｒ２０ｗにおける、液晶パネル１００Ｃの一部の構成を示す。

液晶パネル１００Ｃは、図５の液晶パネル１００と比較して、基板１２０の代わりに基板１２０Ｃを備える点が異なる。液晶パネル１００Ｃのそれ以外の構成は、液晶パネル１００と同様なので詳細な説明は繰り返さない。

基板１２０Ｃは、図５の基板１２０と比較して、位相差膜１３をさらに含む点が異なる。基板１２０Ａのそれ以外の構成は、基板１２０と同様なので詳細な説明は繰り返さない。なお、図１６を参照して、周辺ＢＭ領域に設けられたブラックマトリクス２０（周辺領域用ＢＭ）は、ブラックマトリクス２１のみで構成される。

位相差膜１３は、周辺ＢＭ領域に設けられたブラックマトリクス２１上に設けられる。位相差膜１３は、詳細は後述するが、周辺ＢＭ領域の光の透過率が、表示領域Ｒ１０に設けられた周辺領域用ＢＭの光の透過率より小さくなるように、当該位相差膜１３を通過する光の位相を変化させるように構成される。

位相差膜１３は、振動方向が互いに直交する２種類の偏光の間に位相差を発生させる膜である。当該２種類の偏光は、位相差膜１３を光が通過する際に発生する光である。位相差膜１３は、遅相軸および進相軸を有する。

なお、変形構成Ｃでは、基板１１０の偏光板５１は、平面視（ＸＹ面）において、当該偏光板５１の吸収軸が基板１２０Ｃの偏光板５２の吸収軸と直交するように、設けられる。

また、変形構成Ｃでは、偏光板５１と偏光板５２との間に位相差膜１３が存在する。そのため、偏光板５１および液晶層３０を通過した光が当該位相差膜１３を通過する際、当該光（偏光）の位相が変化する。位相差膜１３から出射する、Ｚ方向へ向かう光は、偏光板５２に入射する。そのため、偏光板５２に入射した光の振動方向が、偏光板５２の透過軸に沿った方向である場合、偏光板５２から光が出射する。したがって、位相差膜１３の特性を変化させることにより、偏光板５２から出射される光の強度は変化する。

そこで、位相差膜１３は、当該位相差膜１３から出射する光であって、かつ、偏光板５２に照射される光に対し、人が視認出来ない程度の位相差を発生させるように構成される。例えば、位相差膜１３は、λ／２板またはλ／４板の機能と同じ機能を有するように構成される。例えば、λ／２板は、振動方向が互いに直交する２種類の偏光の間に１８０度の位相差を発生させる板である。

位相差膜１３がλ／２板の機能と同じ機能を有するように構成されている場合、位相差膜１３の遅延軸は、偏光板５１の吸収軸と偏光板５２の吸収軸との両方に重ならないように設定される。なお、このように設定された複数の位相差膜１３を積み重ねる構成としてもよい。この構成では、各位相差膜１３の遅延軸は、偏光板５１の吸収軸と偏光板５２の吸収軸との両方に重ならないように設定される。

位相差膜１３がλ／４板の機能と同じ機能を有するように構成されている場合、当該位相差膜１３は、楕円偏光を発生させる機能を有する。そのため、位相差膜１３がλ／４板の機能と同じ機能を有するように構成されている場合、位相差膜１３の遅延軸は、偏光板５１の吸収軸と偏光板５２の吸収軸との両方に重ならないように設定される。この構成の場合、上記のように、複数の位相差膜１３を積み重ねる構成とする必要はない。

以上のように、位相差膜１３を設定することにより、例えば、液晶パネル１００Ｃが白色のベタ画像を表示した場合においても、配線領域Ｒ２０ｗにおける光抜けの発生を抑制することができる。

なお、仮に、偏光板５１の吸収軸と偏光板５２の吸収軸とが直交しない構成であっても、位相差膜１３の遅延軸の配置角度（位相差値）を変えることにより、上記と同様の効果が得られる。

また、変形構成Ｃでは、位相差膜１３の厚みの分だけ、ギャップ長を小さくすることができる。具体的には、変形構成Ｃでは、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みは、平面視（ＸＹ面）において表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の厚みより小さい。これにより、周辺領域Ｒ２０における基板１１０と基板１２０Ｃとのギャップを狭くすることができる。そのため、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０のリタデーション値を、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０のリタデーション値よりも小さくすることが出来る。したがって、周辺ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率を、表示ＢＭ領域に存在する液晶層３０の透過率より小さくすることができる。

なお、変形構成Ｃは、図１７のように、位相差膜１３を周辺液晶領域Ｒ２ｃのみに設ける構成であってもよい。また、変形構成Ｃは、位相差膜１３を、周辺液晶領域Ｒ２ｃｗのみに設ける構成であってもよい。

図１７の構成（以下、「変形構成Ｃｘ」ともいう）によれば、ギャップ長ｄ３ｂは、ギャップ長ｄ３ａより大きい。ギャップ長ｄ３ｂは、図１７の変形構成Ｃｘにおいて、基板１２０Ｃのうち周辺液晶領域Ｒ２ｃ以外の領域に存在する部分と基板１１０との間隔である。ギャップ長ｄ３ａは、図１６の構成における、基板１２０Ｃと基板１１０との間隔である。すなわち、図１７の変形構成Ｃｘでは、シール材ＳＬ１を形成するための領域のギャップが小さくなることはない。そのため、変形構成Ｃｘでは、シール材ＳＬ１の形成を、図１６の構成よりも安定的に行うことができる。

また、本実施の形態によれば、例えば、液晶パネル１００Ｃが白色のベタ画像を表示した場合においても、周辺ＢＭ領域の透過率を下げることができる。

また、本実施の形態によれば、位相差膜１３は、周辺ＢＭ領域の光の透過率が、表示領域Ｒ１０に設けられた周辺領域用ＢＭの光の透過率より小さくなるように、当該位相差膜１３を通過する光の位相を変化させるように構成される。そのため、液晶パネル１００Ｃが白色のベタ画像を表示した場合における、当該液晶層３０および位相差膜１３の働きにより、周辺ＢＭ領域の光の透過率を下げることができる。したがって、周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）の光抜けに関わる光量を効果的に減らすことが出来る。

＜実施の形態５＞
本実施の形態の構成は、周辺領域Ｒ２０に液晶層３０を設けない構成（以下、「変形構成Ｄ」ともいう）である。以下においては、変形構成Ｄを適用した液晶パネル１００を、「液晶パネル１００Ｄ」ともいう。

図１８は、本発明の実施の形態５に係る液晶パネル１００Ｄの構成を示す平面図である。図１９は、本発明の実施の形態５に係る液晶パネル１００Ｄの構成を示す断面図である。具体的には、図１９は、図１８のＣ１−Ｃ２線に沿った、液晶パネル１００Ｄの断面図である。なお、図１９では、構成を見やすくするために、後述のスペーサＳＰ２のうちＸＺ面と平行な部分は示していない。

液晶パネル１００Ｄは、図５の液晶パネル１００と比較して、スペーサＳＰ２をさらに備える点が異なる。液晶パネル１００Ｄのそれ以外の構成は、液晶パネル１００と同様なので詳細な説明は繰り返さない。

なお、変形構成Ｄでは、表示領域Ｒ１０および周辺ＢＭ領域（周辺領域Ｒ２０）に設けられたブラックマトリクス２０は、ブラックマトリクス２１のみで構成される。

スペーサＳＰ２は、基板１１０と基板１２０との間に設けられる。前述したように、各スペーサＳＰ１は、表示領域Ｒ１０に設けられる。スペーサＳＰ２は、以下の前提Ａにおいては、スペーサＳＰ１を構成する材料と同じ材料で構成されることが好ましい。前提Ａは、表示領域Ｒ１０に設けられるスペーサＳＰ１が、有機樹脂膜をパターニングすることにより形成される柱状のスペーサであるという前提である。スペーサＳＰ２がスペーサＳＰ１を構成する材料と同じ材料で構成される場合、共通の有機樹脂膜をパターニングすることにより、スペーサＳＰ２およびスペーサＳＰ１を形成することができる。そのため、新たな工程を追加することなく低コストでスペーサＳＰ２およびスペーサＳＰ１を形成することができる。なお、スペーサＳＰ２は、基板１１０および基板１２０のいずれに形成されてもよい。スペーサＳＰ２の形状は、例えば、柱状である。

図１８および図１９を参照して、平面視（ＸＹ面）におけるスペーサＳＰ２の形状は、閉ループ状（枠状）である。平面視（ＸＹ面）において、スペーサＳＰ２は、表示領域Ｒ１０と周辺領域Ｒ２０との境界部に設けられる。また、平面視（ＸＹ面）において、スペーサＳＰ２は、周辺領域Ｒ２０の周辺ＢＭ領域と表示領域Ｒ１０との境界部に設けられる。

また、平面視（ＸＹ面）において、液晶層３０は、周辺領域Ｒ２０の周辺ＢＭ領域に設けられず、表示領域Ｒ１０に設けられる。

スペーサＳＰ２は、スペーサを形成する工程において、表示領域Ｒ１０の周縁部（端部）に形成される。そして、滴下注入方式により、周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）に液晶が入らないように、表示領域Ｒ１０のみに液晶が配置（滴下）される。このとき、スペーサＳＰ２は土手として機能する。

次に、スペーサＳＰ２は、基板１１０および基板１２０により挟まれる。基板１１０および基板１２０は、シール材ＳＬ１により、互いに貼り合わせられる。次に、通常の工程（切断、洗浄、偏光板の貼り付け、ＩＣ実装、バックライト組立）等が行われる。これにより、液晶パネル１００Ｄが製造される。

変形構成Ｄが適用された液晶パネル１００Ｄでは、配線領域Ｒ２０ｗを有する周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）に液晶層３０が存在しない。そのため、液晶層３０に電界が印加された場合でも、周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）において光抜けが発生することはない。

なぜならば、前述したように、偏光板５１の吸収軸は偏光板５２の吸収軸と直交し、かつ、偏光板５１と偏光板５２との間の空間には、ガラス、空気およびスペーサＳＰ２が存在するためである。当該ガラスおよび空気は、当該ガラスおよび空気を通過する光の位相を変化させない。

なお、スペーサＳＰ２は、ブラックマトリクス、色材等で構成されてもよいし、それらが積み重ねられて構成されてもよい。

本実施の形態では、上記のように、配線領域Ｒ２０ｗを有する周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）に液晶層３０が存在しない。そのため、周辺領域Ｒ２０（配線領域Ｒ２０ｗ）において液晶の向きが変化することに起因する、光の位相差の発生を防ぐことができる。これにより、周辺領域Ｒ２０（配線領域Ｒ２０ｗ）の遮光性を向上させることが出来る。

＜実施の形態６＞
本実施の形態の構成は、周辺領域Ｒ２０に液晶層３０を設けない別の構成（以下、「変形構成Ｅ」ともいう）である。以下においては、変形構成Ｅを適用した液晶パネル１００を、「液晶パネル１００Ｅ」ともいう。

図２０は、本発明の実施の形態６に係る液晶パネル１００Ｅの構成を示す平面図である。図２１は、本発明の実施の形態６に係る液晶パネル１００Ｅの構成を示す断面図である。具体的には、図２１は、図２０のＤ１−Ｄ２線に沿った、液晶パネル１００Ｅの断面図である。なお、図２１では、構成を見やすくするために、後述のシール材ＳＬ２のうちＸＺ面と平行な部分は示していない。

液晶パネル１００Ｅは、図１９の液晶パネル１００Ｄと比較して、スペーサＳＰ２のかわりにシール材ＳＬ２を備える点が異なる。液晶パネル１００Ｅのそれ以外の構成は、液晶パネル１００Ｄと同様なので詳細な説明は繰り返さない。

シール材ＳＬ２は、基板１１０と基板１２０との間に設けられる。シール材ＳＬ２は、シール材ＳＬ１を構成する材料と同じ材料で構成される。

図２０および図２１を参照して、平面視（ＸＹ面）におけるシール材ＳＬ２の形状は、閉ループ状（枠状）である。平面視（ＸＹ面）において、シール材ＳＬ２は、表示領域Ｒ１０と周辺領域Ｒ２０との境界部に設けられる。また、平面視（ＸＹ面）において、シール材ＳＬ２は、周辺領域Ｒ２０の周辺ＢＭ領域と表示領域Ｒ１０との境界部に設けられる。

また、平面視（ＸＹ面）において、液晶層３０は、周辺領域Ｒ２０の周辺ＢＭ領域に設けられず、表示領域Ｒ１０に設けられる。

変形構成Ｅが適用された液晶パネル１００Ｅでは、周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）に液晶層３０が存在しない。そのため、液晶層３０に電界が印加された場合でも、周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）において光抜けが発生することはない。

なぜならば、前述したように、偏光板５１の吸収軸は偏光板５２の吸収軸と直交し、かつ、偏光板５１と偏光板５２との間の空間には、ガラス、空気およびシール材ＳＬ２が存在するためである。

本実施の形態では、上記のように、配線領域Ｒ２０ｗを有する周辺領域Ｒ２０（周辺ＢＭ領域）に液晶層３０が存在しない。そのため、周辺領域Ｒ２０（配線領域Ｒ２０ｗ）において液晶の向きが変化することに起因する、光の位相差の発生を防ぐことができる。これにより、周辺領域Ｒ２０（配線領域Ｒ２０ｗ）の遮光性を向上させることが出来る。

また、本実施の形態では、基板１１０と基板１２０との間にシール材ＳＬ２がさらに追加されるため、基板１１０と基板１２０とが密着する強度を向上させることができる。

（液晶表示装置の製造）
次に、上記各実施の形態の液晶表示装置の製造方法について説明する。なお、ここでは、一例として、主に、実施の形態１に係る液晶表示装置５００の主要部分である液晶パネル１００の製造方法について、図２２のフローチャートにしたがって説明する。

なお、液晶パネルは、通常、最終的な液晶パネルのサイズよりも大きなマザー基板から切り出される１枚以上の基板を使用して製造される。図２２のステップＳ１〜Ｓ９およびステップＳ１０の途中までのプロセスは、当該マザー基板に対し行われるプロセスである。

まず、基板準備工程において、マザー基板の状態で、基板１１０，１２０が準備される。基板１１０，１２０の製造工程は、一般的な工程を用いても良いため、簡単に説明する。

基板１１０の製造においては、まず、ガラス基板１１１の一方の面に各スイッチング素子ＳＷ１、配線Ｗ１、画素電極１１３、端子１１６、トランスファ電極（図示せず）等が形成される。なお、配線Ｗ１は、前述したように、検査用配線１１９、検査回路を構成する配線、接続配線等である。これらは、成膜、フォトリソグラフィー法によるパターンニング、エッチング等のパターン形成工程が繰り返し行われることにより、形成される。

また、基板１２０は、基板１１０と同様な工程により形成される。これにより、ガラス基板１２１の一方の面に、各色材７、ブラックマトリクス２０、共通電極１２３等が形成される。なお、有機樹脂膜をパターニングすることにより、ガラス基板１２１の一方の面には、さらに、スペーサＳＰ１が形成される。

なお、ブラックマトリクス２０の製造方法は、前述の実施の形態１〜３において、具体的に説明をしているため、詳細な説明は省略する。

また、実施の形態２の色材７Ａは、前述したように、表示領域Ｒ１０の色材７を構成する材料と同じ材料で構成される。周辺領域用ＢＭ上に設けられる、単層の色材７Ａは、基板１２０を構成する色材（カラーレジスト）のパターニングの際に同時に形成される。なお、複数の層で構成される色材７Ａも、上記と同様な方法により形成される。

単層または複数の層で構成される色材７Ａの形成は、平面パターンの設計のみを変更すれば実施できる。そのため、単層または複数の層で構成される色材７Ａは、従来のカラー基板の製造方法の延長で容易に形成することが可能である。

また、実施の形態５のスペーサＳＰ２（土手）は、基板１２０の形成工程において、表示領域Ｒ１０のスペーサＳＰ１を形成するのと同時に、有機樹脂膜をパターニングすることにより形成すれば良い。

まず、ステップＳ１の基板洗浄工程では、配線Ｗ１が形成されている基板１１０が洗浄される。配線Ｗ１は、前述したように、検査用配線１１９、検査回路を構成する配線、接続配線等である。

次に、ステップＳ２の配向膜材料塗布工程では、基板１１０の一方の面に、配向膜材料が塗布される。続いて、ホットプレートなどを使用して、塗布された配向膜材料を焼成処理し、乾燥させる。

次に、ステップＳ３の配向処理工程において、上記の配向膜材料に対し配向処理が行われる。当該配向処理は、例えば、配向膜材料の表面に特定方向に沿った微細な溝、傷等を形成するラビング処理である。これにより、配向膜１１２が形成される。なお、配向膜１１２に対して行われる配向処理はラビング処理に限られず、光配向処理などの公知の配向処理であってもよい。

また、共通電極１２３等が形成されている基板１２０に対しても、上記と同様に、ステップＳ１，Ｓ２，Ｓ３が行われる。これにより、配向膜１２２が形成される。

なお、より詳細には、基板１２０上に形成されるスペーサＳＰ１上も配向膜１２２で覆われる。しかしながら、スペーサＳＰ１の高さよりも、配向膜１２２の厚みは十分に薄い。そのため、図では、スペーサＳＰ１上に塗布された配向膜は図示していない。

次に、ステップＳ４において、スペーサＳＰ１の高さが測定される。実施の形態１では、スペーサＳＰ１は基板１２０上に形成される。そのため、基板１２０上における、初期のスペーサＳＰ１の高さを測定すれば良い。

なお、スペーサＳＰ１の高さの測定は、以降でも再度説明を行うが、滴下注入（ＯＤＦ）方式で液晶を注入する工程における、液晶の滴下量を決定するために行われる。従って、液晶を満たす空間の容積に関係するセルギャップを決定するために、スペーサＳＰ１の高さが測定される。なお、デュアルスペーサ構造が用いられる場合、メインスペーサの高さが測定される。

次に、ステップＳ５のシール材塗布工程では、スクリーン印刷装置が、基板１１０または基板１２０の主面に、シール材を塗布する。当該シール材は、弾性変形する樹脂ビーズを含む部材である。また、当該シール材は、液晶パネルの表示領域を囲むように塗布される。これにより、シール材ＳＬ１が形成される。

また、実施の形態５のシール材ＳＬ２は、このシール材塗布工程において、シール材ＳＬ１の形成と同時に形成される。

なお、基板１１０または基板１２０の主面に、シール材ＳＬ１を形成するための、導電性粒子を含むシール材を塗布してもよい。具体的には、基板１１０または基板１２０の主面のうち、基板１１０上のトランスファ電極と基板１２０の共通電極１２３とが重なる領域に、導電性粒子を含むシール材を塗布してもよい。これにより、基板１１０，１２０間において導通機能を持たせることができる。

また、トランスファ電極と共通電極１２３とが重なる領域に、別途、トランスファ材を塗布する構成としてもよい。当該トランスファ材は導電性粒子を含む樹脂ペーストからなる。当該構成では、トランスファ材塗布工程が、上記のステップＳ５の後に行われる。当該トランスファ材塗布工程は、上記のように、基板１１０または基板１２０の主面にトランスファ材を塗布する工程である。

また、実施の形態１では、基板１１０と基板１２０との間隔を規定するスペーサＳＰ１の形状は、柱状としたがこれに限定されない。当該スペーサＳＰ１の形状は、球状とする構成としてもよい。当該構成では、基板１１０または基板１２０の一方の面に球状のスペーサが散布される。この場合、上記のトランスファ材塗布工程と同様に、ステップＳ５の後に、スペーサ散布工程が行われる。

次に、ステップＳ６の液晶滴下工程では、シール材ＳＬ１が形成された基板の当該シール材ＳＬ１により形成される空間に液晶が滴下される。この液晶の滴下される量は、ステップＳ４において測定されたスペーサＳＰ１の高さに基づいて決定される。

次に、ステップＳ７の貼り合わせ工程では、真空状態において、マザー基板の状態の基板１１０，１２０が互いに貼り合わせられる。これにより、マザーセル基板が形成される。

次に、ステップＳ８の紫外線照射工程では、当該マザーセル基板に紫外線が照射される。これにより、シール材ＳＬ１を、ある程度硬化させる。

その後、ステップＳ９では、加熱を行うアフターキュアが行われる。これにより、シール材ＳＬ１が完全に硬化する。その結果、硬化したシール材ＳＬ１が得られる。

次に、ステップＳ１０のセル分断工程では、マザーセル基板がスクライブラインに沿って切断される。これにより、マザーセル基板が、複数の液晶パネルに分断される。

以上のように分断された各液晶パネルに対して、ステップＳ１１の偏光板貼り付け工程、ステップＳ１２の制御基板実装工程などが行われる。これにより、図１の液晶パネル１００の製造が完了する。

更に、液晶パネル１００の基板１１０の裏面側（非視認側）に、位相差板などの光学フィルムを介して、バックライトユニット（図示せず）が設けられる。そして、前述の筐体に、液晶パネル１００と、バックライトユニット（図示せず）等の周辺部材が収容される。これにより、液晶表示装置５００の製造が完了する。

なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。

例えば、液晶パネル１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｄ，１００Ｅの一部または全てにおいて、カラーフィルタ基板にオーバーコート層を設けてもよい。オーバーコート層は、カラーフィルタ基板の表面全体の平坦化のために使用される。また、オーバーコート層は、透明樹脂膜で構成される。例えば、液晶パネル１００には、オーバーコート層が、配向膜１２２およびブラックマトリクス２０を覆うように、カラーフィルタ基板である基板１２０に設けられてもよい。すなわち、オーバーコート層は、平面視（ＸＹ面）において、各色材７、配向膜１２２およびブラックマトリクス２０を覆うように設けられる。これにより、カラーフィルタ基板（基板１２０）の表面全体が平坦化される。

また、例えば、液晶パネル１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｄ，１００Ｅの一部または全ては、ＴＮモードの液晶パネルに限定されず、例えば、ＩＰＳモードの液晶パネルであってもよい。例えば、液晶パネル１００がＩＰＳモードの液晶パネルである場合、基板１２０に共通電極１２３は形成されず、当該共通電極１２３に信号を伝達するためのトランスファ電極、トランスファ材よりなる構成等は省略される。

７，７ａ，７Ａ，７ｂ，７Ｂ，７Ｇ，７Ｒ 色材、１３ 位相差膜、２０，２０ｄ，２１，２２ ブラックマトリクス、２０ｘ 画素形成部、３０ 液晶層、１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｄ，１００Ｅ，９００ 液晶パネル、１１０，１２０，１２０Ａ，１２０Ｂ，１２０Ｃ 基板、５００ 液晶表示装置、Ｒ１０ 表示領域、Ｒ２０ 周辺領域、Ｒ２０ｗ 配線領域、ＳＬ１，ＳＬ２ シール材、ＳＰ１，ＳＰ２ スペーサ、Ｗ１ 配線。

Claims (2)

1. 透光性を有する第１基板と、
   透光性を有し、前記第１基板と対向する第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に設けられる液晶層と、を備え、
   前記第２基板は、
   平面視において、映像を表示するための表示領域と、
   平面視において、前記表示領域の周辺に設けられる周辺領域とを有し、
   平面視において、前記周辺領域は配線領域を有し、
   前記配線領域には、前記液晶層において電界を発生させる配線が設けられ、
   前記第２基板のうち前記液晶層に接する面側には、樹脂で構成されたブラックマトリクスが設けられ、
   前記ブラックマトリクスは、前記第２基板が有する前記表示領域において画素を形成するように、当該表示領域の一部に設けられ、
   前記ブラックマトリクスは、さらに、前記第２基板が有する前記周辺領域の一部または全てに設けられ、
   前記周辺領域のうち前記ブラックマトリクスが設けられた領域である第１領域の光の透過率は、前記表示領域に設けられた前記ブラックマトリクスの光の透過率より小さく、
   前記周辺領域の前記第１領域に設けられた前記ブラックマトリクス上には位相差膜が設けられ、
   前記位相差膜は、前記周辺領域の前記第１領域の光の透過率が、前記表示領域に設けられた前記ブラックマトリクスの光の透過率より小さくなるように、当該位相差膜を通過する光の位相を変化させるように構成される
   液晶パネル。
2. 請求項１に記載の液晶パネルを備える液晶表示装置であって、
   前記液晶表示装置は、光を利用して前記液晶パネルの前記表示領域に前記映像を表示する
   液晶表示装置。

Images