JP2019194293A - シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明は、優れた光透過性と優れた難燃性を有する硬化物を与えるシリコーンゴム組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 （Ａ）一分子中に少なくとも２個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと、（Ｂ）比表面積が５０ｍ2／ｇ以上の補強性シリカと、（Ｃ）酸化チタンを含む金属酸化物粒子を担持し、ケイ素原子含有疎水化剤で表面が疎水化され、かつ上記金属酸化物粒子を担持する前の一次粒子径が５〜５０ｎｍの範囲であるシリカと、（Ｅ）トリアゾール系化合物と、（Ｆ）白金系化合物と、（Ｇ）硬化剤とを含有することを特徴とするシリコーンゴム組成物。【選択図】 なし

Description

本発明は、優れた光透過性と優れた難燃性を有する硬化物を与えるシリコーンゴム組成物及び該組成物の硬化物（シリコーンゴム）に関する。

シリコーンゴムは、優れた透明性、耐候性、電気特性、低圧縮永久歪性、耐熱性、耐寒性等の特性を有しているため様々な分野で広く使用されている。特に、家電に使用される材料には、優れた難燃性が要求されている。さらに、ランプホルダーや液晶ブランケット等、光が透過する材料には透明性が要求されている。

シリコーンゴムは主骨格がシロキサン結合からできており、通常の有機ゴムに比べて有機成分（炭化水素成分）の割合が低く、燃えにくい性質がある。しかしながら、直に炎に接するなどの過酷な条件下では、シリコーンゴムに引火し燃焼してしまう。上記の問題を解決するために、シリコーンゴム組成物に難燃性付与剤として白金化合物又は白金化合物とアルキニル基とアルコール性水酸基を有する化合物との反応物に、トリアゾール系化合物を配合することが知られている（特許文献１）。

また、平均粒子径が０．１０〜０．５０μｍの二酸化チタンを添加する方法（特許文献２）も提案されているが、いずれの場合も得られるシリコーンゴム硬化物の透明性が損なわれ、難燃性も十分ではない。
一方、無機粒子の表面にポリシロキサンがグラフト化された無機粒子−ポリシロキサン複合体を配合したシリコーンゴム組成物は、透明性に優れ紫外線吸収性能と耐熱性に優れたシリコーンゴム硬化物を与えるものの（特許文献３）、難燃性については十分な性能を有しているとは言えなかった。

さらに、エポキシ樹脂組成物においては、シリコーンパウダーが難燃性付与剤や難燃助剤として有効であるとの記載（特許文献４，５）があるが、同じ分子構造を持つシリコーンゴムに対して、難燃性向上効果があるかどうかについては明らかではなかった。

特開平１１−１４０３２５号公報 特開平９−１９４７３０号公報 特開２０１７−１０５８９５号公報 国際公開第２０１２／０２９６９０号 国際公開第２０１７／０２２７２１号

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、光透過性に優れ、且つ難燃性に優れたシリコーンゴム（硬化物）となるシリコーンゴム組成物及びシリコーンゴムを提供することを目的とする。

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、一分子中に少なくとも２個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと補強性シリカを含むシリコーンゴム組成物に対し、酸化チタンを含む金属酸化物粒子を担持し、ケイ素原子含有疎水化剤で表面が疎水化され、かつ金属酸化物粒子を担持する前の一次粒子径が５〜５０ｎｍの範囲であるシリカ、白金系化合物及びトリアゾール系化合物を配合することにより、このシリコーンゴム組成物の硬化物が、光透過性に優れ、且つ難燃性に優れることを知見し、本発明をなすに至ったものである。

従って、本発明は、下記のシリコーンゴム組成物及び該組成物を硬化してなるシリコーンゴム提供する。
１．（Ａ）下記平均組成式（１）
Ｒ_nＳｉＯ_(4-n)/2 （１）
（式中、Ｒは同一又は異種の非置換もしくは置換の炭素数１〜１２の１価炭化水素基であり、ｎは１．９５〜２．０５の正数である。）
で表され、一分子中に少なくとも２個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
１００質量部、
（Ｂ）比表面積が５０ｍ²／ｇ以上の補強性シリカ ５〜１００質量部、
（Ｃ）酸化チタンを含む金属酸化物粒子を担持し、ケイ素原子含有疎水化剤で表面が疎水化され、かつ上記金属酸化物粒子を担持する前の一次粒子径が５〜５０ｎｍの範囲であるシリカ ０．０１〜５０質量部、
（Ｅ）トリアゾール系化合物 ０．００１〜０．１質量部、
（Ｆ）白金系化合物
（Ａ）〜（Ｅ）成分の合計質量に対し、０．５〜１，０００ｐｐｍ、及び
（Ｇ）硬化剤 （Ａ）成分を硬化させる有効量
を含有することを特徴とするシリコーンゴム組成物。
２．さらに、（Ｄ）シリコーンレジンパウダーを０〜５０質量部含む上記１記載のシリコーンゴム組成物。
３．上記金属酸化物粒子が、金属酸化物の核と、その外表面に形成された酸化ケイ素の殻とを有するコアシェル構造をなす粒子である上記１又は２記載のシリコーンゴム組成物。
４．上記金属酸化物粒子が、下記一般式（２）で表される有機ケイ素化合物及び／又はその（部分）加水分解縮合物で表面修飾されたものである上記１〜３のいずれかに記載のシリコーンゴム組成物。
Ｒ¹Ｓｉ（Ｙ）₃ （２）
（式中、Ｒ¹は、それぞれ同一又は異なっていてもよく、（メタ）アクリル基、オキシラニル基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基もしくはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数１以上２０以下のアルキル基と、炭素数２以上２０以下のアルケニル基と、炭素数６以上２０以下のアリール基と、ケイ素数１以上５０以下の（ポリ）ジメチルシロキシ基とからなる群から選ばれる置換基又は水素原子であり、Ｙはアルコキシ基、アセトキシ基、エノール基、及び塩素原子からなる群から選ばれる置換基である。）
５．上記（Ｃ）成分のシリカにおいて、上記金属酸化物粒子の含有量が１〜３０質量％である上記１〜４のいずれかに記載のシリコーンゴム組成物。
６．上記（Ｅ）成分のトリアゾール系化合物がベンゾトリアゾールである上記１〜５のいずれかに記載のシリコーンゴム組成物。
７．上記（Ｇ）成分の硬化剤が、オルガノハイドロジェンポリシロキサンとヒドロシリル化触媒との組み合せからなる付加反応硬化型である上記１〜６のいずれかに記載のシリコーンゴム組成物。
８．上記（Ｇ）成分の硬化剤が有機過酸化物である上記１〜６のいずれかに記載のシリコーンゴム組成物。
９．上記１〜８のいずれかに記載のシリコーンゴム組成物の硬化物からなるシリコーンゴム。

本発明のシリコーンゴム組成物は、光透過性及び難燃性に優れたシリコーンゴム（硬化物）を与えることができる。

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のシリコーンゴム組成物は、ベースポリマーとして１分子中に少なくとも２個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン（Ａ）に、硬化剤（Ｇ）として付加反応硬化剤（Ｇ−１）及び／又は有機過酸化物硬化剤（Ｇ−２）を用いるものである。シリコーンゴム組成物の性状はミラブルタイプでも液状タイプでもよい。液状シリコーンゴム組成物は、室温（通常、２５℃±１０℃）において自己流動性があるものであるのに対して、ミラブル型シリコーンゴム組成物とは、粘度が高く、室温において自己流動性がない非液状（固体状又は高粘ちょうなペースト状）であって、ロールミル等の混練手段によって高せん断応力下で均一に混合できる生ゴム状の組成物を意味するものである。

−（Ａ）成分−
本発明において、（Ａ）成分は、下記平均組成式（１）で表されるオルガノポリシロキサンである。
Ｒ_nＳｉＯ_(4-n)/2 （１）
（式中、Ｒは同一又は異種の非置換もしくは置換の炭素数１〜１２の１価炭化水素基であり、ｎは１．９５〜２．０５の正数である。）

上記平均組成式（１）中、Ｒは、同一又は異種の非置換もしくは置換の炭素数１〜１２の１価炭化水素基であり、特に炭素数１〜８のものが好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基、シクロアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、２−フェニルエチル基等のアラルキル基等が挙げられる。また、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、塩素等のハロゲン原子もしくはシアノ基などで置換してもよい。中でも、メチル基、ビニル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基が好ましく、特にメチル基、ビニル基が好ましい。

特に、（Ａ）成分としてのオルガノポリシロキサンは、１分子中に２個以上、通常、２〜５０個、特に２〜２０個程度のアルケニル基、シクロアルケニル基等の脂肪族不飽和基を有するものが好ましく、とりわけビニル基を有するものが好ましい。この場合、全Ｒ中０．０１〜２０モル％、特に０．０２〜１０モル％が脂肪族不飽和基であることが好ましい。なお、この脂肪族不飽和基は、分子鎖末端でケイ素原子に結合していても、分子鎖の途中（分子鎖非末端）のケイ素原子に結合していても、その両方であってもよいが、少なくとも分子鎖末端のケイ素原子に結合していることが好ましい。
また、全Ｒ中８０モル％以上、好ましくは９０モル％以上、より好ましくは９５モル％以上、更に好ましくは脂肪族不飽和基を除く全てのＲが、アルキル基、特にはメチル基であることが望ましい。

上記式（１）中、ｎは１．９５〜２．０５、好ましくは１．９８〜２．０２、より好ましくは１．９９〜２．０１の正数である。

（Ａ）成分であるオルガノポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、又は一部分岐構造を有する直鎖状であることが好ましい。具体的には、該オルガノポリシロキサンの主鎖を構成するジオルガノシロキサン単位（Ｒ₂ＳｉＯ_2/2、Ｒは上記と同じ、以下同様）の繰り返し構造が、ジメチルシロキサン単位のみの繰り返しからなるもの、又はこの主鎖を構成するジメチルシロキサン単位の繰り返しからなるジメチルポリシロキサン構造の一部として、フェニル基、ビニル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基等を置換基として有するジフェニルシロキサン単位、メチルフェニルシロキサン単位、メチルビニルシロキサン単位、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルシロキサン単位等のジオルガノシロキサン単位を導入したもの等が好適である。

また、分子鎖両末端は、例えば、トリメチルシロキシ基、ジメチルフェニルシロキシ基、ビニルジメチルシロキシ基、ジビニルメチルシロキシ基、トリビニルシロキシ基等のトリオルガノシロキシ基（Ｒ₃ＳｉＯ_1/2）やヒドロキシジメチルシロキシ基等のヒドロキシジオルガノシロキシ基（Ｒ₂（ＨＯ）ＳｉＯ_1/2）などで封鎖されていることが好ましい。

（Ａ）成分のオルガノポリシロキサンは、上述したように、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基（Ｒ₃ＳｉＯ_1/2）又はヒドロキシジオルガノシロキシ基（Ｒ₂（ＨＯ）ＳｉＯ_1/2）で封鎖され、主鎖がジオルガノシロキサン単位（Ｒ₂ＳｉＯ_2/2）の繰り返しからなる直鎖状のものを好ましく挙げることができる。特に好ましいものとしては、分子中の置換基（即ち、ケイ素原子に結合する非置換又は置換の１価炭化水素基）の種類として、メチルビニルポリシロキサン、メチルフェニルビニルポリシロキサン、メチルトリフルオロプロピルビニルポリシロキサン、ジメチルポリシロキサン等を挙げることができる。

このようなオルガノポリシロキサンは、例えば、オルガノハロゲノシランの１種又は２種以上を（共）加水分解縮合することにより、或いは環状ポリシロキサン（シロキサンの３量体、４量体等）をアルカリ性又は酸性の触媒を用いて開環重合することによって得ることができる。

なお、上記オルガノポリシロキサンの重合度は１００以上（通常、１００〜１００，０００）、好ましくは１５０〜１００，０００であることが好ましい。なお、この重合度は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析によるポリスチレン換算の重量平均重合度として測定することができる。

（Ａ）成分は、１種を単独で用いても、分子量（重合度）や分子構造の異なる２種又は３種以上の混合物であってもよい。

−（Ｂ）成分−
（Ｂ）成分の補強性シリカは、機械的強度の優れたシリコーンゴム組成物を得るために添加される充填材であり、この目的のためにはＢＥＴ吸着法による比表面積が５０ｍ²／ｇ以上であることが必要であり、好ましくは１００〜４５０ｍ²／ｇ、より好ましくは１００〜３００ｍ²／ｇである。比表面積が５０ｍ²／ｇ未満であると、硬化物の機械的強度が低くなってしまう。

このような補強性シリカとしては、例えば、煙霧質シリカ（ヒュームドシリカ）、沈降シリカ（湿式シリカ）等が挙げられ、また、これらの表面をメチルクロロシラン等のオルガノシラン化合物やヘキサメチルジシラザン等のシラザン化合物などで疎水化処理したものも好適に用いられる。この中でも透明性に優れるシラザン化合物などで疎水化処理した煙霧質シリカが好ましい。

（Ｂ）成分は１種単独でも２種以上を併用してもよい。

（Ｂ）成分の補強性シリカの配合量は、（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００質量部に対して５〜１００質量部であり、１０〜１００質量部が好ましく、２０〜６０質量部であることがより好ましい。（Ｂ）成分の配合量が少なすぎる場合には補強効果が得られず、多すぎる場合には加工性が悪くなり、また機械的強度が低下してしまい、動的疲労耐久性も悪化してしまう。

なお、本発明においては、必要に応じて、（Ｂ）補強性シリカの分散剤（ウェッター）を任意成分として配合することができる。このウェッターとしては、例えば、ジフェニルシランジオール等のシラノール基（即ち、ケイ素原子結合水酸基）含有シラン化合物や、分子鎖両末端シラノール基封鎖の直鎖状ジメチルシロキサンオリゴマー（例えば、重合度又は分子中のケイ素原子数が２〜３０個、特には３〜２０個程度の低重合ポリマー）等のシラノール基含有オルガノシロキサンオリゴマー、シラザンなどから選ばれる１種又は２種以上が用いられる。

ウェッターの配合量としては、ベースポリマー（（Ａ）成分）１００質量部に対し、０〜２５質量部とすることが好ましく、より好ましくは３〜２０質量部の範囲の配合量とすることができる。

−（Ｃ）成分−
（Ｃ）成分は、酸化チタンを含む金属酸化物粒子を担持し、ケイ素原子含有疎水化剤で表面が疎水化され、かつ金属酸化物粒子を担持する前の一次粒子径が５〜５０ｎｍの範囲であるシリカ（金属酸化物担持シリカ）である。

上記金属酸化物粒子としては、酸化チタンを必須とし、酸化スズ、酸化インジウムスズを含むものなどが挙げられ、酸化チタンとスズ及び／又はマンガンとの固溶体を用いてもよい。

また、上記金属酸化物粒子が、金属酸化物の核と、その外表面に形成された酸化ケイ素の殻とを有するコアシェル構造をなす粒子（コアシェル粒子）であってもよい。

なお、金属酸化物の核に酸化ケイ素の殻を形成する方法としては、金属酸化物の粒子の分散液（ゾル）とアルコキシシランとを用いたゾル−ゲル法によって、得られる加水分解物・重縮合物を該粒子表面に形成する方法などが挙げられる。この場合、得られたコアシェル粒子のゾル中での濃度は、１〜５０質量％であることが好ましく、より好ましくは１０〜４０質量％である。上記含有量が１質量％以上であれば、ゾルの添加量が適切となり、本発明のシリコーンゴム組成物中からゾルの分散媒を取り除くのに時間が掛からないため経済的である。一方、上記含有量が５０質量％以下であれば、コアシェル粒子の分散が容易となる。

上記金属酸化物粒子の平均粒子径は、可視領域における透明性が重要であるため、１〜１００ｎｍであることが好ましく、１〜５０ｎｍであることが特に好ましい。上記金属酸化物粒子の平均粒子径が１００ｎｍ以下であれば、可視領域の光波長より小さくなり、散乱が顕著とならない。また、１ｎｍ以上であれば、分散質の系中での総表面積が大きくなりすぎず、凝集が起こりにくいなど分散液とした場合の取扱いが容易になる。

なお、本発明において、金属酸化物粒子の平均粒子径は、レーザー光を用いた動的光散乱法で測定した体積基準の５０％累積分布径（Ｄ₅₀）である。

このようにして得られた金属酸化物粒子は、下記一般式（２）で表される有機ケイ素化合物及び／又はその（部分）加水分解縮合物で表面修飾されていることが好ましい。
Ｒ¹Ｓｉ（Ｙ）₃ （２）
（式中、Ｒ¹は、それぞれ同一又は異なっていてもよく、（メタ）アクリル基、オキシラニル基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基もしくはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数１以上２０以下のアルキル基と、炭素数２以上２０以下のアルケニル基と、炭素数６以上２０以下のアリール基と、ケイ素数１以上５０以下の（ポリ）ジメチルシロキシ基とからなる群から選ばれる置換基又は水素原子であり、Ｙはアルコキシ基、アセトキシ基、エノール基、及び塩素原子からなる群から選ばれる置換基である。）

一般式（２）で示される有機ケイ素化合物の具体例としては、ハイドロジェントリメトキシシラン、ハイドロジェントリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、イソシアネート基同士が結合したトリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、トリス（３−トリエトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、メチルトリメトキシシランの部分加水分解縮合物（商品名「ＫＣ−８９Ｓ」、「Ｘ−４０−９２２０」信越化学工業（株）製）、メチルトリメトキシシランとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの部分加水分解縮合物（商品名「Ｘ−４１−１０５６」信越化学工業（株）製）等のアルコキシシラン類；トリアリルメチルシラン、トリアリルエチルシラン、トリアリルイソプロピルシラン等のアリルシラン類；トリアセトキシメチルシラン、トリアセトキシエチルシラン、トリアセトキシプロピルシラン、トリアセトキシフェニルシラン等のアセトキシシラン類；トリクロロメチルシラン、トリクロロエチルシラン、トリクロロプロピルシラン、トリクロロフェニルシラン等のクロロシラン類；トリイソプロぺニルオキシメチルシラン、エチルトリイソプロぺニルオキシシラン、トリイソプロぺニルオキシプロピルシラン、フェニルトリイソプロぺニルオキシシラン等のエノールシラン類などが挙げられ、中でもハイドロジェントリメトキシシラン、ハイドロジェントリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランが好ましい。

（Ｃ）成分において、酸化チタンを含む金属酸化物粒子を担持させるシリカとしては、例えば、ヒュームドシリカを用いることができる。（Ｃ）成分のシリカは、金属酸化物粒子を担持する前の一次粒子径が５〜５０ｎｍであり、好ましくは５〜１５ｎｍである。即ち、本発明の（Ｃ）成分は、一次粒子径が５〜５０ｎｍのシリカに金属酸化物粒子が担持されている。一次粒子径が５ｎｍ未満になると、シリコーンポリマーへの分散が困難になる。５０ｎｍを超えると、金属酸化物担持シリカを含有したシリコーンポリマーの透明性が悪化する場合がある。

このシリカに金属酸化物粒子を担持させる方法としては、ヘンシェルミキサー、アイリッヒミキサー、高速ミキサーのような回分設備、水平軸回転羽根のような連続設備を使用できる。これらの設備では、シリカ粉末を高速撹拌・混合しているところに、コアシェル構造を有する酸化チタンゾルをスプレーで供給し、均一に分散させることが可能である。これにより、コアシェル構造を有する酸化チタンを担持したシリカを得ることができる。

（Ｃ）成分のシリカは、水、アルコール等の溶媒によって造粒してもよい。造粒することで、シリカの取り扱い性が改善される。

また、本発明では、金属酸化物粒子をシリカに担持させる際か、あるいは担持させた後に、ケイ素原子含有疎水化剤によって、金属酸化物担持シリカを疎水化するものである。
なお、金属酸化物担持シリカの疎水化度は、４０以上であることが好ましい。疎水化度がこのような範囲内であれば、シリカの凝集を防ぐことができ、得られるシリコーンゴムの透明性が良好となる。疎水化度の測定方法については、以下の実施例において説明する。

上記ケイ素原子含有疎水化剤としては、例えば、下記一般式（３）で表されるものを用いることができる。
Ｒ²Ｓｉ（Ｙ）₃ （３）
（式中、Ｒ²は、それぞれ同一又は異なっていてもよく、（メタ）アクリル基、オキシラニル基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基もしくはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数１以上２０以下のアルキル基と、炭素数２以上２０以下のアルケニル基と、炭素数６以上２０以下のアリール基と、ケイ素数５０以下の（ポリ）ジメチルシロキシ基とからなる群から選ばれる置換基又は水素原子であり、Ｙはアルコキシ基、アセトキシ基、エノール基、塩素原子からなる群から選ばれる置換基である。）

この場合、アルキル基としては、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、特にメチル基、エチル基が挙げられ、アリール基としては炭素数６〜１０のもの、特にフェニル基が挙げられる。更に（ポリ）ジメチルシロキシ基のケイ素数は１〜５０、特に１〜３０であることが好ましい。

一般式（３）で示されるケイ素原子含有疎水化剤の具体例としては、ハイドロジェントリメトキシシラン、ハイドロジェントリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、イソシアネート基同士が結合したトリス（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、トリス（３−トリエトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、メチルトリメトキシシランの部分加水分解縮合物（商品名「ＫＣ−８９Ｓ」、「Ｘ−４０−９２２０」信越化学工業（株）製）、メチルトリメトキシシランとγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの部分加水分解縮合物（商品名「Ｘ−４１−１０５６」信越化学工業（株）製）等のアルコキシシラン類；トリアリルメチルシラン、トリアリルエチルシラン、トリアリルイソプロピルシラン等のアリルシラン類；トリアセトキシメチルシラン、トリアセトキシエチルシラン、トリアセトキシプロピルシラン、トリアセトキシフェニルシラン等のアセトキシシラン類；トリクロロメチルシラン、トリクロロエチルシラン、トリクロロプロピルシラン、トリクロロフェニルシラン等のクロロシラン類；トリイソプロぺニルオキシメチルシラン、エチルトリイソプロぺニルオキシシラン、トリイソプロぺニルオキシプロピルシラン、フェニルトリイソプロぺニルオキシシラン等のエノールシラン類などを挙げることができる。

一般式（３）で示されるケイ素原子含有疎水化剤において、Ｒ²が（ポリ）ジメチルシロキサンである場合の具体例としては、下記一般式（４）で表される化合物を挙げることができる。

（式中、Ｍｅはメチル基であり、ｒは０〜４９の整数である）

一般式（４）において、ｒは０以上４９以下の整数であり、好ましくは５以上４０以下の整数であり、より好ましくは１０以上３０以下の整数である。ｒが４９以下であれば、シリコーンオイルとしての性質が適切となり、表面処理されたオルガノゾルの各種樹脂への溶解性が限定されることがない。一般式（４）において、平均構造がｒ＝３０の化合物は、商品名「Ｘ−２４−９８２２」（信越化学工業（株）製）として入手することができる。

ケイ素原子含有疎水化剤の添加量は、（Ｃ）成分のシリカの重量に対して、好ましくは０．０１倍以上で５０倍以下であり、より好ましくは１倍以上で２５倍以下であり、更に好ましくは２倍以上で１０倍以下である。添加量がシリカの重量に対して５０倍以下であれば、スラリー状にならず、乾燥後のシリカの凝集力が小さくなり、シリコーンポリマーに分散させた際の透明性が良好となる。０．０１倍以上であれば、シリカ表面のシラノール基の処理が十分であり、乾燥後のシリカの凝集力が小さくなり、シリコーンポリマーに分散させた際の透明性が良好となる。

（Ｃ）成分のシリカにおいて、金属酸化物粒子の含有量は、金属酸化物粒子を担持後のシリカの全質量に対し、１〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは１〜１０質量％である。金属酸化物粒子の含有量が１質量％以上であれば、紫外線吸収効果が発現しないおそれがなく、３０質量％以下であれば、シリカの分散性が良好となる。

（Ｃ）成分の金属酸化物担持シリカの配合量は、（Ａ）成分１００質量部に対して０．０１〜５０質量部である。

−（Ｄ）成分−
（Ｄ）成分は本発明の組成物における必須成分ではないが、好適に使用することができるものであり、ポリオルガノシルセスキオキサン微粉末であるシリコーンレジンパウダー、例えば、特開平２−２０９９２７号公報記載のものが使用される。
シリコーンレジンパウダーは、レーザー回折法で測定される累積頻度５０％の粒径（ｄ₅₀）が１〜５０μｍ、好ましくは３〜４０μｍである。ｄ₅₀が１μｍ未満であると、難燃性効果が見られず、５０μｍ以上では、透明性が悪化してしまう。

（Ｄ）成分のシリコーンレジンパウダーの配合量は、（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００質量部に対して０〜５０質量部であり、好ましくは０〜４０質量部である。（Ｄ）成分を添加することで、難燃性効果が更に向上するが、上記配合量より多いと、経済的でないだけでなく、透明性が悪化する場合がある。なお、配合する場合は１質量部以上とすることが好ましい。

−（Ｅ）成分−
（Ｅ）成分のトリアゾール系化合物としては、例えば、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール及びこれらの誘導体が挙げられる。具体的に、１，２，３−トリアゾール誘導体としては、ベンゾトリアゾール、４−ヒドロキシ−１，２，３−トリアゾール、１，２，３−トリアゾール−４−アルデヒド、４−シアノ−１，２，３−トリアゾールなどが挙げられる。１，２，４−トリアゾールの誘導体としては、５−アミノ−３−メチル−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾールなどが挙げられる。これらのうち最も好適なものは、ベンゾトリアゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾールである。これらは単独で使用しても２種以上を併用してもよい。

（Ｅ）成分の配合量は、（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００質量部に対して、０．００１〜０．１質量部であり、好ましくは０．００５〜０．０５質量部である。０．００１質量部より少ないと、難燃性が改善されず、０．１質量部より多いと経済的でなく、また、硬化物が黄変する場合がある。

−（Ｆ）成分−
（Ｆ）成分の白金系化合物としては、白金黒、塩化第２白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系化合物が挙げられる。

なお、この白金系化合物の配合量は、白金（質量換算）として、（Ａ）〜（Ｅ）成分の合計質量に対し、０．５〜１，０００ｐｐｍであり、特に１〜５００ｐｐｍ程度である。０．５ｐｐｍより少ないと難燃性が不十分であり、１，０００ｐｐｍより多いと、経済的でなく、また、難燃性が低下する場合がある。

−（Ｇ）成分−
硬化剤としては、（Ａ）成分を硬化させ得るものであれば特に限定されないが、下記の（Ｇ−１）付加反応硬化剤と（Ｇ−２）有機過酸化物硬化剤とが挙げられる。

（Ｇ−１）付加反応硬化剤
（Ｇ−１）付加反応硬化剤としては、オルガノハイドロジェンポリシロキサンとヒドロシリル化触媒とを組み合せて用いる。

オルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、１分子中に２個以上、好ましくは３個以上、より好ましくは３〜２００個、更に好ましくは４〜１００個程度のケイ素原子に結合した水素原子（即ち、ＳｉＨ基）を含有すれば、直鎖状、環状、分枝状、三次元網状構造のいずれであってもよく、付加反応硬化型シリコーンゴム組成物の架橋剤として公知のオルガノハイドロジェンポリシロキサンを用いることができ、例えば、下記平均組成式（５）で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンを用いることができる。
Ｒ²⁰ _pＨ_qＳｉＯ_(4-p-q)/2 （５）

上記平均組成式（５）中、Ｒ²⁰は非置換又は置換の１価炭化水素基を示し、同一であっても異なっていてもよく、脂肪族不飽和結合を除いたものであることが好ましい。通常、炭素数１〜１２、特に１〜８のものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、２−フェニルエチル基、２−フェニルプロピル基等のアラルキル基、及びこれらの基の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子等で置換した基、例えば、３，３，３−トリフロロプロピル基等が挙げられる。

なお、ｐ，ｑは０＜ｐ＜３、好ましくは０．５≦ｐ≦２．２、より好ましくは１．０≦ｐ≦２．０、０＜ｑ≦３、好ましくは０．００２≦ｑ≦１．１、より好ましくは０．００５≦ｑ≦１、０＜ｐ＋ｑ≦３、好ましくは１≦ｐ＋ｑ≦３、より好ましくは１．００２≦ｐ＋ｑ≦２．７を満たす正数である。

オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、ＳｉＨ基を１分子中に２個以上、好ましくは３個以上有するが、これは分子鎖末端にあっても、分子鎖の途中にあっても、その両方にあってもよい。また、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、２５℃における粘度が０．５〜１０，０００ｍＰａ・ｓ、特に１〜３００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。

このようなオルガノハイドロジェンポリシロキサンとして、具体的には、例えば、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、トリス（ハイドロジェンジメチルシロキシ）メチルシラン、トリス（ハイドロジェンジメチルシロキシ）フェニルシラン、メチルハイドロジェンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、（ＣＨ₃）₂ＨＳｉＯ_1/2単位と（ＣＨ₃）₃ＳｉＯ_1/2単位とＳｉＯ_4/2単位とからなる共重合体、（ＣＨ₃）₂ＨＳｉＯ_1/2単位とＳｉＯ_4/2単位とからなる共重合体、（ＣＨ₃）₂ＨＳｉＯ_1/2単位とＳｉＯ_4/2単位と（Ｃ₆Ｈ₅）₃ＳｉＯ_1/2単位とからなる共重合体などや、上記例示化合物において、メチル基の一部又は全部を他のアルキル基や、フェニル基等に置換したものなどが挙げられる。

上記オルガノハイドロジェンポリシロキサンの配合量は、（Ａ）成分１００質量部に対し０．１〜４０質量部が好ましい。また（Ａ）成分の脂肪族不飽和結合（アルケニル基及びジエン基等）１個に対し、ケイ素原子に結合した水素原子（≡ＳｉＨ基）の割合が０．５〜１０個の範囲が適当であり、好ましくは０．７〜５個となるような範囲が適当である。０．５個未満であると架橋が十分でなく、十分な機械的強度が得られない場合があり、また１０個を超えると硬化後の物理特性が低下し、特に耐熱性が悪くなったり、圧縮永久歪が大きくなったりする場合がある。

ヒドロシリル化触媒は、（Ａ）成分のアルケニル基とオルガノハイドロジェンポリシロキサンのケイ素原子結合水素原子（ＳｉＨ基）とをヒドロシリル化付加反応させる触媒である。ヒドロシリル化触媒としては、白金族金属系触媒が挙げられ、白金族金属の単体とその化合物があり、これには従来、付加反応硬化型シリコーンゴム組成物の触媒として公知のものが使用できる。例えば、シリカ、アルミナ又はシリカゲルのような担体に吸着させた粒子状白金金属、塩化第二白金、塩化白金酸、塩化白金酸６水塩のアルコール溶液等の白金触媒、パラジウム触媒、ロジウム触媒等が挙げられるが、白金又は白金化合物（白金触媒）が好ましい。

触媒の添加量は、付加反応を促進できればよく、通常、白金族金属量に換算して（Ａ）成分のオルガノポリシロキサンに対して１質量ｐｐｍ〜１質量％の範囲で使用されるが、１０〜５００質量ｐｐｍの範囲が好ましい。添加量が１質量ｐｐｍ未満であると、付加反応が十分促進されず、硬化が不十分である場合があり、一方、１質量％を超えると、これより多く加えても、反応性に対する影響も少なく、不経済となる場合がある。

なお、（Ｇ−１）成分のヒドロシリル化触媒として用いる白金族金属系触媒は、上記（Ｆ）成分で用いる白金系化合物と同じであっても異なっていてもよいが、同じものを用いる場合は、それぞれ所望の配合量を設定し、全体として多すぎたり少なすぎたりしないよう留意する必要がある。

（Ｇ−２）有機過酸化物硬化剤
（Ｇ−２）有機過酸化物硬化剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ｐ−メチルベンゾイルパーオキサイド、ｏ−メチルベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーベンゾエート、１，６−ヘキサンジオール−ビス−ｔ−ブチルパーオキシカーボネート等が挙げられる。有機過酸化物の添加量は、（Ａ）成分１００質量部に対して０．１〜１０質量部、特に０．２〜５質量部が好ましい。配合量が少なすぎると硬化が不十分となる場合があり、多すぎると有機過酸化物の分解残渣によりシリコーンゴム硬化物が黄変する場合がある。なお、（Ａ）成分に、（Ｇ−１）成分と（Ｇ−２）成分とを、それぞれ上記配合量の範囲内で組み合せて配合した、付加反応硬化と有機過酸化物硬化とを併用した共加硫型のシリコーンゴム組成物とすることもできる。

［その他の成分］
本発明のシリコーンゴム組成物には、本発明の目的を損なわない範囲において上記成分に加え、必要に応じて、粉砕石英、結晶性シリカ、珪藻土、炭酸カルシウム等の充填材、着色剤、引き裂き強度向上剤、受酸剤、アルミナや窒化硼素等の熱伝導率向上剤、離型剤、充填材用分散剤として各種アルコキシシラン、特にフェニル基含有アルコキシシラン及びその加水分解物、ジフェニルシランジオール、カーボンファンクショナルシラン、シラノール基含有低分子シロキサンなどの熱硬化型のシリコーンゴム組成物における公知の充填材や添加剤を添加することは任意である。

このシリコーンゴム組成物の成形、硬化方法としては、常法を採用し得るが、成形法として、射出成形、トランスファー成形、注入成形、圧縮成形等から目的にあった最適な手段を選択することが可能である。硬化条件としては、４０〜２３０℃で３秒〜１６０分間程度の加熱処理（一次加硫）条件を採用し得る。また更に、必要に応じて任意に、４０〜２３０℃で１０分〜２４時間程度の二次加硫（ポストキュア）を行ってもよい。

＜シリコーンゴム＞
更に、本発明では、上記のシリコーンゴム組成物の硬化物からなるシリコーンゴムを提供する。このようなシリコーンゴムであれば、光透過性と難燃性の両物性に優れたシリコーンゴムとなる。このようにして得られるシリコーンゴムは透明性が高く、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１：１９９７に記載の方法で測定した２ｍｍ厚のシリコーンゴム（硬化物）の全光線透過率が７５％以上（７５〜１００％）であることが好ましく、より好ましくは８５％以上（８５〜１００％）である。

以下、実施例と比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、下記例で部は質量部を示す。また、平均重合度は、トルエンを展開溶媒としたゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析におけるポリスチレン換算の数平均重合度を示す。

［調製例１〜５：金属酸化物粒子の調製］
（調製例１Ａ：コアシェル粒子の水分散液（１）の調製）
酸化チタン−酸化スズ複合酸化物を核とし、酸化ケイ素を殻とするコアシェル粒子を分散質とし、水を分散媒として用いて、金属酸化物の水分散液を調製した。具体的には、以下の手順で、まず、核となる酸化チタン−酸化スズ粒子を含有する複合酸化物分散液（ｉ）を製造し、次いで、テトラエトキシシランを加水分解縮合することで、コアシェル粒子を含有する水分散液（１）とした。

（複合酸化物分散液（ｉ）の調製）
３６質量％の塩化チタン（ＩＶ）水溶液（石原産業（株）製、製品名：ＴＣ−３６）６６．０ｇに塩化スズ（ＩＶ）五水和物（和光純薬工業（株）製）１．８ｇを添加し、よく混合した後、これをイオン交換水１，０００ｇで希釈した。この金属塩水溶液混合物に５質量％のアンモニア水（和光純薬工業（株）製）３００ｇを徐々に添加して中和、加水分解することによりスズを含有する水酸化チタンの沈殿物を得た。このときの水酸化チタンスラリーのｐＨは８であった。得られた水酸化チタンの沈殿物を、イオン交換水の添加とデカンテーションを繰り返して脱イオン処理した。この脱イオン処理後のスズを含有する水酸化チタン沈殿物に３０質量％過酸化水素水（和光純薬工業（株）製）１００ｇを徐々に添加し、その後６０℃で３時間撹拌して十分に反応させた。その後、純水を添加して濃度調整を行うことにより、半透明のスズ含有ペルオキソチタン酸溶液（固形分濃度１質量％）を得た。容積５００ｍＬのオートクレーブ（耐圧硝子工業（株）製、製品名：ＴＥＭ−Ｄ５００）に、上記のように合成したペルオキソチタン酸溶液３５０ｍＬを仕込み、これを２００℃、１．５ＭＰａの条件下、２４０分間水熱処理した。その後、オートクレーブ内の反応混合物を、サンプリング管を経由して、２５℃の水浴中に保持した容器に排出し、急速に冷却することで反応を停止させ、複合酸化物分散液（ｉ）を得た。

（コアシェル粒子の水分散液（１）の調製）
磁気回転子と温度計を備えたセパラブルフラスコに、上記の複合酸化物分散液（ｉ）１，０００質量部、エタノール１００質量部、アンモニア２．０質量部を室温（２５℃）で加えて磁気撹拌した。このセパラブルフラスコを氷浴に浸漬し、内容物温度が５℃になるまで冷却した。ここに、テトラエトキシシラン１８質量部（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＢＥ−０４」）を加えた後に、セパラブルフラスコをμＲｅａｃｔｏｒＥｘ（四国計測工業（株）製）内に設置して、周波数２．４５ＧＨｚ・出力１，０００Ｗのマイクロ波を１分間にわたって照射しながら磁気撹拌した。その間、温度計を観測して内容物温度が８５℃に達するのを確認した。得られた混合物を定性ろ紙（Ａｄｖａｎｔｅｃ ２Ｂ）でろ過して希薄コロイド溶液を得た。この希薄分散液をダイナフィルター（三菱化工機（株）社製、製品名「ＤｙＦ１５２／Ｓ」、平均細孔径７ｎｍのＭｇＡｌ₂Ｏ製ディスク［ＡＮＤＲＩＴＺ ＫＭＰＴ ＧｍｂＨ製、品番２０６５１８１、型φ１５２／７ｎｍ］）を用いた限外ろ過によって分散質濃度１０質量％まで濃縮し、酸化チタン−酸化スズ複合酸化物を核とし酸化ケイ素を殻とするコアシェル粒子の水分散液（１）を得た。コアシェル粒子の水分散液（１）の固形分濃度は１５．９質量％、粒径は１９．５ｎｍであった。この時、粒径は動的光散乱法で測定した体積基準の５０％累積分布径（Ｄ₅₀）の値であり、ナノトラックＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装（株）製）を用いて測定した。

（調製例１Ｂ：表面修飾されたコアシェル粒子のエタノール分散液（１）の合成）
ジムロート冷却管、窒素導入管、温度計、機械撹拌羽を備えた４つ口２Ｌセパラブルフラスコに、金属酸化物粒子の水分散液として、コアシェル粒子の水分散液（１）（３００ｇ、固形分濃度１５．９質量％）と、触媒としてスルホン酸系カチオン性イオン交換樹脂を３ｇ入れた。ここに表面修飾剤としてメチルトリメトキシシラン（信越化学業（株）製、製品名「ＫＢＭ−１３」、２３０ｇ）を入れて激しく撹拌（２５０ｒｐｍ）した。撹拌によって分散液とアルコキシシランが反応し、均一になる様子が観測された。その際、分散液の温度が２５℃から５２℃まで上昇する様子が観測された。分散液の温度が５０℃になるように２時間加熱撹拌した後、分散液にエタノール（７５０ｇ）を撹拌（２５０ｒｐｍ）しながら添加して希釈した。希釈分散液をダイナフィルター（三菱化工機（株）製、製品名「ＤｙＦ１５２／Ｓ」、平均細孔径７ｎｍのＭｇＡｌ₂Ｏ製ディスク［ＡＮＤＲＩＴＺ ＫＭＰＴ ＧｍｂＨ製、品番２０６５１８１、型φ１５２／７ｎｍ］）に導入した。０．２ＭＰａの静圧を圧縮空気によって与えながら、フィルターと連結した回転軸を回転（１，０００ｒｐｍ）させた。セラミックフィルターを経て分散液が滲出する様子が観測された。フィルター排出口には受器（５，０００ｍＬ）を設け、滲出液を８００ｇ分取した。濃縮された分散液に対して、継続して有機溶剤（エタノール）を加圧供給（０．２ＭＰａ）した。０．２ＭＰａの静圧を圧縮空気によって与えながら、フィルターと連結した回転軸を回転（１，０００ｒｐｍ）させた。セラミックフィルターを経て分散液が滲出する様子が観測された。フィルター排出口には受器（５，０００ｍＬ）を設け、滲出液が８００ｇに達するまでエタノールの加圧供給を行った。ろ過室から分散液を取り出し、表面修飾されたコアシェル粒子のエタノール分散液（１）を得た。表面修飾されたコアシェル粒子のエタノール分散液（１）の固形分濃度は１７質量％、粒径は１９．２ｎｍであった。この時、粒径は動的光散乱法で測定した体積基準の５０％累積分布径（Ｄ₅₀）の値であり、ナノトラックＵＰＡ−ＥＸ１５０（日機装（株）製）を用いて測定した。

（調製例１−Ｃ：ポリシロキサンがグラフトされたコアシェル粒子（１）の合成）
ジムロート冷却管、窒素導入管、温度計、機械撹拌羽を備えた４つ口２Ｌセパラブルフラスコに、コアシェル粒子のエタノール分散液（１）（２５８ｇ、固形分濃度１７質量％）、エタノール（６３４ｇ）、環状シロキサン（オクタメチルシクロテトラシロキサン［Ｄ４］、１７９ｇ）と、触媒としてトリフルオロメタンスルホン酸（２ｇ）を加えた。室温で１２時間撹拌した後、２時間還流することで開環重合を行った。続いて、エタノールを常圧留去し、エタノールが留去された状態において、更に１１０℃で２時間撹拌した。室温に冷却後、トルエン（３００ｇ）と合成ハイドロタルサイト（協和化学工業（株）製、「キョーワード５００」、８ｇ）を加え、酸触媒を吸着した。キョーワード５００をろ過によって取り除いた後、トルエンを減圧留去によって取り除くことで液状のポリシロキサンをグラフト化したコアシェル粒子（１）を得た。熱重量分析の結果、得られたポリシロキサンがグラフトされたコアシェル粒子（１）に対するシロキサン成分の含有量が７２質量％であった。

（調製例２：表面修飾されたコアシェル粒子のエタノール分散液（２）の合成）
３６質量％の塩化チタン（ＩＶ）水溶液（石原産業（株）製、製品名：ＴＣ−３６）６６．０ｇに塩化スズ（ＩＶ）五水和物（和光純薬工業（株）製）１．８ｇを添加する代わりに、３６質量％の塩化チタン（ＩＶ）水溶液（石原産業（株）製、製品名：ＴＣ−３６）６６．０ｇに塩化スズ（ＩＶ）五水和物（和光純薬工業（株）製）１．８ｇ、酸化マンガン（ＩＩ）（（株）高純度化学研究所）０．０９ｇを添加した以外は、調製例１Ｂと同様にして表面修飾されたコアシェル粒子のエタノール分散液（２）を得た。表面修飾されたコアシェル粒子のエタノール分散液（２）の固形分濃度は１４．５質量％、粒径は１９．２ｎｍであった。

（調製例３：表面修飾されたコアシェル粒子のエタノール分散液（３）の合成）
表面修飾剤としてメチルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、製品名「ＫＢＭ−１３」、２３０ｇ）ではなく、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、製品名「ＫＢＭ−５１０３」、２３０ｇ）を使用した以外は、調製例１Ｂと同様にして表面修飾されたコアシェル粒子のエタノール分散液（３）を得た。表面修飾されたコアシェル粒子のエタノール分散液（３）の固形分濃度は１５質量％、粒径は１９．５ｎｍであった。

［金属酸化物担持シリカの調製例Ｉ〜Ｘ］
（調製例Ｉ：金属酸化物担持シリカ（１）の調製）
ＢＥＴ法による比表面積が２００ｍ²／ｇであるヒュームドシリカ（日本アエロジル社製、アエロジル２００、一次粒子径１２ｎｍ）２００ｇを、高速ミキサー（容積１０Ｌ）に仕込み、回転数１５００ｒｐｍで運転した。回転が安定したところで、ケイ素原子含有疎水化剤として平均重合度４、２５℃における粘度が１５ｍＰａ・ｓであるジメチルポリシロキサン７０ｇを２０秒で噴霧した後、調製例１Ａで得られたコアシェル粒子の水分散液（１）１００ｇと純水２００ｇを６０秒で、噴霧した。これを、乾燥機で水分を除去した後、２５０℃で２．５時間加熱した。得られた金属酸化物担持シリカ（１）は、下記の方法で測定したゆるみ嵩密度が１５０ｇ／Ｌ、メタノール滴定法による疎水化度が６０であった。

＜ゆるみ嵩密度の測定方法＞
セイシン企業製マルチテスターＭＴ−１０００型を使用する。フィーダーユニット上部にロート、フルイ（目開き１５０μｍ）、フルイスペーサーの順に重ね置き、ストッパーで固定する。サンプル台に１００ｍｌのセルを置き、サンプルユニットにサンプルを投入するとともに、フィーダーを振動させ、ふるい落としたサンプルでセルを充填し、擦り切り板で擦り切る。ゆるみ嵩密度ρ（ｇ／ｌ）は次式で得られる。
ρ＝（（Ｗ１−Ｗ０）／１００）×１０００
Ｗ０：セル容器の重量（ｇ）
Ｗ１：セル容器＋サンプル重量（ｇ）

＜疎水化度の測定方法＞
２００ｍｌのビーカーに純水５０ｍｌを入れ、サンプル０．２ｇを加え、マグネットスターラーで撹拌する。メタノールを入れたビュレットの先端を液中に入れ、撹拌下でメタノールを滴下し、サンプルが完全に水中に分散するまでに要したメタノールの添加量をＺｍｌとしたとき、次式で得られる。
疎水化度＝（Ｚ／（５０＋Ｚ））×１００

（調製例ＩＩ：金属酸化物担持シリカ（２）の調製）
ＢＥＴ法による比表面積が２００ｍ²／ｇであるヒュームドシリカ（日本アエロジル社製、アエロジル２００、一次粒子径１２ｎｍ）２００ｇを、高速ミキサー（容積１０Ｌ）に仕込み、回転数１５００ｒｐｍで運転した。回転が安定したところで、ケイ素原子含有疎水化剤として平均重合度４、２５℃における粘度が１５ｍＰａ・ｓであるジメチルポリシロキサン７０ｇを２０秒で噴霧した後、調製例１Ａで得られたコアシェル粒子の水分散液（１）３００ｇを６０秒で、噴霧した。これを、乾燥機で水分を除去した後、２５０℃で２．５時間加熱した。得られた金属酸化物担持シリカ（２）は、ゆるみ嵩密度が２１０ｇ／Ｌ、メタノール滴定法による疎水化度が６２であった。

（調製例ＩＩＩ：金属酸化物担持シリカ（３）の調製）
ケイ素原子含有疎水化剤として平均重合度４、２５℃における粘度が１５ｍＰａ・ｓであるジメチルポリシロキサンではなく、ジメチルジメトキシシラン５０ｇを用いた以外は、調製例Ｉと同様に調製した。得られた金属酸化物担持シリカ（３）は、ゆるみ嵩密度が１６０ｇ／Ｌ、メタノール滴定法による疎水化度が６２であった。

（調製例ＩＶ：金属酸化物担持シリカ（４）の調製）
コアシェル粒子の水分散液（１）ではなく、調製例１Ｂで得られたコアシェル粒子のエタノール分散液（１）を用いた以外は調製例Ｉと同様に調製した。得られた金属酸化物担持シリカ（４）は、ゆるみ嵩密度が１５５ｇ／Ｌ、メタノール滴定法による疎水化度が５８であった。

（調製例Ｖ：金属酸化物担持シリカ（５）の調製）
純水を添加しない以外は、調製例Ｉと同様に調製した。得られた金属酸化物担持シリカ（５）は、ゆるみ嵩密度が７０ｇ／Ｌ、メタノール滴定法による疎水化度が５８であった。

（調製例ＶＩ：金属酸化物担持シリカ（６）の調製）
純水２００ｇではなく、メタノール５００ｇを用いた以外は、調製例ＩＶと同様に調製した。得られた金属酸化物担持シリカ（６）は、ゆるみ嵩密度が１６５ｇ／Ｌ、メタノール滴定法による疎水化度が６２であった。

（調製例ＶＩＩ：金属酸化物担持シリカ（７）の調製）
コアシェル粒子の水分散液（１）ではなく、調製例２で得られたコアシェル粒子のエタノール分散液（２）を用いた以外は、調製例Ｉと同様に調製した。得られた金属酸化物担持シリカ（７）は、ゆるみ嵩密度が１６６ｇ／Ｌ、メタノール滴定法による疎水化度が６１であった。

（調製例ＶＩＩＩ：金属酸化物担持シリカ（８）の調製）
コアシェル粒子の水分散液（１）ではなく、調製例１Ａで得られた複合酸化物分散液（ｉ）を用いた以外は、調製例Ｉと同様に調製した。得られた金属酸化物担持シリカ（８）は、ゆるみ嵩密度が１６０ｇ／Ｌ、メタノール滴定法による疎水化度が６０であった。

（調製例ＩＸ：金属酸化物担持シリカ（９）の調製）
ケイ素原子含有疎水化剤として平均重合度４、２５℃における粘度が１５ｍＰａ・ｓであるジメチルポリシロキサンを添加しない以外は調製例Ｉと同様にして調製した。得られた金属酸化物担持シリカ（９）は、ゆるみ嵩密度が１４０ｇ／Ｌであった。この酸化チタン担持シリカは、水に溶解（疎水化度０）した。

（調製例Ｘ：コアシェル粒子の水分散液とシラノール基含有シロキサンとの混合液１の調製）
調製例１Ｂで得られたコアシェル粒子のエタノール分散液（１）１０ｇと、両末端シラノール基を有し、平均重合度が３、２５℃における粘度が１５ｍＰａ・ｓであるジメチルポリシロキサン４ｇを混合し、コアシェル粒子のエタノール分散液とシラノール基含有シロキサンとの「混合液１」を調製した。

〔実施例１〜１２及び比較例１〜７のシリコーンゴム組成物の作製〕
［実施例１］
（Ａ）成分として、ジメチルシロキサン単位９９．８５０モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１２５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン生ゴム（但し、表中では「オルガノポリシロキサン生ゴムＩ」と表記する）５０質量部、ジメチルシロキサン単位９９．５００モル％、メチルビニルシロキサン単位０．４７５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン生ゴム（但し、表中では「オルガノポリシロキサン生ゴムＩＩ」と表記する）５０質量部、（Ｂ）成分として、ＢＥＴ法比表面積が２３０ｍ²／ｇの表面疎水化処理されたヒュームドシリカ（レオロシールＤＭ３０Ｓ、（株）トクヤマ製）５０質量部に、ヘキサメチルジシラザン４質量部添加し、ニーダーにて混練りし、１７０℃にて２時間加熱処理して組成物（ベースコンパウンド１）を調製した。

この組成物（ベースコンパウンド１）１００質量部に対し、（Ｃ）成分として、調製例Ｉで得られた金属酸化物担持シリカ（１）５質量部、（Ｄ）成分として、平均粒径２．０μｍの三次元網目状に架橋した構造を持つシリコーンレジンパウダー（ＫＭＰ−５９０、信越化学工業（株）製）２０質量部、（Ｅ）成分として、ベンゾトリアゾール０．０２５質量部、（Ｆ）成分として、塩化白金酸６水塩の２−エチルヘキサノール溶液（白金濃度２質量％）０．１質量部、（Ｇ−１）成分として、Ｃ２５Ａ（白金族金属系ヒドロシリル化触媒、白金原子として０．０９質量％含有、信越化学工業（株）製）０．５質量部及びＣ２５Ｂ（オルガノハイドロジェンポリシロキサン４０質量％含有、信越化学工業（株）製、オルガノハイドロジェンポリシロキサン）２．４質量部を添加し、該組成物を１２０℃、７０ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で１０分間プレスキュアを行い、２ｍｍ厚と１ｍｍ厚のシートを作成した。次いで２００℃のオーブンで４時間ポストキュアを実施した。これらのシリコーンゴムシートを室温（２５℃）に戻し、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［実施例２］
（Ｃ）成分として、金属酸化物担持シリカ（１）ではなく、調製例ＩＩで得られた金属酸化物担持シリカ（２）にした以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［実施例３］
（Ｃ）成分として、金属酸化物担持シリカ（１）ではなく、調製例ＩＩＩで得られた金属酸化物担持シリカ（３）にした以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［実施例４］
（Ｃ）成分として、金属酸化物担持シリカ（１）ではなく、調製例ＩＶで得られた金属酸化物担持シリカ（４）にした以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［実施例５］
（Ｃ）成分として、金属酸化物担持シリカ（１）ではなく、調製例Ｖで得られた金属酸化物担持シリカ（５）にした以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［実施例６］
（Ｃ）成分として、金属酸化物担持シリカ（１）ではなく、調製例ＶＩで得られた金属酸化物担持シリカ（６）にした以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［実施例７］
（Ｃ）成分として、金属酸化物担持シリカ（１）ではなく、調製例ＶＩＩで得られた金属酸化物担持シリカ（７）にした以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［実施例８］
（Ｃ）成分として、金属酸化物担持シリカ（１）ではなく、調製例ＶＩＩＩで得られた金属酸化物担持シリカ（８）にした以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［実施例９］
（Ａ）成分として、ジメチルシロキサン単位９９．８５０モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１２５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン生ゴム（但し、表中では「オルガノポリシロキサン生ゴムＩ」と表記する）５０質量部、ジメチルシロキサン単位９９．５００モル％、メチルビニルシロキサン単位０．４７５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン生ゴム（但し、表中では「オルガノポリシロキサン生ゴムＩＩ」と表記する）５０質量部、（Ｂ）成分として、ＢＥＴ法比表面積が２３０ｍ²／ｇの表面疎水化処理されたヒュームドシリカ（レオロシールＤＭ３０Ｓ、（株）トクヤマ製）５０質量部に、ヘキサメチルジシラザン４質量部、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン１．５質量部添加し、ニーダーにて混練りし、１７０℃にて２時間加熱処理して組成物（ベースコンパウンド２）を調製した。

この組成物（ベースコンパウンド２）１００質量部に対し、（Ｃ）成分として、金属酸化物担持シリカ（１）５質量部、（Ｅ）成分として、ベンゾトリアゾール０．０２５質量部、（Ｆ）成分として、塩化白金酸６水塩の２−エチルヘキサノール溶液（白金濃度２質量％）０．１質量部、（Ｇ−１）成分として、Ｃ２５Ａ（白金族金属系ヒドロシリル化触媒、白金原子として０．０９質量％含有、信越化学工業（株）製）０．５質量部及びＣ２５Ｂ（オルガノハイドロジェンポリシロキサン４０質量％含有、信越化学工業（株）製、オルガノハイドロジェンポリシロキサン）２．４質量部を添加し、該組成物を１２０℃、７０ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で１０分間プレスキュアを行い、２ｍｍ厚と１ｍｍ厚のシートを作成した。次いで２００℃のオーブンで４時間ポストキュアを実施した。これらのシリコーンゴムシートを室温（２５℃）に戻し、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［実施例１０］
ベースコンパウンド（１）１００質量部に対し、（Ｃ）成分として、調製例Ｉで得られた金属酸化物担持シリカ（１）５質量部、（Ｄ）成分として、平均粒径２．０μｍの三次元網目状に架橋した構造を持つシリコーンレジンパウダー（ＫＭＰ−５９０、信越化学工業（株）製）２０質量部、（Ｅ）成分として、ベンゾトリアゾール０．０２５質量部、（Ｆ）成分として、塩化白金酸６水塩の２−エチルヘキサノール溶液（白金濃度２質量％）０．１質量部及び（Ｇ−２）成分として、ジクミルパーオキサイド０．３質量部を添加し、該組成物を１７０℃、７０ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で１０分間プレスキュアを行い、２ｍｍ厚と１ｍｍ厚のシートを作成した。次いで２００℃のオーブンで４時間ポストキュアを実施した。これらのシリコーンゴムシートを室温（２５℃）に戻し、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［実施例１１］
（Ａ）成分として、ジメチルシロキサン単位９９．８５０モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１２５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン生ゴム（但し、表中では「オルガノポリシロキサン生ゴムＩ」と表記する）５０質量部、ジメチルシロキサン単位９９．５００モル％、メチルビニルシロキサン単位０．４７５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン生ゴム（但し、表中では「オルガノポリシロキサン生ゴムＩＩ」と表記する）５０質量部、（Ｂ）成分として、ＢＥＴ法比表面積が２３０ｍ²／ｇの表面疎水化処理されたヒュームドシリカ（レオロシールＤＭ３０Ｓ、（株）トクヤマ製）５０質量部、（Ｃ）成分として、調製例Ｉで得られた金属酸化物担持シリカ（１）７．７質量部に、ヘキサメチルジシラザン４質量部添加し、ニーダーにて混練りし、１７０℃にて２時間加熱処理して組成物（ベースコンパウンド３）を調製した。

この組成物（ベースコンパウンド３）１００質量部に対し、（Ｄ）成分として、平均粒径２．０μｍの三次元網目状に架橋した構造を持つシリコーンレジンパウダー（ＫＭＰ−５９０、信越化学工業（株）製）２０質量部、（Ｅ）成分として、ベンゾトリアゾール０．０２５質量部、（Ｆ）成分として、塩化白金酸６水塩の２−エチルヘキサノール溶液（白金濃度２質量％）０．１質量部、（Ｇ−１）成分として、Ｃ２５Ａ（白金族金属系ヒドロシリル化触媒、白金原子として０．０９質量％含有、信越化学工業（株）製）０．５質量部及びＣ２５Ｂ（オルガノハイドロジェンポリシロキサン４０質量％含有、信越化学工業（株）製、オルガノハイドロジェンポリシロキサン）２．４質量部を添加し、該組成物を１２０℃、７０ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で１０分間プレスキュアを行い、２ｍｍ厚と１ｍｍ厚のシートを作成した。次いで２００℃のオーブンで４時間ポストキュアを実施した。これらのシリコーンゴムシートを室温（２５℃）に戻し、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［実施例１２］
ヘキサメチルジシラザンではなく、両末端シラノール基を有し、平均重合度が３、２５℃における粘度が１５ｍＰａ・ｓであるジメチルポリシロキサンにした以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［比較例１］
（Ｃ）成分として、金属酸化物担持シリカ（１）を添加しない以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［比較例２］
（Ｃ）成分と比較する（Ｃ’）成分として、金属酸化物担持シリカ（１）ではなく、調製例ＩＸで得られた金属酸化物担持シリカ（９）にした以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［比較例３］
（Ｅ）成分として、ベンゾトリアゾールを添加しない以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［比較例４］
（Ｆ）成分として、塩化白金酸６水塩の２−エチルヘキサノール溶液を添加しない以外は、実施例１と同様にして、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［比較例５］
（Ａ）成分として、ジメチルシロキサン単位９９．８５０モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１２５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン生ゴム（但し、表中では「オルガノポリシロキサン生ゴムＩ」と表記する）５０質量部、ジメチルシロキサン単位９９．５００モル％、メチルビニルシロキサン単位０．４７５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン生ゴム（但し、表中では「オルガノポリシロキサン生ゴムＩＩ」と表記する）５０質量部、（Ｂ）成分として、ＢＥＴ法比表面積が２３０ｍ²／ｇの表面疎水化処理されたヒュームドシリカ（レオロシールＤＭ３０Ｓ、（株）トクヤマ製）５０質量部に、調製例１Ａで得られたコアシェル粒子の水分散液とシラノール基含有シロキサンとの混合液（１）を３５．８質量部添加し、ニーダーにて混練りし、１７０℃にて２時間加熱処理して組成物（ベースコンパウンド４）を調製した。

この組成物（ベースコンパウンド４）１００質量部に対し、（Ｄ）成分として、平均粒径２．０μｍの三次元網目状に架橋した構造を持つシリコーンレジンパウダー（ＫＭＰ−５９０、信越化学工業（株）製）２０質量部、（Ｅ）成分として、ベンゾトリアゾール０．０２５質量部、（Ｆ）成分として、塩化白金酸６水塩の２−エチルヘキサノール溶液（白金濃度２質量％）０．１質量部、（Ｇ−１）成分として、Ｃ２５Ａ（白金族金属系ヒドロシリル化触媒、白金原子として０．０９質量％含有、信越化学工業（株）製）０．５質量部及びＣ２５Ｂ（オルガノハイドロジェンポリシロキサン４０質量％含有、信越化学工業（株）製、オルガノハイドロジェンポリシロキサン）２．４質量部を添加し、該組成物を１２０℃、７０ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で１０分間プレスキュアを行い、２ｍｍ厚と１ｍｍ厚のシートを作成した。次いで２００℃のオーブンで４時間ポストキュアを実施した。これらのシリコーンゴムシートを室温（２５℃）に戻し、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［比較例６］
（Ａ）成分として、ジメチルシロキサン単位９９．８５０モル％、メチルビニルシロキサン単位０．１２５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン生ゴム（但し、表中では「オルガノポリシロキサン生ゴムＩ」と表記する）５０質量部、ジメチルシロキサン単位９９．５００モル％、メチルビニルシロキサン単位０．４７５モル％、ジメチルビニルシロキシ単位０．０２５モル％からなり、平均重合度が約６，０００であるオルガノポリシロキサン生ゴム（但し、表中では「オルガノポリシロキサン生ゴムＩＩ」と表記する）５０質量部、（Ｂ）成分として、ＢＥＴ法比表面積が２３０ｍ²／ｇの表面疎水化処理されたヒュームドシリカ（レオロシールＤＭ３０Ｓ、（株）トクヤマ製）５０質量部、調製例１Ｂで得られたコアシェル粒子のエタノール分散液（１）３質量部に、ヘキサメチルジシラザン４質量部、ニーダーにて混練りし、１７０℃にて２時間加熱処理して組成物（ベースコンパウンド５）を調製した。

この組成物（ベースコンパウンド５）１００質量部に対し、（Ｅ）成分として、ベンゾトリアゾール０．０２５質量部、（Ｆ）成分として、塩化白金酸６水塩の２−エチルヘキサノール溶液（白金濃度２質量％）０．１質量部、（Ｇ−１）成分として、Ｃ２５Ａ（白金族金属系ヒドロシリル化触媒、白金原子として０．０９質量％含有、信越化学工業（株）製）０．５質量部及びＣ２５Ｂ（オルガノハイドロジェンポリシロキサン４０質量％含有、信越化学工業（株）製、オルガノハイドロジェンポリシロキサン）２．４質量部を添加し、該組成物を１２０℃、７０ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で１０分間プレスキュアを行い、２ｍｍ厚と１ｍｍ厚のシートを作成した。次いで２００℃のオーブンで４時間ポストキュアを実施した。これらのシリコーンゴムシートを室温（２５℃）に戻し、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［比較例７］
ベースコンパウンド（１）１００質量部に対し、（Ｃ）成分と比較する（Ｃ’）成分として、調製例１−Ｃで得られたポリシロキサンがグラフトされたコアシェル粒子（１）１．４質量部、（Ｇ−１）成分として、Ｃ２５Ａ（白金族金属系ヒドロシリル化触媒、白金原子として０．０９質量％含有、信越化学工業（株）製）０．５質量部及びＣ２５Ｂ（オルガノハイドロジェンポリシロキサン４０質量％含有、信越化学工業（株）製、オルガノハイドロジェンポリシロキサン）２．４質量部を添加し、該組成物を１２０℃、７０ｋｇｆ／ｃｍ²の条件で１０分間プレスキュアを行い、２ｍｍ厚と１ｍｍ厚のシートを作成した。次いで２００℃のオーブンで４時間ポストキュアを実施した。これらのシリコーンゴムシートを室温（２５℃）に戻し、各種物性、光透過率及び難燃性を測定した。

［各種物性の測定］
ＪＩＳ Ｋ ６２４９：２００３に準拠して作製した試験用シートを用いて、ＪＩＳ Ｋ ６２４９：２００３に準じた方法で、各種物性〔硬さ（デュロメーターＡ）、引張強さ、切断時伸び〕を測定した。その結果を下記の表１（各実施例）及び表２（各比較例）に示す。

［光透過率の測定］
ヘーズメーター（スガ試験機（株）製、型式：ＨＧＭ−２）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１：１９９７に記載の方法により、２００℃、４時間ポストキュア後の２ｍｍ厚シリコーンゴムシートの光透過率を測定した。その結果を下記の表１（各実施例）及び表２（各比較例）に示す。

［難燃性の測定］
難燃性測定は、ＵＬ９４の２０ｍｍ垂直燃焼試験に規定する方法に従って、５枚の１ｍｍ厚のシリコーンゴムシートを用い、残炎時期間Ｔ１及びＴ２、及び、全ての処理による各組の残炎時間の合計（５枚のシリコーンゴムシートのＴ１＋Ｔ２の合計）を測定し、また結果に基づき、材料の難燃性区分を行った。Ｔ１とは第１回接炎後の残炎時間、Ｔ２とは第２回接炎後の残炎時間を表す。

Claims (9)

1. （Ａ）下記平均組成式（１）
   Ｒ_nＳｉＯ_(4-n)/2 （１）
   （式中、Ｒは同一又は異種の非置換もしくは置換の炭素数１〜１２の１価炭化水素基であり、ｎは１．９５〜２．０５の正数である。）
   で表され、一分子中に少なくとも２個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
   １００質量部、
   （Ｂ）比表面積が５０ｍ²／ｇ以上の補強性シリカ ５〜１００質量部、
   （Ｃ）酸化チタンを含む金属酸化物粒子を担持し、ケイ素原子含有疎水化剤で表面が疎水化され、かつ上記金属酸化物粒子を担持する前の一次粒子径が５〜５０ｎｍの範囲であるシリカ ０．０１〜５０質量部、
   （Ｅ）トリアゾール系化合物 ０．００１〜０．１質量部、
   （Ｆ）白金系化合物
   （Ａ）〜（Ｅ）成分の合計質量に対し、０．５〜１，０００ｐｐｍ、及び
   （Ｇ）硬化剤 （Ａ）成分を硬化させる有効量
   を含有することを特徴とするシリコーンゴム組成物。
2. さらに、（Ｄ）シリコーンレジンパウダーを０〜５０質量部含む請求項１記載のシリコーンゴム組成物。
3. 上記金属酸化物粒子が、金属酸化物の核と、その外表面に形成された酸化ケイ素の殻とを有するコアシェル構造をなす粒子である請求項１又は２記載のシリコーンゴム組成物。
4. 上記金属酸化物粒子が、下記一般式（２）で表される有機ケイ素化合物及び／又はその（部分）加水分解縮合物で表面修飾されたものである請求項１〜３のいずれか１項記載のシリコーンゴム組成物。
   Ｒ¹Ｓｉ（Ｙ）₃ （２）
   （式中、Ｒ¹は、それぞれ同一又は異なっていてもよく、（メタ）アクリル基、オキシラニル基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基もしくはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数１以上２０以下のアルキル基と、炭素数２以上２０以下のアルケニル基と、炭素数６以上２０以下のアリール基と、ケイ素数１以上５０以下の（ポリ）ジメチルシロキシ基とからなる群から選ばれる置換基又は水素原子であり、Ｙはアルコキシ基、アセトキシ基、エノール基、及び塩素原子からなる群から選ばれる置換基である。）
5. 上記（Ｃ）成分のシリカにおいて、上記金属酸化物粒子の含有量が１〜３０質量％である請求項１〜４のいずれか１項記載のシリコーンゴム組成物。
6. 上記（Ｅ）成分のトリアゾール系化合物がベンゾトリアゾールである請求項１〜５のいずれか１項記載のシリコーンゴム組成物。
7. 上記（Ｇ）成分の硬化剤が、オルガノハイドロジェンポリシロキサンとヒドロシリル化触媒との組み合せからなる付加反応硬化型である請求項１〜６のいずれか１項記載のシリコーンゴム組成物。
8. 上記（Ｇ）成分の硬化剤が有機過酸化物である請求項１〜６のいずれか１項記載のシリコーンゴム組成物。
9. 請求項１〜８のいずれか１項記載のシリコーンゴム組成物の硬化物からなるシリコーンゴム。