JP2019192821A5 - - Google Patents

Description

上記課題を解決する本発明の一側面としての成形装置は、型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置であって、前記基板を保持して移動する移動部と、気体を供給する気体供給部と、を有し、前記気体供給部は前記移動部に保持された前記基板の周囲に配置された供給口を有し、前記基板上の周辺の成形領域に前記組成物が供給された後に前記移動部が前記基板を移動させている間に前記供給口から前記気体を供給する。

図７は、実施例３に係る第１気体供給部２６、及び第２気体供給部２７を示す図である。第１気体供給部２６は、実施例１と同様に、型７の周辺に配置され、型７と基板１０との間の空間に、第１気体３０を供給する。第２気体供給部２７は、実施例２と同様に、基板ステージ４（基板チャック１４）に配置される。また、第２気体供給部２７の供給口は、基板１０の側面と補助部材１５の間の基板ステージ４（基板チャック１４）の上面に配置される。第２気体供給部２７が空間２８に第１気体３０を供給することにより、空間２８において第１気体３０の濃度を上げることができる。さらに、第２気体供給部２７の供給口の上を覆うように、補助部材１５に遮蔽部材３１が配置される。遮蔽部材３１は、第２気体供給部２７により供給される第１気体の気流を遮蔽して、第１気体の気流により巻き上げられた異物が補助部材１５の上面より上の空間に飛散して、基板１０や型７などに付着することを抑制することができる。また、遮蔽部材３１を配置することにより第２気体供給部２７から供給された第１気体３０の濃度が短時間で上昇するという効果も得られる。これにより、周辺にあるショット領域における不良の発生を低減することができる。また、第２気体供給部２７の供給口には、第１気体３０の供給により異物の巻き上げや局所的な圧力の上昇を低減するために、多孔質やメッシュ形状の部材が備えられるとよい。

Claims (17)

1. 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置であって、
   前記基板を保持して移動する移動部と、
   気体を供給する気体供給部と、を有し、
   前記気体供給部は前記移動部に保持された前記基板の周囲に配置された供給口を有し、前記基板上の周辺の成形領域に前記組成物が供給された後に前記移動部が前記基板を移動させている間に前記供給口から前記気体を供給することを特徴とする成形装置。
2. 前記供給口は前記移動部に保持された前記基板の上面より低い位置に配置されていることを特徴とする、請求項１に記載の成形装置。
3. 前記移動部は前記移動部に保持された前記基板の周囲を囲む補助部材を有しており、前記供給口は前記移動部に保持された基板の側面に対向する、前記補助部材の側面に配置されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の成形装置。
4. 前記移動部は前記移動部に保持された前記基板の周囲を囲む補助部材を有しており、前記供給口は前記移動部に保持された前記基板と前記補助部材の間であって前記移動部の上面に配置されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の成形装置。
5. 前記気体供給部は前記供給口とは異なる他の供給口を有し、前記他の供給口は前記移動部に保持された基板の側面に対向する、前記補助部材の側面に配置されていることを特徴とする、請求項４に記載の成形装置。
6. 前記移動部は前記供給口の上を覆う遮蔽部材を有することを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の成形装置。
7. 前記補助部材の上面の高さと前記移動部に保持された基板の上面の高さとの差は１ｍｍ以下であることを特徴とする、請求項３乃至６のいずれか１項に記載の成形装置。
8. 前記気体供給部は複数の前記供給口を有しており、前記組成物を成形する前記基板上の成形領域の位置に基づいて、前記気体を供給する前記供給口を切り替えることを特徴とする、請求項３乃至７のいずれか１項に記載の成形装置。
9. 前記移動部は前記移動部に保持された前記基板と前記補助部材の間の複数の空間を仕切る仕切り部材を有しており、前記複数の空間のそれぞれに少なくとも１つの前記供給口が配置されていることを特徴とする、請求項８に記載の成形装置。
10. 前記気体供給部は、ヘリウム及び二酸化炭素のうち少なくとも一方を含む気体を供給することを特徴とする、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の成形装置。
11. 前記型を保持する型保持部と、前記型保持部に保持された前記型の周囲に気体を供給する他の気体供給部とを有し、前記気体供給部は、前記他の気体供給部が前記気体を供給している状態で、前記気体を供給することを特徴とする、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の成形装置。
12. 前記他の気体供給部は、ヘリウム及び二酸化炭素のうち少なくとも一方を含む気体を供給することを特徴とする、請求項１１に記載の成形装置。
13. 前記基板上の成形領域に前記組成物を供給する組成物供給部を有し、前記移動部が前記成形領域を前記組成物供給部と対向する位置から前記型保持部に対向する位置に移動させている間に、前記気体供給部は前記気体を供給することを特徴とする、請求項１１又は１２に記載の成形装置。
14. 前記成形装置は、型のパターンを前記組成物に接触させることにより前記組成物のパターンを成形することを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の成形装置。
15. 前記成形装置は、型の平面部を前記組成物に接触させることにより前記組成物を平坦にすることを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の成形装置。
16. 型を用いて基板上に組成物を成形する成形方法であって、
    組成物供給部により前記基板上の周辺の成形領域に組成物を供給する第１供給工程と、
    前記基板を保持して移動する移動部により前記成形領域を前記組成物供給部と対向する位置から前記型を保持する型保持部に対向する位置に移動させる移動工程と、
    前記移動工程において前記基板を移動させている間に前記基板の周囲に配置された供給口から気体を供給する第２供給工程と、
    前記基板上の周辺の成形領域に前記型を用いて組成物を成形する成形工程と、を有する
    ことを特徴とする成形方法。
17. 組成物供給部により基板上の周辺の成形領域に組成物を供給する第１供給工程と、
    前記基板を保持して移動する移動部により前記成形領域を前記組成物供給部と対向する位置から型を保持する型保持部に対向する位置に移動させる移動工程と、
    前記移動工程において前記基板を移動させている間に前記基板の周囲に配置された供給口から気体を供給する第２供給工程と、
    前記基板上の周辺の成形領域に前記型を用いて組成物を成形する成形工程と、
    前記組成物が成形された前記基板を処理する処理工程と、
    前記処理工程において処理された前記基板から物品を製造する製造工程と、を有する
    ことを特徴とする物品の製造方法。