JP2021027107A5 - - Google Patents

Claims (17)

1. 型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
   前記型の側から前記基板の側に向けて気体を吹き出す吹出口を含み、前記型と前記基板との間の空間を取り囲む気流を前記気体によって形成する形成部と、
   未硬化のインプリント材が供給された前記基板上の複数のショット領域に対して前記インプリント処理を連続的に行う際に、前記形成部を制御する制御部と、
   を有し、
   前記制御部は、前記インプリント処理において、前記複数のショット領域のうちの少なくとも１つのショット領域と前記型とが対向する状態で前記吹出口の下に未硬化のインプリント材が存在する場合には、前記吹出口から吹き出す前記気体の流量が、前記吹出口の下に未硬化のインプリント材が存在しない場合に前記吹出口から吹き出す前記気体の第１流量よりも少ない第２流量となるように、前記形成部を制御することを特徴とするインプリント装置。
2. 前記制御部は、前記基板の移動中に前記吹出口から吹き出す前記気体の流量が前記基板の静止中に前記吹出口から吹き出す前記気体の流量よりも少なくなるように、前記形成部を制御することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
3. 前記形成部は、前記気体を吹き出す複数の吹出口を含み、
   前記制御部は、前記複数の吹出口のそれぞれと前記複数のショット領域に供給された未硬化のインプリント材との位置関係に基づいて、前記複数の吹出口のそれぞれから吹き出す前記気体の流量を個別に調整するように、前記形成部を制御することを特徴とする請求項１又は２に記載のインプリント装置。
4. 前記制御部は、前記複数の吹出口のうち、下に未硬化のインプリント材が存在する吹出口から吹き出す前記気体の流量が、下に未硬化のインプリント材が存在しない吹出口から吹き出す前記気体の流量よりも少なくなるように、前記形成部を制御することを特徴とする請求項３に記載のインプリント装置。
5. 前記複数のショット領域は、未硬化のインプリント材が供給された第１ショット領域及び第２ショット領域を含み、
   前記制御部は、前記第１ショット領域及び前記第２ショット領域に対して前記インプリント処理を連続的に行う際に、前記第１ショット領域に対する前記インプリント処理において前記吹出口から吹き出す前記気体の流量を前記第２流量としている場合、前記第２ショット領域に対する前記インプリント処理において前記吹出口から吹き出す前記気体の流量を、前記第２流量で維持するか、又は、前記第２流量から前記第１流量に戻すか、を制御することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
6. 前記制御部は、前記第２ショット領域と前記型とが対向する状態で前記吹出口の下に未硬化のインプリント材が存在する場合には、前記吹出口から吹き出す前記気体の流量を前記第２流量で維持し、前記吹出口の下に未硬化のインプリント材が存在しない場合には、前記吹出口から吹き出す前記気体の流量を前記第２流量から前記第１流量に戻すように、前記形成部を制御することを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
7. 前記形成部は、互いに独立な第１形成部及び第２形成部を含み、
   前記制御部は、前記第１形成部及び前記第２形成部のそれぞれの吹出口から吹き出す前記気体の流量を個別に制御する、
   ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
8. 前記第１形成部と前記第２形成部とは、前記型を挟んで配置されていることを特徴とする請求項７に記載のインプリント装置。
9. 前記形成部は、前記型を取り囲むように配置されていることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
10. 前記複数のショット領域のそれぞれに未硬化のインプリント材を供給する供給部を更に有することを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
11. 前記複数のショット領域に未硬化のインプリント材が供給された基板を搬入するための搬入部を更に有することを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
12. 型を用いて基板上の第１ショット領域及び第２ショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
    前記基板に向けて気体を吹き出すための吹出口を含み、前記型と前記基板との間の空間を取り囲むように前記気体を供給する気体供給部と、
    前記第１ショット領域及び前記第２ショット領域に前記インプリント材が供給された状態で、前記第１ショット領域に前記パターンを形成した後に前記第２ショット領域に前記パターンを形成するように制御する制御部と、
    を有し、
    前記制御部は、前記第１ショット領域と前記型とが互いに対向する状態で前記第１ショット領域に前記パターンを形成するときに前記第２ショット領域に対向する位置にある前記吹出口から吹き出される前記気体の流量を減少させることを特徴とするインプリント装置。
13. 前記制御部は、前記吹出口が前記第２ショット領域に対向する位置にないときに前記吹出口から吹き出される前記気体の流量よりも、前記吹出口が前記第２ショット領域に対向する位置にあるときに前記吹出口から吹き出される前記気体の流量を減少させることを特徴とする請求項１２に記載のインプリント装置。
14. 前記気体供給部は、前記基板に向けて前記気体を吹き出すための第１吹出口及び第２吹出口を含み、
    前記第１吹出口は、前記第１ショット領域に前記パターンを形成するときに前記第２ショット領域に対向する位置に配置され、前記第２吹出口は、前記第１ショット領域に前記パターンを形成するときに前記第２ショット領域に対向しない位置に配置され、
    前記制御部は、前記第１ショット領域に前記パターンを形成するときに前記第２吹出口から吹き出される前記気体の流量よりも前記第１吹出口から吹き出される前記気体の流量を減少させることを特徴とする請求項１２又は１３に記載のインプリント装置。
15. 型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント方法であって、
    前記型の側から前記基板の側に向けて吹出口から気体を吹き出して、前記型と前記基板との間の空間を取り囲む気流を前記気体によって形成しながら、未硬化のインプリント材が供給された前記基板上の複数のショット領域に対して前記インプリント処理を連続的に行う工程を有し、
    前記工程では、前記インプリント処理において、前記複数のショット領域のうちの少なくとも１つのショット領域と前記型とが対向する状態で前記吹出口の下に未硬化のインプリント材が存在する場合には、前記吹出口から吹き出す前記気体の流量を、前記吹出口の下に未硬化のインプリント材が存在しない場合に前記吹出口から吹き出す前記気体の第１流量よりも少ない第２流量にすることを特徴とするインプリント方法。
16. 型を用いて基板上の第１ショット領域及び第２ショット領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
    吹出口から前記基板に向けて気体を吹き出すことで前記型と前記基板との間の空間を取り囲むように前記気体を供給しながら、前記第１ショット領域及び前記第２ショット領域に前記パターンを形成する工程を有し、
    前記工程では、前記第１ショット領域に前記パターンを形成するときに前記第２ショット領域に対向する位置にある前記吹出口から吹き出される前記気体の流量を減少させることを特徴とするインプリント方法。
17. 請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
    前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
    処理された前記基板から物品を製造する工程と、
    を有することを特徴とする物品の製造方法。