CN107479324A - 一种能够进行空气循环的纳米压印设备 - Google Patents

一种能够进行空气循环的纳米压印设备 Download PDF

Info

Publication number
CN107479324A
CN107479324A CN201710769532.5A CN201710769532A CN107479324A CN 107479324 A CN107479324 A CN 107479324A CN 201710769532 A CN201710769532 A CN 201710769532A CN 107479324 A CN107479324 A CN 107479324A
Authority
CN
China
Prior art keywords
air
lifting platform
nano
support base
imprinting apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710769532.5A
Other languages
English (en)
Inventor
赵敏洁
杨彦涛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuxi Imprint Nano Technology Co Ltd
Original Assignee
Wuxi Imprint Nano Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuxi Imprint Nano Technology Co Ltd filed Critical Wuxi Imprint Nano Technology Co Ltd
Priority to CN201710769532.5A priority Critical patent/CN107479324A/zh
Publication of CN107479324A publication Critical patent/CN107479324A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)

Abstract

本发明公开了一种能够进行空气循环的纳米压印设备,包括支撑座和升降台,支撑座和升降台的外部设有壳体,升降台的四周具有多根升降柱固定于支撑座上,升降台可以沿升降柱移动,所述支撑座上还设有硅胶垫和样品台,升降台中部设有模板以及位于模板上方的紫外灯。所述壳体在样平台的高度位置设有空气进口和空气出口,空气进口和空气出口相对设置,所述壳体上的空气进口沿气流的方向直径越来越大,空气出口沿气流的方向直径越来越小,空气进口直径最大处设有一层能够进行空气滤清的滤网。采用本发明的设计,能够尽量减缓空气在样品台出的空气流速,并且加快整体的空气循环效率,同时防止循环后的空气携带压印杂质,影响下一次的压印效果。

Description

一种能够进行空气循环的纳米压印设备
技术领域
本发明涉及一种纳米压印设备,特别是一种能够进行空气循环的纳米压印设备。
背景技术
现有的纳米压印设备一般采用非循环式空气流通,防止纳米压印过程中的杂质进行循环,并且现有的纳米压印设备在空气进口和出口处均设置空气阀以能够对空气的流速进行管控,但是此量种设计需要的成本均较高。
发明内容
发明目的:本发明在于解决现有的纳米压印设备采用非循环式空气流通或空气阀进行空气管控成本较高的问题。
技术方案:本发明提供以下技术方案:一种能够进行空气循环的纳米压印设备,包括支撑座和升降台,支撑座和升降台的外部设有壳体,升降台的四周具有多根升降柱固定于支撑座上,升降台可以沿升降柱移动,所述支撑座上还设有硅胶垫和样品台,升降台中部设有模板以及位于模板上方的紫外灯,所述壳体在样平台的高度位置设有空气进口和空气出口,所述壳体上的空气进口沿气流的方向直径越来越大,空气出口沿气流的方向直径越来越小。
进一步地,所述空气进口直径最大处设有一层能够进行空气滤清的滤网。
进一步地,所述空气进口和空气出口沿同一直线相对设置。
进一步地,所述空气进口和空气出口在壳体的外部通过直径不大于3cm的空气管路连接,空气管路的中部设有空气泵。
进一步地,所述空气管路的外部包覆有一层网状散热膜。
进一步地,所述网状散热膜为网状石墨散热膜。
工作原理:在压印过程中,空气能够带走样品台上样品压印产生的杂质,并且随着空气流动,进入空气管路,最终会阻挡在滤网上,只需进行定时清洗即可,同时,空气进口位置能够通过通孔直径的变化,使得空气流速变小,防止对压印过程产生问题,而空气出口位置相反,空气流速加快,能够提高空气循环的速度。
有益效果:本发明与现有技术相比:采用本发明的设计,能够尽量减缓空气在样品台出的空气流速,并且加快整体的空气循环效率,同时防止循环后的空气携带压印杂质,影响下一次的压印效果。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步的解释。
如附图1所示,一种能够进行空气循环的纳米压印设备,包括支撑座1和升降台2,支撑座1和升降台2的外部设有壳体3,升降台2的四周具有多根升降柱4固定于支撑座1上,升降台2可以沿升降柱4移动,所述支撑座1上还设有硅胶垫5和样品台6,升降台2中部设有模板7以及位于模板7上方的紫外灯8,所述壳体3在样平台6的高度位置设有空气进口9和空气出口10,所述壳体3上的空气进口10沿气流的方向直径越来越大,空气出口10沿气流的方向直径越来越小。
所述空气进口9直径最大处设有一层能够进行空气滤清的滤网11。
所述空气进口9和空气出口10沿同一直线相对设置。
所述空气进口9和空气出口10在壳体3的外部通过直径不大于3cm的空气管路12连接,空气管路12的中部设有空气泵13。
所述空气管路12的外部包覆有一层网状散热膜(未图示)。
所述网状散热膜为网状石墨散热膜。
在压印过程中,空气能够带走样品台6上样品压印产生的杂质,并且随着空气流动,进入空气管路12,最终会阻挡在滤网11上,只需进行定时清洗即可,同时,空气进口9位置能够通过通孔直径的变化,使得空气流速变小,防止对压印过程产生问题,而空气出口10位置相反,空气流速加快,能够提高空气循环的速度。
本发明提供了一种能够进行空气循环的纳米压印设备,具体实现该技术方案的方法和途径很多,以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围,本实施例中未明确的各组成部分均可用现有技术加以实现。

Claims (6)

1.一种能够进行空气循环的纳米压印设备,包括支撑座和升降台,支撑座和升降台的外部设有壳体,升降台的四周具有多根升降柱固定于支撑座上,升降台可以沿升降柱移动,所述支撑座上还设有硅胶垫和样品台,升降台中部设有模板以及位于模板上方的紫外灯,其特征在于:所述壳体在样平台的高度位置设有空气进口和空气出口,所述壳体上的空气进口沿气流的方向直径越来越大,空气出口沿气流的方向直径越来越小。
2.根据权利要求1所述的能够进行空气循环的纳米压印设备,其特征在于:所述空气进口直径最大处设有一层能够进行空气滤清的滤网。
3.根据权利要求1所述的能够进行空气循环的纳米压印设备,其特征在于:所述空气进口和空气出口沿同一直线相对设置。
4.根据权利要求1所述的能够进行空气循环的纳米压印设备,其特征在于:所述空气进口和空气出口在壳体的外部通过直径不大于3cm的空气管路连接,空气管路的中部设有空气泵。
5.根据权利要求4所述的能够进行空气循环的纳米压印设备,其特征在于:所述空气管路的外部包覆有一层网状散热膜。
6.根据权利要求5所述的能够进行空气循环的纳米压印设备,其特征在于:所述网状散热膜为网状石墨散热膜。
CN201710769532.5A 2017-08-31 2017-08-31 一种能够进行空气循环的纳米压印设备 Pending CN107479324A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710769532.5A CN107479324A (zh) 2017-08-31 2017-08-31 一种能够进行空气循环的纳米压印设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710769532.5A CN107479324A (zh) 2017-08-31 2017-08-31 一种能够进行空气循环的纳米压印设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107479324A true CN107479324A (zh) 2017-12-15

Family

ID=60603434

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710769532.5A Pending CN107479324A (zh) 2017-08-31 2017-08-31 一种能够进行空气循环的纳米压印设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107479324A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019160961A (ja) * 2018-03-12 2019-09-19 キヤノン株式会社 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置、成形方法、および物品の製造方法
JP2021027107A (ja) * 2019-08-01 2021-02-22 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006013401A (ja) * 2004-06-29 2006-01-12 Canon Inc 微細加工装置
CN105652591A (zh) * 2014-12-02 2016-06-08 佳能株式会社 压印装置及物品的制造方法
US9547234B2 (en) * 2009-07-27 2017-01-17 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography apparatus and method
WO2017073388A1 (ja) * 2015-10-29 2017-05-04 国立研究開発法人産業技術総合研究所 インプリント装置
CN206348588U (zh) * 2016-12-26 2017-07-21 长春工业大学 一种紫外纳米压印装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006013401A (ja) * 2004-06-29 2006-01-12 Canon Inc 微細加工装置
US9547234B2 (en) * 2009-07-27 2017-01-17 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography apparatus and method
CN105652591A (zh) * 2014-12-02 2016-06-08 佳能株式会社 压印装置及物品的制造方法
WO2017073388A1 (ja) * 2015-10-29 2017-05-04 国立研究開発法人産業技術総合研究所 インプリント装置
CN206348588U (zh) * 2016-12-26 2017-07-21 长春工业大学 一种紫外纳米压印装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019160961A (ja) * 2018-03-12 2019-09-19 キヤノン株式会社 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置、成形方法、および物品の製造方法
JP7118674B2 (ja) 2018-03-12 2022-08-16 キヤノン株式会社 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置、成形方法、および物品の製造方法
JP2021027107A (ja) * 2019-08-01 2021-02-22 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
US11822234B2 (en) 2019-08-01 2023-11-21 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus, imprint method, and article manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN206103653U (zh) 一种实现气体均布的真空变压制氧吸附塔
CN107479324A (zh) 一种能够进行空气循环的纳米压印设备
CN104888585A (zh) 一种高效废气喷淋装置
CN202207521U (zh) 一种旋风脉冲袋式收尘器
CN107913581A (zh) 一种工业废气处理用填料塔
CN107335309A (zh) 一种应用在污泥干化工艺中的高效除尘器
CN207445847U (zh) 一种高效水雾除尘器
CN208591670U (zh) 一种尾气回收用喷淋塔
CN208612121U (zh) 稀土废气处理系统
CN204768159U (zh) 一种高效废气喷淋装置
CN106422614B (zh) 一种均匀送风的滤筒除尘器
CN107727354A (zh) 一种分流式低温风洞排气烟囱
CN210522233U (zh) 一种黑臭水道修复用氨氮吸附塔
CN208613332U (zh) 一种风机抽风系统
CN204474361U (zh) 一种除碳器
CN106622660A (zh) 一种侧出口式湿式电除尘器
CN204522635U (zh) 一种高效水幕除尘器
CN207137682U (zh) 循环流化床脱硫系统
CN219531600U (zh) 一种料斗烘干装置
CN207221539U (zh) 一种利用除尘风机除尘的设备
CN206823437U (zh) 一种水雾吸收室装置
CN205667783U (zh) 用于印刷废气的环保处理系统
CN205570073U (zh) 一种新型工厂废气处理装置
CN206240293U (zh) 一种印刷废气处理装置
CN205886642U (zh) 静态混风器

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20171215