JP2019176021A - 半導体チップの製造方法、表面保護テープ - Google Patents
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Abstract
Description
前述したように、表面保護テープ3は、基材フィルム3aに粘着剤層3bを設けた構成からなり、パターン面2に形成された半導体素子を保護する機能を有する。即ち、前述したウェハ薄膜化工程では、パターン面2で半導体ウェハ1を支持してウェハの裏面が研削されるために、この研削時の負荷に耐える必要がある。そのため、表面保護テープ3は単なるレジスト膜等とは異なり、パターン面に形成される素子を被覆するだけの厚みがあって、その押圧抵抗は低く、また研削時のダストや研削水などの浸入が起こらないように素子を密着できるだけの密着性が高いものである。
表面保護テープ3のうち基材フィルム3aはプラスチックやゴム等からなり、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリブテン−1、ポリ−4−メチルペンテン−1、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、アイオノマー等のα−オレフィンの単独重合体または共重合体、あるいはこれらの混合物、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、スチレン−エチレン−ブテン−もしくはペンテン系共重合体等の単体もしくは2種以上を混合させたもの、さらにこれらにこれら以外の樹脂や充填材、添加剤等が配合された樹脂組成物をその材質として挙げることができ、要求特性に応じて適宜に選ぶことができる。低密度ポリエチレンとエチレン−酢酸ビニル共重合体の積層体や、ポリプロピレンとポリエチレンテレフタレートの積層体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートは好適な材質の一つである。
粘着剤層3bは、パターン面2への貼着に際し、半導体素子等を傷つけるものではなく、また、その除去の際に半導体素子等の破損や表面への粘着剤残留を生じさせないものである。そのため、粘着剤層3bにはこうした性質を有する非硬化性の粘着剤や、好ましくは放射線、より好ましくは紫外線硬化により粘着剤が三次元網状化を呈し、粘着力が低下すると共に剥離した後の表面に粘着剤などの残留物が生じ難い、紫外線硬化型や電子線のような電離性放射線硬化型等の放射線重合型の粘着剤を用いることができる。なお、本明細書において「放射線」とは紫外線のような光線や電子線のような電離性放射線の双方を含む意味に用いる、本発明に用いる放射線は紫外線が好ましい。
マスクテープ11は、プラズマダイシング工程にさらされても耐えうるプラズマ耐性が必要である。また、図3(a)に示すように、マスクテープ11は、半導体ウェハ1のパターン面2とは逆側の平滑な裏面Bに貼り付けられる。このため、例えば、パターン面2のような凹凸面に貼り付ける場合と比較して、マスクテープ11の凹凸形状への追従性は不要である。このため、例えば、曲げ弾性率が200MPa以上のマスクテープ11も適用可能である。このようなマスクテープ11としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体などのポリオレフィン系樹脂を適用可能である。
チップ固定テープ4は、半導体ウェハ1を保持し、またピックアップ工程においては良好なピックアップ性や場合によってはエキスパンド性等も要求されるものである。こうしたチップ固定テープ4には、上記表面保護テープ3と同様のテープを用いることができる。また一般的にダイシングテープと称される従来のプラズマダイシング方式で利用される公知のダイシングテープを用いることができる。また、ピックアップ後のダイボンディング工程への移行を容易にするために、粘着剤層3bと基材フィルム3aとの間にダイボンディング用接着剤を積層したダイシングダイボンディングテープを用いることもできる。
<実施例1>
メタクリル酸を1.0mol%、2−エチルヘキシルアクリレートを78mol%、2−ヒドロキシエチルアクリレートを21mol%配合し、溶液中で重合することによりポリマー溶液を得た。このポリマー100質量部に対してオリゴマーとして光重合性炭素−炭素二重結合を有する2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工株式会社製、商品名カレンズMOI)5質量部を反応させた。この反応性ポリマーに光重合開始剤イルガキュア184(チバジャパン社製)を5質量部、架橋剤としてイソシアネート系硬化剤コロネートL(日本ポリウレタン社製)を2.5質量部配合して酢酸エチルで濃度を調整し粘着剤組成物Iを得た。38μmのPETセパレータ(東レフィルム加工株式会社製、商品名♯38セラピールWZ(E))上に粘着剤組成物Iを乾燥後の厚みが40μmになるように塗布し、120℃の乾燥炉にて乾燥させ、基材フィルムとして厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社、商品名ルミラーS105)に貼り合わせてラミネートすることで、実施例1に係る半導体ウェハ表面保護テープを作製した。
実施例1の構成からなる表面保護テープを用いて次に示す工程の処理を行った。まず、直径8インチのシリコンウェハのパターン面側にウェハと略同径となるように表面保護テープを貼合し、バックグラインダー(DGP8760(株式会社ディスコ製))にてウェハ厚が50μmになるまで研削した。次いでウェハ裏面側に半導体加工用テープを貼合し、リングフレームに支持固定し、ウェハ表面から表面保護テープを剥離した。その後デュアルダイサー(DFD6400(株式会社ディスコ製))にてダイシングブレードを用いてウェハを分断ラインに沿って切削し、5mm角のチップに分断し、ダイシングテープ側から紫外線を照射しダイシングテープの粘着力を低減させた、半導体加工用テープを拡張することによりチップ毎に分断し、ピックアップ工程にて、チップをピックアップし各チップの抗折強度を測定した。
σ=3FL/2bh2
但し、F:圧縮荷重、L:支点間距離、b:チップ幅、h:チップ厚さ
結果を表1に示す。
<実施例2>
PEDOT−PSS(PEDOTとポリアニオンポリスチレンスルホン酸塩)の混合物からなる水分散液を、厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社、商品名ルミラーS105)に乾燥後の厚みが1μmになるようにグラビア塗工にて塗布し、120℃の乾燥炉にて乾燥させることで帯電防止コートを施したPET基材フィルムを作製した。
実施例1においてポリマー溶液として2−エチルヘキシルアクリレートを74mol%、2−ヒドロキシエチルアクリレートを25mol%に変更し、架橋剤としてイソシアネート系硬化剤コロネートL(日本ポリウレタン社製)を0.5質量部に変更した以外は実施例1と同様にして半導体ウェハ表面保護テープを作製した。
実施例1においてポリマー溶液として2−エチルヘキシルアクリレートを84mol%、2−ヒドロキシエチルアクリレートを15mol%に変更し、架橋剤としてエポキシ系硬化剤TETRAD−X(三菱ガス株式会社製)に変更し、配合部数を5質量部に変更した以外は実施例1と同様にして半導体ウェハ表面保護テープを作製した。
実施例1において基材フィルムを厚み100μmのポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム(帝人株式会社製、テオネックス)に変更した以外は実施例1と同様にして半導体ウェハ表面保護テープを作製した。
高密度ポリエチレン(HDPE、東ソー株式会社、ニポロンハード4010A)と酢酸ビニル含有量10%のエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)樹脂(東ソー株式会社、ウルトラセン540)を押出成形することにより、厚さ比率がHDPE:EVA=8:2である厚さ150μmの基材フィルムを作製した。38μmのPETセパレータ(東レフィルム加工株式会社製、商品名♯38セラピールWZ(E))上に粘着剤組成物Iを乾燥後の厚みが40μmになるように塗布し、120℃の乾燥炉にて乾燥させ、上記基材フィルムに貼り合わせてラミネートすることで、実施例6に係る半導体ウェハ表面保護テープを作製した。
高密度ポリエチレン(HDPE、東ソー株式会社、ニポロンハード4010A)と酢酸ビニル含有量6%のエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)樹脂(東ソー株式会社、ウルトラセン510)を押出成形することにより、厚さ比率がHDPE:EVA=8:2である厚さ150μmの基材フィルムを作製した。38μmのPETセパレータ(東レフィルム加工株式会社製、商品名♯38セラピールWZ(E))上に粘着剤組成物Iを乾燥後の厚みが40μmになるように塗布し、120℃の乾燥炉にて乾燥させ、上記基材フィルムに貼り合わせてラミネートすることで、実施例7に係る半導体ウェハ表面保護テープを作製した。
実施例1において、架橋剤としてイソシアネート系硬化剤コロネートL(日本ポリウレタン社製)の配合部数を10部に変更した以外は実施例1と同様にして半導体ウェハ表面保護テープを作製した。
実施例1において、架橋剤としてエポキシ系硬化剤TETRAD−X(三菱ガス株式会社製)に変更し、配合部数を0.3部に変更した以外は実施例1と同様にして半導体ウェハ表面保護テープを作製した。
実施例1においてポリマー溶液として2−エチルヘキシルアクリレートを69mol%、2−ヒドロキシエチルアクリレートを30mol%に変更し、架橋剤としてイソシアネート系硬化剤コロネートL(日本ポリウレタン社製)を0.1質量部に変更した以外は実施例1と同様にして半導体ウェハ表面保護テープを作製した。
高密度ポリエチレン(HDPE、東ソー株式会社、ニポロンハード4010A)と酢酸ビニル含有量19%のエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)樹脂(東ソー株式会社、ウルトラセン636)を押出成形することにより、厚さ比率がHDPE:EVA=2:8である厚さ150μmの基材フィルムを作製した。38μmのPETセパレータ(東レフィルム加工株式会社製、商品名♯38セラピールWZ(E))上に粘着剤組成物Iを乾燥後の厚みが40μmになるように塗布し、120℃の乾燥炉にて乾燥させ、上記基材フィルムに貼り合わせてラミネートすることで、実施例11に係る半導体ウェハ表面保護テープを作製した。
酢酸ビニル含有量19%のエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)樹脂(東ソー株式会社、ウルトラセン636)を押出成形することにより、厚さ150μmの基材フィルムを作製した。38μmのPETセパレータ(東レフィルム加工株式会社製、商品名♯38セラピールWZ(E))上に粘着剤組成物Iを乾燥後の厚みが40μmになるように塗布し、120℃の乾燥炉にて乾燥させ、上記基材フィルムに貼り合わせてラミネートすることで、実施例12に係る半導体ウェハ表面保護テープを作製した。
デジタル超高抵抗/微小電流計R8340/8340Aとレジスティビティ・チェンバR12702A(共に(株)アドバンテスト製)を用いて23℃、50%RHの環境下で500Vの電圧を印加し、印加後60秒後の電流値を読み取り、得られた各表面保護テープにおける基材フィルム表面の表面抵抗率を測定した。
各半導体ウェハ表面保護テープをA5サイズに切断し、セパレータを剥離したものを試験片とした。この試験片の質量を測定した。次いで、トルエンに24時間浸漬した。ここで、トルエン表面に試験片が浮かないよう重量物もしくは容器の底に、基材フィルム側が接触する方向で固定し、粘着剤層である糊面をトルエン溶媒にさらされる状態にした。その後、試験片を取り出し、50℃で24時間乾燥した。一方、トルエン溶媒からもメッシュを通し回収した。試験片およびメッシュ上の残渣の質量を測定した。
含有率(%)=
{(トルエン浸漬後の試験片とメッシュの合計質量)−(試験片の基材フィルムの質量+メッシュの質量)}/(トルエン浸漬前の試験片の質量−試験片の基材フィルムの質量)×100
各粘着剤層を粘弾性装置(レオメトリックス製、ARES)により、貯蔵弾性率を測定した。測定条件は、0℃から測定を開始し昇温速度5℃/分、周波数1Hzで、25℃に達した時点での値とした。試験片は、粘着剤層を積層して、厚さ約1mm、直径8mmの円筒形にしたものを用いた。
8インチの半導体ウェハに、実施例で得られた半導体ウェハ表面保護用粘着テープを貼り合せ、リングフレームに固定した後、メチルイソブチルケトン(MIBK)中に1時間浸漬した。その後20rpmで回転させスピン乾燥を施した後に粘着剤層を観察した。粘着剤の溶解または膨潤が見られなかったもの「○」とし、粘着剤の膨潤または溶解が見られたものを「×」とした。
厚さ725μmの8inchウェハに、貼合機として日東精機株式会社製のDR8500III(商品名)を用いて、各実施例の半導体ウェハ表面保護テープを貼合し、グラインダーとして株式会社ディスコ製のDGP8760(商品名)を用いて、ウェハ厚さ50μmまで研削した。各半導体ウェハ表面保護用粘着テープにつきウェハ20枚を研削し、反り量(ウェハを平板の上に置いたときの、平板表面から反ったウェハの最も高い点の下面までの高さ)を測定した。
反り量の平均値が10mm未満のものを「○」とし、反り量の平均値が10mm以上20mm未満であったものを「△」とし、反り量の平均値が20mm以上であったものを「×」とした。
厚さ725μmの8inchウェハに、貼合機として日東精機株式会社製のDR8500III(商品名)を用いて、各実施例の半導体ウェハ表面保護用粘着テープを貼合した。その後、90℃に加熱したホットプレート上にテープ面を下向きにして3分間放置した後、テープ表面を目視にて観察を行った。
テープ表面(基材フィルム背面)が溶けなかったものを「○」とし、テープ表面の軟化がみられたものを「×」とした。
厚さ725μmの8inchウェハに、貼合機として日東精機株式会社製のDR8500III(商品名)を用いて、各実施例の半導体ウェハ表面保護用粘着テープを貼合し、グラインダーとして株式会社ディスコ製のDGP8760(商品名)を用いて、ウェハ厚さ150μmまで研削した。各表面保護テープにつきウェハ20枚を研削し、これらウェハを静電チャック装置に上記保護面側を内側にして載置・固定し、このときのチャックエラー発生有無を確認した。
チャックエラーがなかったものを「○」とし、チャックエラーが1回以上発生したものを「×」とした。
厚さ725μmの8inchウェハに、貼合機として日東精機株式会社製のDR8500III(商品名)を用いて、各実施例の半導体ウェハ表面保護用粘着テープを貼合し、グラインダーとして株式会社ディスコ製のDGP8760(商品名)を用いて、ウェハ厚さ50μmまで研削した。各表面保護テープにつきウェハ20枚を研削し、研削後のウェハの状態を確認した。また研削した裏面に実施例1で作製したマスク材フィルムを貼合した際のウェハの状態も確認し、研削からマスク材フィルム貼合までの工程においてウェハの割れを目視にて観察した。
ウェハに割れがなかったものを「○」とし、ウェハ割れが1回以上発生したものを「×」とした。
2………パターン面
3………表面保護テープ
3a………基材フィルム
3b………粘着剤層
4………チップ固定テープ
5………ストリート
7………チップ
9………静電チャック
11………マスクテープ
12………ウェハ研削装置
13………リングフレーム
15………SF6プラズマ
17………ピン
18………コレット
19………O2プラズマ
S………表面
B………裏面
L………レーザー
Claims (9)
- 半導体チップの製造方法であって、
半導体ウェハのパターン面側に、少なくとも基材フィルムと粘着剤層を有する表面保護テープが貼合された状態で前記半導体ウェハの裏面を研削する工程aと、
前記表面保護テープが貼合された状態で研削した前記半導体ウェハの裏面にマスク材層を形成する工程bと、
前記半導体ウェハのストリートに相当する部分をレーザーにより切断し、前記半導体ウェハの前記マスク材層側からストリートを開口する工程cと、
SF6プラズマにより、前記半導体ウェハを前記ストリートで分断して半導体チップに個片化するプラズマダイシング工程dと、
O2プラズマにより前記マスク材層を除去するアッシング工程eと、
アッシングした前記半導体ウェハの裏面にチップ固定テープを貼合して、リングフレームで支持固定する工程fと、
前記表面保護テープを剥離する工程gと、
を具備することを特徴とする半導体チップ製造方法。 - 前記粘着剤層は、側鎖にエチレン性不飽和結合を有する(メタ)アクリル共重合体を主成分とし、前記(メタ)アクリル共重合体およびその架橋物の含有率が90%以上であることを特徴とする請求項1記載の半導体チップ製造方法。
- 前記粘着剤層は、(メタ)アクリル共重合体100質量部に対してイソシアネート基を有する硬化剤またはエポキシ基を有する硬化剤0.5〜5質量部を用いて少なくとも一部を架橋させていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体チップ製造方法。
- 前記基材フィルムの曲げ弾性率が5.0×108Pa以上1.0×1010Pa以下であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の半導体チップ製造方法。
- 前記基材フィルムを形成している樹脂の融点が90℃以上であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の半導体チップ製造方法。
- 前記基材フィルムにおける前記粘着剤層が形成されていない側の表面粗さRaが0.1μm以上2.0μm以下であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の半導体チップ製造方法。
- 前記基材フィルムにおける前記粘着剤層が形成されていない側の表面抵抗率が1013Ω/sq未満であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の半導体チップ製造方法。
- 前記粘着剤層の貯蔵弾性率が5.0×104Pa以上2.0×105Pa以下であることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれかに記載の半導体チップ製造方法。
- 請求項2から請求項8のいずれかに記載の半導体チップ製造方法で用いられることを特徴とする表面保護テープ。
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Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7401183B2 (ja) * | 2018-08-07 | 2023-12-19 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
WO2022021003A1 (zh) * | 2020-07-27 | 2022-02-03 | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 | 转接板、巨量转移方法及Micro-LED显示器 |
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TWI819492B (zh) * | 2022-02-16 | 2023-10-21 | 崇越科技股份有限公司 | 晶圓的背面處理方法 |
CN115302101B (zh) * | 2022-08-31 | 2024-07-23 | 厦门通富微电子有限公司 | 晶圆切割方法及装置、电子设备、存储介质 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006152154A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 粘着剤及び粘着シート |
JP2007019385A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体チップの製造方法 |
JP2012212731A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-01 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 放射線硬化性半導体加工用粘着テープ |
JP2013023665A (ja) * | 2011-07-25 | 2013-02-04 | Lintec Corp | 粘着シート |
JP2016164972A (ja) * | 2015-12-28 | 2016-09-08 | 古河電気工業株式会社 | 半導体ウエハ表面保護用粘着テープおよびその製造方法 |
JP2016171261A (ja) * | 2015-03-13 | 2016-09-23 | 古河電気工業株式会社 | ウェハ固定テープ、半導体ウェハの処理方法および半導体チップ |
JP2017063210A (ja) * | 2011-12-26 | 2017-03-30 | 三井・デュポンポリケミカル株式会社 | レーザーダイシング用フィルム基材、レーザーダイシング用フィルム、及び電子部品の製造方法 |
WO2018043391A1 (ja) * | 2016-08-29 | 2018-03-08 | 古河電気工業株式会社 | マスク一体型表面保護テープ |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5902678A (en) * | 1997-04-01 | 1999-05-11 | Nitto Denko Corporation | Pressure-sensitive adhesive or pressure-sensitive adhesive tape for foreign-matter removal |
US6897128B2 (en) * | 2002-11-20 | 2005-05-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing semiconductor device, plasma processing apparatus and plasma processing method |
JP4891603B2 (ja) * | 2005-12-07 | 2012-03-07 | 電気化学工業株式会社 | 粘着シート及びそれを用いた電子部品製造方法。 |
WO2010121068A2 (en) * | 2009-04-16 | 2010-10-21 | Suss Microtec, Inc. | Improved apparatus for temporary wafer bonding and debonding |
KR102108102B1 (ko) * | 2012-12-10 | 2020-05-11 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 다이싱 테이프 일체형 접착 시트, 다이싱 테이프 일체형 접착 시트를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 및 반도체 장치 |
JP2014192204A (ja) | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体ウエハ表面保護用粘着テープ及び半導体ウエハの加工方法 |
JP5697061B1 (ja) * | 2014-03-24 | 2015-04-08 | 古河電気工業株式会社 | 半導体ウェハ加工用粘着テープおよび半導体ウェハの加工方法 |
JP6315470B2 (ja) * | 2014-09-10 | 2018-04-25 | 株式会社ディスコ | 分割方法 |
JP6738591B2 (ja) * | 2015-03-13 | 2020-08-12 | 古河電気工業株式会社 | 半導体ウェハの処理方法、半導体チップおよび表面保護テープ |
EP3376526B1 (en) * | 2015-11-09 | 2022-06-22 | Furukawa Electric Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor chip, and mask-integrated surface protection tape used therein |
JP6690429B2 (ja) * | 2016-06-20 | 2020-04-28 | 凸版印刷株式会社 | バリアフィルム積層体及びその製造方法、波長変換シート、バックライトユニット、並びにエレクトロルミネッセンス発光ユニット |
JP6524553B2 (ja) * | 2016-05-30 | 2019-06-05 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 素子チップの製造方法 |
JP2018003035A (ja) * | 2017-10-16 | 2018-01-11 | 株式会社クラレ | 粘接着剤組成物 |
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Patent Citations (8)
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JP2006152154A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 粘着剤及び粘着シート |
JP2007019385A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体チップの製造方法 |
JP2012212731A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-01 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 放射線硬化性半導体加工用粘着テープ |
JP2013023665A (ja) * | 2011-07-25 | 2013-02-04 | Lintec Corp | 粘着シート |
JP2017063210A (ja) * | 2011-12-26 | 2017-03-30 | 三井・デュポンポリケミカル株式会社 | レーザーダイシング用フィルム基材、レーザーダイシング用フィルム、及び電子部品の製造方法 |
JP2016171261A (ja) * | 2015-03-13 | 2016-09-23 | 古河電気工業株式会社 | ウェハ固定テープ、半導体ウェハの処理方法および半導体チップ |
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