JP2019167262A - ガラス物品 - Google Patents

Abstract

【課題】防眩性などの視認性に優れ耐摩耗性の高いガラス物品を提供する。【解決手段】第１の主面と第２の主面、端面とを有するガラス物品であって、前記第１の主面は防眩層であり、前記防眩層のガラス転移点Ｔｇが前記ガラス物品の厚さ方向断面視中央部のＴｇ０以下であり、前記第１の主面の凸部直径ｙ（μｍ）が、６０゜鏡面光沢度（グロス値）ｘ（％）に対して、式（１）を満たす、ガラス物品。ｙ ＞ −０．０２４５ｘ ＋ ３．６５ ・・・（１）【選択図】図５

Description

本発明は、ガラス物品に関する。

従来、タッチセンサや液晶パネルなどに、防眩膜や反射防止膜を有するガラス板（以降、前面板と記載）が使用されている（特許文献１、２参照）。前面板は、防眩膜や反射防止膜による視認性向上と、ガラス板の使用による高強度化とを両立できる。前記の理由から、前面板が車載用表示パネルへの使用が期待されている。

国際公開第２００９／０２５２８９号 国際公開第２０１５／１３３３４６号

前面板を車載用表示パネルに使用すると、使用者は前面板を介してその背面に配置されたタッチセンサを機能させることとなる。この際に、使用者は指やスタイラスなどにより前面板に触れる。使用開始初期段階では、前面板は防眩膜や反射防止膜などにより高い視認性を有しているが、使用を続けるうちに防眩膜などが剥がれ視認性が低下するといった耐摩耗性の問題が想定される。

本発明の目的は、防眩性などの視認性に優れ耐摩耗性の高いガラス物品の提供である。

本発明は下記構成からなる。
［１］第１の主面と第２の主面、端面とを有するガラス物品であって、前記第１の主面は防眩層であり、前記防眩層のガラス転移点Ｔｇが前記ガラス物品の厚さ方向断面視中央部のＴｇ_０以下であり、前記第１の主面の凸部直径ｙ（μｍ）が、６０゜鏡面光沢度（グロス値）ｘ（％）に対して、式（１）を満たす、ガラス物品。
ｙ ＞ −０．０２４５ｘ ＋ ３．６５ ・・・（１）
凸部直径ｙ（μｍ）は、前記第１の主面についてレーザ顕微鏡で測定した際に得られた表面形状のＸＹＺデータから得られた像について、画像処理ソフトウェアによりフィルタリングすることによりスムージング像を取得し、前記表面形状のＸＹＺデータから前記スムージング像のＸＹＺデータを差し引くことで得られた面においてベアリング高さ＋０．０１μｍの高さで切った凸部断面を円に換算したときの直径を示す。
６０゜鏡面光沢度（グロス値）ｘ（％）は、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７（ＩＳＯ２８１３：１９９４）に記載された方法によって測定される値である。
［２］前記第１の主面または前記第２の主面の少なくともいずれかは、屈曲部を有する、［１］に記載のガラス物品。
［３］Ｓｉと、Ａｌ、Ｂ、Ｚｒ、Ｔｉからなる群より選ばれる元素Ｘとの原子組成比ＺをＸ／Ｓｉと定義したとき、前記防眩層における原子組成比Ｚ_１と前記厚さ方向断面視中央部における原子組成比Ｚ_０との比Ｚ_１／Ｚ_０が０．９〜１．１である、［１］または［２］に記載のガラス物品。
［４］前記防眩層における、Ｋ／（Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ）で示されるアルカリ金属の組成比が、前記ガラス物品の厚さ方向断面視中央部より大きい、［１］〜［３］のいずれか１に記載のガラス物品。
［５］前記防眩層に、フッ素原子（Ｆ）または塩素原子（Ｃｌ）が含まれる、［１］〜［４］のいずれか１に記載のガラス物品。
［６］前記６０゜鏡面光沢度（グロス値）ｘ（％）が、１５％以上１３０％以下である、［１］〜［５］のいずれか１に記載のガラス物品。
［７］前記ガラス物品は、アルミノシリケートガラスからなる、［１］〜［６］のいずれか１に記載のガラス物品。
［８］前記防眩層の凸部直径ｙ（μｍ）が、１．５μｍ以上３．０μｍ以下である、［１］〜［７］のいずれか１に記載のガラス物品。
［９］前記第１の主面は、面偏り度Ｓｓｋが０未満である、［１］〜［８］のいずれか１に記載のガラス物品。
［１０］ヘイズ値が、０．１％以上５０％以下である、［１］〜［９］のいずれか１に記載のガラス物品。
［１１］前記ヘイズ値の面内の標準偏差が０〜１０％である、［１０］に記載のガラス物品。
［１２］前記前記第１の主面または前記第２の主面の少なくともいずれかは、表面圧縮応力層を備え、その表面圧縮応力（ＣＳ）値が、５００ＭＰａ以上である、［１］〜［１１］のいずれか１に記載のガラス物品。
［１３］前記第１の主面が、さらに機能層を備える、［１］〜［１２］のいずれか１に記載のガラス物品。
［１４］前記機能層が、反射防止処理層である、［１３］に記載のガラス物品。
［１５］前記機能層が、防汚層である、［１３］に記載のガラス物品。

本発明によれば、防眩性などの視認性に優れ耐摩耗性の高いガラス物品を提供できる。

図１（ａ）〜（ｂ）は屈曲板（屈曲部を有するガラス基材）の断面模式図であり、図１（ａ）屈曲部と平坦部とを備える形状、図１（ｂ）全体が屈曲部となる形状である。 図２（ａ）〜（ｂ）は屈曲板の曲げ深さを説明する図である。 図３（ａ）〜（ｂ）はガラス物品の断面模式図であり、図３（ａ）平坦部のみからなる形状、図３（ｂ）屈曲部と平坦部とを備える形状である。 図４は加熱処理（Ｓ２）によりガラス物品を作製する製造工程の一例を概略的な手順で示すフローチャートである。 図５（ａ）〜（ｂ）は第１の主面に凹凸層を有するガラス部材の断面模式図であり、図５（ａ）全体が平坦部となる形状、図５（ｂ）屈曲部と平坦部とを備える形状である。 図６は成形工程（Ｓ２Ａ）によりガラス物品を作製する製造工程の一例を概略的な手順で示すフローチャートである。 図７は成形工程（Ｓ２Ａ）の一例を概略的な手順で示すフローチャートである。 図８は成形装置を使用した成形工程の様子を示す模式図である。 図９はアニール工程（Ｓ２Ｂ）によりガラス物品を作製する製造工程の一例を概略的な手順で示すフローチャートである。 図１０はアニール工程（Ｓ２Ｂ）の一例を概略的な手順で示すフローチャートである。 図１１は成形やアニールを実施するための加熱装置を示す模式図である。 図１２はガラス物品およびガラス部材について、擦り試験前グロス（％）と、凸部直径（μｍ）との関係を示すグラフである。

以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。

「平坦部」とは、平均曲率半径が５０００ｍｍ超である部分を意味する。
「屈曲部」とは、平均曲率半径が５０００ｍｍ以下である部分を意味する。

「屈曲板（屈曲部９を有するガラス基材３）」とは、図１に示す断面模式図のように、第１の主面３ａと第２の主面３ｂと端面３ｃとを有し少なくとも１つ以上の屈曲部９を備える形状である。図１（ａ）のような屈曲部９と平坦部７を組み合わせた形状、図１（ｂ）のような全体が屈曲部９となる形状が挙げられるが、屈曲部９を有すれば特に限定されない。

「曲げ深さ」とは、屈曲板の厚さ方向断面視で、同一の主面における２つの端部を結ぶ直線と、この直線と平行となる直線のうち、屈曲板の他の主面に接する接線との距離をいう。図２（ａ）および（ｂ）に示すような屈曲板において、屈曲された方向（図２においてはＺ方向）における、屈曲板の両端間の距離ｈが曲げ深さとなる。なお、図２（ａ）においては、平坦面をＸＹ面とする。また、図２（ｂ）においては、屈曲された方向（Ｚ方向）に直交する面をＸＹ面とする。

「線の算術平均粗さＲａ」は、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１（ＩＳＯ４２８７：１９９７）により測定される。

「平衡粘性」は、ガラス板の厚さ方向断面視中央部における組成での粘性を示す。平衡粘性は、測定される粘性範囲に応じて、ビーム曲げ法（ＩＳＯ ７８８４−４：１９８７）、繊維引き伸ばし法（ＩＳＯ ７８８４−３：１９８７）、平行平板粘度計（ＡＳＴＭＣ ３３８−９３：２００３）、棒沈降式粘度計（ＩＳＯ ７８８４−５：１９８７）で測定される。本発明の実施形態では、平衡粘性は、ビーム曲げ法（ＩＳＯ ７８８４−４：１９８７）に基づき測定する。

「ヘイズ値」は、ＪＩＳ Ｋ ７１３６：２０００によりヘイズメータ（村上色彩研究所社製、ＨＲ−１００型）を使用して測定される。

「ベアリング高さ」は、レーザ顕微鏡で（１０１μｍ×１３５μｍ）〜（１１１μｍ×１４８μｍ）の領域（以下、「観察領域」ともいう。）を測定し、測定データを画像処理ソフトウェアにより解析して得られる、観察領域の表面形状のＸＹＺデータから求められる高さ分布ヒストグラムにて、最も優勢な高さＺの値である。レーザ顕微鏡には、キーエンス社製ＶＫ−Ｘ１００を使用できる。画像処理ソフトウェアには、イメージメトロロジー社製ＳＰＩＰを使用する。ＸＹＺデータにおける高さＺは、観察領域の最低点を基準とした高さ（高さＺを測定する位置から、観察領域における被測定物の主面に平行な平面であって最低点を含む平面に下した垂線の長さ）であり、以下において特に基準を規定しない場合の表面形状における高さの意味も同様である。ベアリング高さ算出時のヒストグラムの刻み（ｂｉｎ）は１０００に設定した。

「画像処理面」は、上述のようにレーザ顕微鏡で測定した際に得られた表面形状のＸＹＺデータから得られた像について、画像処理ソフトウェアによりフィルタリングすることによりスムージング像を取得し、前記表面形状のＸＹＺデータから前記スムージング像のＸＹＺデータを差し引くことで得られた面を意味する。画像処理ソフトウェアには、イメージメトロロジー社製ＳＰＩＰを使用する。なお、レーザ顕微鏡による観察および測定において、測定対象物である基板が屈曲部を有する場合には、冶具を用いて基板の周囲を押さえつけ、平坦化した状態でレーザ顕微鏡による観察および測定を行い、上述の表面形状のＸＹＺデータを得てもよい。

前述の「画像処理面」を得るための画像処理ソフトウェアＳＰＩＰでの操作は、具体的には、以下の（ｉ）〜（ｉｖ）の手順で実施できる。
（ｉ）カスタムモードで、実際に測定された防眩層の表面形状のＸＹＺデータの傾き補正を行い、ベアリング高さを０と補正した表面形状イメージを得る。
（ｉｉ）前記ベアリング高さを０と補正した表面形状イメージについて、「コンボリューション：スムージング：平均に設定」、「カーネルサイズ：Ｘ＝Ｙ＝３１、円形に設定」の条件で、ＸＹデータ３１個を円形単位でＺを平均化するフィルタリングを行い、なだらかな凹凸表面形状イメージ（以下、「スムージング像」ともいう。）を得る。
（ｉｉｉ）前記ベアリング高さを０と補正した表面形状イメージから、閾値レベル：０．０１μｍにて「粒子」を検出する。その後、イメージウィンドウの測定にて「フィルタ差分」を選択し、「形状のホールを保存」し、フィルタサイズ５１ポイントで「形状輪郭をスムージング」する後処理を行い、後処理された表面形状イメージ（以下、「表面形状」ともいう。）を得る。
（ｉｖ）前記スムージング像と前記表面形状との差分として、「画像処理面」を得る。

（ｉ）の「カスタムモード」は、ＳＰＩＰで傾き補正（フラットニング）を行う際に表示されるモードで、具体的には以下の４つの操作が自動で行われる。
（ｉ−１）「全体面補正法」として「平均プロファイルフィット法」が選択され、次数は３とされる。
（ｉ−２）「ステップを処理」は選択しない。
（ｉ−３）「ラインごとの補正」について「なし」が選択される。
（ｉ−４）「Ｚオフセット法」として「ベアリング高さをゼロにする」が選択される。
傾き補正を行うと、レーザ顕微鏡で得られた表面形状のＸＹＺデータについてフィット面がＸおよびＹの平均プロファイルから計算され、イメージから差し引くことによって、イメージ全体の傾きや不要な湾曲が取り除かれる。

（ｉｉ）において、カーネルサイズをＸ＝Ｙ＝３１、円形に設定した場合、３１×３１の四角形に内接する八角形で、円形の代用の枠（カーネル）が設定される。フィルタリングでは、カーネル形状に関係なく、カーネル内の全ポイントの単純な平均値で元のデータが置き換えられる。また、フィルタリングを行うと、微細な凹凸が除去（平均化）されたスムージング像が得られる。

ＳＰＩＰの平均化フィルタは、３１×３１のフィルタの場合、以下の行列演算で示される。
ある１点のＸＹＺに対してこの点を中心に円形に（距離が近い順）で９６１点が抽出され、それぞれの点ＸＹに対するＺの値が合計され、その合計値を９６１で割った値が座標ＸＹの新たなＺの値とされる。この計算が面内すべての点について行われる。Ｘ方向、Ｙ方向の測定点の間隔はそれぞれ７１ｎｍである。このとき、１点ずつ隣に移動しながら全点に対して平均が求められるので、分解能が下がることは無い。

（ｉｉｉ）において、閾値レベルが０．０１μｍとは、粒子（凸部）として高さが０．０１μｍ以上のものを検出することを示す。高さは、ベアリング高さを基準とする。
後処理において、「形状のホールを保存」は、検出した粒子の領域内に高さ０．０１μｍ以下の凹部があった場合、この凹部部分の面積を粒子の面積としてカウントしない操作を示す。
「形状輪郭をスムージング」は、粒子の形状輪郭のノイズをとる操作を示す。
フィルタサイズは、粒子の形状輪郭のスムージングの程度を表すもので、値が大きい程、スムージング後の形状輪郭が円に近付く。
つまり（ｉｉｉ）の後処理により得られる表面形状は、実際の測定データからノイズを除去し、凸部の形状輪郭を整えたものであり、実際の第一の凸部を含む凹凸表面形状とみなせる。

（ｉｖ）において、（ｉ）で得た表面形状イメージから、（ｉｉ）で得たスムージング像を差し引くと、「画像処理面」が得られる。
一般に、うねりのある表面上に凸部が分布している場合、該凸部の数や形状を正確に測定することは難しい。上記形状解析では、スムージング像と表面形状とを重ねたときに、スムージング像の表面より上側にある凸部を、うねりのある表面のうねりをなくしたときの、該表面上に分布する凸部と判断している。

「凸部直径」は、前述の「画像処理面」においてベアリング高さ＋０．０１μｍの高さでの凸部断面を、真円に換算して求めた平均直径である。

「面の偏り度（Ｓｓｋ）」は、上述のレーザ顕微鏡測定データを画像処理ソフトウェアＳＰＩＰにより解析して得られ、高さ分布の対称性を表す値である。Ｓｓｋが０未満であることは、細かい谷が多い表面であることを示す。算出方法はＩＳＯ ２５１７８：２０１０に準拠する。
「面の算術平均粗さ（Ｓａ）」は、上述のレーザ顕微鏡測定データを画像処理ソフトウェアＳＰＩＰにより解析して得られ、Ｒａ（線の算術平均粗さ）を面に拡張したパラメータであり、表面の平均面に対して、各点の高さの差の絶対値の平均を表す。算出方法はＩＳＯ ２５１７８：２０１０に準拠する。

「反射像拡散性指標値Ｒ」は、以下に記載する方法で算出される。まず被測定物表面を基準（０°とする）として、＋４５°となる方向から被測定物に光を照射し、被測定物表面で反射する正反射光（４５°正反射光という）の輝度を測定する。続いて、同様に＋４５°となる方向から被測定物に光を照射し、受光角度を０°〜＋９０°の範囲で変化させ被測定物表面で反射される全反射光の輝度を測定する。これらの測定値を「反射像拡散性指標値Ｒ＝（全反射光の輝度−４５°正反射光の輝度）／（全反射光の輝度）」の式に代入することで、反射像拡散性指標値Ｒが求められる。

「解像度指標値Ｔ」は、以下に記載する方法で算出される。第１の主面と第２の主面とを有する被測定物の第２の主面側から、被測定物の厚さ方向と平行な方向（角度０°の方向、という）に第１の光を照射し、第１の主面から透過する透過光のうち角度０°の方向に進行する光（０°透過光、という）の輝度を測定する。続いて、第１の主面に対する受光角度を−９０°〜＋９０°の範囲で変化させ、第１の主面側から透過する第１の光の全透過光の輝度を測定する。これらの測定値を「解像度指標値Ｔ＝（全透過光の輝度−０°透過光の輝度）／（全透過光の輝度）」の式に代入することで、解像度指標値Ｔが求められる。

「ギラツキ指標値Ｓ」は、以下のように求められる。第１の主面と第２の主面とを有する被測定物の第２の主面を、ピクセル密度３２６ｐｐｉのｉＰｈｏｎｅ４（登録商標）（アップルインコーポレイテッド社製）の表示面側になるようにして配置する。次に被測定物の第１の主面側から撮影し、画像を取得する。この画像をソフトウェア（アイ・システム社製、商品名：ＥｙｅＳｃａｌｅ−４Ｗ）により解析し、これにより出力されるＩＳＣ−Ａの値をギラツキ指標値Ｓとした。

「６０゜鏡面光沢度（グロス値）」は、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７（ＩＳＯ２８１３：１９９４）に記載された方法によって、裏面（凹凸構造が形成された側とは反対側の面）反射を消さずに光沢度計（コニカミノルタ社製、ＭＵＬＴＩ ＧＬＯＳＳ ２６８Ｐｌｕｓ）を用いて測定される。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。

＜ガラス物品１０＞
図３に本実施形態であるガラス物品１０の断面模式図を示す。ガラス物品１０は、第１の主面１０ａと、第２の主面１０ｂ、端面１０ｃとを備え、少なくとも第１の主面１０ａは防眩層５０を有し、防眩層５０のガラス転移点Ｔｇがガラス物品１０の厚さ方向断面視中央部のＴｇ_０以下であり、第１の主面１０ａの凸部直径ｙ（μｍ）が、ガラス物品１０の６０゜鏡面光沢度（グロス値）ｘ（％）に対して、式（１）を満たす。
ｙ ＞ −０．０２４５ｘ ＋ ３．６５ ・・・（１）

防眩層５０とは、表面に凹凸形状を有し、外光を拡散反射させることで、反射像を不鮮明にし、防眩性等の効果をもたらす層である。防眩層５０を有するガラス物品は、例えば後述の様に、凹凸層が形成されたガラス部材に加熱処理して得られる。

防眩層５０のガラス転移点Ｔｇは、ガラス物品１０の厚さ方向断面視中央部におけるガラス転移点Ｔｇ_０以下である。これにより、例えば、凹凸層が形成されたガラス部材を加熱処理する際に防眩層５０にクラックが生じにくく、優れた光学特性を有し、耐摩耗性を示すガラス物品１０を得ることができる。ガラス転移点の差（Ｔｇ_０−Ｔｇ）は、０℃超が好ましく、３℃以上がより好ましく、５℃以上がさらに好ましく、７℃以上が特に好ましい。ガラス転移点の差（Ｔｇ_０−Ｔｇ）の上限値は特に制限はないが、２０℃以下が好ましく、１５℃以下がより好ましい。

防眩層５０の軟化点Ｔｍは、ガラス物品１０の厚さ方向断面視中央部における軟化点Ｔｍ_０以下が好ましい。これにより、例えば、凹凸層が形成されたガラス部材を加熱処理する際に防眩層５０にクラックが生じにくく、優れた光学特性を有し、耐摩耗性を示すガラス物品１０を得ることができる。軟化点の差（Ｔｍ_０−Ｔｍ）は、３℃以上が好ましく、１０℃以上がより好ましく、２０℃以上がさらに好ましい。軟化点の差（Ｔｍ_０−Ｔｍ）の上限値は特に制限はないが、１００℃以下が好ましく、６０℃以下がより好ましい。
なお、ガラス転移点Ｔｇは、ＪＩＳ−Ｒ３１０３−３（熱膨張法による転移温度測定方法）により、軟化点Ｔｍは、ＪＩＳ−Ｒ３１０３−１（ガラスの軟化点試験方法）により測定される。ガラス転移点Ｔｇの測定には、例えば、縦型熱膨張計（真空理工株式会社製ＤＬ−９５００型、押棒式）を使用できる。

ガラス物品１０の少なくともいずれかの主面は屈曲部を有してもよい。最近では、各種機器（たとえば、テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、車載ディスプレイ等）において、画像表示装置の表示面やそのカバーガラスが曲面とされたものが登場しており、屈曲部を備えたガラス物品１０が美観上求められている。また、画像表示装置の表示面に合わせて、タッチパネルなども曲面化されるため、均質なセンシング感度を保つ観点からも、屈曲部を備えたガラス物品１０が求められている。ガラス物品１０に屈曲部を付与する場合、画像表示装置の形状や画像表示装置の筺体の形状などに合わせて作製すればよい。

ガラス物品１０は、第１の主面１０ａの凸部直径ｙ（μｍ）が、ガラス物品１０の６０゜鏡面光沢度（グロス値）ｘ（％）に対して、式（１）を満たす。
ｙ ＞ −０．０２４５ｘ ＋ ３．６５ ・・・（１）
（ここで、ｘはガラス物品１０の６０°鏡面光沢度［単位％］、ｙは第１の主面１０ａの凸部直径ｙ［μｍ］を示す。）
式（１）を満たすガラス物品１０は、各グロス値で比較した場合の凸部直径が相対的に大きいため、ガラス物品の表面をこすった時に摩擦による応力が集中しにくくなり、耐擦傷性が高くなる。

式（１）の傾きａは−０．０２４５であり、グロス値が変動する時の凸部直径の変化率を示す。このため、ガラス物品１０はグロス値が異なると凸部直径が変化し、耐擦傷性が変化することを示す。一般的に、ａは負の値となり、式（１）の傾きａは−０．０２６１以上が好ましく、−０．０２６８以上がより好ましい。これは、傾きが小さいほど、高グロス値となる領域（高グロス領域）にて凸部直径を高く維持できるため、耐擦傷性に対して有利となるためである。

式（１）の切片ｂは３．６５であり、理想的にグロス値が０となる時の凸部直径の仮想値を示す。一方で、ガラス物品１０は表面の構造はランダムであり多種多様のため、理想的にグロス値が０となる時の凸部直径の仮想値（切片ｂ）は一義的に決まらない。ここで、式（１）の切片ｂは３．７８以上が好ましく、３．８８以上がより好ましい。これは、切片が大きいほど、低グロス領域で凸部直径を高く維持できるため、耐擦傷性に対して有利だからである。

ガラス物品１０の第１の主面１０ａの凸部直径ｙ（μｍ）は、式（１ａ）を満たすことが好ましく、式（１ｂ）を満たすことがより好ましい。
ｙ ＞ −０．０２６１ｘ ＋ ３．７８ ・・・（１ａ）
ｙ ＞ −０．０２６８ｘ ＋ ３．８８ ・・・（１ｂ）

ガラス物品１０の防眩層５０の最表面における６０゜鏡面光沢度（グロス値）であるｘは、１５％以上１３０％以下が好ましく、４０％以上１１０％以下がより好ましい。ｘは防眩効果の指標であり、上限値以下であれば、防眩効果が充分に発揮される。ｘは下限値以上であると良好な透明性が得られ、透過視認性を向上できるためである。

Ｓｉと、Ａｌ、Ｂ、Ｚｒ、Ｔｉからなる群より選ばれる元素Ｘとの原子組成比ＺをＸ／Ｓｉとすると、ガラス物品１０は、防眩層５０における原子組成比Ｚ_１とガラス物品１０の厚さ方向断面視中央部における原子組成比Ｚ_０との比Ｚ_１／Ｚ_０が、０．９〜１．１となることが好ましい。前記比Ｚ_１／Ｚ_０が、前記範囲を外れると、防眩層５０における原子組成と厚さ方向断面視中央部における原子組成とが大きくずれ、屈折率が異なる状況となり、ガラス物品１０の外観が不均質に見えるような光学的異質層となりやすくなる。前記比Ｚ_１／Ｚ_０を前記範囲となるようにすると、後述の反射防止層などを堆積しても、防眩層５０が光学的異質層となりにくく、優れたガラス物品１０が得られる。前記比Ｚ_１／Ｚ_０は、０．９５〜１．０５がより好ましく、０．９５〜１．０３がさらに好ましい。

ガラス物品１０は、アルカリ金属組成比Ｋ／（Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ）（原子組成比）が、ガラス物品１０の厚さ方向断面視中央部に比べ、防眩層５０の方が大きくなることが好ましい。これにより、ガラス物品１０の防眩層５０の耐摩耗性が高められ、また防眩層５０の屈折率をガラス物品１０の厚さ方向断面視中央部にくらべ低減でき、ガラス物品１０の反射防止効果が得られる。

防眩層５０には、無機フッ化物や無機塩化物など、フッ素原子（Ｆ）または塩素原子（Ｃｌ）が含まれることが好ましい。これにより、防眩層５０のＴｇを低減できる。またこれにより親水性が得られるため、防眩層５０の最表面が汚れても水洗しやすい。特に、親水性が高いことから無機フッ化物が好ましく、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇなどの多価陽イオンの無機フッ化物が特に好ましい。

ガラス物品１０に適したガラスとして、例えば、無アルカリガラス、ソーダライムガラス、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ボロンシリケートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、ホウケイ酸ガラスを使用できる。厚さが薄くても後述する強化処理によって大きな応力が入りやすく薄くても高強度なガラスが得られ、画像表示装置の視認側に配置される物品として好適である点から、アルミノシリケートガラスやリチウムアルミノシリケートガラスが好ましい。

ガラス組成の具体例としては、酸化物基準のモル％で表示した組成で、ＳｉＯ_２を５０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏを３〜３０％、ＭｇＯを０〜２５％、ＣａＯを０〜２５％およびＺｒＯ_２を０〜５％含むガラスが挙げられるが、特に限定されない。より具体的には、以下のガラスの組成が挙げられる。なお、例えば、「ＭｇＯを０〜２５％含む」とは、ＭｇＯは必須ではないが２５％まで含んでもよい、の意である。また、ガラス物品１０の組成は、ガラス物品１０の厚さ方向断面視中央部付近の組成とする。
（ｉ）酸化物基準のモル％で表示した組成で、ＳｉＯ_２を６３〜７３％、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜５．２％、Ｎａ_２Ｏを１０〜１６％、Ｋ_２Ｏを０〜１．５％、Ｌｉ_２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを５〜１３％及びＣａＯを４〜１０％を含むガラス。
（ｉｉ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ_２を５０〜７４％、Ａｌ_２Ｏ_３を１〜１０％、Ｎａ_２Ｏを６〜１４％、Ｋ_２Ｏを３〜１１％、Ｌｉ_２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを２〜１５％、ＣａＯを０〜６％およびＺｒＯ_２を０〜５％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量の合計が７５％以下、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計が１２〜２５％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が７〜１５％であるガラス。
（ｉｉｉ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ_２を６８〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３を４〜１０％、Ｎａ_２Ｏを５〜１５％、Ｋ_２Ｏを０〜１％、Ｌｉ_２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを４〜１５％およびＺｒＯ_２を０〜１％含有するガラス。
（ｉｖ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ_２を６７〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜４％、Ｎａ_２Ｏを７〜１５％、Ｋ_２Ｏを１〜９％、Ｌｉ_２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを６〜１４％およびＺｒＯ_２を０〜１．５％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量の合計が７１〜７５％、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計が１２〜２０％であり、ＣａＯを含有する場合その含有量が１％未満であるガラス。
（ｖ）酸化物基準のモル％で表示した組成が、ＳｉＯ_２を５６〜７３％、Ａｌ_２Ｏ_３を１０〜２４％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜６％、Ｐ_２Ｏ_５を０〜６％、Ｌｉ_２Ｏを２〜７％、Ｎａ_２Ｏを３〜１１％、Ｋ_２Ｏを０〜５％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜２％、ＳｒＯを０〜５％、ＢａＯを０〜５％、ＺｎＯを０〜５％、ＴｉＯ_２を０〜２％、ＺｒＯ_２を０〜４％含有するガラス。

ガラス物品１０は、後述の化学強化処理を適切に行うため、そのガラス組成におけるＬｉ_２ＯとＮａ_２Ｏの含有量の合計が１２モル％以上であることが好ましい。さらに、ガラス組成におけるＬｉ_２Ｏの含有率が増加するにしたがって、ガラス転移点が下がり成形が容易となるため、Ｌｉ_２Ｏの含有率は０．５モル％以上が好ましく、１モル％以上がより好ましく、２モル％以上がさらに好ましい。さらに、表面圧縮応力（Ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｖｅ Ｓｔｒｅｓｓ；以下、ＣＳとも略す）層および表面圧縮応力層深さ（Ｄｅｐｔｈ ｏｆ Ｌａｙｅｒ；以下、ＤＯＬとも略す）を大きくするため、ガラス組成がＳｉＯ_２を６０モル％以上、Ａｌ_２Ｏ_３を８モル％以上含有することが好ましい。

さらに、ガラス物品１０に着色を行い使用する際は、所望の化学強化特性の達成を阻害しない範囲において着色剤（着色成分）を添加してもよい。着色剤としては例えば、可視域に吸収を持つ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｖ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｅｒ、およびＮｄの金属酸化物である、Ｃｏ_３Ｏ_４、ＭｎＯ、ＭｎＯ_２、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｃｕ_２Ｏ、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｖ_２Ｏ_５、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＳｅＯ_２、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｅｒ_２Ｏ_３、Ｎｄ_２Ｏ_３等が挙げられる。

ガラス基材物品１０に着色ガラスを用いる場合、ガラス中に酸化物基準のモル百分率表示で、着色成分（Ｃｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｖ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｅｒ、およびＮｄの金属酸化物からなる群より選択される少なくとも１成分）を７％以下の範囲で含有してよい。着色成分が７％を超えると、ガラスが失透しやすくなる。この含量は５％以下が好ましく、３％以下がより好ましく、１％以下がさらに好ましい。また、ガラス基材３は溶融の際の清澄剤として、ＳＯ_３、塩化物、フッ化物などを適宜含有してよい。

ガラス物品１０に使用できるガラス基材の製造方法について説明する。先ず、各成分の原料を前述した組成となるように調合し、ガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、公知の成形法により所定の厚さのガラス板を作製し、徐冷する。ガラスの作製法としては、例えば、フロート法、プレス法、フュージョン法、ダウンドロー法及びロールアウト法が挙げられる。特に、大量生産に適したフロート法が好適である。また、フロート法以外の連続作製法、すなわち、フュージョン法およびダウンドロー法も好適である。任意の作製法により平板状に作製されたガラス板は、徐冷後、所望のサイズに切断され、平板状ガラスが得られる。なお、より正確な寸法精度が必要な場合等には、切断後のガラス板に後述の研磨・研削加工や端面加工、孔あけ加工を施してもよい。これにより、加熱工程などでのハンドリングにおいて割れや欠けを低減でき歩留まりを向上できるようになる。さらにガラス基材は平板状に限らず、一部に屈曲部を有していてもよい。

以上より、所望の防眩性を示し耐摩耗性に優れた凸部を備えた防眩層５０を有するガラス物品１０が得られる。

＜ガラス物品１０の製造方法＞
本実施形態のガラス物品の製造方法では、被加熱体である凹凸層を備えるガラス部材を例えば、６００℃以上の温度まで、平衡粘性として１０^６．５〜１０^１２．５Ｐａ・ｓ程度になるように加熱処理する。具体的には、前記加熱処理は成形工程またはアニール工程により実施される。前記加熱処理により、ガラス部材の凹凸層による表面形状を所望の形状とでき、得られたガラス物品が優れた耐久性および光学特性を示す。
以下の説明では、加熱処理前の被加熱体をガラス部材、加熱処理後のガラス部材をガラス物品と呼称する。

図４は加熱処理によりガラス物品を作製する製造工程の一例を概略的な手順で示すフローチャートである。
ガラス物品の製造工程は、まず、ガラス部材を準備する（ガラス部材準備；Ｓ１）。ガラス部材準備（Ｓ１）後、ガラス部材に成形工程やアニール工程などの加熱処理を実施し（加熱処理；Ｓ２）、最終的にガラス物品を取り出す（ガラス物品取出；Ｓ３）。

≪ガラス部材準備；Ｓ１≫
ガラス部材１は、図５（ａ）〜（ｂ）に示すように、第１の主面３ａと、第２の主面３ｂと、端面３ｃとを有するガラス基材３と、少なくともいずれか一方の主面に形成された凹凸層５とを備える。ガラス部材１の形状は、板状のような厚さが均一な形状でも、厚さが不均一な形状でもよく、特に制限はない。また、ガラス基材３としては、前述のガラス物品１０に適したガラスを使用でき、詳細な説明は省略する。

（凹凸層５）
凹凸層５は、加熱処理により所望の形状の防眩層５０にでき、反射光を散乱させ、光源の映り込みによる反射光の眩しさを低減する効果をもたらす層のことである。凹凸層５はガラス基材３自体の少なくとも一方の主面を加工して形成してもよく、少なくとも一方の主面に別途堆積処理方法により形成してもよい。凹凸層の形成方法として、例えば、ガラス基材３の少なくとも一部に化学的処理あるいは物理的処理により表面処理を施し、所望の表面粗さの凹凸形状を形成する方法を使用できる。また、処理液を塗布あるいは噴霧する堆積処理方法や、成形等の熱的処理方法によりガラス基材３の少なくとも一方の主面の少なくとも一部に凹凸形状を形成してもよい。

化学的処理として、具体的には、エッチング処理（第１エッチング処理）を施す方法が挙げられる。エッチング処理は、例えば、フッ化水素とフッ化アンモニウムの混合溶液やフッ素化水素とフッ化カリウムの混合溶液、フッ化水素と塩化水素との混合溶液等に、被処理体であるガラス基材３を浸漬して行われる。

物理的処理として、例えば、結晶質二酸化ケイ素粉等を加圧空気でガラス基材３の少なくとも一方の主面に吹きつけるいわゆるブラスト処理や、結晶質二酸化ケイ素粉等を付着させたブラシを水で湿らせて、これを用いてガラス基材３の少なくとも一方の主面を研磨する方法等が挙げられる。

なかでも、化学的処理であるエッチング処理が、ガラス基材３にとって被処理面にマイクロクラックを生じ難く、強度の低下が生じ難いため、好ましく利用できる。

さらに、第１エッチング処理したガラス基材３の凹凸層５の表面形状を整えるための第２エッチング処理を行うことが好ましい。第２エッチング処理としては、例えば、ガラス基材３を、フッ化水素の水溶液であるエッチング溶液に浸漬する方法を使用できる。エッチング溶液は、フッ化水素以外にも、塩酸、硝酸、クエン酸などの酸を含有してもよい。エッチング溶液に、これらの酸を含有させることで、ガラスに含有されるＮａイオン、Ｋイオン等の陽イオン成分とフッ化水素との反応による、析出物の局所的な発生を抑制できるほか、エッチングを処理面内で均一に進行させられる。

第１および第２エッチング処理を行う場合、エッチング溶液の濃度や、エッチング溶液へのガラス基材３の浸漬時間等を調節する。これにより、ガラス基材３のエッチング量を調節し、これによりガラス基材３の凹凸層５の凹凸形状を形成させ所望の表面粗さに調整できる。また、凹凸形状の形成を、ブラスト処理等の物理的表面処理で行った場合、クラックが生じることがあるが、エッチング処理によってこのようなクラックを除去できる。

第１および第２エッチング処理において、ガラス基材３表面に無機フッ化物や無機塩化物が残存するようにエッチングし、特にＳｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇなどの多価陽イオンの無機フッ化物を形成することが好ましい。

堆積処理方法として、公知のウェットコート法（スプレーコート法、静電塗装法、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スクリーンコート法、インクジェット法、フローコート法、グラビアコート法、バーコート法、フレキソコート法、スリットコート法、ロールコート法）等を使用できる。

凹凸層５のガラス転移点（Ｔｇ）が、ガラス部材１の厚さ方向断面視中央部におけるガラス転移点（Ｔｇ_０）以下である。それにより、後述の加熱処理（Ｓ２）の際に凹凸層５にクラックが生じにくくなり、優れた光学特性を有し、耐摩耗性を示すガラス物品１０が得られる。特に後述の成形工程（Ｓ２Ａ）において、凹凸層５が柔軟性を有するため、成形等の加熱時に負荷がかかっても凹凸層５がそれにあわせて変形し、凹凸層のムラなどを抑制でき外観に優れたガラス物品１０が得られる。

≪加熱処理；Ｓ２≫
加熱処理（Ｓ２）は、ガラス部材１からガラス物品１０を作製するために実施され、例えば、成形工程（Ｓ２Ａ）やアニール工程（Ｓ２Ｂ）が挙げられる。

（成形工程；Ｓ２Ａ）
図６は加熱処理を成形工程（Ｓ２Ａ）において行う製造工程の一例を概略的な手順で示すフローチャートである。成形工程（Ｓ２Ａ）では、図７に示すように、予熱（Ｓ２Ａ１）、ガラス部材１を成形型などに載置（Ｓ２Ａ２）、ガラス部材１に所望の形状を付与する変形（Ｓ２Ａ３）、所望の形状を付与したガラス部材１の冷却（Ｓ２Ａ４）を実施する。特に工程の順序に制限はなく、例えば、ガラス部材１を載置した後に予熱を実施してよい。予め、ガラス部材１を支持台、下型、アーム等の適宜の支持手段により支持させて、移動できる状態としてもよい。

［予熱；Ｓ２Ａ１］
予熱（Ｓ２Ａ１）では、ガラス部材１を、例えば、軟化点より低い５００℃程度、平衡粘性で１０^１２．５Ｐａ・ｓ以上１０^１７Ｐａ・ｓ以下になるまで加熱する。これにより、ガラス部材１を軟化点付近まで急速加熱する場合に発生する割れ等の損傷の発生を未然に防止できる。

［載置；Ｓ２Ａ２］
載置（Ｓ２Ａ２）では、予熱（Ｓ２Ａ１）した後のガラス部材１を、図８に示すような成形装置２に移送する。成形装置２はヒータ２１と、成形型２２と、カバー２３と、外型２４と、基台２５とを備える。ガラス部材１を成形型２２上に移動又は搬送し、ガラス部材１のいずれか一方の主面もしくは端面と接触させるように成形型２２に載置する。その後、必要に応じてカバー２３で成形型２２の周囲を覆うなどの準備をする。なお、予熱前にガラス部材１を成形装置２内に載置してもよく、特に制限はない。

ヒータ２１は、例えば、カバー２３の上方に所定の距離を有して配置される。ヒータ２１は、例えばシーズヒータ等の輻射ヒータを使用できるが特に制限はない。ヒータ２１は、カバー２３の外側から輻射熱を放射して、カバー２３を加熱し、カバー２３の内側に配置されたガラス部材１を、カバー２３の蓄熱により間接的に加熱し、軟化点以上の温度もしくは平衡粘性で１０^１２．５Ｐａ・ｓ以上１０^１７Ｐａ・ｓ以下になるまで加熱する。

成形型２２は、ガラス部材１の第２の主面３ｂを所望の形状に成形する成形面を有する。つまり、成形型２２の成形面には、所望のデザインを有するガラス物品１０を得るためのデザイン面を有する。成形型２２の材質はステンレス鋼等の耐酸化性のある金属板、ヒューズドシリカガラスなどのガラス、セラミック、カーボンが好ましく、ヒューズドシリカガラスなどのガラスおよびカーボンがより好ましい。ヒューズドシリカは高温かつ酸化雰囲気での耐性が高く、また接触するガラス部材１に欠点を形成しにくく、傷の少ない表面のガラス物品１０が得られる。カーボンは熱伝導率が高くガラス物品１０を効率的に生産できる。なお、成形型２２の成形面には金属や酸化物、カーボン等の被膜が形成されていてもよい。

成形型２２を覆うカバー２３は、成形型２２の周辺をクリーンに維持する上で有効であり、例えば、ステンレス鋼等の金属板とできる。また、カバー２３の材質はガラスやガラスセラミック等でよく、成形型２２と同じ材質であってもよい。

外型２４は、成形型２２の外周を包囲するように配置されてもよく、ガラス部材１の位置合わせをするための突き当てなどとして使用されてもよい。外型２４は成形型２２やカバー２３と同じ材質であってよい。

基台２５は、基台上面に成形型２２が載置される。基台２５の内部には、成形型２２に載置されたガラス部材１を成形面に吸着させる吸引路が形成されてもよい。基台２５の材質はステンレス鋼等の金属板、ガラスやセラミック等使用でき、成形型２２やカバー２３と同じ材質であってよい。

［変形；Ｓ２Ａ３］
変形（Ｓ２Ａ３）では、ガラス部材１を成形型２２等に載置（Ｓ２Ａ２）した後、ヒータ２１により、カバー２３の内側に配置されたガラス部材１を、例えば、７００〜７５０℃の軟化点以上の温度、平衡粘性で１０^６．５〜１０^１２．５Ｐａ・ｓとなるように加熱する。これにより加熱されたガラス部材１は、後述の変形手段により変形し、屈曲部を有する屈曲ガラスとするなど、所望の形状が付与される。変形時にガラス部材１の平衡粘性が１０^６．５Ｐａ・ｓ未満とすると、ガラス部材１に形成された凹凸層５が所望の形状を維持しにくくなり、最終的に得られるガラス物品の光学特性を制御しにくくなる。なお、最終的に得られるガラス物品１０が良好な光学品質を有し、所望のデザイン寸法からのガラス物品１０の形状偏差を小さくするには、平衡粘性としては、１０^７〜１０^１０Ｐａ・ｓがより好ましい。また、温度制御は、ガラス部材１と成形型２２とが非接触である面で実施する。さらに、温度制御するガラス部材１の、成形型２２との非接触面に凹凸層５を備えることが好ましい。ガラス転移点Ｔｇの低い凹凸層５の温度制御をすることで、優れた防眩層５０を形成しやすくなる。

変形手段は、自重成形法、差圧成形法（真空成形法）、プレス成形法などから、最終的に得たいガラス物品１０の形状に応じて選択できる。
自重成形法は、ガラス物品１０の形状に応じた所定の成形型２２上にガラス部材１を載置した後、ガラス部材１を軟化させて、重力によりガラス部材１を曲げて成形型２２になじませて、所定の形状に成形する方法である。

差圧成形法は、ガラス部材１を軟化させた状態でガラス部材１の表裏面に差圧を与えて、ガラス部材１を曲げて金型になじませて、所定の形状に成形する方法である。差圧成形法の一態様である真空成形法では、ガラス物品１０の形状に応じたデザイン面を有する成形型２２上にガラス部材１を設置し、ガラス部材１上にクランプ金型などの上型を設置し、ガラス部材１の周辺をシールした後、成形型２２とガラス部材１との空間をポンプで減圧することにより、ガラス部材１の表裏面に差圧を与える。この際に、補助的に、ガラス部材１の上面側を加圧してもよい。

プレス成形法は、ガラス物品１０の形状に応じたデザイン面を有する２つの金型（成形型２２、上型）間にガラス部材１を設置し、ガラス部材１を軟化させた状態で、上下の金型間にプレス荷重を加えて、ガラス部材１を曲げて金型になじませて、所定の形状に成形する方法である。
これらのうち真空成形法や自重成形法は、ガラス物品１０の所定の形状に成形する方法として優れており、ガラス物品１０の二つの主面のうち、一方の主面は成形型と接触せずに成形できるため、傷、へこみなどの凹凸状欠点を低減できる。また自重成形法では、比較的に低温で変形できるので、ガラス部材１上の凹凸層５が機能しないような損傷を抑制できる。
なお、他に、局所加熱成形法、真空成形法と異なる差圧成形法なども使用でき、成形後のガラス物品１０の形状に応じて、適切な成形法を選択すればよく、２種以上の成形法を併用してもよい。

変形における加熱は、輻射加熱または対流加熱が好ましい。
輻射加熱とは、被加熱体がヒータ等の熱源から放射されるエネルギーを吸収することにより加熱される手法である。これによりガラス物品１０を量産する際に、加熱−冷却サイクルの短縮化を実現できるため、変形のタクトタイムの短縮化を実現でき、結果としてガラス物品１０の生産効率を向上できる。
対流加熱とは、被加熱体が雰囲気の気体の対流により加熱される手法である。これにより、ガラス部材１の面内温度分布を均一化でき、最終的に得られるガラス物品１０上の防眩層５０の構造制御をしやすくなり、結果としてガラス物品１０の生産効率を向上できる。

得られたガラス物品１０の曲げ深さは、１０００ｍｍ以下が好ましく、５００ｍｍ以下がより好ましく、３００ｍｍ以下がさらに好ましい。これにより凹凸層５にクラックを生じさせず、最終製品としての所望の特性を備える防眩層５０を有するガラス物品が得られる。

得られたガラス物品１０の屈曲部の平均曲率半径は、５ｍｍ以上５０００ｍｍ以下が好ましく、１００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下がより好ましい。これにより凹凸層５に負荷がかかる成形工程（Ｓ２Ａ）を実施しても凹凸層５のムラの無い外観に優れたガラス物品１０が得られる。

［冷却；Ｓ２Ａ４］
冷却（Ｓ２Ａ４）では、ガラス部材１を変形（Ｓ２Ａ３）後、凹凸層５の表面形状が変化して得られた防眩層５０を有するガラス物品１０を取り出すため、室温程度といったハンドリングできるような温度まで冷却する。

以上、成形工程（Ｓ２Ａ）を終え、ガラス物品取出（Ｓ３）を実施し、所望の形状が付与された本実施形態のガラス物品１０が得られる。凹凸層５は、エッチングにより形成された微細孔や、堆積処理で凹凸層５を形成した際に使用した溶媒や有機物を焼成して残留した残留空隙が存在する。これらの微細孔や残留空隙は、凹凸層５のガラス転移点Ｔｇが、ガラス物品１０の厚さ方向断面視中央部のガラス転移点Ｔｇ_０以下であり変形しやすいため、成形工程（Ｓ２Ａ）により緻密化され、優れた耐擦傷性を示すようになる。

一般的には、ガラス基材３を変形した後の屈曲部を有するガラス基材にエッチングすることが考えられる。しかしながら、そのようにして得られたガラス基材は前記の理由から耐擦傷性を示さない。さらには、ガラス基材３を変形した後の屈曲部を有するガラス基材にエッチングした場合には、その基材の複雑性のため、均一な凹凸層５を形成できず光学特性を得られない。よって、本発明で得られたガラス物品１０は、耐擦傷性を有するだけでなく、優れた均一な光学的特性を有する。
なお、このガラス物品１０に後述のアニール工程（Ｓ２Ｂ）を実施してよく、その場合には、このガラス物品１０をガラス部材１として使用すればよい。またその際には、変形（Ｓ２Ａ３）後に冷却（Ｓ２Ａ４）を実施せずに、後述のアニール工程（Ｓ２Ｂ）を実施してよい。

（アニール工程；Ｓ２Ｂ）
図９は加熱処理をアニール工程（Ｓ２Ｂ）において行う製造工程の一例を概略的な手順で示すフローチャートである。アニール工程（Ｓ２Ｂ）では、図１０に示すように、所望の温度まで昇温（Ｓ２Ｂ１）、ガラス部材１を所望の温度で保持する保温（Ｓ２Ｂ２）、保温（Ｓ２Ｂ２）したガラス部材１を徐々に冷却する徐冷（Ｓ２Ｂ３）を実施する。予め、ガラス部材１を支持台、成形型、アーム等の適宜の支持手段により支持させて、昇温（Ｓ２Ｂ１）、保温（Ｓ２Ｂ２）、徐冷（Ｓ２Ｂ３）のそれぞれの処理ステージに移動させてもよい。

アニールは、ガラス部材１内の残留ひずみや残留応力を除去できる効果を有する。ガラス部材１に成形工程（Ｓ２Ａ）で所望の形状を付与した場合、大きな残留応力が発生する。残留応力のあるガラス部材１では、強化処理が不均一となる等の不都合が生じる。特に車載用表示パネルに使用する前面板のように、車内空間に適した形状となるように変形した大型で厚さの薄いガラスや複雑形状のガラスでは、ガラス内に残留応力が残りやすい。この残留応力の影響により強化処理が不均一となり強度のバラツキが発生するだけでなく、これによる光学的な歪も発生しやすくなる。そこで、ガラス部材１をアニールすることで残留ひずみを除け、均質なガラスが得られる。

アニール工程における加熱の方法として、輻射加熱または対流加熱を利用することが好ましい。輻射加熱を使用すると、ガラス物品１０を量産する際に、加熱−冷却サイクルの短縮化を実現できるため、アニール工程におけるタクトタイムの短縮化を実現でき、結果としてガラス物品１０の生産効率を向上できる。対流加熱を使用すると、ガラス部材１の面内温度分布を均一化でき、最終的に得られるガラス物品１０の面内応力を均一に除去でき、結果として個体差の少ないガラス物品１０の生産を実現できる。なお、輻射加熱と対流加熱との両者を同時に使用してもよい。

アニール工程（Ｓ２Ｂ）では、ガラス部材１を、図１１に示すような加熱装置２Ａに移送する。加熱装置２Ａはヒータ２１と、土台型２２Ａと、カバー２３と、外型２４と、基台２５とを備える。ガラス部材１を土台型２２Ａ上に移動又は搬送し、ガラス部材１のいずれか一方の主面もしくは端面と接触させるように土台型２２Ａに載置する。その後、必要に応じてカバー２３で土台型２２Ａの周囲を覆うなどの準備をする。なお、予熱前にガラス部材１を加熱装置２Ａ内に載置してもよく、特に制限はない。

土台型２２Ａは、ガラス部材１をアニールするための土台となる。つまり、土台型２２Ａの最表面は、ガラス部材１を支えられる形状を有する。土台型２２Ａの材質はステンレス鋼等の耐酸化性のある金属板、ヒューズドシリカガラスなどのガラス、セラミック、カーボンが好ましく、ヒューズドシリカガラスなどのガラスおよびカーボンがより好ましい。ヒューズドシリカは高温かつ酸化雰囲気での耐性が高く、また接触するガラス部材１に欠点を形成しにくく、傷の少ない表面のガラス物品１０が得られる。カーボンは熱伝導率が高くガラス物品１０を効率的に生産できる。なお、土台型２２Ａの成形面には金属や酸化物、カーボン等の被膜が形成されていてもよい。またガラス基材１を土台型２２Ａ上に載置する場合、治具を使用してもよい。この場合、治具は、土台型２２Ａと同じ材質とできる。

なお、カバー部材２３、外型２４、基材２５は前述の加熱装置２と同じ構成とでき、説明は省略する。またアニール装置２は、アニール工程（Ｓ２Ｂ）だけでなく、例えば、わずかな湾曲や模様を設けた土台型２２上にガラス基材１を載置して、成形工程（Ｓ２Ａ）を実施でき、成形装置として使用してもよい。

［昇温；Ｓ２Ｂ１］
昇温では、ガラス部材１の平衡粘性が１０^１２．５〜１０^１７Ｐａ・ｓになるように加熱することが好ましい。アニール工程における所望のアニール温度としては、例えば５５０℃程度が好ましい。

［保温；Ｓ２Ｂ２］
保温では、アニール温度に加熱されたガラス部材１を、例えば、１０〜６０分保持することが好ましい。これはクリープ変形を抑制しつつ室温まで冷却できるためである。状況により、昇温での加熱温度より保温温度を低く設定して保温を実施してもよい。なお、「クリープ変形」とは、例えば、ガラス部材１の平衡粘性が１０^１２．５〜１０^１７Ｐａ・ｓになるように加熱し保持したとき、時間経過とともにガラス部材の形状が変形する現象を示す。

［徐冷；Ｓ２Ｂ３］
徐冷では、例えば、ガラス部材の降温速度は０．３〜１０℃／分が好ましく、０．３〜５℃／分がより好ましい。これによりガラス部材内に温度分布を生じなくなり、温度分布による残留応力の発生を抑制できる。徐冷の終点は、例えば、ガラス部材が室温となるまでであり、平衡粘性としては１０^１７．８Ｐａ・ｓ以上である。

以上、アニール工程（Ｓ２Ｂ）を終え、ガラス物品取出（Ｓ３）を実施することで、所望の形状が付与された本実施形態のガラス物品１０が得られる。

上記の加熱処理（Ｓ２）によれば、ガラス部材の凹凸層５がわずかに変化し、密度の高い防眩層５０が得られる。通常、ガラス部材準備（Ｓ１）において凹凸層５を形成した際に、凹凸層５が低密度となっている。これはエッチングにより形成された微細孔や、堆積処理で凹凸層５を形成した際に使用した溶媒や有機物を焼成して残留した残留空隙が形成されるためである。これら低密度の凹凸層５を有するガラスを使用すると、凹凸層５が摩耗しやすく耐摩耗性などの耐久性が不足する。本実施形態における加熱処理（Ｓ２）を実施することで、凹凸層５のガラス転移点Ｔｇが、ガラス物品１０の厚さ方向断面視中央部のガラス転移点Ｔｇ_０以下であり変形しやすいため、凹凸層５の密度が改善され耐摩耗性などの耐久性がある防眩層５０が得られる。

＜用途＞
本発明のガラス物品１０の用途は、特に制限はなく、車載用部品（ヘッドライトカバー、サイドミラー、フロント透明基板、サイド透明基板、リア透明基板、インスツルメントパネル表面、車載用ディスプレイ前面板等。）、メータ、建築窓、ショーウインドウ、建築用内装部材、建築用外装部材、前面板（ノート型パソコン、モニタ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＣＲＴ、ＰＤＡ等）、ＬＣＤカラーフィルタ、タッチパネル用基板、ピックアップレンズ、ＣＣＤ用カバー基板、太陽電池用透明基板（カバーガラス等。）、携帯電話窓、有機ＥＬ発光素子部品、無機ＥＬ発光素子部品、蛍光体発光素子部品、光学フィルタ、照明ランプ、照明器具のカバー、反射防止フィルム、偏光フィルム等が挙げられる。

＜変形例＞
なお、本発明は上記実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良ならびに設計の変更等が可能であり、その他、本発明の実施の際の具体的な手順、及び構造等は本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等としてもよい。

防眩層５０の表面の凸部直径（真円換算）は１．５μｍ以上３．０μｍ以下が好ましい。これにより強度の高い凸部となるため、防眩層５０が高い耐摩耗性を発現できる。凸部直径（真円換算）は１．７μｍ以上２．８μｍ以下がより好ましい。

防眩層５０は、面の偏り度Ｓｓｋが０未満であることが好ましい。Ｓｓｋが０未満であるということは、防眩層５０の表面がスプーンカット形状の凹凸であることを示す。Ｓｓｋが０未満の範囲において、できるだけ大きい（０に近い）方が、凹凸がなだらかになっていることを示すため、防眩層５０の耐摩耗性が向上する。面の偏り度Ｓｓｋは−１．２以上０未満が好ましい。これは光学特性と耐擦傷性の両立をより実現できる。

ガラス物品１０の防眩層５０の最表面における線の算術平均粗さＲａは、０．０３μｍ以上が好ましく、０．０５μｍ以上０．７μｍ以下がより好ましく、０．０７μｍ以上０．５μｍ以下がさらに好ましい。ガラス物品１０の防眩層５０の最表面の算術平均粗さＲａが下限値以上であれば、防眩効果が充分に発揮され、上限値以下であれば、画像のコントラストの低下が充分に抑えられる。

ガラス物品１０の防眩層５０の最表面における面の算術平均高さＳａは０．０９μｍ以下が好ましく、０．０６μｍ以下がより好ましい。Ｓａを上限値以下にすることで防眩層５０の耐摩耗性が向上する。防眩層５０の面の算術平均高さＳａは、０．０１μｍ以上０．０９μｍ以下がより好ましく、０．０２μｍ以上０．０６μｍ以下がさらに好ましい。Ｓａが大きい値であると、局所的に高い凸部が増え、摩擦時に局所的に摩耗が進みやすくなるため、耐擦傷性が極端に悪くなる。グロス値が小さくなるほどＳａは大きくなる傾向にあるが、同じグロス値であれば、Ｓａが小さい方が耐擦傷性は有利となる。

ガラス物品１０の防眩層５０の最表面の最大高さ粗さＲｚは、０．２μｍ以上５μｍ以下が好ましく、０．３μｍ以上４．５μｍ以下がより好ましく、０．５μｍ以上４μｍ以下がさらに好ましい。ガラス物品１０の防眩層５０の最表面の最大高さ粗さＲｚが下限値以上であれば、防眩効果が充分に発揮され、上限値以下であれば、画像のコントラストの低下が充分に抑えられる。

ガラス物品１０のヘイズ値は、０．１％以上５０％以下が好ましく、０．１％以上３０％以下がより好ましく、０．１％以上２０％以下がさらに好ましい。ガラス物品１０のヘイズ値が下限値以上であれば、防眩効果が発揮され、ヘイズ値が上限値以下であれば、ガラス物品１０を前面板や各種フィルタとして画像表示装置本体の視認側に設けた場合に、画像のコントラストの低下が充分に抑えられる。

ガラス物品１０が図３（ｂ）のような平坦部と屈曲部とを有する場合には、反射像拡散性指標値Ｒの比（屈曲部の反射像拡散性指標値Ｒ／平坦部の反射像拡散性指標値Ｒと屈曲部の反射像拡散性指標値Ｒとの和）は０．３〜０．８が好ましく、０．４〜０．７がより好ましく、０．４〜０．６がさらに好ましい。高ヘイズ値の場合には光の散乱により白味が強くなり陰影が付きやすく目視による外観の均一性に影響がでる。反射像拡散性指標値Ｒの比が前記の範囲であれば目視での外観均一性が陰影により影響を受けにくく優れた外観となる。

ガラス物品１０は、ヘイズ値の面内の標準偏差が０〜１０％であることが好ましく、０〜６％がより好ましい。この範囲であれば、使用者側からガラス物品を視認した際に、均質な防眩層であるように視認でき、美観性に優れ、また、防眩層の凹凸によるタッチ感も損なわない。さらに、車載用表示パネルの前面板としてガラス物品１０を使用した際には、運転席から視認したときの画像均質性が得られ、快適な操作性を実現できる。

ガラス物品１０は、ギラツキ指標値Ｓの面内の標準偏差が０〜１０％であることが好ましく、０〜６％がより好ましい。この範囲であれば、車載用表示パネルの前面板としてガラス物品１０を使用した際には、液晶等の表示画面を違和感なく視認でき、運転席から視認したときの画像均質性が得られ、快適な操作性を実現できる。

ガラス物品１０は、解像度指標値Ｔの面内の標準偏差が０〜１０％であることが好ましく、０〜６％がより好ましい。この範囲であれば、車載用表示パネルの前面板としてガラス物品１０を使用した際には、液晶等の表示画面を違和感なく視認でき、運転席から視認したときの画像均質性が得られ、快適な操作性を実現できる。

またガラス部材１やガラス物品１０（以下、被加工物と記載）に以下の工程・処理がなされてもよい。
（研削・研磨加工）
被加工物の少なくとも一方の主面を研削・研磨加工を実施してもよい。

（孔あけ加工）
被加工物の少なくとも一部に孔を形成してもよい。孔は被加工物を貫通していても、貫通していなくてもよい。孔あけ加工は、ドリルやカッタなどの機械加工でも、フッ酸などを使用したエッチング加工でもよく、特に制限はない。

（端面加工）
被加工物の端面は、面取加工などの処理がなされていてもよい。被加工物がガラスの場合、機械的な研削により一般的にＲ面取、Ｃ面取と呼ばれる加工を行うのが好ましいが、エッチングなどで加工を行ってもよく、特に限定されない。また、ガラス部材を予め端面加工してから加熱処理を経てガラス物品としてもよい。

（強化処理）
被加工物に表面圧縮応力層を形成する強化処理方法として、物理強化法や化学強化法が利用できる。ガラス主面が強化処理された被加工物は、機械的強度が高くなる。本構成においては、いずれの強化手法を採用してもよいが、厚みが薄くかつ表面圧縮応力（ＣＳ）値が大きなガラスを得る場合には、化学強化法によって強化するのが好ましい。
強化処理工程は、ガラス物品取出（Ｓ３）後に実施することが好ましい。

［化学強化法］
化学強化法においては、４５０℃弱の溶融塩で、被加工物であるガラスの主面に存在するイオン半径が小さいアルカリ金属イオン（典型的にはＬｉイオン、Ｎａイオン）を、イオン半径のより大きいアルカリイオン（典型的にはＬｉイオンに対してはＮａイオンであり、Ｎａイオンに対してはＫイオンである。）に交換することで、ガラス表面に表面圧縮応力層を形成する処理である。化学強化処理は従来公知の方法によって実施でき、一般的には硝酸カリウム溶融塩にガラスを浸漬する。この溶融塩に炭酸カリウムを１０質量％程度入れて使用してもよい。これによりガラスの表層のクラックなどを除去でき高強度のガラスが得られる。化学強化時に硝酸カリウムに硝酸銀などの銀成分を混合することで、ガラスがイオン交換され銀イオンを表面に有し抗菌性を付与できる。また、化学強化処理は１回に限らず、例えば異なる条件で２回以上実施してもよい。

被加工物は少なくとも一方の主面に表面圧縮応力層が形成されており、その表面圧縮応力（ＣＳ）値は、５００ＭＰａ以上が好ましく、５５０ＭＰａ以上がより好ましく、６００ＭＰａ以上がさらに好ましく、７００ＭＰａ以上が特に好ましい。表面圧縮応力（ＣＳ）が高くなると強化ガラスの機械的強度が高くなる。一方、表面圧縮応力（ＣＳ）が高くなりすぎるとガラス内部の引張応力が極端に高くなるため、表面圧縮応力（ＣＳ）は１８００ＭＰａ以下が好ましく、１５００ＭＰａ以下がより好ましく、１２００ＭＰａ以下がさらに好ましい。

被加工物の主面に形成される表面圧縮応力層の深さ（ＤＯＬ）は、５μｍ以上が好ましく、８μｍ以上がより好ましく、１０μｍ以上がさらに好ましい。一方、ＤＯＬが大きくなりすぎるとガラス内部の引張応力が極端に高くなるため、表面圧縮応力層の深さ（ＤＯＬ）は７０μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、４０μｍ以下がさらに好ましく、典型的には３０μｍ以下である。

被加工物の主面に形成される表面圧縮応力（ＣＳ）値及び表面圧縮応力層の深さ（ＤＯＬ）は、表面応力計（折原製作所社製、ＦＳＭ−６０００）を用いて、干渉縞の本数とその間隔を観察して求められる。ＦＳＭ−６０００の測定光源としては、例えば波長５８９ｎｍや７９０ｎｍのものが使用できる。なお、表面圧縮応力は複屈折を利用した測定も可能である。光学的評価が難しい場合は、３点曲げ等の機械的強度評価を利用した推定も可能である。また、被加工物の内部に形成される引張応力（ＣＴ；単位ＭＰａ）は、上記で測定した表面圧縮応力（ＣＳ；単位ＭＰａ）及び表面圧縮応力層の深さ（ＤＯＬ；単位μｍ）を用い、以下の式によって算出できる。

ＣＴ＝｛ＣＳ×（ＤＯＬ×１０^−３）｝／｛ｔ−２×（ＤＯＬ×１０^−３）｝
なお、ｔ（単位ｍｍ）はガラスの板厚である。

なお、強化処理を行った後に、被加工物を洗浄してもよい。例えば、洗浄として水洗の他、酸処理、アルカリ処理、アルカリブラシ洗浄を実施してもよい。

（機能層処理）
被加工物について必要に応じて各種機能層を形成してもよい。機能層としては、反射防止処理層、防汚処理層などが挙げられ、これらを併用してもよい。被加工物の第１の主面又は第２の主面のいずれの面でもよい。これらは得られたガラス物品１０に形成されることが好ましく、強化処理工程後に形成されることがより好ましい。なお、機能層を有するガラス物品１０の場合、凸部直径や、ＳｓｋやＲａなどの表面浅さなどは、ガラス物品１０の最表層の測定値とできる。

［反射防止処理層］
反射防止処理層は、反射率低減の効果をもたらし、光の映り込みによる眩しさを低減するほか、表示装置に使用した場合には、表示装置からの光の透過率を向上でき、表示装置の視認性を向上できる層のことである。
反射防止処理層が反射防止膜である場合、被加工物の第１の主面または第２の主面に形成されることが好ましいが制限は無い。反射防止膜の構成としては光の反射を抑制できれば限定されず、例えば、波長５５０ｎｍでの屈折率が１．９以上の高屈折率層と屈折率が１．６以下の低屈折率層とを積層した構成、もしくは膜マトリックス中に中空粒子や空孔を混在させた波長５５０ｎｍでの屈折率が１．２〜１．４の層を含む構成としてよい。

［防汚処理層］
防汚処理層は、有機物や無機物の付着を抑制する層、または、有機物や無機物が付着した場合においても、ふき取り等のクリーニングにより付着物が容易に除去できる効果をもたらす層のことである。
防汚処理層が防汚膜として形成される場合、被加工物の第１の主面または第２の主面上の表面処理層の最表層上に形成されることが好ましい。防汚処理層としては、防汚性を付与できれば限定されないが、含フッ素有機ケイ素化合物を加水分解縮合反応により得られる含フッ素有機ケイ素化合物被膜からなることが好ましい。

（印刷層形成）
印刷層は、用途に応じて種々の印刷方法、インキ（印刷材料）により形成されて良い。印刷方法としては、例えば、スプレー印刷、インクジェット印刷やスクリーン印刷を利用できる。これらの方法により、面積の広い被加工物でも良好に印刷できる。特に、インクジェット印刷では、屈曲部を有する被加工物に印刷しやすく、印刷面の表面粗さを調整しやすい。一方、スクリーン印刷では、広い被加工物に平均厚さが均一になるように所望の印刷パターンを形成しやすい。また、インキは、複数使用してよいが、印刷層の密着性の観点から同一のインキであるのが好ましい。印刷層を形成するインキは、無機系でも有機系であってもよい。

本発明の実施例について説明する。Ａ−１、Ａ−２、Ｂ−１、Ｂ−２、Ｃ−１、Ｃ−２は実施例、Ａ−３、Ｂ−３、Ｃ−３は比較例である。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［板の準備］
ガラス基材には、厚さ０．７ｍｍ、主面が３００ｍｍ×３００ｍｍの四角形である板状ガラス（ドラゴントレイル（登録商標）、旭硝子社製）を用いた。以下、当該ガラス基材の一方の主面を第１の主面、他方の主面を第２の主面と称する。
ガラス基材に（１）凹凸層形成、（２）端面の研削処理を行い、ガラス部材を作製した。

［ガラス部材］
（１）凹凸層形成
ガラス基材の第１の主面に以下の手順で、フロスト処理により凹凸層を形成した。
まず、耐酸性の保護フィルム（以下、単に「保護フィルム」という）を、ガラス基材の凹凸層を形成しない側の主面（第２の主面）に貼合した。このガラス基材を３質量％のフッ化水素水溶液に浸漬し、ガラス基材をエッチングし第１の主面に付着した汚れを除去した。続いてガラス基材を１５質量％フッ化水素、１５質量％フッ化カリウムの混合水溶液に浸漬し、第１の主面にフロスト処理を施した。その後、ガラス基材を１０質量％フッ化水素水溶液に浸漬することで第１の主面にフッ化物が残るように凹凸層を形成し、凹凸層を有するガラス部材とした。なお、ガラス転移点Ｔｇは、ガラス部材の厚さ方向断面視中央部において５９３℃、凹凸層において５８３〜５８６℃となった。Ａ−１〜Ｃ−３のガラス部材として、ヘイズ値とグロス値とを表１に示すように調整した。

（２）端面の研削処理
前記ガラス部材を５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切断した。その後、ガラス基材の全周にわたってガラスの端面から０．２ｍｍの寸法でＣ面取りを行った。面取りは６００番の砥石（東京ダイア社製）を用い、砥石の回転数が６５００ｒｐｍ、砥石の移動速度が５０００ｍｍ／分で処理した。これにより端面の表面粗さが４５０ｎｍとなった。

得られたガラス部材を成形型上に（３）載置し、（４）予熱・変形・冷却を実施し、ガラス物品を作製した。

［ガラス物品］
（３）載置
図１１に示すような加熱装置２Ａを使用した。土台型２２Ａは、曲率半径１００００ｍｍ以上となる平坦部のデザイン面が形成されていた。土台型２２Ａの材質にはカーボンを使用した。図１１に示すように前記第２の主面を下方として表１に示すＡ−１〜Ｃ−３のガラス部材を載置した。なお、Ａ−１〜Ａ−３をシリーズＡ、Ｂ−１〜Ｂ−３をシリーズＢ、Ｃ−１〜Ｃ−３をシリーズＣとした。後述する試験において、実施例と比較例とはそれぞれのシリーズ内での比較とする。

（４）予熱・変形・冷却
前記載置後、ガラス部材と成形型全体を予熱・変形・冷却を行った。予熱では室温から所望の温度まで昇温し、変形では所望の温度で保持し、冷却では徐冷温度まで降温した後に室温まで放冷した。それぞれの温度条件・時間条件は表１に示す通りである。なお、変形の工程は６８０℃で実施し、平衡粘性として１０^９Ｐａ・ｓ程度とした。その後、室温まで冷却した。表１に示す条件にてＡ−１〜Ｃ−３のガラス部材を処理し、Ａ−１、Ａ−２、Ｂ−１、Ｂ−２、Ｃ−１およびＣ−２のガラス部材については、それぞれの防眩層を有するガラス物品を作製した。なお、温度条件は第１の主面において制御した。

［サンドペーパーによる耐摩耗性試験］
底面が１０ｍｍ×１０ｍｍである平面金属圧子にサンドペーパーを装着してサンプルを擦る摩擦子とした。次に、前記摩擦子を用い、平面摩耗試験機３連式（大栄科学精器製作所製）にて耐摩耗性試験を行った。具体的には、上記圧子の底面がサンプルの凹凸層または防眩層に接触するように摩耗試験機に取り付け、摩擦子への加重が３０００ｇとなるように重りを載せ、平均速さ４８００ｍｍ／分、片道４０ｍｍで往復摺動した。往復１回で擦り回数２回として試験を行い、擦り回数１００回終了後の試験サンプルについてヘイズ値、グロス値の測定を行った。サンプルとしてＡ−１、Ａ−２、Ｂ−１、Ｂ−２、Ｃ−１およびＣ−２のガラス物品とＡ−３、Ｂ−３およびＣ−３の非加熱ガラスとを使用した。

Ａ−１、Ａ−２、Ｂ−１、Ｂ−２、Ｃ−１およびＣ−２のガラス物品とＡ−３、Ｂ−３およびＣ−３とについて、変形後のヘイズ値、グロス値および表面形状と、耐摩耗試験後のヘイズ値およびグロス値、耐摩耗性試験後のヘイズ値およびグロス値の変化率を、表２に示す。表面形状の解析項目は、凸部の平均直径、Ｓａ、Ｓｓｋとした。また、凸部の平均直径と耐摩耗試験前後でのグロス変化率を図１２に示す。

シリーズＡのＡ−１およびＡ−２、シリーズＢのＢ−１およびＢ−２、シリーズＣのＣ−１およびＣ−２において、耐摩耗試験後もヘイズ値およびグロス値の変化量率を抑制でき、優れた耐摩耗性を示した。一方、Ａ−３、Ｂ−３およびＣ−３において、耐摩耗性試験後は、各シリーズにおけるその他のガラス物品に比べ、ヘイズ値もグロス値も変化率が非常に大きく、耐摩耗性が劣っていた。

凸部直径をｙ（μｍ）、耐摩耗性試験前グロス値をｘ（％）とすると、ｙ＞−０．０２４５ｘ＋３．６５の式を満たすガラス物品が、優れた耐摩耗性を示すと考えられる。
なお、Ａ−３、Ｂ−３およびＣ−３は、加熱処理により、Ａ−１、Ａ−２、Ｂ−１、Ｂ−２、Ｃ−１およびＣ−２のようなガラス物品となり、凸部直径が小さくなる。凸部直径は、「画像処理面」においてベアリング高さ＋０．０１μｍの高さで切った凸部断面を円に換算したときの直径を平均したものであり、凸部の平均直径が減少するということは、表面の微細な凸部の急峻性が低減したことを意味する。これは、加熱処理によってガラス物品表面の凹凸形状の急峻性が熱により低減する方向に変形したことで、ガラス物品表面の凹凸形状が緻密になり、耐摩耗性が向上したためと考えられる。

以上のように、本発明によれば防眩性などの視認性に優れ、耐摩耗性の高いガラス物品が得られた。

本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えられることは、当業者にとって明らかである。

１ ガラス部材
１０ ガラス物品
２ 成形装置
３ ガラス基材
５ 凹凸層
５０ 防眩層
７ 平坦部
９ 屈曲部

Claims (15)

1. 第１の主面と第２の主面、端面とを有するガラス物品であって、
   前記第１の主面は防眩層であり、
   前記防眩層のガラス転移点Ｔｇが前記ガラス物品の厚さ方向断面視中央部のＴｇ_０以下であり、
   前記第１の主面の凸部直径ｙ（μｍ）が、６０゜鏡面光沢度（グロス値）ｘ（％）に対して、式（１）を満たす、ガラス物品。
   ｙ ＞ −０．０２４５ｘ ＋ ３．６５ ・・・（１）
   凸部直径ｙ（μｍ）は、前記第１の主面についてレーザ顕微鏡で測定した際に得られた表面形状のＸＹＺデータから得られた像について、画像処理ソフトウェアによりフィルタリングすることによりスムージング像を取得し、前記表面形状のＸＹＺデータから前記スムージング像のＸＹＺデータを差し引くことで得られた面においてベアリング高さ＋０．０１μｍの高さで切った凸部断面を円に換算したときの直径を示す。
   ６０゜鏡面光沢度（グロス値）ｘ（％）は、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７（ＩＳＯ２８１３：１９９４）に記載された方法によって測定される値である。
2. 前記第１の主面または前記第２の主面の少なくともいずれかは、屈曲部を有する、請求項１に記載のガラス物品。
3. Ｓｉと、Ａｌ、Ｂ、Ｚｒ、Ｔｉからなる群より選ばれる元素Ｘとの原子組成比ＺをＸ／Ｓｉと定義したとき、前記防眩層における原子組成比Ｚ_１と前記厚さ方向断面視中央部における原子組成比Ｚ_０との比Ｚ_１／Ｚ_０が０．９〜１．１である、請求項１または２に記載のガラス物品。
4. 前記防眩層における、Ｋ／（Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ）で示されるアルカリ金属の組成比が、前記ガラス物品の厚さ方向断面視中央部より大きい、請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラス物品。
5. 前記防眩層に、フッ素原子（Ｆ）または塩素原子（Ｃｌ）が含まれる、請求項１〜４のいずれか一項に記載のガラス物品。
6. 前記６０゜鏡面光沢度（グロス値）ｘ（％）が、１５％以上１３０％以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のガラス物品。
7. 前記ガラス物品は、アルミノシリケートガラスからなる、請求項１〜６のいずれか一項に記載のガラス物品。
8. 前記防眩層の凸部直径ｙ（μｍ）が、１．５μｍ以上３．０μｍ以下である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のガラス物品。
9. 前記第１の主面は、面偏り度Ｓｓｋが０未満である、請求項１〜８のいずれか一項に記載のガラス物品。
10. ヘイズ値が、０．１％以上５０％以下である、請求項１〜９のいずれか一項に記載のガラス物品。
11. 前記ヘイズ値の面内の標準偏差が０〜１０％である、請求項１０に記載のガラス物品。
12. 前記前記第１の主面または前記第２の主面の少なくともいずれかは、表面圧縮応力層を備え、その表面圧縮応力（ＣＳ）値が、５００ＭＰａ以上である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のガラス物品。
13. 前記第１の主面が、さらに機能層を備える、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のガラス物品。
14. 前記機能層が、反射防止処理層である、請求項１３に記載のガラス物品。
15. 前記機能層が、防汚層である、請求項１３に記載のガラス物品。

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