JP2019161365A - 放射線撮像装置、その制御方法、プログラムおよび放射線撮像システム - Google Patents

Abstract

【課題】ＡＥＣの高精度化を比較的簡便に実現可能にする。【解決手段】放射線を検出可能な複数のセンサが配列された撮像部と、前記撮像部への放射線照射を終了させるための信号を前記複数のセンサの一部である複数の制御用センサの信号に基づいて発生する処理部と、を備える放射線撮像装置であって、前記処理部は、前記撮像部への放射線照射が開始された後の第１期間において、前記複数の制御用センサ間の信号値の比を取得する第１動作と、前記第１期間後の第２期間において、前記複数の制御用センサのうちの一部の制御用センサの信号と、前記第１動作で得られた前記比とに基づいて、他の制御用センサの信号を算出する第２動作と、を行う。【選択図】図１

Description

本発明は、主に放射線撮像装置に関する。

放射線撮像装置のなかには、放射線の照射中に撮像部における一部のセンサから信号を繰り返し読み出し、その信号値に基づいて放射線照射量が基準に達したことを検出することで放射線の照射を終了させるものがある。このような制御は、自動露出制御（ＡＥＣ（Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ））等と称される。放射線の照射の終了後には撮像部から信号が読み出され、画像データが生成される。特許文献１には、ＡＥＣ用センサとしてそれぞれ機能する複数の画素を撮像部に配置することが記載されている。

特開２０１２−１５９１３号公報

上述のＡＥＣの精度を向上させる方法としては、例えば、上記一部のセンサからの信号読出の高速化、それにより得られた信号についての信号処理の高速化等が考えられる。特許文献１の構成においてＡＥＣを行う場合、複数のＡＥＣ用センサの全部について信号読出を行うと、信号処理に比較的長い時間を要し、処理対象となる信号の量も大きくなりうる。そのため、例えば、該信号処理の際のサンプリング周期が長くなってしまうことが考えられ、ＡＥＣの高精度化の観点で放射線撮像装置の制御態様に改善の余地があった。

本発明の目的は、ＡＥＣの高精度化を比較的簡便に実現可能にすることにある。

本発明の一つの側面は放射線撮像装置にかかり、前記放射線撮像装置は、放射線を検出可能な複数のセンサが配列された撮像部と、前記撮像部への放射線照射を終了させるための信号を前記複数のセンサの一部である複数の制御用センサの信号に基づいて発生する処理部と、を備える放射線撮像装置であって、前記処理部は、前記撮像部への放射線照射が開始された後の第１期間において、前記複数の制御用センサの信号間の信号値の比を取得する第１動作と、前記第１期間後の第２期間において、前記複数の制御用センサのうちの一部の制御用センサの信号と、前記第１動作で得られた前記比とに基づいて、他の制御用センサの信号を算出する第２動作と、を行うことを特徴とする。

本発明によれば、ＡＥＣを高精度化することができる。

放射線撮像システムの構成の一例を説明するためのブロック図である。 放射線撮像装置の構成の一例を説明するためのブロック図である。 撮像用センサおよび制御用センサの構成の一例を説明するための模式図である。 ＡＥＣの際の放射線撮像装置の制御方法の一例を説明するためのタイミングチャートである。 放射線撮像装置の構成の一例を説明するためのブロック図である。 撮像部の構成の他の例を説明するためのブロック図である。 ＡＥＣの際の放射線撮像装置の制御方法の他の例を説明するためのタイミングチャートである。 ＡＥＣの際の放射線撮像装置の制御方法の他の例を説明するためのタイミングチャートである。 撮像部の構成の他の例を説明するためのブロック図である。 ＡＥＣの際の放射線撮像装置の制御方法の他の例を説明するためのタイミングチャートである。

以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明する。なお、各図は、構造ないし構成を説明する目的で記載されたものに過ぎず、図示された各部材の寸法は必ずしも現実のものを反映するものではない。また、各図において、同一の部材または同一の構成要素には同一の参照番号を付しており、以下、重複する内容については説明を省略する。

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係る放射線撮像システムＳＹの構成例を示すブロック図である。放射線撮像システムＳＹは、放射線撮像装置１と、演算部２と、放射線源３と、放射線源制御部４とを具備する。放射線撮像装置１は、撮像部１１と、駆動部１２と、読出部１３と、処理部１４とを備える。詳細については後述とするが、撮像部１１は放射線源３からの放射線を検出し、駆動部１２は撮像部１１を駆動し、また、読出部１３は駆動部１２により駆動された撮像部１１から信号を読み出す。

処理部１４は、ＣＰＵ（中央演算部）１４１と、メモリ１４２と、外部インタフェース１４３とを含む。詳細については後述とするが、処理部１４は、読出部１３により読み出された信号についてＣＰＵ１４１及びメモリ１４２により信号処理を行い、また、外部インタフェース１４３を介して演算部２と信号通信を行う。また、処理部１４は、駆動部１２および読出部１３を制御することも可能であり、放射線撮像装置１内の各要素の動作制御を行う制御部としても機能する。尚、処理部１４の機能の一部／全部はハードウェアおよびソフトウェアの何れによっても実現可能であり、図１では処理部１４を単一の要素として示すが、処理部１４の機能の一部は別体の要素として設けられてもよい。

演算部２は、放射線撮像装置１および放射線源制御部４との間で信号の授受を行い、放射線撮像が適切に実現されるように放射線撮像システムＳＹ全体の制御を行う。演算部２には、例えば汎用のパーソナルコンピュータ等が用いられ、ここでは不図示の入力端末（キーボード等）や表示部（液晶ディスプレイ等）が接続されうる。

例えば、演算部２には、医師等のユーザにより入力端末を介して撮像情報（患者等の被検者の情報、撮像対象／検査対象の部位等、放射線撮像に必要な情報）が入力され、演算部２は、放射線撮像装置１について該撮像情報に基づく初期設定を行う。そして、演算部２は、放射線撮像装置１が撮像可能な状態となった後、撮像開始要求を示す所定の信号が発生したことに応じて、放射線源制御部４により上記撮像情報に基づく設定で放射線源３を駆動する。

ここで、詳細については後述とするが、放射線撮像装置１は、放射線源３による累積照射量が所定量に達したことに応じて、放射線源３による放射線照射の終了を要求する信号を発生する。このような制御は自動露出制御（Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｃｏｎｔｒｏｌ（ＡＥＣ））と称される。本明細書において、上記放射線照射の終了を要求する信号を照射終了要求信号と称する。

演算部２は、上記照射終了要求信号を放射線撮像装置１から受け取ったことに応じて、放射線源制御部４により放射線源３の駆動を停止する。放射線照射の終了後、撮像部１１から読出部１３により信号が読み出される。演算部２は、該信号に対する処理部１４による処理結果として画像データを放射線撮像装置１から受け取り、その画像データに基づく放射線画像を表示部に表示させる。

本実施形態では上述の構成により放射線撮像が行われるものとするが、放射線撮像システムＳＹの構成例はこれに限られるものではなく、或る要素の機能の一部／全部は他の要素により実現されてもよい。例えば、処理部１４の機能の一部は演算部２により実現されてもよい。

図２は、放射線撮像装置１の構成の一態様を示す。撮像部１１は、複数の行および複数の列を形成するように配列された複数のセンサを含み、該複数のセンサは撮像用センサ１１１および制御用センサ１１２を含む。本実施形態では、撮像部１１の幾つかの部分には複数の制御用センサ１１２が配され、それ以外の大部分には複数の撮像用センサ１１１が配される。尚、ここでは説明の容易化のため、撮像部１１の一部として４行×４列分の領域を図示するが、実際の行数および列数はこれより大きく、例えば１７インチの撮像部１１の場合には約２８００行×２８００列のセンサ配列となる。

撮像部１１には、各行に対応して制御線（あるいは駆動線）１１３が配され、また、各列に対応して列信号線（あるいは信号読出線）１１４が配されている。駆動部１２は、例えば不図示のデコーダ、シフトレジスタ等を含み、制御線１１３を用いて複数のセンサ１１１及び１１２を行ごとに駆動ないし制御する。読出部１３は、回路部１３１と、マルチプレクサ１３２と、出力部１３３とを含み、複数のセンサ１１１及び１１２から列信号線１１４を介して出力された信号を列ごとに読み出す。

本実施形態では、撮像部１１の上方には放射線を光に変換するシンチレータが撮像部１１を覆うように配されており、撮像用センサ１１１は、放射線を検出可能な検出素子Ｅと、検出素子Ｅに接続されたスイッチ素子Ｗとを含む。詳細については後述とするが、検出素子Ｅおよびスイッチ素子Ｗはアモルファスシリコン等の半導体を用いて構成される。例えば、検出素子Ｅには光電変換素子（例えばＰＩＮセンサ、ＭＩＳセンサ等）が用いられ、スイッチ素子Ｗには薄膜トランジスタが用いられる。各センサ１１１において、スイッチ素子Ｗは、検出素子Ｅと列信号線１１４との間を接続するように配される。検出素子Ｅは、放射線の照射量に応じた信号を発生し、スイッチ素子Ｗは、駆動部１２から制御線１１３を介して供給された制御信号をゲート端子（制御端子）で受けて検出素子Ｅの信号を列信号線１１４に出力する。

詳細については後述とするが、制御用センサ１１２は、撮像用センサ１１１とは異なる目的で、即ちＡＥＣ用センサとして設けられる。図２においては、これら２種類のセンサ１１１及び１１２を見分けやすくするため制御用センサ１１２にハッチングを付したが、制御用センサ１１２の構造は撮像用センサ１１１同様である。

放射線撮像装置１は電圧供給部１５を更に備えており、各センサ１１１及び１１２の検出素子Ｅには電圧供給部１５からバイアス線１５１を介して基準電圧（本実施形態では接地電圧）が供給される。尚、電圧供給部１５は他の要素１２〜１４にも電圧を供給可能とする。

本実施形態では、撮像部１１には、放射線を光に変換した後に該光を電気信号に変換する方式（間接変換方式）が用いられるが、他の実施形態として、撮像部１１には、放射線を直接的に電気信号に変換する方式（直接変換方式）が採用されてもよい。

読出部１３について、回路部１３１は、各列に対応して配され、例えば信号増幅部およびサンプリング部を含む。回路部１３１は、対応列の列信号線１１４を介して各センサ１１１又は１１２から出力された信号を増幅し、該信号をサンプリングする。マルチプレクサ１３２は、各列の回路部１３１の該サンプリングされた信号を順に転送する。また、出力部１３３は、該転送された信号をアナログ‐デジタル変換（ＡＤ変換）して処理部１４に出力する。そして、処理部１４は、詳細については後述とするが、該出力された信号に対して信号処理を行う。

図３（Ａ）は、撮像部１１において列方向で隣り合う撮像用センサ１１１および制御用センサ１１２の２行×１列分の領域の上面レイアウトを示す。図３（Ｂ）は、図３（Ａ）における線Ｘ１−Ｘ２での断面構造、即ち撮像用センサ１１１の断面構造を示す（尚、ここでは説明を省略するが、制御用センサ１１２についても同様である。）。センサ１１１は、ガラス等の絶縁部材で構成された絶縁基板２１０上に、上述の各要素を形成する部材または層もしくは膜（例えば、アモルファスシリコン等の半導体部材や、酸化シリコン等の絶縁部材）が積層されて成る。

例えば、基板２１０上には、薄膜トランジスタであるスイッチ素子Ｗのゲート端子Ｇと一体に形成された制御線１１３が配される。基板２１０上には、ゲート端子Ｇを覆うように、更に絶縁膜２２０が配される。ゲート端子Ｇの上には、スイッチ素子Ｗのチャネルを形成する半導体部材が絶縁膜２２０を介して配され、この半導体部材の両端には、それぞれドレイン端子およびソース端子を形成する電極が配される。

スイッチ素子Ｗのドレイン端子は列信号線１１４と一体に形成され、言い換えると、列信号線１１４はドレイン端子を形成するようにスイッチ素子Ｗ側まで延在している。一方、スイッチ素子Ｗのソース端子は、その上方に保護膜２３０および層間絶縁膜２４０を介して配された検出素子Ｅに、接続される。検出素子Ｅは、ＰＩＮ接合を形成する半導体部材２５０、並びに、その下面側および上面側にそれぞれ配された下側電極２６０及び上側電極２６１を含む。スイッチ素子Ｗのソース端子は、コンタクトホールを介して下側電極２６０と接触する。

また、検出素子Ｅの上には、保護膜２３１及び層間絶縁膜２４１を介してバイアス線ＶＳが配されており、バイアス線ＶＳは、コンタクトホールを介して上側電極２６１と接触している。更に、層間絶縁膜２４１およびバイアス線１５１を覆うように保護膜２３２が配されている。

再び図２を参照すると、ＡＥＣの際には、駆動部１２は、例えば制御信号ＳＩＧ（ｋ）〜ＳＩＧ（ｋ＋３）のうち、制御用センサ１１２が配された行に対応する制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）及びＳＩＧ（ｋ＋２）を活性化させる。これにより、制御用センサ１１２の信号が対応の列信号線１１４を介して出力されて読出部１３により読み出される。処理部１４は、該読み出された制御用センサ１１２の信号に基づいてＡＥＣを行い、所定条件の成立に応じて照射終了要求信号を発生することとなる。尚、上記ｋは１以上の任意の整数であり、撮像部１１におけるセンサ配列の行数をＭとして、ｋ＋３≦Ｍが成立するものとする。

尚、本構成では、ＡＥＣの際、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）及びＳＩＧ（ｋ＋２）の活性化により制御用センサ１１２と同じ行に位置する撮像用センサ１１１からも信号が出力されるが、本実施形態では、これらの信号は読出部１３または処理部１４において破棄されるものとする。

図４は、図２の構成においてＡＥＣを行う際の放射線撮像装置１の制御方法を示すタイミングチャートである。本制御方法は主として処理部１４により行われる。本制御方法の概要としては、放射線の照射開始後の第１期間Ｔ１では複数の制御用センサ１１２からの信号読出を所定周期で行い、その後の第２期間Ｔ２では、複数の制御用センサ１１２のうちの一部からの信号読出を所定周期で行う。ここで、第１期間Ｔ１では、複数の制御用センサ１１２から読み出された信号について評価を行う。そして、第２期間Ｔ２では、他の制御用センサ１１２の信号については、信号読出を直接的に行うのではなく、上記評価の結果と、第２期間Ｔ２で読み出される上記一部の制御用センサ１１２の信号と、に基づいて推測することとなる。

図４において、横軸を時間軸とする。また、縦軸には放射線量と、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）及びＳＩＧ（ｋ＋２）の信号レベルと、制御用センサ１１２の信号値とを示す。

放射線量は放射線源３からの放射線の単位時間あたりの線量（強度）を示す。放射線量のハイレベル（Ｈレベル）は放射線が照射されている状態である照射状態を示し、放射線量のローレベル（Ｌレベル）は放射線が照射されていない状態である非照射状態を示す。

制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）のＨレベルは、対応の制御用センサ１１２からの信号読出を実行することを示し、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）のＬレベルは該信号読出を抑制することを示す。このことは、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋２）についても同様である。

制御用センサ１１２の信号値は、上記制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）又はＳＩＧ（ｋ＋２）を活性化した（Ｈレベルにした）ことに応じて読み出された制御用センサ１１２の信号の値を示す。ここで、本実施形態では、制御用センサ１１２の信号読出はいわゆる破壊読出で行われる（図２〜３参照）。そのため、図中の制御用センサ１１２の信号値は、所定周期で読み出された制御用センサ１１２の信号値を累積加算したものを示す。尚、他の実施形態として、制御用センサ１１２がいわゆる非破壊読出で信号読出を実行可能に構成されている場合には、上記制御用センサ１１２の信号値は、その制御用センサ１１２から実際に読み出された信号の値そのものを示すものとすればよい。

先ず、放射線の照射開始の時刻を時刻ｔ１０とする。時刻ｔ１０以降の第１期間Ｔ１では、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）と、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋２）とを所定周期で交互に活性化させる。本実施形態では、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）及びＳＩＧ（ｋ＋２）のそれぞれの活性化周期をＴ_１１とする。図中には、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）を活性化させた際の対応の制御用センサ１１２の信号値（累積加算値。以下同様とする。）Ｓ１のプロットと、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋２）を活性化させた際の対応の制御用センサ１１２の信号値Ｓ２のプロットと、をそれぞれ示す。

放射線照射は理想的には一定の放射線量で行われ、その場合、上記制御用センサ１１２の信号値Ｓ１及びＳ２は実質的に線形に増加する。そのため、第１期間Ｔ１では、処理部１４は、上記制御用センサ１１２の信号の増加率（信号増加率）を評価することが可能である。例えば、第１期間Ｔ１の長さは、信号増加率が安定化するのに充分な期間として予め設定されていてもよいし、制御用センサ１１２の信号値Ｓ１及びＳ２のそれぞれについての二階微分の結果に基づいて決定されてもよい。これにより、第１期間Ｔ１の間に信号値Ｓ１及びＳ２は何れも略線形に増加することとなる。或いは、他の実施形態として、上記信号増加率を適切に評価するのにノイズの影響が充分に小さいと考えられる所定の基準値を設定し、信号値Ｓ１及びＳ２の双方が該基準値に達した時刻を第１期間Ｔ１の終点として決定してもよい。

時刻ｔ１０から第１期間Ｔ１が経過した時刻ｔ２０では、処理部１４は上記評価の結果を確定させる。即ち、処理部１４は、信号値Ｓ１についての信号増加率（信号増加率ｒ１とする。）と、信号値Ｓ２についての信号増加率（信号増加率ｒ２とする。）と、を特定して取得する。そして、処理部１４は、信号増加率ｒ１と信号増加率ｒ２との比（例えばｒ２／ｒ１）を上記評価の結果の一部として更に取得する。

尚、時刻ｔ２０で信号値Ｓ２が読み出された場合、時刻ｔ２０時点での信号値Ｓ１については信号値Ｓ２と上述の比ｒ２／ｒ１とに基づいて特定可能である。よって、上述の比ｒ２／ｒ１は、時刻ｔ２０で読み出された信号値Ｓ２と、上記特定された信号値Ｓ１との比に対応する。

次に、時刻ｔ２０以降の第２期間Ｔ２では、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）及びＳＩＧ（ｋ＋２）の一方を所定周期で活性化させる。本実施形態では、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）を所定周期で活性化させ、信号値Ｓ１の取得を継続する。ここで、第２期間Ｔ２における制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）の活性化周期をＴ_２１とする。

一方、第２期間Ｔ２では、信号値Ｓ２については、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋２）を活性化させて直接的な信号読出を行うことで取得するのではなく、信号値Ｓ１と上述の比ｒ２／ｒ１とに基づいて処理部１４により算出して取得する。即ち、信号値（区別のため、信号値（予測値）Ｓ２’とする。）は、
Ｓ２’＝Ｓ１×（ｒ２／ｒ１）
により得られる。一般に、或る１回の撮影では撮像部１１（撮像領域）での放射線照射分布はほぼ変化しないため、比ｒ２／ｒ１もほぼ変化しない。よって、第１期間Ｔ１で得られた信号増加率ｒ１及びｒ２に基づいて、第２期間Ｔ２で特定される信号値Ｓ２’は適切に算出される。

本実施形態に係るＡＥＣは、以上のようにして得られる信号値Ｓ１及びＳ２’の少なくとも一方に基づいて行われればよい。例えば、処理部１４は、信号値Ｓ１及びＳ２’のうちの撮像対象／検査対象の部位に対応する一方または双方に基づいて、照射終了要求信号を発生する。本実施形態によれば、第２期間Ｔ２では全ての制御用センサ１１２について信号読出を行う必要がなく、一部の制御用センサ１１２について信号読出を行えばよいため、ＡＥＣを比較的簡便に実現可能となる。

上記照射終了要求信号の発生に応じて放射線源３による放射線照射が終了した時刻を時刻ｔ３０とする。時刻ｔ３０の後、処理部１４は、駆動部１２により撮像用センサ１１１を駆動して読出部１３により信号読出を行い、それにより得られた信号に基づいて画像データを生成する。図１を参照しながら述べたように、演算部２は、画像データを放射線撮像装置１から受け取って表示部に放射線画像を表示させる。以上の手順で放射線撮像が行われる。

ここで、第１期間Ｔ１では、信号値Ｓ１の方が信号値Ｓ２に比べて増加量ないし変化量が大きく、即ちｒ１＞ｒ２であった。そのため、本実施形態では、第２期間Ｔ２では制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）及びＳＩＧ（ｋ＋２）のうちの制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）を所定周期で活性化させて、信号値Ｓ１及びＳ２のうちの信号値の大きい一方である信号値Ｓ１の取得を継続して行った。よって、本実施形態によれば、第２期間Ｔ２において信号値Ｓ１を比較的良好なＳＮ比で取得可能となり、そして、上記算出により信号値Ｓ２’（＝Ｓ１×（ｒ２／ｒ１））を比較的高精度に推測可能となる。これにより、ＡＥＣを比較的高精度かつ比較的簡便に実現可能となる。尚、撮像部１１に３以上の制御用センサ１１２が存在する場合には、第１期間Ｔ１での信号値の増加量ないし変化量が最も大きいものを第２期間Ｔ２で選択して信号を読み出すこととすればよい。

また、第２期間Ｔ２では直接的な信号読出によって信号値Ｓ２を取得するのではなく、信号値Ｓ２’が上述の比ｒ２／ｒ１を用いて算出される。よって、本実施形態によれば、信号値Ｓ２を直接的な信号読出によって取得する場合に比べて、処理部１４による処理速度の向上、及び、処理部１４の処理負担の軽減に有利である。

また、第２期間Ｔ２では、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋２）を活性化させないため、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）の活性化周期を短くすることもできる。図４からも分かるように、本実施形態では、第２期間Ｔ２での制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）の活性化周期Ｔ_２１は、第１期間Ｔ１での活性化周期Ｔ_１１より短い。例えば、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋２）の活性化に代替して制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）を活性化させることで活性化周期Ｔ_２１を
Ｔ_２１＝Ｔ_１１／２
とすることも可能であるが、
Ｔ_２１＜Ｔ_１１／２
としてもよい。これにより、信号値Ｓ１及びＳ２’を比較的短い間隔で取得可能となるため（即ち、等価的に信号値Ｓ１及びＳ２’についてのサンプリング周期を短くすることとなるため）、ＡＥＣの高精度化にも有利となる。

以上、本実施形態によれば、処理部１４は、放射線照射の開始後の第１期間Ｔ１において、複数の制御用センサ１１２間の信号値の比を取得する（第１動作）。そして、第２期間Ｔ２では、複数の制御用センサ１１２のうちの一部（例えば制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）に対応する１つ）の信号と、上記比とに基づいて、他の制御用センサ（例えば制御信号ＳＩＧ（ｋ＋２）に対応する他の１つ）の信号を算出する（第２動作）。このような制御態様によれば、第２期間Ｔ２では一部の制御用センサ１１２から信号読出を行えばよいため、ＡＥＣ期間中の全部（期間Ｔ１〜Ｔ２）において複数の制御用センサ１１２の全てから信号を読み出す必要がない。よって、信号読出の高速化、信号処理の高速化、処理部１４の処理負担の低減等が可能となり、結果として、ＡＥＣの高精度化を比較的簡便に実現可能となる。

また、本実施形態によれば、第２期間Ｔ２では、一部の制御用センサ１１２の信号値と、比ｒ２／ｒ１とに基づいて、他の制御用センサ１１２の信号値を推測することとなるため、放射線量が変動した場合であってもＡＥＣを高精度に且つ簡便に実現可能である。本実施形態では、説明の簡易化のため、理想的に一定の放射線量で放射線照射が行われる場合について述べた。しかしながら、その内容は上記態様に限られるものではなく、例えば、放射線量が変動しうる場合においても第２期間Ｔ２で複数の制御用センサ１１２の一部を選択して信号読出を行うことが可能である。例えば、第１期間Ｔ１の長さは、照射開始時の初期ノイズが抑制されるのに充分な期間として予め設定されていてもよいし、信号値Ｓ１及びＳ２の双方が基準値に達した時刻を第１期間Ｔ１の終点（時刻ｔ２０）として決定してもよい。或いは、放射線量の変動態様が予め特定可能な場合には、制御用センサ１１２の信号値と該変動態様との相関関係に基づいて第１期間Ｔ１の終点（時刻ｔ２０）が決定されてもよい。このような場合、時刻ｔ２０において信号値Ｓ１及びＳ２を特定可能であるため、それらの比を上述の比ｒ２／ｒ１として取得すればよい。また、第２期間Ｔ２で放射線量が経時的に変動する場合においても、時刻ｔ２０以降では制御用センサ１１２の一部の出力をモニターしているため、放射線量の上記変動に追従しながら、その他の制御用センサの放射線量を特定する事が可能となる。尚、これらのことは後述の他の実施形態についても同様である。

図２の構成では制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）及びＳＩＧ（ｋ＋２）の活性化により制御用センサ１１２と同じ行に位置する撮像用センサ１１１からも信号が出力され、本実施形態のＡＥＣでは、これら撮像用センサ１１１の信号は読出部１３または処理部１４において破棄されるものとした。この場合、放射線照射の終了後（ＡＥＣ後）の画像データの生成においては、上記撮像用センサ１１１の信号を用いずに、例えば上記撮像用センサ１１１と列方向で隣り合う他の撮像用センサ１１１の信号を用いて補完することが可能である。

変形例として、図５に例示されるように、撮像部１１の構成を変更して、上記ＡＥＣにおいて制御用センサ１１２と同じ行に位置する撮像用センサ１１１から信号が出力されないようにしてもよい。図５の例では、撮像用センサ１１１を駆動するための制御線１１３とは別に、制御用センサ１１２を駆動するための制御線１１５が更に設けられる。また、撮像用センサ１１１の信号を読み出すための列信号線１１４とは別に、制御用センサ１１２の信号を読み出すための信号読出線１１６が更に設けられる。そして、ＡＥＣの際には、制御信号ＳＩＧ（ｋ＋１）及びＳＩＧ（ｋ＋２）を活性化させるのに代替して、制御信号ＳＩＧ（ｊ）及びＳＩＧ（ｊ＋１）を活性化させる。このような態様によれば、制御用センサ１１２と同じ行に位置する撮像用センサ１１１の信号を読み出すことなく、上記ＡＥＣを実行可能となる。尚、上記ｊは１以上の任意の整数であり、ｊ＋１≦Ｍが成立するものとする。

ここで、図５の例では、駆動部１２として、制御線１１３を用いて撮像用センサ１１１を駆動する駆動部１２Ａと、制御線１１５を用いて制御用センサ１１２を駆動する駆動部１２Ｂとが個別に配されるものとしたが、駆動部１２Ａ及び１２Ｂは一体に構成されてもよい。また、図５の例では、読出部１３として、撮像用センサ１１１の信号を読み出す読出部１３Ａと、制御用センサ１１２の信号を読み出す読出部１３Ｂとが個別に配されるものとしたが、読出部１３Ａ及び１３Ｂは一体に構成されてもよい。

（第２実施形態）
放射線撮像により得られる放射線画像には、一般に、撮像対象／検査対象となる部位と共にその周辺部位も表示され、そのような放射線画像において撮像対象／検査対象となる部位が適切に表示されることが求められる。そのため、撮像部１１には、撮像対象／検査対象となる部位を撮像する際の注目されるべき領域として、「関心領域」が設けられうる。この関心領域は、撮像部１１を分割して得られる複数の領域の一部が割り当てられて設けられる。第２実施形態では、制御用センサ１１２は、撮像部１１に設けられた複数の関心領域のそれぞれに１以上配される。

図６は、上記関心領域を説明するための撮像部１１の構成の一態様を示す。ここでは図を見やすくするため、撮像用センサ１１１については不図示とする。撮像部１１には、５つの関心領域Ｒ_Ａ、Ｒ_Ｂ、Ｒ_Ｃ、Ｒ_Ｄ及びＲ_Ｅ（以下において、これらを特に区別しない場合には「Ｒ_Ａ等」と表現する。）が互いに離間して設けられている。各関心領域Ｒ_Ａ等には、ここでは３行×４列の計１２個の制御用センサ１１２が配されている。

本実施形態では、ＡＥＣの際、関心領域Ｒ_Ａ及びＲ_Ｂの複数の制御用センサ１１２の信号は制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１により一括に読み出されるものとする。同様に、関心領域Ｒ_Ｃの複数の制御用センサ１１２の信号は制御信号ＳＩＧ＿Ｃ２により一括に読み出され、また、関心領域Ｒ_Ｄ及びＲ_Ｅの複数の制御用センサ１１２の信号は制御信号ＳＩＧ＿Ｃ３により一括に読み出されるものとする。

図７は、本実施形態に係るＡＥＣの際の制御方法を、第１実施形態の図４同様に示す。本制御方法の概要としては、第１期間Ｔ１では関心領域Ｒ_Ａ等の全部について制御用センサ１１２からの信号読出を所定周期で行い、第２期間Ｔ２では、関心領域Ｒ_Ａ等の一部について制御用センサ１１２からの信号読出を所定周期で行う。ここで、第１期間Ｔ１では、関心領域Ｒ_Ａ〜Ｒ_Ｅのそれぞれについて、制御用センサ１１２の信号増加率の評価を第１実施形態同様に行う。そして、第２期間Ｔ２では、関心領域Ｒ_Ａ等の他の一部の制御用センサ１１２の信号については、直接的な信号読出を行うのではなく、第１実施形態同様の手順で推測することとなる。

第１期間Ｔ１では、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１、ＳＩＧ＿Ｃ２およびＳＩＧ＿Ｃ３を、所定周期で順番に活性化させる。本実施形態では、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１、ＳＩＧ＿Ｃ２およびＳＩＧ＿Ｃ３のそれぞれの活性化周期をＴ_１２とする。図中には、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１を活性化させた際の対応の制御用センサ１１２の信号値Ｓ１のプロットと、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ２を活性化させた際の対応の制御用センサ１１２の信号値Ｓ２のプロットと、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ３を活性化させた際の対応の制御用センサ１１２の信号値Ｓ３のプロットと、をそれぞれ示す。

ここでは説明の容易化のため、関心領域Ｒ_Ａ及びＲ_Ｂの制御用センサ１１２の信号は、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１により一括に読み出された後、加算平均されるものとする。即ち、図中の信号値Ｓ１のプロットは、関心領域Ｒ_Ａ及びＲ_Ｂの制御用センサ１１２の信号値（累積加算値）の加算平均を示すものとする。同様に、信号値Ｓ２のプロットは、関心領域Ｒ_Ｃの制御用センサ１１２の信号値の加算平均を示し、また、信号値Ｓ３のプロットは、関心領域Ｒ_Ｄ及びＲ_Ｅの制御用センサ１１２の信号値の加算平均を示すものとする。

尚、他の実施形態として、関心領域Ｒ_Ａの制御用センサ１１２の信号値と、関心領域Ｒ_Ｂの制御用センサ１１２の信号値とは個別に取得されてもよい。また、関心領域Ｒ_Ｄの制御用センサ１１２の信号値と、関心領域Ｒ_Ｅの制御用センサ１１２の信号値とは個別に取得されてもよい。

本実施形態においても放射線量が理想的に一定であるものとすると、上記信号値Ｓ１、Ｓ２及びＳ３は実質的に線形に増加する。そのため、第１期間Ｔ１では、処理部１４は、第１実施形態同様の手順で、制御用センサ１１２の信号増加率を評価することが可能である。

時刻ｔ２０では、処理部１４は上記評価の結果を確定させる。即ち、処理部１４は、信号値Ｓ１についての信号増加率ｒ１と、信号値Ｓ２についての信号増加率ｒ２と、信号値Ｓ３についての信号増加率ｒ３と、を特定して取得する。また、処理部１４は、信号増加率ｒ１〜ｒ３間の比（例えばｒ２／ｒ１、ｒ３／ｒ１）を更に取得する。

次に、第２期間Ｔ２では、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１、ＳＩＧ＿Ｃ２およびＳＩＧ＿Ｃ３のうちの１つを所定周期で活性化させる。本実施形態では、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１を所定周期で活性化させ、信号値Ｓ１〜Ｓ３のうちの信号値の大きい１つである信号値Ｓ１の取得を継続する。第２期間Ｔ２における制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１の活性化周期をＴ_２２とする。本実施形態においては、活性化周期Ｔ_２２は、
Ｔ_２２≦Ｔ_１２／３
と設定されればよい。

一方、第２期間Ｔ２では、信号値Ｓ２及びＳ３については、第１実施形態同様の手順により信号値Ｓ１と上述の比（例えばｒ２／ｒ１、ｒ３／ｒ１）とに基づいて取得する。即ち、信号値（区別のため、それぞれ、信号値Ｓ２’および信号値Ｓ３’とする。）は、
Ｓ２’＝Ｓ１×（ｒ２／ｒ１）、
Ｓ３’＝Ｓ１×（ｒ３／ｒ１）
により得られる。

本実施形態に係るＡＥＣは、以上のようにして得られる信号値Ｓ１、Ｓ２’及びＳ３’の少なくとも１つに基づいて行われればよい。例えば、演算部２にはユーザにより撮像対象／検査対象の部位を示す情報が撮像情報の一部として入力されるため、ＡＥＣが上記関心領域Ｒ_Ａ〜Ｒ_Ｅの何れの制御用センサ１１２に着目して行われるべきかが該情報に基づいて特定可能である。この場合、ＡＥＣは、信号値Ｓ１、Ｓ２’及びＳ３’のうち、該特定された関心領域Ｒ_Ａ等に対応する１つに基づいて行われればよい。

本実施形態によっても、第２期間Ｔ２では、関心領域Ｒ_Ａ〜Ｒ_Ｅの全部の制御用センサ１１２からの信号読出を行う必要がないため、第１実施形態同様、ＡＥＣを比較的高精度かつ比較的簡便に実現可能となる。

（第３実施形態）
第３実施形態は、第２期間Ｔ２においても第１期間Ｔ１同様に制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１、ＳＩＧ＿Ｃ２およびＳＩＧ＿Ｃ３を所定周期で順番に活性化させる、という点で第２実施形態と異なる。一方、本実施形態における処理部１４による第２期間Ｔ２での処理については第２実施形態同様である。

図８は、本実施形態に係るＡＥＣの際の制御方法を、第２実施形態の図７同様に示す。本実施形態の第１期間Ｔ１については、第２実施形態の第１期間Ｔ１同様であるため、ここでは説明を省略する。尚、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１、ＳＩＧ＿Ｃ２およびＳＩＧ＿Ｃ３のそれぞれの活性化周期をＴ_１３とする。

次に、第２期間Ｔ２では、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１、ＳＩＧ＿Ｃ２およびＳＩＧ＿Ｃ３のうちの活性化対象を順に変えながら、一部の関心領域（例えばＲ_Ａ及びＲ_Ｂ）の制御用センサ１１２からの信号読出を行うと共に、他の関心領域（例えばＲ_Ａ及びＲ_Ｂ以外）の制御用センサ１１２の信号値を第２実施形態同様の手順で推測する。例えば、信号値Ｓ１が取得された場合には信号値Ｓ２’及びＳ３’が算出される。

また、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ２又はＳＩＧ＿Ｃ３を活性化することで信号値Ｓ２又はＳ３を取得して信号値Ｓ１を取得しない場合には、該取得された信号値Ｓ２又はＳ３に基づいて信号値Ｓ１’が算出される。例えば、信号値Ｓ２が取得された場合には信号値Ｓ３’及びＳ１’が算出され、また、信号値Ｓ３が取得された場合には信号値Ｓ１’及びＳ２’が算出される。上記信号値Ｓ１’、Ｓ２’及びＳ３’は、
Ｓ１’＝Ｓ２×（ｒ１／ｒ２）、
Ｓ１’＝Ｓ３×（ｒ１／ｒ３）、
Ｓ２’＝Ｓ３×（ｒ２／ｒ３）、
Ｓ２’＝Ｓ１×（ｒ２／ｒ１）、
Ｓ３’＝Ｓ１×（ｒ３／ｒ１）、
Ｓ３’＝Ｓ２×（ｒ３／ｒ２）
により得られる。

まとめると、第１期間Ｔ１では、第２実施形態同様、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１、ＳＩＧ＿Ｃ２およびＳＩＧ＿Ｃ３を所定周期で順番に活性化させ、信号値Ｓ１〜Ｓ３について信号増加率ｒ１〜ｒ３の評価を行う。そして、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１、ＳＩＧ＿Ｃ２およびＳＩＧ＿Ｃ３は第２期間Ｔ２においても第１期間Ｔ１同様に所定周期で順番に活性化される。例えば、処理部１４は、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１を活性化させた時刻では、信号値Ｓ１を取得すると共に、信号値Ｓ１と比ｒ２／ｒ１とに基づいて信号値Ｓ２’を取得し、信号値Ｓ１と比ｒ３／ｒ１とに基づいて信号値Ｓ３’を取得する。同様に、処理部１４は、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ２を活性化させた時刻では、信号値Ｓ２を取得すると共に、信号値Ｓ２と比ｒ３／ｒ２とに基づいて信号値Ｓ３’を取得し、信号値Ｓ２と比ｒ１／ｒ２とに基づいて信号値Ｓ１’を取得する。同様に、処理部１４は、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ３を活性化させた時刻では、信号値Ｓ３を取得すると共に、信号値Ｓ３と比ｒ１／ｒ３とに基づいて信号値Ｓ１’を取得し、信号値Ｓ３と比ｒ２／ｒ３とに基づいて信号値Ｓ２’を取得する。

本実施形態によれば、第２期間Ｔ２では、処理部１４は、第２期間Ｔ２において実際に読み出された信号値と、第１期間Ｔ１で得られた比（例えばｒ２／ｒ１等）とに基づいて、第２期間Ｔ２における他の信号値を推測することとなる。よって、本実施形態によれば、関心領域Ｒ_Ａ〜Ｒ_Ｅの全部の制御用センサ１１２の信号について読出部１３による信号読出および処理部１４による信号処理を行う必要はない。これにも関わらず、本実施形態によれば、周期Ｔ_２３（≦Ｔ_１３／３）で、信号値Ｓ１又はＳ１’、信号値Ｓ２又はＳ２’、及び、信号値Ｓ３又はＳ３’が得られる。そのため、本実施形態によっても、第１実施形態同様、ＡＥＣを比較的高精度かつ比較的簡便に実現可能となる。

また、本実施形態によれば、第２期間Ｔ２における制御信号ＳＩＧ＿Ｃ１、ＳＩＧ＿Ｃ２およびＳＩＧ＿Ｃ３の活性化態様（即ち、第２期間Ｔ２における駆動部１２の制御態様）を第１期間Ｔ１同様にすることができる。よって、本実施形態によれば、第１期間Ｔ１と第２期間Ｔ２とで処理部１４による駆動部１２の制御態様を変更する必要がなく、ＡＥＣを更に簡便に実現可能となる。

（第４実施形態）
図９は、第４実施形態に係る撮像部１１の構成の一態様を示す。本実施形態では、複数の制御用センサ１１２の全部が単一の制御線１１５_ＣＯＭで共通に（或いは一括で）制御され、それらの信号は関心領域Ｒ_Ａ等の個々について区別して読み出される、という点で主に第２実施形態と異なる。

本実施形態では、撮像部１１には４つの関心領域Ｒ_Ａ〜Ｒ_Ｄが設けられ、各関心領域Ｒ_Ａ等には２以上（ここでは２つ）の制御用センサ１１２が配される。そして、関心領域Ｒ_Ａ〜Ｒ_Ｄの全ての制御用センサ１１２は、駆動部１２Ｂにより単一の制御線１１５_ＣＯＭを用いて共通に制御可能となっている。

一方、関心領域Ｒ_Ａの２つの制御用センサ１１２は、互いに異なる列に配されているが、共通の信号読出線１１６_Ａに接続されている。そして、関心領域Ｒ_Ａの２つの制御用センサ１１２の信号は、他の関心領域Ｒ_Ｂ、Ｒ_Ｃ及びＲ_Ｄのものとは区別可能に、この信号読出線１１６_Ａを介して読出部１３Ｂにより読み出される。同様に、関心領域Ｒ_Ｂの２つの制御用センサ１１２は共通の信号読出線１１６_Ｂに接続され、それらの信号は、他の関心領域Ｒ_Ａ、Ｒ_Ｃ及びＲ_Ｄのものとは区別可能に、信号読出線１１６_Ｂを介して読み出される。関心領域Ｒ_Ｃ及びＲ_Ｄの制御用センサ１１２の信号についても同様であり、即ち、それぞれ、信号読出線１１６_Ｃ及び１１６_Ｄを用いて、他の関心領域のものとは区別可能に読み出される。

図１０は、本実施形態に係るＡＥＣの際の制御方法を、第２実施形態の図７同様に示す。本実施形態では、関心領域Ｒ_Ａ〜Ｒ_Ｄの全ての制御用センサ１１２は制御線１１５_ＣＯＭを用いて一括制御可能であるため、単一の制御信号ＳＩＧ＿Ｃ０が用いられる。即ち、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ０は制御線１１５_ＣＯＭを伝搬する信号である。

第１期間Ｔ１では、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ０を周期Ｔ_１４で活性化させる。これにより、関心領域Ｒ_Ａ〜Ｒ_Ｄの個々について、それぞれ、制御用センサ１１２の信号値Ｓ１〜Ｓ４が得られる。ここで、本実施形態では、関心領域Ｒ_Ａの２つの制御用センサ１１２の信号は信号読出線１１６_Ａにより合算されて読み出されるため、信号値Ｓ１は、それら２つの制御用センサ１１２の信号値（累積加算値）の合計を示すものとする。同様に、信号値Ｓ２は関心領域Ｒ_Ｂの２つの制御用センサ１１２の信号値の合計を示し、信号値Ｓ３は関心領域Ｒ_Ｃの２つの制御用センサ１１２の信号値の合計を示し、信号値Ｓ４は関心領域Ｒ_Ｄの２つの制御用センサ１１２の信号値の合計を示すものとする。

本実施形態においても放射線量が理想的に一定であるものとすると、上記信号値Ｓ１〜Ｓ４は実質的に線形に増加する。そのため、第１期間Ｔ１では、処理部１４は、第２実施形態同様の手順で、制御用センサ１１２の信号増加率を評価することが可能である。

時刻ｔ２０では、処理部１４は上記評価の結果を確定させる。即ち、処理部１４は、信号値Ｓ１についての信号増加率ｒ１と、信号値Ｓ２についての信号増加率ｒ２と、信号値Ｓ３についての信号増加率ｒ３と、信号値Ｓ４についての信号増加率ｒ４と、を特定して取得する。また、処理部１４は、信号増加率ｒ１〜ｒ４間の比（例えばｒ２／ｒ１、ｒ３／ｒ１、ｒ４／ｒ１）を更に取得する。

第２期間Ｔ２では、制御信号ＳＩＧ＿Ｃ０を周期Ｔ_２４（＜Ｔ_１４）で活性化させる。前述のとおり、本実施形態では、関心領域Ｒ_Ａ〜Ｒ_Ｄの全ての制御用センサ１１２が一括制御される。そのため、それら全ての制御用センサ１１２の信号が出力されるが、それらの信号のうち、関心領域Ｒ_Ａの２つの制御用センサ１１２の信号が、読出部１３Ｂにより読み出されて処理部１４により処理される。即ち、信号値Ｓ１〜Ｓ４のうち信号値Ｓ１の取得が継続されることとなる。

一方、関心領域Ｒ_Ｂ、Ｒ_Ｃ及びＲ_Ｄの制御用センサ１１２の信号値Ｓ２、Ｓ３及びＳ４については、直接的な信号読出によって取得されるのではなく、信号値Ｓ１と上述の比（例えばｒ２／ｒ１、ｒ３／ｒ１、ｒ４／ｒ１）とに基づいて算出される。即ち、信号値（区別のため、それぞれ、信号値Ｓ２’、信号値Ｓ３’および信号値Ｓ４’とする。）は、
Ｓ２’＝Ｓ１×（ｒ２／ｒ１）、
Ｓ３’＝Ｓ１×（ｒ３／ｒ１）、
Ｓ４’＝Ｓ１×（ｒ４／ｒ１）
により得られる。

本実施形態によれば、第２期間Ｔ２では、関心領域Ｒ_Ａ〜Ｒ_Ｄの全部の制御用センサ１１２の信号について信号処理を行う必要がないため、第２実施形態同様、ＡＥＣを比較的高精度かつ比較的簡便に実現可能となる。また、本実施形態によれば、ＡＥＣの際には複数の制御用センサ１１２の全部を共通に制御するため、第１期間Ｔ１では周期Ｔ_１４を短くし且つ第２期間Ｔ２では周期Ｔ_２４を短くすることができ、ＡＥＣの高精度化に更に有利といえる。

（プログラム）
本発明は、上記実施形態の１以上の機能を実現するプログラムをネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、該システム又は装置のコンピュータにおける１以上のプロセッサがプログラムを読み出して実行する処理により実現されてもよい。例えば、本発明は、１以上の機能を実現する回路（例えば、ＡＳＩＣ）によって実現されてもよい。

（その他）
以上、いくつかの好適な態様を例示したが、本発明はこれらの例に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、その一部が変更されてもよい。例えば、各実施形態の内容の一部が相互に組み合わされてもよいし、必要に応じて公知の要素が追加され又は削除されてもよい。また、本明細書に記載された個々の用語は、本発明を説明する目的で用いられたものに過ぎず、本発明は、その用語の厳密な意味に限定されるものでないことは言うまでもなく、その均等物をも含みうる。

１：放射線撮像装置、１１：撮像部、１１１：撮像用センサ、１１２：制御用センサ、１４：処理部。

Claims (13)

1. 放射線を検出可能な複数のセンサが配列された撮像部と、
   前記撮像部への放射線照射を終了させるための信号を前記複数のセンサの一部である複数の制御用センサの信号に基づいて発生する処理部と、を備える放射線撮像装置であって、
   前記処理部は、
   前記撮像部への放射線照射が開始された後の第１期間において、前記複数の制御用センサ間の信号値の比を取得する第１動作と、
   前記第１期間後の第２期間において、前記複数の制御用センサのうちの一部の制御用センサの信号と、前記第１動作で得られた前記比とに基づいて、他の制御用センサの信号を算出する第２動作と、を行う
   ことを特徴とする放射線撮像装置。
2. 前記処理部は、前記第２動作で得られた前記他の制御用センサの信号に基づいて、前記放射線照射を終了させるための信号を発生する第３動作を更に行う
   ことを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
3. 前記処理部は、前記第３動作では、更に前記第２動作で得られた前記一部の制御用センサの信号に基づいて、前記放射線照射を終了させるための信号を発生する
   ことを特徴とする請求項２に記載の放射線撮像装置。
4. 前記処理部は、前記放射線照射の終了後、前記複数のセンサの他の一部である複数の撮像用センサの信号に基づいて画像データを生成する第４動作を更に行う
   ことを特徴とする請求項１から請求項３の何れか１項に記載の放射線撮像装置。
5. 前記複数のセンサは複数の行および複数の列を形成するように配列されており、
   前記複数の制御用センサは、共通に制御可能となるように単一の制御線に接続されており、
   前記撮像部は複数の領域に分割されており、かつ、各領域において互いに異なる列に配された２以上の制御用センサは共通の信号読出線に接続されている
   ことを特徴とする請求項１から請求項４の何れか１項に記載の放射線撮像装置。
6. 前記処理部は、前記第１動作では、前記複数の制御用センサの信号の信号増加率に基づいて前記複数の制御用センサから前記一部の制御用センサを選択する
   ことを特徴とする請求項１から請求項５の何れか１項に記載の放射線撮像装置。
7. 前記処理部は、前記第１動作では、前記複数の制御用センサの信号のうち信号値の変化量が最も大きいものに対応する制御用センサを前記一部の制御用センサとして選択する
   ことを特徴とする請求項１から請求項６の何れか１項に記載の放射線撮像装置。
8. 前記処理部は、前記第１動作では、前記複数の制御用センサから読み出される信号の変化量が安定化したことに応じて前記一部の制御用センサを選択する
   ことを特徴とする請求項１から請求項７の何れか１項に記載の放射線撮像装置。
9. 前記処理部は、前記第１動作では、前記複数の制御用センサの全部の信号が基準値に達したことに応じて前記一部の制御用センサを選択する
   ことを特徴とする請求項１から請求項７の何れか１項に記載の放射線撮像装置。
10. 放射線を検出可能な複数のセンサが配列された撮像部と、
    前記撮像部への放射線照射が開始された後の第１期間において前記複数のセンサの一部である複数の制御用センサを駆動する第１駆動と、前記第１期間後の第２期間において前記複数の制御用センサのうちの一部の制御用センサを駆動する第２駆動と、を行う駆動部と、
    前記駆動部により駆動された各制御用センサの信号を読み出す読出部と、
    前記第１期間で前記読出部により読み出された前記複数の制御用センサ間の信号値の比と、前記第２期間で前記一部の制御用センサから前記読出部により読み出された信号と、を用いて、前記第２期間における他の制御用センサの信号を算出する処理部と、を備える
    ことを特徴とする放射線撮像装置。
11. 請求項１から請求項１０の何れか１項に記載の放射線撮像装置と、
    放射線を発生する放射線源と、を具備する
    ことを特徴とする放射線撮像システム。
12. 放射線を検出可能な複数のセンサが配列された撮像部を備え、該撮像部への放射線照射を終了させるための信号を前記複数のセンサの一部である複数の制御用センサの信号に基づいて発生する放射線撮像装置の制御方法であって、
    前記撮像部への放射線照射が開始された後の第１期間において、前記複数の制御用センサ間の信号値の比を取得する第１工程と、
    前記第１期間後の第２期間において、前記複数の制御用センサのうちの一部の制御用センサの信号と、前記第１工程で得られた前記比とに基づいて、他の制御用センサの信号を算出する第２工程と、を含む
    ことを特徴とする放射線撮像装置の制御方法。
13. コンピュータに、請求項１２に記載の放射線撮像装置の制御方法の各工程を実行させるためのプログラム。

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