JP7438720B2 - 放射線撮像装置及び放射線撮像システム - Google Patents
放射線撮像装置及び放射線撮像システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7438720B2 JP7438720B2 JP2019205840A JP2019205840A JP7438720B2 JP 7438720 B2 JP7438720 B2 JP 7438720B2 JP 2019205840 A JP2019205840 A JP 2019205840A JP 2019205840 A JP2019205840 A JP 2019205840A JP 7438720 B2 JP7438720 B2 JP 7438720B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pixel
- radiation
- signal
- radiation imaging
- correction value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 327
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 179
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 220
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 43
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 9
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 87
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 19
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 16
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 8
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 8
- 230000004044 response Effects 0.000 description 8
- CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N lawrencium atom Chemical compound [Lr] CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000002594 fluoroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000011017 operating method Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Description
図6を参照して、放射線撮像装置100の動作例について説明する。この動作は、駆動回路150及び読出回路160を制御する制御部180と、信号処理部170とが連携することによって実行される。そのため、信号処理部170と制御部180との組み合わせを露出決定部と呼んでもよい。図6において、「放射線」は、放射線撮像装置100に放射線が照射されているか否かを示す。ローの場合に放射線が照射されておらず、ハイの場合に放射線が照射されている。「Vg1」~「Vgn」は、駆動回路150から複数の駆動線110に供給される駆動信号を示す。「Vgk」はk行目(k=1,...,駆動線の合計本数)の駆動線110に対応する。上述のように、複数の駆動線110の一部は、検出駆動線111とも呼ばれる。j番目の検出駆動線111を「Vdj」(j=1,...,検出駆動線の合計本数)と表す。φSHは、増幅部161のサンプルホールド回路SHに供給される制御信号のレベルを示す。φRは、増幅部161の差動増幅回路AMPに供給される制御信号のレベルを示す。「検出画素信号」は、検出画素104から読み出された信号の値を示す。「補正画素信号」は、補正画素107から読み出された信号の値を示す。「積算照射量」は、放射線撮像装置100に照射された放射線の積算値を示す。この積算値の決定方法については後述する。
DOSE=(Sd-Od)-(Sc-Oc)…式(1)
DOSE=Sd-Od×Sc/Oc…式(2)
第2参考実施形態に係る放射線撮像装置について説明する。第2参考実施形態の放射線撮像装置の構成は第1参考実施形態と同様であってもよい。そのため、第2参考実施形態の放射線撮像装置も放射線撮像装置100と表す。第2参考実施形態は、放射線撮像装置100の動作が第1参考実施形態とは異なる。他の点は第1実施形態と同様であってもよいので、重複する説明を省略する。
DOSE={(Sd2-Od2)-(Sd1-Od1)}-{(Sc2-Oc2)-(Sc1-Oc1)}…式(3)
DOSE=(Sd2-Sd1)-(Od2-Od1)×(Sc2-Sc1)/(Oc2-Oc1)…式(4)
第3参考実施形態に係る放射線撮像装置について説明する。第3参考実施形態の放射線撮像装置の構成は第1参考実施形態と同様であってもよい。そのため、第3参考実施形態の放射線撮像装置も放射線撮像装置100と表す。第3参考実施形態は、放射線撮像装置100の動作が第1参考実施形態とは異なる。他の点は第1参考実施形態と同様であってもよいので、重複する説明を省略する。
第4参考実施形態に係る放射線撮像装置について説明する。第4参考実施形態の放射線撮像装置の構成は第1参考実施形態と同様であってもよい。そのため、第4参考実施形態の放射線撮像装置も放射線撮像装置100と表す。第4参考実施形態は、放射線撮像装置100の動作が第1参考実施形態とは異なる。他の点は第1参考実施形態と同様であってもよいので、重複する説明を省略する。
上述の参考実施形態では、制御部180は、複数の関心領域について共通の補正値Od、Ocを決定した。これに代えて、制御部180は、関心領域ごとに補正値Od、Ocを決定してもよい。図15は、図7の関心領域の配置で、放射線照射前のリセット動作の間に、補正値Od、Ocを取得する例を示す。各関心領域の行のハイレベルは、補正値Od、Ocを決定するための読出動作を表す。期間1501で、制御部180は、1つの関心領域、又は図7において横方向に並んだ複数の関心領域について補正値Od、Ocを決定する。期間1502で、制御部180は、図7において縦方向に並んだ複数の関心領域について補正値Od、Ocを決定する。制御部180は、1回の撮影で縦方向に並んだ複数の関心領域で照射量を検出する場合、各関心領域の出力を個別に読み出すために各関心領域に対応する行を交互に動作させる。
次に、図16を参照して、制御部180が放射線照射の開始要求信号を受信した後に、補正値を決定する動画撮影の動作について説明する。
次に、図17を参照して、制御部180が放射線照射の開始要求信号を受信する前に、補正値を決定する動画撮影の動作について説明する。
動画撮影において、制御部180が放射線照射の開始要求信号を受信した後に補正値を決定する場合、補正値を収集した直後に照射線量の読み出しを行うため、環境変化の影響を受け難いが、放射線照射が可能な期間が短くなってしまう。一方、制御部180が放射線照射の開始要求信号を受信する前に補正値を決定する場合、放射線照射が可能な期間が短くなることはないが、使用環境の変化の影響を受けやすい。そこで、使用環境の変化の大きさに基づいて、補正値を決定するタイミングを決定する方法について図18のフローチャートを参照して説明する。
次に、第2実施形態について説明する。第1実施形態では、環境パラメータの経時変化に基づいて補正値を決定するタイミングを切り替える動作例について説明した。ここでは、可搬型の放射線撮像装置の場合、有線ケーブルの接続(充電)の有無や、ブッキーや透視台に挿入して使うなど、多くの使用状態がある。使用状態が変わると、放射線撮像装置100の消費電力や放熱環境が変わるため、放射線撮像装置100の温度が変動してしまう。第1実施形態では、環境パラメータの経時変化を計測しているため、使用状態が変更されても補正値の決定タイミングの切替えに時間を要してしまい、使用状態が変わった直後に補正値の精度が低下してしまう場合がある。
以下、図21を参照しながら放射線撮像装置100を放射線検知システムに応用した例を説明する。放射線源であるX線チューブ6050で発生したX線6060は、患者あるいは被験者6061の胸部6062を透過し、前述の放射線撮像装置100に代表される放射線撮像装置6040に入射する。この入射したX線には被験者6061の体内部の情報が含まれている。X線の入射に対応してシンチレータは発光し、これを光電変換素子で光電変換して、電気的情報を得る。この情報はデジタルに変換され信号処理部となるイメージプロセッサ6070により画像処理され制御室の表示部となるディスプレイ6080で観察できる。
101 撮像画素
104 検出画素
107 補正画素
110 駆動線
111 検出駆動線
120 信号線
150 駆動回路
160 読出回路
170 信号処理部
180 制御部
Claims (20)
- 放射線撮像装置であって、
第1画素と、前記第1画素よりも放射線に対する感度が低い第2画素とを含む複数の画素と、
前記複数の画素に蓄積した電荷をリセットするリセット動作と、前記放射線撮像装置に照射中の放射線の量を決定する決定動作とを実行するように構成された露出決定部とを備え、
前記露出決定部は、
放射線の照射開始前に、前記リセット動作を終了し、前記決定動作を開始し、
前記決定動作において、
前記第1画素及び前記第2画素から信号を1回以上読み出し、前記第1画素から読み出された信号に基づく第1補正値と、前記第2画素から読み出された信号に基づく第2補正値とを決定する第一動作と、
放射線の照射開始の要求を受信した後に、前記第1画素及び前記第2画素から信号を読み出し、前記第1画素から読み出された信号の値と、前記第2画素から読み出された信号の値と、前記第1補正値と、前記第2補正値とを用いて、前記放射線撮像装置に照射中の放射線の量を決定する第二動作とを行い、
前記露出決定部は、前記要求を受信する前に前記第一動作を行うか前記要求を受信した後に前記第一動作を行うか、を決定することを特徴とする放射線撮像装置。 - 前記露出決定部は、
前記放射線撮像装置の使用環境の変化の大きさに基づいて、前記要求を受信する前に前記第一動作を行うか前記要求を受信を受信した後に前記第一動作を行うか、を決定し、
前記要求を受信する前に前記第一動作を行うと決定した場合、放射線の照射開始の要求を受信する前に、前記リセット動作を終了し、前記第一動作を開始し、
前記第一動作において前記第1補正値及び前記第2補正値を決定した後に、前記リセット動作を再び行うことを特徴とする請求項1に記載の放射線撮像装置。 - 前記露出決定部は、関心領域ごとに又は前記放射線撮像装置の動作種類ごとに、前記第1補正値及び前記第2補正値を決定することを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線撮像装置。
- 前記露出決定部は、複数の関心領域について又は前記放射線撮像装置の複数の動作種類について共通の前記第1補正値及び前記第2補正値を決定することを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線撮像装置。
- 前記露出決定部は、前記放射線撮像装置の出荷時と、前記放射線撮像装置の使用設備での設置時と、前記放射線撮像装置の起動時と、前記放射線撮像装置による放射線画像の撮像前のオフセット画像の取得時とのいずれかに、前記第1補正値及び前記第2補正値を決定することを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の放射線撮像装置。
- 前記露出決定部は、
前記放射線撮像装置の使用環境の変化の大きさに基づいて、前記要求を受信する前に前記第一動作を行うか前記要求を受信を受信した後に前記第一動作を行うか、を決定し、
前記要求を受信した後に前記第一動作を行うと決定した場合、放射線の照射開始の要求を受信した後に、前記リセット動作を終了し、前記第一動作を開始し、
前記第一動作において前記第1画素及び前記第2画素から信号を1回以上読み出した後に、放射線の照射開始が可能であることの通知を行い、
前記通知の後に、前記第1画素及び前記第2画素から信号を読み出し、前記第1画素から読み出された信号の値と、前記第2画素から読み出された信号の値と、前記第1補正値と、前記第2補正値とを用いて、前記放射線撮像装置に照射中の放射線の量を決定することを特徴とする請求項1に記載の放射線撮像装置。 - 前記複数の画素は、複数の行及び複数の列を構成するように配置され、
前記放射線撮像装置は、
前記複数の行に対応して配置された複数の駆動線と、
前記複数の列に対応して配置された複数の信号線と、
前記複数の駆動線を通じて、前記リセット動作又は前記決定動作の対象の画素に対して駆動信号を供給する駆動回路と、
前記複数の信号線を通じて、前記複数の画素から信号を読み出すように構成された読出回路と、
を更に備え、
前記露出決定部は、前記駆動回路及び前記読出回路を制御することによって前記リセット動作及び前記決定動作を実行し、
前記駆動回路は、
前記リセット動作において、前記複数の駆動線のそれぞれに前記駆動信号を供給し、
前記決定動作において、前記複数の駆動線のうち前記第1画素及び前記第2画素の少なくとも一方に接続された駆動線に前記駆動信号を供給し、前記複数の駆動線のうち前記第1画素及び前記第2画素の何れにも接続されていない駆動線に前記駆動信号を供給しないことを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の放射線撮像装置。 - 前記複数の信号線のうち前記第1画素が接続された信号線に前記第2画素が接続されていないことを特徴とする請求項7に記載の放射線撮像装置。
- 前記駆動回路は、
前記複数の駆動線のうち前記第1画素及び前記第2画素の少なくとも一方が接続された駆動線に同時に前記駆動信号を供給することを特徴とする請求項7又は8に記載の放射線撮像装置。 - 前記露出決定部は、前記決定動作において、前記第1画素及び前記第2画素に前記駆動信号が供給されていない状態で前記第1画素及び前記第2画素に接続された信号線の電位に基づく信号の値を更に用いて、前記放射線撮像装置に照射中の放射線量を決定することを特徴とする請求項7乃至9の何れか1項に記載の放射線撮像装置。
- 前記露出決定部は、前記決定動作において、
放射線の照射開始が可能であることの通知の後に前記第1画素及び第2画素に前記駆動信号が供給されていない状態の前記第1画素及び前記第2画素に接続された信号線の電位に基づく信号の値を、前記第1画素及び第2画素に前記駆動信号が供給されていない状態の前記第1画素及び前記第2画素に接続された信号線の電位に基づく信号で補正し、
前記通知の後に前記第1画素及び第2画素に前記駆動信号が供給された状態の前記第1画素及び前記第2画素に接続された信号線の電位に基づく信号の値を、前記第1画素及び第2画素に前記駆動信号が供給された状態の前記第1画素及び前記第2画素に接続された信号線の電位に基づく信号で補正する
ことを特徴とする請求項10に記載の放射線撮像装置。 - 前記露出決定部は、前記第1補正値及び前記第2補正値を決定するために前記第1画素及び前記第2画素に前記駆動信号を供給した状態を維持したままで前記放射線撮像装置に照射中の放射線量を決定することを特徴とする請求項7乃至9の何れか1項に記載の放射線撮像装置。
- 前記放射線撮像装置に照射中の放射線の量を決定することは、放射線の照射開始が可能であることの通知の後に前記第2画素から読み出された信号の値と前記第2補正値との差分を用いることを含むことを特徴とする請求項1乃至12の何れか1項に記載の放射線撮像装置。
- 前記放射線撮像装置に照射中の放射線の量を決定することは、放射線の照射開始が可能であることの通知の後に前記第2画素から読み出された信号の値と前記第2補正値との比率を用いることを含むことを特徴とする請求項1乃至12の何れか1項に記載の放射線撮像装置。
- 前記第1画素及び前記第2画素はそれぞれ、光を電気信号に変換可能な光電変換素子を含み、
前記第2画素は、前記第2画素の前記光電変換素子を覆う遮光部材を有する
ことを特徴とする請求項1乃至14の何れか1項に記載の放射線撮像装置。 - 前記複数の画素の一部の画素は関心領域に含まれており、
前記第2画素は前記関心領域の外に配置される
ことを特徴とする請求項1乃至15の何れか1項に記載の放射線撮像装置。 - 前記複数の画素は撮像領域に配置されており、
前記第2画素は前記撮像領域の端の近く配置される
ことを特徴とする請求項1乃至15の何れか1項に記載の放射線撮像装置。 - 前記複数の画素の一部の画素は関心領域に含まれており、
前記関心領域の重心と、前記関心領域に対して配置された複数の前記第2画素の重心とが一致する
ことを特徴とする請求項1乃至15の何れか1項に記載の放射線撮像装置。 - 前記露出決定部は、放射線の照射開始が可能であることの通知の後に前記決定動作を繰り返すことによって、前記放射線撮像装置に照射中の放射線の量を継続的に決定することを特徴とする請求項1乃至18の何れか1項に記載の放射線撮像装置。
- 請求項1乃至19の何れか1項に記載の放射線撮像装置と、
前記放射線撮像装置からの信号を処理する信号処理部とを備えることを特徴とする放射線撮像システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019205840A JP7438720B2 (ja) | 2019-11-13 | 2019-11-13 | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019205840A JP7438720B2 (ja) | 2019-11-13 | 2019-11-13 | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021078093A JP2021078093A (ja) | 2021-05-20 |
JP7438720B2 true JP7438720B2 (ja) | 2024-02-27 |
Family
ID=75898540
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019205840A Active JP7438720B2 (ja) | 2019-11-13 | 2019-11-13 | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7438720B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2023144744A (ja) * | 2022-03-28 | 2023-10-11 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、放射線撮影システム、および制御方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010005212A (ja) | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Canon Inc | 放射線撮像装置、その制御方法及び放射線撮像システム |
JP2010071659A (ja) | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線固体検出器 |
JP2017067501A (ja) | 2015-09-28 | 2017-04-06 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム、放射線撮像装置の制御方法及びプログラム |
JP2018068874A (ja) | 2016-11-02 | 2018-05-10 | 富士フイルム株式会社 | 放射線画像撮影装置、放射線画像撮影方法、及び放射線画像撮影プログラム |
JP2018175080A (ja) | 2017-04-05 | 2018-11-15 | キヤノン株式会社 | 放射線撮影装置、放射線撮影システム、放射線撮影装置の制御方法及びプログラム |
JP2017192443A5 (ja) | 2016-04-18 | 2019-05-23 | ||
JP2019141357A (ja) | 2018-02-21 | 2019-08-29 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム |
JP2019164125A (ja) | 2018-03-19 | 2019-09-26 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置および放射線撮像システム |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6706963B2 (ja) | 2016-04-18 | 2020-06-10 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム、及び、放射線撮像装置の制御方法 |
-
2019
- 2019-11-13 JP JP2019205840A patent/JP7438720B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010005212A (ja) | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Canon Inc | 放射線撮像装置、その制御方法及び放射線撮像システム |
JP2010071659A (ja) | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線固体検出器 |
JP2017067501A (ja) | 2015-09-28 | 2017-04-06 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム、放射線撮像装置の制御方法及びプログラム |
JP2017192443A5 (ja) | 2016-04-18 | 2019-05-23 | ||
JP2018068874A (ja) | 2016-11-02 | 2018-05-10 | 富士フイルム株式会社 | 放射線画像撮影装置、放射線画像撮影方法、及び放射線画像撮影プログラム |
JP2018175080A (ja) | 2017-04-05 | 2018-11-15 | キヤノン株式会社 | 放射線撮影装置、放射線撮影システム、放射線撮影装置の制御方法及びプログラム |
JP2019141357A (ja) | 2018-02-21 | 2019-08-29 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム |
JP2019164125A (ja) | 2018-03-19 | 2019-09-26 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置および放射線撮像システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021078093A (ja) | 2021-05-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN111214250B (zh) | 放射线成像装置和放射线成像系统 | |
KR101794404B1 (ko) | 방사선 촬상 장치 및 방사선 촬상 시스템 | |
US9838638B2 (en) | Radiation imaging apparatus, method of driving the same, and radiation imaging system | |
US9423513B2 (en) | Radiation imaging apparatus and radiation imaging system | |
JP7373338B2 (ja) | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム | |
US9661240B2 (en) | Radiation imaging apparatus comprising a pixel including a conversion element and radiation imaging system | |
JP6555909B2 (ja) | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム | |
US20200008766A1 (en) | Radiation imaging apparatus, radiation imaging system, control method of radiation imaging apparatus, and non-transitory computer-readable storage medium | |
US20200371259A1 (en) | Radiation imaging apparatus and radiation imaging system | |
JP6808458B2 (ja) | 放射線撮像装置および放射線撮像システム | |
JP7438720B2 (ja) | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム | |
US9924113B2 (en) | Radiation imaging apparatus and radiation imaging system | |
JP7449260B2 (ja) | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム | |
JP7190360B2 (ja) | 放射線撮像装置および放射線撮像システム | |
JP6494387B2 (ja) | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム | |
US11831813B2 (en) | Apparatus, system, and method for controlling apparatus | |
WO2023189201A1 (ja) | 放射線撮像装置、放射線撮影システム、および制御方法 | |
WO2020162024A1 (ja) | 放射線撮像装置および放射線撮像システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221107 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230828 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230905 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231030 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20231213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240214 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7438720 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |