JP2019160967A - 赤外線検出器、これを用いた赤外線撮像装置、及び赤外線検出器の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
下部コンタクト層、赤外帯域の第1の波長に感度を有する下部活性層、中間コンタクト層、前記赤外帯域で前記第1の波長と異なる第2の波長に感度を有する上部活性層、及び上部コンタクト層がこの順で積層された積層体と、
前記積層体に形成されて画素を区画する画素分離溝と、
を有し、前記画素の積層方向の上面と側面の全体が、前記上部コンタクト層に接続される第1配線と、前記下部コンタクト層に接続される第2配線と、前記中間コンタクト層に接続される第3配線のいずれかによって覆われている。
(付記1)
複数の画素の配列を含む赤外線検出器において、
下部コンタクト層、赤外帯域の第1の波長に感度を有する下部活性層、中間コンタクト層、前記赤外帯域で前記第1の波長と異なる第2の波長に感度を有する上部活性層、及び上部コンタクト層がこの順で積層された積層体と、
前記積層体に形成されて画素を区画する画素分離溝と、
を有し、前記画素の積層方向の上面と側面の全体が、前記上部コンタクト層に接続される第1配線と、前記下部コンタクト層に接続される第2配線と、前記中間コンタクト層に接続される第3配線のいずれかによって覆われていることを特徴とする赤外線検出器。
(付記2)
前記積層体の裏面が光入射面であり、
前記画素の前記上面において、前記第1配線、前記第2配線、及び前記第3配線の少なくとも一部が前記積層方向にオーバーラップし、光入射方向から見たときに、前記上面が隙間なく覆われていることを特徴とする付記1に記載の赤外線検出器。
(付記3)
前記画素の前記上面に、前記第1配線に接続される第1のバンプ電極と、前記第2配線に接続される第2のバンプ電極を有し、
前記第3配線は、前記画素分離溝から前記赤外線検出器の画素領域の外周に引き出されていることを特徴とする付記1または2に記載の赤外線検出器。
(付記4)
前記上部コンタクト層に達する第1のコンタクト穴と、
前記下部コンタクト層に達する第2のコンタクト穴と、
前記中間コンタクト層に達する第3のコンタクト穴と、
を有し、
前記第3のコンタクト穴は、前記画素分離溝に対して開放されていることを特徴とする付記1〜3のいずれかに記載の赤外線検出器。
(付記5)
前記第1配線は、前記第1のコンタクト穴から前記画素の前記上面に延び、
前記第2配線は、前記第2のコンタクト穴から前記画素の前記上面に延び、
前記上面で、前記第2配線は第1絶縁膜(25)を介して前記第1配線にオーバーラップしていることを特徴とする付記4に記載の赤外線検出器。
(付記6)
前記第3配線は、前記第3のコンタクト穴と前記画素分離溝から前記画素の前記上面に延び、前記上面で、前記第1配線と前記第2配線に第2絶縁膜を介してオーバーラップしていることを特徴とする付記4に記載の赤外線検出器。
(付記7)
前記画素分離溝の内壁は、前記第3配線によって全面が覆われていることを特徴とする付記4に記載の赤外線検出器。
(付記8)
付記1〜7のいずれか1項に記載の赤外線検出器と、
前記赤外線検出器に電気的に接続される信号処理回路デバイスと、
を有する赤外線撮像装置。
(付記9)
付記8に記載の赤外線撮像装置と、
前記赤外線撮像装置に外部からの光を集光する光学系と、
を有する撮像システム。
(付記10)
絶縁層の上に、下部コンタクト層、赤外帯域の第1の波長に感度を有する下部活性層、中間コンタクト層、前記赤外帯域で前記第1の波長と異なる第2の波長に感度を有する上部活性層、及び上部コンタクト層をこの順で堆積して積層体を形成し、
前記積層体に画素を区画する画素分離溝を形成し、
前記画素に、前記上部コンタクト層に接続される第1配線と、前記下部コンタクト層に接続される第2配線と、前記中間コンタクト層に接続される第3配線を形成し、
前記画素の積層方向の上面と側面の全体を、前記第1配線と、前記第2配線と、前記第3配線のいずれかで覆う、
ことを特徴とする赤外線検出器の製造方法。
(付記11)
前記画素の前記上面において、前記第1配線、前記第2配線、及び前記第3配線の少なくとも一部を、間に絶縁膜を介して互いに前記積層方向にオーバーラップさせ、前記積層方向で見たときに、前記上面を隙間なく覆うことを特徴とする付記10に記載の赤外線検出器の製造方法。
(付記12)
前記画素の前記上面に、前記第1配線に接続される第1のバンプ電極と、前記第2配線に接続される第2のバンプ電極を形成し、
前記第3配線を、前記画素分離溝から前記赤外線検出器の画素領域の外周に引き出すことを特徴とする付記10または11に記載の赤外線検出器の製造方法。
(付記13)
前記上部コンタクト層に達する第1のコンタクト穴を形成し、
前記下部コンタクト層に達する第2のコンタクト穴を形成し、
前記中間コンタクト層に達する第3のコンタクト穴を、前記画素分離溝に対して開放するように形成する、
ことを特徴とする付記10〜12のいずれかに記載の赤外線検出器の製造方法。
(付記14)
前記第1配線を、前記第1のコンタクト穴から前記画素の前記上面に延設し、
前記第2配線を、前記第2のコンタクト穴から前記画素の前記上面に延設し、
前記上面で、前記第2配線を第1絶縁膜を介して前記第1配線にオーバーラップさせることを特徴とする付記13に記載の赤外線検出器の製造方法。
(付記15)
前記第3配線を、前記第3のコンタクト穴と前記画素分離溝から前記画素の前記上面に延設し、前記第3配線を、前記上面で、第2絶縁膜を介して前記第1配線と前記第2配線にオーバーラップさせることを特徴とする付記13に記載の赤外線検出器の製造方法。
(付記16)
前記第3配線で、前記画素分離溝の内壁の全面を覆うことを特徴とする付記13に記載の赤外線検出器の製造方法。
11 絶縁層
12 下部コンタクト層
13 下部活性層
14 中間コンタクト層
15 上部活性層
16 上部コンタクト層
21 画素分離溝
24 配線(第1配線)
25、47、62 絶縁膜
31、32、33 コンタクト穴
41、42 バンプ電極
50 信号処理回路チップ(信号処理回路デバイス)
61 配線(第2配線)
66 表面配線(第3配線)
66a、66b オーバーラップ領域
100 赤外線検出器
101 画素領域
111 中間コンタクト取出し用バンプ領域
133 下部コンタクト取出し溝
141、142 バンプ形成領域
150 赤外線撮像装置
1000 撮像システム
Claims (8)
- 複数の画素の配列を含む赤外線検出器において、
下部コンタクト層、赤外帯域の第1の波長に感度を有する下部活性層、中間コンタクト層、前記赤外帯域で前記第1の波長と異なる第2の波長に感度を有する上部活性層、及び上部コンタクト層がこの順で積層された積層体と、
前記積層体に形成されて画素を区画する画素分離溝と、
を有し、前記画素の積層方向の上面と側面の全体が、前記上部コンタクト層に接続される第1配線と、前記下部コンタクト層に接続される第2配線と、前記中間コンタクト層に接続される第3配線のいずれかによって覆われていることを特徴とする赤外線検出器。 - 前記積層体の裏面が光入射面であり、
前記画素の前記上面において、前記第1配線、前記第2配線、及び前記第3配線の少なくとも一部が前記積層方向にオーバーラップし、光入射方向から見たときに、前記上面が隙間なく覆われていることを特徴とする請求項1に記載の赤外線検出器。 - 前記画素の前記上面に、前記第1配線に接続される第1のバンプ電極と、前記第2配線に接続される第2のバンプ電極を有し、
前記第3配線は、前記画素分離溝から前記赤外線検出器の画素領域の外周に引き出されていることを特徴とする請求項1または2に記載の赤外線検出器。 - 前記上部コンタクト層に達する第1のコンタクト穴と、
前記下部コンタクト層に達する第2のコンタクト穴と、
前記中間コンタクト層に達する第3のコンタクト穴と、
を有し、
前記第3のコンタクト穴は、前記画素分離溝に対して開放されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の赤外線検出器。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の赤外線検出器と、
前記赤外線検出器に電気的に接続される信号処理回路デバイスと、
を有する赤外線撮像装置。 - 請求項5に記載の赤外線撮像装置と、
前記赤外線撮像装置に外部からの光を集光する光学系と、
を有する撮像システム。 - 絶縁層の上に、下部コンタクト層、赤外帯域の第1の波長に感度を有する下部活性層、中間コンタクト層、前記赤外帯域で前記第1の波長と異なる第2の波長に感度を有する上部活性層、及び上部コンタクト層をこの順で堆積して積層体を形成し、
前記積層体に画素を区画する画素分離溝を形成し、
前記画素に、前記上部コンタクト層に接続される第1配線と、前記下部コンタクト層に接続される第2配線と、前記中間コンタクト層に接続される第3配線を形成し、
前記画素の積層方向の上面と側面の全体を、前記第1配線と、前記第2配線と、前記第3配線のいずれかで覆う、
ことを特徴とする赤外線検出器の製造方法。 - 前記画素の前記上面において、前記第1配線、前記第2配線、及び前記第3配線の少なくとも一部を、間に絶縁膜を介して互いに前記積層方向にオーバーラップさせ、前記積層方向で見たときに、前記上面を隙間なく覆うことを特徴とする請求項7に記載の赤外線検出器の製造方法。
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