JP2019143251A - 改善された熱安定性を示すチタン−アルミニウム−タンタルベースの被覆物 - Google Patents

改善された熱安定性を示すチタン−アルミニウム−タンタルベースの被覆物 Download PDF

Info

Publication number
JP2019143251A
JP2019143251A JP2019089963A JP2019089963A JP2019143251A JP 2019143251 A JP2019143251 A JP 2019143251A JP 2019089963 A JP2019089963 A JP 2019089963A JP 2019089963 A JP2019089963 A JP 2019089963A JP 2019143251 A JP2019143251 A JP 2019143251A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
layers
deposited
coating system
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2019089963A
Other languages
English (en)
Inventor
リヒャルト・ラハバウアー
Rachbauer Richard
ローベルト・ホーレルヴェーガー
Hollerweger Robert
クリスティアン・マルティン・コラー
Martin Koller Christian
パウル・ハインツ・マイローファー
Heinz Mayrhofer Paul
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon
Original Assignee
Oerlikon Surface Solutions AG Truebbach
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oerlikon Surface Solutions AG Truebbach filed Critical Oerlikon Surface Solutions AG Truebbach
Publication of JP2019143251A publication Critical patent/JP2019143251A/ja
Priority to JP2021148118A priority Critical patent/JP7480098B2/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0617—AIII BV compounds, where A is Al, Ga, In or Tl and B is N, P, As, Sb or Bi
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325—Electric arc evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3435—Applying energy to the substrate during sputtering
    • C23C14/345—Applying energy to the substrate during sputtering using substrate bias
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/042—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material including a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxides, ZrO2, rare earth oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/42—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by the composition of the alternating layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/44—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by a measurable physical property of the alternating layer or system, e.g. thickness, density, hardness
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)

Abstract

【課題】非常に良好な強靭性と熱安定性を同時に結び付ける被覆システムを提供する【解決手段】本発明は、互いに交互に堆積されたｎのＡ層及びｍのＢ層からなるタンタル含有多層膜を含む耐摩耗性被覆システムに関連しており、ｎ及びｍは１より大きい整数であり、前記多層膜は立方晶構造を示しており、前記Ｂ層はタンタルを含み、前記Ａ層は前記Ｂ層より高い欠陥密度を示していることを特徴としている。【選択図】図１

Description

本発明は、請求項１から４のいずれかに記載された特徴を有する耐摩耗性被覆システム２０に関連しており、特に、例えばトライボロジーシステムで使用されるツール及び要素などの本体の摩擦保護のための使用に関連している。特に、この被覆システムは、高温への暴露の後での良好な硬度及び良好な酸化抵抗を結び付ける。さらに、本発明は、請求項５から８のいずれかに記載された特徴を示す被覆本体１、及び請求項９から１４のいずれかに記載された特徴を備えている被覆本体１を製造する方法に関連している。
窒化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＮ）被覆物は、ツール及び要素の摩擦保護に対して定着した被覆物である。一般的に、ＴｉＡｌＮ被覆物は、物理的気相堆積（ＰＶＤ）技術によって基板上に堆積される。その摩擦抵抗特性及び熱安定性の非常に良好な組み合わせのため、ＴｉＡｌＮ被覆物システムはよく研究されてきた。この種の被覆物の熱安定性におけるＡｌ含有物の影響に特別な注意が払われてきた。
さらに、他の元素が基本的にドープされたＴｉＡｌＮベースの被覆物の多くの変更がよく研究された。全てのこれらのドープされたＴｉＡｌＮ被覆物は確定的な応用に対して任意の利点を有している。
多くの現在の文献においては、タンタルでドープされたドーピングＴｉＡｌＮ被覆物によって達成され得る利点を報告している。例えば、特許文献１では、被覆物が（ＴｉａＡｌｂＴａｃ）Ｎの組成（ａ＋ｂ＋ｃ＝１；０．３≦ｂ≦０．７５；０．００１≦ｃ≦０．３０）を有する少なくとも一つの被覆層、及び（ＴｉｄＡｌｅＴａｆＭｇ）Ｎの組成（ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＝１；０．５０≦ｅ≦０．７０；０≦ｆ≦０．２５、及びＭは、Ｓｉ、Ｖ、Ｂからなる群から選択された一つ以上の元素であり、Ｓｉに対しては０．０００５≦ｇ≦０．１０；Ｖに対しては０．００１≦ｇ≦０．２５；及びＢに対して０．００００５≦ｇ≦０．０１）を有する少なくとも一つの被覆層を備えた被覆ツールを開示している。さらに、同じ特許文献において、Ａｌ（３０から７５原子％）、Ｔａ（０．１から３０原子％）、及び残余のＴｉからなる、ツールを被覆するためのスパッタリングターゲットを開示している。さらに、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、及び少なくともＳｉ、Ｖ、またはＢからなる、ツールを被覆するためのスパッタリングターゲットを開示している。
単層または多層の被覆システムを備えた類似のＴｉ−Ａｌ−Ｔａ−Ｎが、特許文献２、特許文献３、特許文献４、特許文献５、特許文献６、特許文献７、特許文献８、特許文献９、特許文献１０、特許文献１１、特許文献１２、及び特許文献１３において開示されている。
しかしながら、全てのこれらの進展及び研究にも関わらず、改善の必要がさらにある。
特に、切削ツールの保護及び切削性能を増大させるために、現在の要求を満たすことのできる強靭性及び熱安定性の十分に良好な組み合わせを達成するための課題が残っている。
米国特許第７５２１１３２号明細書 国際公開第２００９／００３２０６号 国際公開第２００９／１０５０２４号 欧州特許出願公開第２０９６８１１号明細書 欧州特許出願公開第１７２２００９号明細書 欧州特許出願公開第１３７８３０４号明細書 欧州特許出願公開第１４００６０９号明細書 欧州特許出願公開第１４５２６２１号明細書 欧州特許出願公開第１３７８３０４号明細書 特許第７３３１４１０号公報 特許第７０２６３８６号公報 特許第６３３０３４７号公報 特開２００７−０１５０７１号公報
本発明の主な課題は、非常に良好な強靭性と熱安定性を同時に結び付ける被覆システムを提供することである。好ましくは、この被覆システムは、高温への暴露の後での良好な硬度及び良好な酸化抵抗を結び付けている。さらに、その製造方法を提供することが本発明の目的である。
本発明による、互いに交互に堆積されたＡ層及びＢ層からなるタンタル含有多層膜１０を含む耐摩耗性被覆システム２０を示している 本発明により使用された被覆パラメータを示している。 単層被覆物（モノリシックに成長した被覆物）の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 単層被覆物（モノリシックに成長した被覆物）の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 単層被覆物（モノリシックに成長した被覆物）の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 多層構造を有する被覆の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 多層構造を有する被覆の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 多層構造を有する被覆の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 本発明による互いに交互に堆積した層Ａ及び層Ｂを備えた多層膜から得られたＸ線スペクトルを示している。
本発明の主な目的は、図１に概略的に描かれたように、互いに交互に堆積されたＡ層４、Ａ１、Ａ２、Ａ３、．．．Ａｎ及びＢ層８、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、．．．Ｂｍからなるタンタル含有多層膜１０を含む耐摩耗性被覆システム２０を提供することによって達成される。多層膜１０は立方晶構造を示し、Ａ層はＢ層より高い欠陥密度を示している。
特に、Ｂ層がタンタルを含むときに良好な結果が得られる。
本発明者は多層被覆物の異なる組み合わせを分析し、及び単層被覆物と比較した。
実験（実験についての詳細な情報は図２から図８において提供されている）に対して、窒化チタンアルミニウム及び窒化チタンアルミニウムタンタル単層被覆物（本発明の内容においてはモノリシックな被覆として参照される）は、合金ターゲットからのアーク放電イオンプレーティングによって堆積された。実験に対して、Ｔｉ０．５Ａｌ０．５、Ｔｉ０．４５Ａｌ０．４５Ｔａ０．１、及びＴｉ０．３Ａｌ０．６Ｔａ０．１の化学成分を有する合金ターゲットが使用された。
さらに、Ａ層及びＢ層を含む多層被覆システムが堆積された。実験に対して、Ａ層は、化学成分Ｔｉ０．５Ａｌ０．５を有するチタンアルミニウム複合ターゲットから堆積されると同時に、Ｂ層は、化学成分Ｔａ０．７５Ａｌ０．２５を有するタンタルアルミニウム複合ターゲットから堆積された。
欠陥密度を変化させるために、二つの異なるＰＶＤ技術：アーク放電イオンプレーティング及びマグネトロンスパッタリングイオンプレーティングが使用された。使用された被覆パラメータが図２に示されている。
アーク放電イオンプレーティング堆積技術だけを使用する、層Ａ及びＢにおいて異なる欠陥密度を得るための他の可能な方法は、例えば、各々の場合においてコイル電流を調節することである。
高解像度透過型電子顕微鏡（ＨＲＴＥＭ）技術を層Ａ及びＢの欠陥密度を測定するために使用することができる。
好ましくは、Ａ層及びＢ層の化学組成は原子パーセントの係数を含む以下の化学式によって与えられる。
Ａ層に対して、Ｍｅ１ １−ｘＡｌｘＮｚＸ１−ｚ、及びＢ層に対して、Ｍｅ２ １−ｘ―ｙＡｌｘＴａｙＮｚＸ１−ｚ。
Ｍｅ１はＴｉ、Ｃｒ、Ｖ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｓｉ及びＷから一つ以上の元素であり、
Ｍｅ２はＴｉ、Ｃｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｓｉ及びＷから一つ以上の元素であり、
ＸはＯ、Ｃ、及びＢから一つ以上の元素であり、
０．２≦ｘ≦０．７、０．７≦ｚ≦１、０．０２≦ｙ≦０．８０である。
Ａ１＞Ｂ１、Ａ２＞Ｂ２、Ａ３＞Ｂ３、…Ａｎ＞Ｂｍのように、Ｂ層の厚さがＡ層の厚さより小さいとき、より良好な熱安定性が観測された。
好ましくは、本発明による被覆本体１はＰＶＤ技術を用いて被覆される。
本発明の好ましい実施形態において、被覆システム２０は、アーク放電イオンプレーティング技術によって堆積される。
本発明の被覆システム２０のさらに好ましい実施形態において、Ａ層４はアーク放電イオンプレーティング技術によって堆積され、及びＢ層はスパッタリング技術によって堆積される。
さらに、本発明は、本発明による被覆システム２０で被覆された本体１を製造する方法に関連している。
本発明の一つの実施形態において、被覆本体１は、物理気相堆積技術によって被覆される。
本発明による方法の好ましい実施形態において、使用される物理気相堆積技術は、アーク放電イオンプレーティング堆積技術であり、好ましくは反応性アーク放電イオンプレーティング堆積技術である。
層Ａ及びＢにおける所望の欠陥密度を調節するための、本発明による方法のさらに好ましい実施形態において、コイル電流がそれに応じて調節される。
本発明による方法のもう一つのさらに好ましい実施形態において、使用された物理気相堆積技術は、スパッタリング、または例えば、高出力インパルスマグネトロンスパッタリング（ＨＩＰＩＭＳ）、特に反応性マグネトロンスパッタリング堆積（ｒｓｄ）技術などの高電離マグネトロンスパッタリング技術である。
好ましくは、少なくともいくつかの場合において、本発明による方法は、層Ａ及び／またはＢの堆積のために、粉末冶金技術により作られた少なくとも一つのターゲット（ソース材料）の使用を含む。
本発明のさらなる実施形態において、被覆システム２０は、多層膜１０に加えて少なくとも一つ以上の層、例えば、一つ以上の接着促進層２、及び／または多層膜１０の上に堆積された一つ以上の層１２を含む。少なくとも一つの層１２は、例えば、摩擦減少特性及び／または特に色特性を有する頂部層であり得る。
本発明の一つの好ましい実施形態において、Ａ層及びＢ層の一つ一つの厚さが、好ましくは３ｎｍから３００ｎｍであり、より好ましくは３ｎｍから１００ｎｍである。窒素及び／またはＸを構成する少なくとも一つの元素（もし与えられる場合）が、好ましくは反応性ガスから多層膜１０に組み込まれている。
図３から５は、単層被覆物（モノリシックに成長した被覆物）の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示していると同時に、図６から８は、多層構造を有する被覆の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。
図５及び図８において走査型電子顕微鏡で観測され、また酸化挙動を研究するための、特徴付けられた被覆物の元素組成の分析によって検出されるＣｒＮ層が、分析のための試料を準備するために酸化工程の後で堆積された。
図４及び７に示された硬度及びＸ線回析（ＸＲＤ）スペクトルが、被覆物の熱安定性を分析するために各アニーリング工程の後、室温で測定された。
堆積の後でモノリシックに成長したＴｉ０．５４Ａｌ０．４６Ｎ及びＴｉ０．４５Ａｌ０．３６Ｔａ０．１９Ｎ被覆物のＸＲＤスペクトルを分析すると、それらは立方晶構造を示しており、同時に、Ｔｉ０．３１Ａｌ０．５０Ｔａ０．１９Ｎ被覆物はすでに立方晶／六方晶（ｃ／ｗ）混合相構造を示していることが観測された。しかしながら、多層構造のＴｉＡｌＮ／ＴａＡｌＮを有する堆積した全ての被覆物は、堆積後に立方晶構造を示し（ＸＲＤスペクトルによる）、これらの両者は、アーク放電蒸発技術（ＴｉＡｌＮａｒｃ／ＴａＡｌＮａｒｃ）を用いて堆積され、及びアーク放電／スパッタ・ハイブリッド技術（ＴｉＡｌＮａｒｃ／ＴａＡｌＮｒｓｄ）を用いて堆積された。これらの実験に対して、ＴｉＡｌＮａｒｃ／ＴａＡｌＮａｒｃ被覆物は、そのＴａＡｌＮ層がＴａＡｌＮ層よりも高い欠陥密度を有している多層被覆物を得るために堆積されなかった。しかし、ＴｉＡｌＮａｒｃ／ＴａＡｌＮｒｓｄの場合において、ＴｉＡｌＮ層より低い欠陥密度を有するＴａＡｌＮ層を製造することを目的とした。
熱安定性に関して、多層Ｔｉ０．５Ａｌ０．５ａｒｃ／Ｔａ０．７５Ａｌ０．２５ａｒｃ被覆物は、アニーリング工程の後で測定した硬度を考慮すると（図７の左側下に示したように）、時効硬化のふるまいに関して最大の熱安定性を示したが、図８の左側に示したように酸化抵抗に関して悪い熱安定性を示した。これらの被覆物は、８５０℃で２０時間の間で完全に酸化された。別の方法では、モノリシックに成長したＴｉ０．４５Ａｌ０．３６Ｔａ０．１９Ｎ被覆物及びハイブリッドに堆積したＴｉ０．５Ａｌ０．５ａｒｃ／Ｔａ０．７５Ａｌ０．２５ｒｓｄ多層被覆物は、同様の良好な熱安定性を示した。アニーリング工程の後で測定した硬度に関して、これらの種類の被覆物の両方が、（図４及び図７の右側下に示したように）比較的良好な時効硬化の振る舞いを示し、及び（図５及び図８の右側に示したように）酸化抵抗に関して非常に良好な熱安定性を示した。
結晶性ＰＶＤ堆積層は、実質的に、二つ以上の（一般的には数個）の結晶粒子を備えた多結晶層である。結晶粒子の成長方法は、所望の層形態をもたらす。異なる形態は、異なる欠陥の量を備えることによって特徴付けられる。
本発明の内容における欠陥密度との用語は、特に、Ａ層またはＢ層の内側の粒界相の決められた面積または体積に含まれる欠陥に対応する面積または体積を参照している。
本発明の内容における欠陥密度は、不規則な粒界相の個々の相比率から生じる、微細な点欠陥、線欠陥、及び面欠陥（例えば、空孔、割れ目、転位、積層欠陥）、と必然的に結びつける。本発明による層Ａ及び層Ｂの欠陥密度は、例えば、Ｘ線回析（ＸＲＤ）及び／または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて評価され得る。
例として、ＴｉＡｌＮからなり、微粒子構造を示す約１マイクロメートル厚さのＡ層、ＴｉＡｌＴａＮからなり、柱状粒子構造を示す約１マイクロメートル厚さのＢ層、及び前で述べた種類のいくつかのＡ層及びＢ層を含む約１マイクロメートル厚さの多層膜が、Ｘ線技術を用いて観察された。得られたＸ線スペクトルが図９に示されている。
観察された層ＡのＸ線スペクトルは、広域ＸＲＤ信号５２＜２シータ＜６０°で特徴付けられている。本発明による一般的な単層Ａは、主要な（００２）配向を示しているべきである。これに対して、観察した層ＢのＸ線スペクトルは、層Ａと比べて粒界相の低い量、及びそれ故に本発明の内容において低欠陥密度の現れである、同じ２シータ範囲におけるＸＲＤ信号が無いことで特徴付けられている。
認識された（ｒｅａｌｉｚｅｄ）Ｘ線実験によると、観察された層Ａの構造は、ナノメートルサイズの粒子（＜１５ｎｍの粒子サイズ）を備えており、及びそれ故に欠陥に富んだ粒界相比率を示している。
図９にも示されるように、本発明による互いに交互に堆積した層Ａ及び層Ｂを含む多層膜からの一般的なＸＲＤパターンは、主要な（００２）配向を示し、さらに、ある程度の粒界信号を示した。
Ａ層及びＢ層のそれぞれの厚さは、上で述べた好ましい実施形態によって制限されず、例えばいくつかの応用に対して、３ｎｍから３０００ｎｍまたは３ｎｍから５００ｎｍであり得る。
いくつかの応用に対するＡ層のそれぞれの厚さは、好ましくは、（多層アーキテクチャを形成する）Ａ層と交互に堆積された、それに対応するＢ層のそれぞれの厚さより少なくとも１５％大きく、すなわち、Ａ１層の厚さ≧１．１５Ｂ１層の厚さ、Ａ２層の厚さ≧１．１５Ｂ２層の厚さ、…Ａｎ層の厚さ≧１．１５Ｂｍ層の厚さである。
本発明のさらに好ましい実施形態において、Ａ層のそれぞれの厚さは、Ａ層と交互に堆積される、それに対応するＢ層のそれぞれの厚さより少なくとも２５％大きい。
本発明のもう一つの好ましい実施形態において、Ａ層のそれぞれの厚さは、Ａ層と交互に堆積される、それに対応するＢ層のそれぞれの厚さより３０％から５０％大きい。
考案をまとめると、本発明による耐摩耗性被覆システム（２０）は、互いに交互に積層したｎ個のＡ層（４）及びｍ個のＢ層（８）からなるタンタル含有多層膜（１０）を含み、ここで、ｎ及びｍは１より大きい整数であり、多層膜（１０）は立方晶構造を示しており、Ｂ層はタンタルを備えており、Ａ層はＢ層より高い結晶密度を示していることを特徴としている。
被覆システムにおけるＡ及びＢ層の化学組成は、好ましくは、原子パーセントの係数を含む以下の化学式で与えられる。
Ａ層に対して、Ｍｅ１ １−ｘＡｌｘＮｚＸ１−ｚであり、及びＢ層に対して、Ｍｅ２ １−ｘ―ｙＡｌｘＴａｙＮｚＸ１−ｚである。
Ｍｅ１はＴｉ、Ｃｒ、Ｖ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｓｉ及びＷから一つ以上の元素であり、
Ｍｅ２はＴｉ、Ｃｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｓｉ及びＷから一つ以上の元素であり、
ＸはＯ、Ｃ、及びＢから一つ以上の元素であり、
０．２≦ｘ≦０．７、０．７≦ｚ≦１、０．０２≦ｙ≦０．８０である。
Ｂ層の厚さは好ましくはＡ層の厚さより小さい：Ａ１＞Ｂ１、Ａ２＞Ｂ２、Ａ３＞Ｂ３、…Ａｎ＞Ｂｍ。
好ましくは、Ａ層の厚さはＢ層の厚さより少なくとも１５％大きい：Ａ１≧１．１５Ｂ１、Ａ２≧１．１５Ｂ２、Ａ３≧１．１５Ｂ３、…Ａｎ≧１．１５Ｂｍ。
本発明はまた、本体（１）及び本体（１）の表面の少なくとも一部に堆積され得る本発明の被覆システム（２０）を備えている被覆本体を開示している。
本発明による被覆本体に備えられた被覆システム（２０）の多層膜（１０）は好ましくはＰＶＤ技術によって堆積される。
多層膜（１０）のＢ層は、マグネトロンスパッタリングイオンプレーティング技術または高電離マグネトロンスパッタリング技術によって堆積され得る。
Ａ層は、アーク放電イオンプレーティング技術によって堆積され得る。
本発明による被覆本体を製造する好ましい方法は、ＰＶＤ技術による基板上へのＡ層及び／またはＢ層の堆積を含む。
好ましくは、反応性物理気相堆積技術がＡ層及び／またはＢ層を堆積することに使用される。
好ましくは、窒素比率及び／またはＸ要素に含まれる少なくとも一つの元素が、反応性気体から、または反応性気体混合物から、Ａ層及び／またはＢ層内にそれぞれ組み込まれる。
多層膜（１０）、すなわち、Ａ層及びＢ層は共に、アーク放電イオンプレーティング技術によって堆積され得る。
この場合に、層Ａ及びＢにおける所望の欠陥密度が、それに対応するコイル電流を調節することによって調節され得る。
好ましくは、Ａ層及び／またはＢ層を堆積するためのソース材料として使用される少なくとも一つのターゲットは、粉末冶金技術によって作られる。
１ 被覆本体
２ 接着促進層
４ 層
８ 層
１０ 多層膜
１２ 少なくとも一つの層
２０ 被覆システム
本発明による、互いに交互に堆積されたＡ層及びＢ層からなるタンタル含有多層膜１０を含む耐摩耗性被覆システム２０を示している 本発明により使用された被覆パラメータを示している。 単層被覆物（モノリシックに成長した被覆物）の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 単層被覆物（モノリシックに成長した被覆物）の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 単層被覆物（モノリシックに成長した被覆物）の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 多層構造を有する被覆の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 多層構造を有する被覆の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 多層構造を有する被覆の特性を特徴付け及び分析するために実施された実験的試験の結果を示している。 本発明による互いに交互に堆積した層Ａ及び層Ｂを備えた多層膜から得られたＸ線スペクトルを示している。 微粒子構造を有するＡ層と柱状粒子構造を有するＢ層との間の相違を示して いる本発明の多層の破断形態のＳＥＭ画像である。

Claims (14)

  1. 互いに交互に堆積されたｎ個のＡ層（４）及びｍ個のＢ層（８）からなるタンタル含有多層膜（１０）を含む耐摩耗性被覆システム（２０）であって、ｎ及びｍは１より大きい整数であり、前記多層膜（１０）は、立方晶構造を示しており、前記Ｂ層はタンタルを含み、前記Ａ層は前記Ｂ層より高い欠陥密度を示していることを特徴とする、被覆システム。
  2. 前記Ａ層及びＢ層の化学組成は、原子パーセントの係数を含む次の化学式で与えられる、請求項１に記載の被覆システム。
    Ａ層に対してはＭｅ１ １−ｘＡｌｘＮｚＸ１−ｚであり、及びＢ層に対してはＭｅ２ １−ｘ―ｙＡｌｘＴａｙＮｚＸ１−ｚであり、
    ここで、Ｍｅ１はＴｉ、Ｃｒ、Ｖ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｓｉ及びＷから一つ以上の元素であり、
    Ｍｅ２はＴｉ、Ｃｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｓｉ及びＷから一つ以上の元素であり、
    ＸはＯ、Ｃ、及びＢから一つ以上の元素であり、及び
    ０．２≦ｘ≦０．７、０．７≦ｚ≦１、０．０２≦ｙ≦０．８０である。
  3. 前記Ｂ層の厚さは、前記Ａ層の厚さより小さく：Ａ１＞Ｂ１、Ａ２＞Ｂ２、Ａ３＞Ｂ３、…Ａｎ＞Ｂｍである、請求項２に記載の被覆システム。
  4. 前記Ａ層の厚さは、前記Ｂ層の厚さより少なくとも１５％大きく：Ａ１≧１．１５Ｂ１、Ａ２≧１．１５Ｂ２、Ａ３≧１．１５Ｂ３、…Ａｎ≧１．１５Ｂｍである、請求項３に記載の被覆システム。
  5. 本体（１）、及び前記本体（１）の表面の少なくとも一部に堆積された請求項１から４のいずれか一項に記載の被覆システム（２０）を備えた被覆本体。
  6. 前記被覆システム（２０）の前記多層膜（１０）は、ＰＶＤ技術によって堆積されることを特徴とする、請求項４または５に記載の被覆本体。
  7. 前記多層膜（１０）の前記Ｂ層は、マグネトロンスパッタリングイオンプレーティング技術または高電離マグネトロンスパッタリング技術によって堆積されたことを特徴とする、請求項６に記載の被覆本体。
  8. 前記Ａ層は、アーク放電イオンプレーティング技術によって堆積されたことを特徴とする、請求項６または７に記載の被覆本体。
  9. 前記Ａ層及び／または前記Ｂ層は、ＰＶＤ技術によって前記基板上に堆積されたことを特徴とする、請求項５から８のいずれか一項に記載の被覆本体を製造する方法。
  10. 前記Ａ層及び／または前記Ｂ層を堆積することにおいて、物理気相堆積技術が使用されることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
  11. 窒素比率及び／または前記被覆システムの前記Ｘ要素に含まれる元素の少なくとも一つが、反応性気体から、または反応性気体混合物から、前記Ａ層及び／またはＢ層内にそれぞれ組み込まれることを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
  12. 前記多層膜（１０）、すなわち、前記Ａ層及びＢ層の両方は、アーク放電イオンプレーティング技術によって堆積されることを特徴とする、請求項９から１１のいずれか一項に記載の方法。
  13. 前記層Ａ及び層Ｂにおいて所望の欠陥密度を調節するために、コイル電流がそれに応じて調節されることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
  14. 前記Ａ層及び／またはＢ層を堆積するためのソース材料として使用される少なくとも一つのターゲットは、粉末冶金技術によって作られる、請求項９から１３のいずれか一項に記載の方法。
JP2019089963A 2012-09-08 2019-05-10 改善された熱安定性を示すチタン−アルミニウム−タンタルベースの被覆物 Pending JP2019143251A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021148118A JP7480098B2 (ja) 2012-09-08 2021-09-10 改善された熱安定性を示すチタン－アルミニウム－タンタルベースの被覆物

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102012017731.3A DE102012017731A1 (de) 2012-09-08 2012-09-08 Ti-Al-Ta-basierte Beschichtung mit einer verbesserten Temperaturbeständigkeit
DE102012017731.3 2012-09-08

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015530316A Division JP2015533936A (ja) 2012-09-08 2013-09-04 改善された熱安定性を示すチタン−アルミニウム−タンタルベースの被覆物

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021148118A Division JP7480098B2 (ja) 2012-09-08 2021-09-10 改善された熱安定性を示すチタン－アルミニウム－タンタルベースの被覆物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2019143251A true JP2019143251A (ja) 2019-08-29

Family

ID=49165708

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015530316A Pending JP2015533936A (ja) 2012-09-08 2013-09-04 改善された熱安定性を示すチタン−アルミニウム−タンタルベースの被覆物
JP2019089963A Pending JP2019143251A (ja) 2012-09-08 2019-05-10 改善された熱安定性を示すチタン−アルミニウム−タンタルベースの被覆物
JP2021148118A Active JP7480098B2 (ja) 2012-09-08 2021-09-10 改善された熱安定性を示すチタン－アルミニウム－タンタルベースの被覆物

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015530316A Pending JP2015533936A (ja) 2012-09-08 2013-09-04 改善された熱安定性を示すチタン−アルミニウム−タンタルベースの被覆物

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021148118A Active JP7480098B2 (ja) 2012-09-08 2021-09-10 改善された熱安定性を示すチタン－アルミニウム－タンタルベースの被覆物

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9506139B2 (ja)
EP (1) EP2893052B1 (ja)
JP (3) JP2015533936A (ja)
KR (2) KR102386800B1 (ja)
CN (1) CN105026605B (ja)
BR (1) BR112015005064A2 (ja)
DE (1) DE102012017731A1 (ja)
WO (1) WO2014037104A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022003168A (ja) * 2012-09-08 2022-01-11 エーリコン・サーフェス・ソリューションズ・アーゲー・プフェフィコン 改善された熱安定性を示すチタン−アルミニウム−タンタルベースの被覆物
JP7459450B2 (ja) 2022-05-17 2024-04-02 株式会社タンガロイ 被覆切削工具

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6491031B2 (ja) * 2014-06-24 2019-03-27 株式会社神戸製鋼所 積層型硬質皮膜および切削工具
CA2981151C (en) * 2015-12-14 2019-09-10 Alp Havacilik Sanayi Ve Ticaret Anonim Sirketi End-mills made of hard metal and ceramic combined by brazing method
DE102016112928A1 (de) * 2016-07-14 2018-01-18 Hoppe Holding Ag Verfahren zur Herstellung eines Bauteils mit einer Korrosionsschutzbeschichtung
DE102016112927A1 (de) * 2016-07-14 2018-02-01 Hoppe Holding Ag Bauteil mit Substrat und Korrosionsschutzbeschichtung
WO2018215558A1 (en) 2017-05-23 2018-11-29 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Thick TiAlTaN/AlCrN multilayer coating films on turbine components
US11298748B2 (en) * 2018-03-07 2022-04-12 Sumitomo Electric Hardmetal Corp. Surface coated cutting tool and method for manufacturing the same
JP7055961B2 (ja) * 2018-10-03 2022-04-19 住友電工ハードメタル株式会社 表面被覆切削工具及びその製造方法
CN110484870B (zh) * 2019-08-15 2021-08-24 广东工业大学 一种多组元氮化物硬质涂层及其制备方法和应用
CN114150282B (zh) * 2021-11-22 2022-08-09 苏州大学 一种纳米刀具涂层及其制备方法
WO2023143857A1 (en) 2022-01-31 2023-08-03 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon METHOD FOR PRODUCING A MXAl1-XN BASED THIN FILMS WITH INCREASED THERMAL STABILITY

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002137120A (ja) * 2000-10-31 2002-05-14 Mmc Kobelco Tool Kk 硬質被覆層がすぐれた切粉潤滑性を有する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具
JP2010111952A (ja) * 2010-02-05 2010-05-20 Kobe Steel Ltd 硬質皮膜およびその形成方法
JP2011224688A (ja) * 2010-04-16 2011-11-10 Mitsubishi Materials Corp 表面被覆切削工具
JP2012152852A (ja) * 2011-01-26 2012-08-16 Sumitomo Electric Hardmetal Corp 表面被覆切削工具およびその製造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3351054B2 (ja) 1993-02-16 2002-11-25 株式会社神戸製鋼所 耐酸化性および耐摩耗性に優れた硬質皮膜
JP3256024B2 (ja) 1993-05-21 2002-02-12 株式会社リケン 摺動部材
JPH07331410A (ja) 1994-06-02 1995-12-19 Kobe Steel Ltd 耐酸化性および耐摩耗性に優れた硬質皮膜
SE9701181D0 (sv) * 1997-03-27 1997-03-27 Sandvik Ab Multilayered coated cutting tool
KR100869956B1 (ko) * 2000-10-31 2008-11-21 미츠비시 마테리알 가부시키가이샤 고속도 공구강제 기어 절삭공구 및 그 제조방법
US6660133B2 (en) * 2002-03-14 2003-12-09 Kennametal Inc. Nanolayered coated cutting tool and method for making the same
SE526336C2 (sv) 2002-07-01 2005-08-23 Seco Tools Ab Skär med slitstark refraktär beläggning av MAX-fas
SE526339C2 (sv) 2002-09-04 2005-08-23 Seco Tools Ab Skär med slitstark refraktär beläggning med kompositstruktur
SE526338C2 (sv) 2002-09-04 2005-08-23 Seco Tools Ab Skär med utskiljningshärdad slitstark refraktär beläggning
AT8346U1 (de) * 2005-04-29 2006-06-15 Ceratitzit Austria Ges M B H Beschichtetes werkzeug
SE529223C2 (sv) 2005-05-06 2007-06-05 Seco Tools Ab Belagt skärverktyg innefattande hexagonal h-(Mel,Me2)Xfas
JP4720987B2 (ja) 2005-07-08 2011-07-13 三菱マテリアル株式会社 高反応性被削材の高速歯切加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具
JP5066880B2 (ja) 2006-09-27 2012-11-07 住友化学株式会社 乳剤組成物
DE102006046917C5 (de) * 2006-10-04 2014-03-20 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Kolbenring für Verbrennungskraftmaschinen
AT9999U1 (de) 2007-06-29 2008-07-15 Ceratizit Austria Gmbh Al-ti-ru-n-c hartstoffschicht
DE102007030734A1 (de) * 2007-07-02 2009-01-08 Walter Ag Beschichtetes Werkzeug
WO2009105024A1 (en) 2008-02-21 2009-08-27 Seco Tools Ab Multilayered coated cutting tool
TWI374613B (en) 2008-02-29 2012-10-11 Ind Tech Res Inst Method and apparatus of pre-encoding and pre-decoding
DE102012017731A1 (de) * 2012-09-08 2014-03-13 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Ti-Al-Ta-basierte Beschichtung mit einer verbesserten Temperaturbeständigkeit

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002137120A (ja) * 2000-10-31 2002-05-14 Mmc Kobelco Tool Kk 硬質被覆層がすぐれた切粉潤滑性を有する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具
JP2010111952A (ja) * 2010-02-05 2010-05-20 Kobe Steel Ltd 硬質皮膜およびその形成方法
JP2011224688A (ja) * 2010-04-16 2011-11-10 Mitsubishi Materials Corp 表面被覆切削工具
JP2012152852A (ja) * 2011-01-26 2012-08-16 Sumitomo Electric Hardmetal Corp 表面被覆切削工具およびその製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022003168A (ja) * 2012-09-08 2022-01-11 エーリコン・サーフェス・ソリューションズ・アーゲー・プフェフィコン 改善された熱安定性を示すチタン−アルミニウム−タンタルベースの被覆物
JP7459450B2 (ja) 2022-05-17 2024-04-02 株式会社タンガロイ 被覆切削工具

Also Published As

Publication number Publication date
JP7480098B2 (ja) 2024-05-09
DE102012017731A1 (de) 2014-03-13
EP2893052A1 (en) 2015-07-15
KR102386800B1 (ko) 2022-04-14
BR112015005064A2 (pt) 2017-07-04
KR20150048884A (ko) 2015-05-07
EP2893052B1 (en) 2022-12-07
JP2015533936A (ja) 2015-11-26
KR20210054602A (ko) 2021-05-13
WO2014037104A1 (en) 2014-03-13
CN105026605B (zh) 2018-01-26
US9506139B2 (en) 2016-11-29
CN105026605A (zh) 2015-11-04
JP2022003168A (ja) 2022-01-11
US20150259782A1 (en) 2015-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7480098B2 (ja) 改善された熱安定性を示すチタン－アルミニウム－タンタルベースの被覆物
CN101254673B (zh) 硬质叠层被膜
KR101979041B1 (ko) 고성능 공구용 나노층 코팅
CN100419117C (zh) 硬质叠层被膜、其制造方法及成膜装置
RU2528602C2 (ru) Способ изготовления слоев оксида металла заранее заданной структуры посредством испарения электрической дугой
JP5043908B2 (ja) 微細結晶硬質皮膜の形成方法
WO2020234484A1 (en) Pvd coatings comprising multi-anion high entropy alloy oxy-nitrides
CN111757948A (zh) 具有增强热稳定性的Al-Cr基陶瓷涂层
KR102219393B1 (ko) 개선된 코팅 특성을 갖는 아크 증착된 Al-Cr-O 코팅들
JP4452089B2 (ja) 耐摩耗性に優れた硬質皮膜およびその製造方法
Ag US20150259782 A1
JP6757793B2 (ja) Ｈｆ−ｂ−ｃの三元相を含んでなる新規コーティング材料
JPH1096077A (ja) 傾斜機能薄膜およびその製造方法
CN112930417A (zh) 用钛和/或硅微合金化的钒铝氮化物(VAlN)

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190523

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190523

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190719

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200629

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20200929

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201130

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210510