KR20150048884A - 향상된 열적 안정성을 나타내는 Ti-Al-Ta 계 코팅 - Google Patents

향상된 열적 안정성을 나타내는 Ti-Al-Ta 계 코팅 Download PDF

Info

Publication number
KR20150048884A
KR20150048884A KR1020157008622A KR20157008622A KR20150048884A KR 20150048884 A KR20150048884 A KR 20150048884A KR 1020157008622 A KR1020157008622 A KR 1020157008622A KR 20157008622 A KR20157008622 A KR 20157008622A KR 20150048884 A KR20150048884 A KR 20150048884A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layers
deposited
methods
coating
coating system
Prior art date
Application number
KR1020157008622A
Other languages
English (en)
Inventor
리차드 라치바우어
로버트 홀러웨거
크리스티안 마르틴 콜러
파울 하인즈 마이어호퍼
Original Assignee
오를리콘 서피스 솔루션스 아크티엔게젤샤프트, 트뤼프바흐
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오를리콘 서피스 솔루션스 아크티엔게젤샤프트, 트뤼프바흐 filed Critical 오를리콘 서피스 솔루션스 아크티엔게젤샤프트, 트뤼프바흐
Priority to KR1020217013547A priority Critical patent/KR102386800B1/ko
Publication of KR20150048884A publication Critical patent/KR20150048884A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0617—AIII BV compounds, where A is Al, Ga, In or Tl and B is N, P, As, Sb or Bi
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325—Electric arc evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3435—Applying energy to the substrate during sputtering
    • C23C14/345—Applying energy to the substrate during sputtering using substrate bias
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/042—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material including a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxides, ZrO2, rare earth oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/42—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by the composition of the alternating layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/40—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/44—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by a measurable physical property of the alternating layer or system, e.g. thickness, density, hardness
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)

Abstract

본 발명은 n개의 A 층들 및 m개의 B 층들로 구성된 탄탈륨을 포함하는 다층 박막을 포함하는 내마모 코팅 시스템에 관한 것으로, n 및 m은 1 이상의 정수들이고, 서로에 상부에 하나씩 교호로 증착되며, 다층 박막은 결정질 입방 구조이고, B 층들은 탄탈륨을 포함하고, A 층들은 B 층들보다 더 높은 결함 밀도를 나타낸다.

Description

향상된 열적 안정성을 나타내는 Ti-Al-Ta 계 코팅{Ti-Al-Ta-BASED COATING EXHIBITING ENHANCED THERMAL STABILITY}
본 발명은 청구항 1항 내지 4항 중 어느 한 항에 의해 기술되는 특징들을 갖는, 특히 마찰공학 시스템들에 사용되는 공구들 및 부품들과 같은 본체들의 마모 보호에 사용되는 내마모 코팅 시스템(20)에 관한 것이다. 특히, 이러한 코팅 시스템은 상승된 온도에 노출된 이후에 우수한 경도 및 우수한 내산화성을 갖는다. 또한, 본 발명은 청구항 5항 내지 8항 중 어느 한 항에 의해 기술되는 특징들을 나타내는 코팅 본체(1) 및 청구항 9항 내지 14항 중 어느 한 항에 의해 기술되는 특징들을 포함하는 코팅 본체(1)의 제조방법에 관한 것이다.
티타늄 알루미늄 질화물(TiAlN) 코팅은 공구들 및 부품들의 마모 보호용으로 정착된 코팅들이다. 대개, TiAlN 코팅은 물리 기상 증착(PVD) 방법들에 의해 기판상에 증착된다. TiAlN 코팅 시스템들은 이들의 마모 저항 특성들과 열적 안정성의 매우 우수한 조합으로 인하여, 매우 잘 연구되고 있다. 이러한 유형의 코팅들의 열적 안정성에 있어 Al 함량의 영향에 대하여 특히 주목된다.
또한, 기본적으로 다른 원소들로 도핑된(doped) TiAlN 계 코팅들의 다수의 변형들도 잘 연구되었다. 이러한 모든 도핑된 TiAlN 코팅들은 알려진 응용들에 대하여 장점들을 갖는다.
많은 특허 문헌들에 탄탈륨으로 TiAlN 코팅들을 도핑하여 얻어지는 이점에 대하여 보고되어 왔다. 예를 들어, US7521132B2에 코팅이 (TiaAlbTac)N,a+b+c=l; 0.3<b<0.75; 0.001<c<0.30의 조성을 갖는 하나 이상의 코팅층 및 (TidAleTafMg)N, d+e+f+g=l; 0.50<e<0.70; 0<f<0.25이고, M은 Si, V, B로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 원소들로서, Si의 경우: 0.0005<g<0.10; V의 경우: 0.001<g≤0.25 및 B의 경우: 0.00005<g<0.01의 조성을 갖는 하나 이상의 코팅층을 포함하는 코팅 공구가 개시된다. 또한, 동일한 특허 문헌에 Al (30 내지 75 원자%), Ta (0.1 내지 30 원자%) 및 잔여 Ti로 구성된 공구를 코팅하기 위한 스퍼터링 타겟이 개시된다. 또한, Al, Ta, Ti 및 적어도 Si, V 또는 B로 구성된 공구를 코팅하기 위한 스퍼터링 타겟이 개시된다.
유사하게 Ti-Al-Ta-N를 포함하는 단일층 및 다중층 코팅 시스템들이 WO2009003206, WO2009105024, EP2096811, EP1722009, EP1378304, EP1400609, EP1452621, EP1378304, JP7331410, JP7026386, JP6330347 및 JP2007015071에 개시된다.
그러나, 이러한 개발들 및 연구들에도 불구하고, 개선의 필요성이 여전히 요구된다.
특히, 절삭 공구들의 보호 및 절삭 성능을 향상시키기 위하여, 최근 요구들에 부응하는 강인성(toughness) 및 열적 안정성의 충분히 우수한 조합을 얻기 위한 과제가 남아 있다.
본 발명의 주요 목적은 매우 우수한 강인성 및 열적 안정성을 동시에 갖는 코팅 시스템을 제공하는 것이다. 특히, 이러한 코팅 시스템은 상승 온도에 노출된 이후 우수한 경도 및 우수한 내산화성을 갖는다. 또한, 본 발명의 목적은 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 주요 목적은 도 1에 개략적으로 도시된 바와 같이, 서로 교차하여 증착되고, A 층들(4, Al, A2, A3, ... An) 및 B 층들(8, Bl, B2, B3, ... Bm)로 구성된 탄탈륨을 포함하는 다층 박막(10)을 포함하는 내마모 코팅 시스템(20)을 제공하는 것에 의해 달성된다.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 의한 다층 박막을 포함하는 내마모 코팅 시스템의 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 구현예에 의한 아크 이온 플레이팅 및 마그네트론 스퍼터링 이온 플레이팅에 사용된 코팅 파라미터들을 도시한 도면이다.
도 3 내지 5는 단일층 코팅들(모놀리식으로 성장한 코팅들)의 특성들을 특징 짓고 분석하기 위해 수행된 실험적 테스트들의 결과가 도시된 도면이다.
도 6 내지 8은 다중층 구조를 갖는 코팅들의 특성들을 특징 짓고 분석하기 위해 수행된 실험적 테스트들의 결과가 도시된 도면이다.
도 9는 TiAlN로 구성되고 미립자(fine-grained) 구조를 나타내는 약 1 마이크로미터 두께의 A-층, TiAlTaN로 구성되고 주상결정립(columnar-grained) 구조를 나타내는 약 1 마이크로미터 두께의 B-층 및 언급된 유형의 A- 및 B-층들 수 개를 포함하는 약 1 마이크로미터 두께의 다층 박막을 X-선 방법들을 사용하여 평가한 X-선 스펙트럼이다.
본 발명의 주요 목적은 도 1에 개략적으로 도시된 바와 같이, 서로 교차하여 증착되고, A 층들(4, Al, A2, A3, ... An) 및 B 층들(8, Bl, B2, B3, ... Bm)로 구성된 탄탈륨을 포함하는 다층 박막(10)을 포함하는 내마모 코팅 시스템(20)을 제공하는 것에 의해 달성된다.
다층 박막(10)은 다결정 입방 구조(crystalline cubic structure)를 나타내고 A 층들은 B 층들보다 더 높은 결함 빈도(defect density)를 나타낸다.
특히, B 층들이 탄탈륨을 포함하면 우수한 결과가 얻어진다.
본 발명자들은 다층 코팅들의 서로 다른 조합들을 분석하고 이들을 단일층 코팅들과 비교하였다.
실험들을 위하여(실험들에 대한 구체적인 정보는 도 2 내지 8에 제공됨), 티타늄 알루미늄 질화물 및 티타늄 알루미늄 탄탈륨 질화물 단일층 코팅들(또한, 본 발명의 내용에서 모놀리식(monolithic) 코팅 들로 칭해짐)이 합금 타겟으로부터 이온 플레이팅 방법들(arc ion plating techniques)에 의해 증착되었다. 실험들을 위해, Ti0.5Al0.5, Ti0.45Al0.45Ta0.1 및 Ti0.3Al0.6Ta0.1의 화학 조성을 갖는 합금 타겟들이 사용되었다.
부가적으로, A 및 B를 포함하는 다층 코팅 시스템들이 증착되었다. 실험들을 위해, A 층들은 화학 조성 Ti0.5Al0.5를 갖는 티타늄 알루미늄 복합체 타겟들로부터 증착되고, B 층들은 화학 조성 Ta0.75Al0.25를 갖는 탄탈륨 알루미늄 복합체 타겟들로부터 증착되었다.
결함 빈도를 다르게하기 위하여, 두 개의 서로 다른 PVD 방법들이 사용되었다: 아크 이온 플레이팅 및 마그네트론 스퍼터링 이온 플레이팅. 사용된 코팅 파라미터들은 도 2에 도시된다.
아크 이온 플레이팅 증착 방법들만을 사용하여, 층들 A 및 B가 서로 다른 결함 빈도들을 얻기 위한 가능한 다른 방법은, 예를 들어, 각각의 경우에 코일 전류를 적용시키는 것이다.
고-해상도 투과전자현미경(HRTEM) 방법들이 층들 A 및 B의 결함 밀도를 측정하기 위해 사용될 수 있다.
바람직하게, A 및 B의 화학 조성은 원자 퍼센티지(atomic percentage)로 하기 계수를 갖는 식들로 주어진다.
A 층들에 대하여, Me1 1-xAlxNzX1-z 및 B 층들에 대하여, Me2 1-x-yAlxTayNzX1-z이고;
Me1 은 Ti, Cr, V, Ta, Nb, Zr, Hf, Mo, Si 및 W로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 원소이고;
Me2 는 Ti, Cr, V, Nb, Zr, Hf, Mo, Si 및 W로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 원소이고;
X 는 O, C 및 B로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 원소이고;
0.2 ≤ x ≤ 0.7, 0.7 ≤ z ≤ 1, 0.02 ≤ y ≤ 0.80
B 층들의 두께가 A 층들의 두께보다 더 작을 때 더 우수한 열적 안정성이 측정되었다: Al > B 1 , A2 > B2, A3 > B3 ... An > Bm.
바람직하게, 본 발명에 의한 코팅 본체(1)는 PVD 방법들을 사용하여 증착된다.
본 발명의 바람직한 구현예에서, 코팅 시스템(20)은 아크 이온 플레이팅 방법들에 의해 증착된다.
본 발명의 다른 바람직한 구현예에서, 코팅 시스템(20), A 층들(4)은 아크 이온 플레이팅 방법들에 의해 증착되고, B 층들(8)은 스퍼터링 방법들에 의해 증착된다.
또한, 본 발명은 본 발명에 의한 코팅 시스템(20)으로 코팅된 본체(1)를 제조하는 방법에 관련된다.
본 발명의 일 구현예에서, 코팅 본체(1)는 물리 기상 증착 방법들에 의해 코팅된다.
본 발명에 의한 방법의 바람직한 구현예에서 사용된 물리 기상 증착 방법들은 아크 이온 플레이팅 증착 방법들, 특히 반응성 아크 이온 플레이팅 증착 방법들이다.
본 발명에 의한 방법의 다른 바람직한 구현예에서, 층들 A 및 B 내의 바람직한 결함 밀도를 조절하기 위하여 코일 전류가 상응하여 조절된다.
본 발명에 의한 방법의 또 하나의 바람직한 구현예에서, 물리 기상 증착 방법들은 스퍼터링 또는 고-전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링(high-power impulse magnetron sputtering (HIPIMS))과 같은 고 이온화 마그네트론 스퍼터링 방법들, 특히 반응성 스퍼터링 증착(rsd) 방법들이다.
바람직하게, 적어도 일부의 경우에서, 본 발명에 의한 방법들은 분말 야금(powder metallurgy) 방법들에 의해 제조된 A 및/또는 B 층들의 증착을 위한 적어도 하나의 타겟(원료 물질)의 사용에 관련된다.
본 발명의 다른 구현예에서, 코팅 시스템(20)은 다층 박막(10)에 추가적으로 하나 이상의 층을 포함하는데, 예를 들어, 하나 이상의 접착 향상층들(2) 및/또는 다층 박막(10)의 상부에 증착된 하나 이상의 층(12)을 포함한다. 하나 이상의 층(12)은 예를 들어, 마찰 감소 특성들 및/또는 특히 컬러 특성들(color properties)을 갖는 상부층일 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에서, A 층들 및 B 층들의 각각의 두께는 바람직하게 3nm와 300nm 사이이고, 보다 바람직하게 3nm와 100nm 사이이다.
바람직하게, 반응 기체로부터 질소 및/또는 X(만일 주어진다면)를 포함하는 하나 이상의 원소가 다층 박막(10) 내에 통합된다.
도 3 내지 5는 단일층 코팅들(모놀리식으로 성장한 코팅들)의 특성들을 특징 짓고 분석하기 위해 수행된 실험적 테스트들의 결과가 도시된 도면이고, 도 6 내지 8은 다중층 구조를 갖는 코팅들의 특성들을 특징 짓고 분석하기 위해 수행된 실험적 테스트들의 결과가 도시된 도면이다.
산화 거동을 연구하기 위하여, 도 5 및 8의 주사전자현미경사진(scanning electron micrographs)으로 관찰되고 또한 특징지워진 코팅들의 원소 조성 분석에 의해 검출된 CrN 층은 분석을 위한 샘플들(samples)을 준비하기 위해 산화 공정 이후에 증착되었다.
도 4 및 도 7에 도시된 경도 및 X-선 회절(XRD) 스펙트럼들은 코팅들의 열적 안정성을 분석하기 위해 각각 어닐링(annealing) 공정 이후에 실온에서 측정되었다.
증착 이후 모놀리식으로 성장한 Ti0.54Al0.46N 및 Ti0.45Al0.36Ta0.19N 코팅들의 XRD 스펙트럼을 분석하면, 이들은 입방 구조인 반면, Ti0.31Al0.50Ta0.19N 코팅들은 이미 혼합된 입방정계/육방정계(c/w)상 구조이다. 그러나, 다층 구조 TiAlN/TaAlN을 갖는 증착된 모든 코팅들, 즉, 아크 증발 방법들(TiAlNarc/TaAlNarc)을 사용하여 증착된 코팅들 및 하이브리드 아크/스퍼터 방법들(TiAlNarc/TaAlNrsd)을 사용하여 증착된 코팅들 모두 (XRD 스펙트럼에 의하면) 증착 이후에 입방 구조를 나타낸다. 이러한 실험들에 대하여, TaAlN 층들이 TaAlN 층들보다 더 높은 결함 밀도를 갖는 다층 코팅들을 얻기 위하여 TiAlNarc/TaAlNarc 코팅들은 증착되지 않는다. 그러나, TiAlNarc/TaAlNrsd의 경우에, TiAlN 층들보다 더 낮은 결함 밀도를 갖는 TaAlN 층들을 제조하도록 의도된다.
열적 안정성과 관련하여, 어닐링 공정들(도 7에 좌측 하단에 도시된 바와 같이) 이후에 측정된 경도를 고려할 때 다층 Ti0.5Al0.5arc/Ta0.75Al0.25arc 코팅들은 시효 경화(age hardening behavior) 거동과 관련하여 가장 우수한 열적 안정성을 나타내지만, 도 8 좌측에 도시된 바와 같이 내산화성과 관련하여는 열적 안정성이 좋지 않았다. 이러한 코팅들은 850℃에서 20 시간 이후에 완전히 산화되었다. 한편, 모놀리식으로 성장한 Ti0.45Al0.36Ta0.19N 코팅들 및 하이브리드 증착된 Ti0.5Al0.5arc/Ta0.75Al0.25rsd 다층 코팅들은 유사하게 우수한 열적 안정성을 나타내었다. 어닐링 공정 이후에 측정된 경도와 관련하여 이러한 유형의 코팅 모두가 (도 4 및 도 7 우측 하단에 도시된 바와 같이) 상대적으로 우수한 시효 경과 거동 및 (도 5 및 도 8의 우측에 도시된 바와 같이) 내산화성과 관련하여 매우 우수한 열적 안정성을 나타내었다.
결정질 PVD-증착된 층들은 실제로 하나 이상의 (통상 여러 개) 결정립들(crystalline grains)을 포함하는 다결정질 층들이다. 결정립들의 성장 방향은 층 모폴로지(morphology)를 결정한다. 서로 다른 모폴로지들은 서로 다른 크기의 결함들을 포함하는 것으로 특징지워진다.
본 발명에서 용어 '결함 빈도'는 특히 A- 또는 B- 층 내부에서 입자(grain)의 결정 영역 또는 부피 내에 포함되는 결함들에 대응되는 영역 또는 부피를 칭한다.
본 발명에서 결함 빈도는 무질서한 입자 경계 상(phase)의 개별적인 상의 부분들로부터 유래하는 미세한 점-, 선- 및 영역- 결함들(예를 들어, 공간들, 사이들(interstitials), 변위들(dislocations), 적층 흠들(stacking faults))과 필수적으로 연관된다. 본 발명에 의한 층들 A 및 B의 결함 밀도는 예를 들어, X-선 회절(XRD) 및/또는 투과전자현미경(TEM)을 사용하여 측정될 수 있다.
일예로서, TiAlN로 구성되고 미립자(fine-grained) 구조를 나타내는 약 1 마이크로미터 두께의 A-층, TiAlTaN로 구성되고 주상결정립(columnar-grained) 구조를 나타내는 약 1 마이크로미터 두께의 B-층 및 언급된 유형의 A- 및 B-층들 수 개를 포함하는 약 1 마이크로미터 두께의 다층 박막이 X-선 방법들을 사용하여 평가되었다. 얻어진 X-선 스펙트럼들이 도 9에 도시된다.
평가된 층 A의 X-선 스펙트럼은 넓은 XRD 신호 52<2세타<60°에 의해 특징지워진다. 전형적으로, 본 발명에 의하면 단일층들 A는 우세한 (002)-배향을 나타낸다. 반대로, 평가된 층 B의 X-선 스펙트럼은 동일한 2세타 범위에서 XRD 신호를 미싱(missing)하는 것에 의해 특징지워지는데, 이는 층 A와 비교하여 적은 양의 입자 경계 상을 지시하고 따라서 본 발명에서 낮은 결함 밀도를 지시한다.
수행된 X-선 평가들에 의하면, 평가된 층 A의 구조는 나노미터-크기 입자들(입자 크기 <15nm)를 포함하고, 따라서 결함이 많은(defect-rich) 입자 경계 상 부분을 나타낸다.
또한, 도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 서로의 상부에 하나씩 교호로 증착된 층들 A 및 B를 포함하는 다층 박막의 전형적인 XRD 패턴은 우세한 (002)-배향을 나타내고 또한 임의의 양의 입자 경계 신호(grain boundary signal)를 나타낼 수 있다.
A 층들 및 B 층들의 각각의 두께는 상술한 바람직한 구현예들에 의해 제한되는 것이 아니고 예를 들어, 임의의 응용들에서 3 nm와 3000nm 사이 또는 3 nm와 500 nm 사이일 수 있다.
임의의 응용들에서 A 층들의 각각의 두께는 바람직하게 A 층들에 교호로 증착되는(다층 구조를 형성), 대응하는 B 층들의 각각의 두께보다 약 15% 더 큰데, 즉, Al-층 두께 ≥ 1.15 B1-층 두께, A2-층 두께 ≥ 1.15 B2-층 두께, …, An-층 두께 ≥ 1.15 Bm-층 두께이다.
본 발명의 다른 바람직한 구현예에서, A 층들의 각각의 두께는 A 층들에 교호로 증착되는, 대응하는 B 층들의 각각의 두께보다 약 25% 더 크다.
본 발명의 또 다른 바람직한 구현예에서, A 층들의 각각의 두께는 A 층들에 교호로 증착되는, 대응하는 B 층들의 각각의 두께보다 30% 내지 50% 더 크다.
본 발명에 의한 내마모 코팅 시스템(20)의 개념을 요약하면, n개의 A 층들(4) 및 m개의 B 층들(8)로 구성된 탄탈륨을 포함하는 다층 박막(10)을 포함하되, 상기 n 및 m은 1 이상의 정수들이고, 서로의 상부에 하나씩 교호로 증착되며, 상기 다층 박막(10)은 결정질 입방 구조이고, 상기 B 층들은 탄탈륨을 포함하고, 상기 A 층들은 B 층들보다 더 높은 결함 밀도를 나타낸다.
코팅 시스템에서 A 및 B 층들의 화학 조성은 바람직하게 원자 퍼센티지로 하기 계수를 갖는 화학식으로 주어진다:
A 층들에 대하여, Me1 1-xAlxNzX1-z 및 B 층들에 대하여, Me2 1-x-yAlxTayNzX1-z이고;
Me1 은 Ti, Cr, V, Ta, Nb, Zr, Hf, Mo, Si 및 W로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 원소이고;
Me2 는 Ti, Cr, V, Nb, Zr, Hf, Mo, Si 및 W로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 원소이고;
X 는 O, C 및 B로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 원소이고;
0.2 ≤ x ≤ 0.7, 0.7 ≤ z ≤ 1, 0.02 ≤ y ≤ 0.80
B 층들의 두께는 바람직하게 A 층들의 두께보다 더 작다: Al > B 1 , A2 > B2, A3 > B3 ... An > Bm.
바람직하게, A 층들의 두께는 B 층들의 두께보다 적어도 15% 더 크다: Al ≥ 1.15 B1, A2 ≥ 1.15 B2, A3 ≥ 1.15 B3,…, An ≥ 1.15 Bm.
본 발명은 또한 본체(1) 및 본체(1) 표면의 적어도 일부에 증착될 수 있는, 본 발명의 코팅 시스템(20)을 포함하는 코팅 본체를 개시한다.
본 발명에 의한 코팅 본체 내에 포함되는 코팅 시스템(20)의 다층 박막(10)은 바람직하게 PVD 방법들에 의해 증착된다.
다층 박막(10)의 B 층들은 마그네트론 스퍼터링 이온 플레이팅 방법들 또는 고 이온화 마그네트론 스퍼터링 방법들에 의해 증착될 수 있다.
A 층들은 아크 이온 플레이팅 방법들에 의해 증착될 수 있다.
본 발명에 의한 코팅 본체를 제조하는 바람직한 방법은 PVD 방법들에 의해 기판 상에 A 층들 및/또는 B 층들을 증착하는 것에 관련된다.
바람직하게, 반응성 물리 기상 증착 방법들이 A 층들 및/또는 B 층들을 증착하는데 사용된다.
바람직하게, 질소 분율(nitrogen fraction) 및/또는 코팅 시스템의 X 성분에 포함되는 하나 이상의 원소들이 각각의 A 및/또는 B 층들 내의 반응 기체 또는 반응 기체 혼합물로부터 통합된다.
다층 박막(10), 즉, A- 및 B- 층들 모두는 아크 이온 플레이팅 방법들에 의해 증착될 수 있다.
이 경우, 층들 A 및 B 내의 바람직한 결함 밀도는 상응하는 코일 전류를 조절하는 것에 의해 조절될 수 있다.
바람직하게, A- 및/또는 B- 층들을 증착하기 위한 원료 물질로 사용된 하나 이상의 타겟은 분말 야금 방법들에 의해 제조된다.

Claims (14)

  1. n개의 A 층들(4) 및 m개의 B 층들(8)로 구성된, 탄탈륨을 포함하는 다층 박막(multilayered film)(10)을 포함하되, 상기 n 및 m은 1 이상의 정수들이고, 서로의 상부에 하나씩 교호로 증착되며, 상기 다층 박막(10)은 결정질 입방 구조(crystalline cubic structure)이고, 상기 B 층들은 탄탈륨을 포함하고, 상기 A 층들은 상기 B 층들보다 더 높은 결함 밀도(defect density)를 나타내는 것을 특징으로 하는 내마모 코팅 시스템(20).
  2. 제 1항에 있어서, 상기 A 및 B 층들의 화학 조성은 원자 퍼센티지(atomic percentage)로 하기의 계수를 갖는 화학식으로 표시되는 것을 특징으로 하는 코팅 시스템.
    A 층들에 대하여, Me1 1-xAlxNzX1-z 및 B 층들에 대하여, Me2 1-x-yAlxTayNzX1-z이고;
    Me1 은 Ti, Cr, V, Ta, Nb, Zr, Hf, Mo, Si 및 W로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 원소이고;
    Me2 는 Ti, Cr, V, Nb, Zr, Hf, Mo, Si 및 W로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 원소이고;
    X 는 O, C 및 B로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 원소이고;
    0.2 ≤ x ≤ 0.7, 0.7 ≤ z ≤ 1, 0.02 ≤ y ≤ 0.80 이다.
  3. 제 2항에 있어서, B 층들의 두께는 A 층들의 두께보다 더 작은 것(Al > B 1 , A2 > B2, A3 > B3 ... An > Bm)을 특징으로 하는 코팅 시스템.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 A 층들의 두께는 B 층들의 두께보다 적어도 15% 더 큰 것(Al ≥ 1.15 B1, A2 ≥ 1.15 B2, A3 ≥ 1.15 B3,…, An ≥ 1.15 Bm)을 특징으로 하는 코팅 시스템.
  5. 본체(body)(1) 및 본체(1) 표면의 적어도 일부에 증착되는 청구항 1항 내지 4항 중 어느 한 항에 의한 코팅 시스템(20)을 포함하는 코팅 본체.
  6. 청구항 제 4항 또는 5항에 있어서, 코팅 시스템(20)의 다층 박막(10)은 PVD 방법들에 의해 증착되는 것을 특징으로 하는 코팅 본체.
  7. 제 6항에 있어서, 상기 다층 박막(10)의 B 층들은 마그네트론 스퍼터링 이온 플레이팅(magnetron sputtering ion plating) 방법들 또는 고 이온화 마그네트론 스퍼터링(high ionization magnetron sputtering) 방법들에 의해 증착되는 것을 특징으로 하는 코팅 본체.
  8. 제 6항 또는 7항에 있어서, 상기 A 층들은 아크 이온 플레이팅(arc ion plating) 방법들에 의해 증착되는 것을 특징으로 하는 코팅 본체.
  9. 제 5항 내지 8항 중 어느 한 항에 의한 코팅 본체를 제조하는 방법으로서, 기판 상에 A 층들 및/또는 B 층들을 PVD 방법들에 의해 증착하는 것을 특징으로 하는 코팅 본체를 제조하는 방법.
  10. 제 9항에 있어서, A 층들 및/또는 B 층들을 증착하는데 반응성 물리 기상 증착(reactive physical vapor deposition) 방법들이 사용되는 것을 특징으로 하는 코팅 본체를 제조하는 방법.
  11. 제 10항에 있어서, 질소 분율(nitrogen fraction) 및/또는 코팅 시스템의 X 성분에 포함되는 하나 이상의 원소들이 각각의 A 및/또는 B 층들 내의 반응 기체 또는 반응 기체 혼합물로부터 통합되는(incorporated) 것을 특징으로 하는 코팅 본체를 제조하는 방법.
  12. 제 9항 내지 11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 다층 박막(10), 즉, A- 및 B- 층들 모두는 아크 이온 플레이팅(arc ion plating) 방법들에 의해 증착되는 것을 특징으로 하는 코팅 본체를 제조하는 방법.
  13. 제 12항에 있어서, 상기 층들 A 및 B 내의 바람직한 결함 밀도를 조절하기 위하여 상응하는 코일 전류가 조절되는 것을 특징으로 하는 코팅 본체를 제조하는 방법.
  14. 제 9항 내지 13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 A- 및/또는 B- 층들을 증착하기 위한 원료 물질로 사용된 하나 이상의 타겟은 분말 야금(powder metallurgy) 방법들에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 코팅 본체를 제조하는 방법.
KR1020157008622A 2012-09-08 2013-09-04 향상된 열적 안정성을 나타내는 Ti-Al-Ta 계 코팅 KR20150048884A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020217013547A KR102386800B1 (ko) 2012-09-08 2013-09-04 향상된 열적 안정성을 나타내는 Ti-Al-Ta 계 코팅

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102012017731.3A DE102012017731A1 (de) 2012-09-08 2012-09-08 Ti-Al-Ta-basierte Beschichtung mit einer verbesserten Temperaturbeständigkeit
DE102012017731.3 2012-09-08
PCT/EP2013/002658 WO2014037104A1 (en) 2012-09-08 2013-09-04 Ti-al-ta-based coating exhibiting enhanced thermal stability

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020217013547A Division KR102386800B1 (ko) 2012-09-08 2013-09-04 향상된 열적 안정성을 나타내는 Ti-Al-Ta 계 코팅

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20150048884A true KR20150048884A (ko) 2015-05-07

Family

ID=49165708

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020217013547A KR102386800B1 (ko) 2012-09-08 2013-09-04 향상된 열적 안정성을 나타내는 Ti-Al-Ta 계 코팅
KR1020157008622A KR20150048884A (ko) 2012-09-08 2013-09-04 향상된 열적 안정성을 나타내는 Ti-Al-Ta 계 코팅

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020217013547A KR102386800B1 (ko) 2012-09-08 2013-09-04 향상된 열적 안정성을 나타내는 Ti-Al-Ta 계 코팅

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9506139B2 (ko)
EP (1) EP2893052B1 (ko)
JP (3) JP2015533936A (ko)
KR (2) KR102386800B1 (ko)
CN (1) CN105026605B (ko)
BR (1) BR112015005064A2 (ko)
DE (1) DE102012017731A1 (ko)
WO (1) WO2014037104A1 (ko)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012017731A1 (de) * 2012-09-08 2014-03-13 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Ti-Al-Ta-basierte Beschichtung mit einer verbesserten Temperaturbeständigkeit
JP6491031B2 (ja) * 2014-06-24 2019-03-27 株式会社神戸製鋼所 積層型硬質皮膜および切削工具
US11090739B2 (en) * 2015-12-14 2021-08-17 Alp Havacilik Sanayi Ve Ticaret Anonim Sirketi End-mills made of hard metal and ceramic combined by brazing method
DE102016112928A1 (de) * 2016-07-14 2018-01-18 Hoppe Holding Ag Verfahren zur Herstellung eines Bauteils mit einer Korrosionsschutzbeschichtung
DE102016112927A1 (de) * 2016-07-14 2018-02-01 Hoppe Holding Ag Bauteil mit Substrat und Korrosionsschutzbeschichtung
EP3631040B1 (en) * 2017-05-23 2023-10-25 Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon Thick tialtan/alcrn multilayer coating films on turbine components
WO2019171648A1 (ja) * 2018-03-07 2019-09-12 住友電工ハードメタル株式会社 表面被覆切削工具及びその製造方法
WO2020070967A1 (ja) * 2018-10-03 2020-04-09 住友電工ハードメタル株式会社 表面被覆切削工具及びその製造方法
CN110484870B (zh) * 2019-08-15 2021-08-24 广东工业大学 一种多组元氮化物硬质涂层及其制备方法和应用
CN114150282B (zh) * 2021-11-22 2022-08-09 苏州大学 一种纳米刀具涂层及其制备方法
WO2023143857A1 (en) 2022-01-31 2023-08-03 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon METHOD FOR PRODUCING A MXAl1-XN BASED THIN FILMS WITH INCREASED THERMAL STABILITY
JP7459450B2 (ja) 2022-05-17 2024-04-02 株式会社タンガロイ 被覆切削工具

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3351054B2 (ja) 1993-02-16 2002-11-25 株式会社神戸製鋼所 耐酸化性および耐摩耗性に優れた硬質皮膜
JP3256024B2 (ja) 1993-05-21 2002-02-12 株式会社リケン 摺動部材
JPH07331410A (ja) 1994-06-02 1995-12-19 Kobe Steel Ltd 耐酸化性および耐摩耗性に優れた硬質皮膜
SE9701181D0 (sv) * 1997-03-27 1997-03-27 Sandvik Ab Multilayered coated cutting tool
EP1683875B1 (en) * 2000-10-31 2010-05-19 Mitsubishi Materials Corporation High-speed tool steel gear cutting tool
JP3543755B2 (ja) * 2000-10-31 2004-07-21 三菱マテリアル神戸ツールズ株式会社 硬質被覆層がすぐれた切粉潤滑性を有する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具
US6660133B2 (en) * 2002-03-14 2003-12-09 Kennametal Inc. Nanolayered coated cutting tool and method for making the same
SE526336C2 (sv) 2002-07-01 2005-08-23 Seco Tools Ab Skär med slitstark refraktär beläggning av MAX-fas
SE526339C2 (sv) 2002-09-04 2005-08-23 Seco Tools Ab Skär med slitstark refraktär beläggning med kompositstruktur
SE526338C2 (sv) 2002-09-04 2005-08-23 Seco Tools Ab Skär med utskiljningshärdad slitstark refraktär beläggning
AT8346U1 (de) * 2005-04-29 2006-06-15 Ceratitzit Austria Ges M B H Beschichtetes werkzeug
SE529223C2 (sv) 2005-05-06 2007-06-05 Seco Tools Ab Belagt skärverktyg innefattande hexagonal h-(Mel,Me2)Xfas
JP4720987B2 (ja) 2005-07-08 2011-07-13 三菱マテリアル株式会社 高反応性被削材の高速歯切加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具
JP5066880B2 (ja) 2006-09-27 2012-11-07 住友化学株式会社 乳剤組成物
DE102006046917C5 (de) * 2006-10-04 2014-03-20 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Kolbenring für Verbrennungskraftmaschinen
AT9999U1 (de) 2007-06-29 2008-07-15 Ceratizit Austria Gmbh Al-ti-ru-n-c hartstoffschicht
DE102007030734A1 (de) * 2007-07-02 2009-01-08 Walter Ag Beschichtetes Werkzeug
KR20100116682A (ko) 2008-02-21 2010-11-01 쎄코 툴스 에이비 다층 코팅 절삭 공구
TWI374613B (en) 2008-02-29 2012-10-11 Ind Tech Res Inst Method and apparatus of pre-encoding and pre-decoding
JP5261413B2 (ja) * 2010-02-05 2013-08-14 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜およびその形成方法
JP5594569B2 (ja) * 2010-04-16 2014-09-24 三菱マテリアル株式会社 表面被覆切削工具
JP5239062B2 (ja) * 2011-01-26 2013-07-17 住友電工ハードメタル株式会社 表面被覆切削工具およびその製造方法
DE102012017731A1 (de) * 2012-09-08 2014-03-13 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Ti-Al-Ta-basierte Beschichtung mit einer verbesserten Temperaturbeständigkeit

Also Published As

Publication number Publication date
KR102386800B1 (ko) 2022-04-14
BR112015005064A2 (pt) 2017-07-04
US9506139B2 (en) 2016-11-29
JP2022003168A (ja) 2022-01-11
CN105026605A (zh) 2015-11-04
JP2015533936A (ja) 2015-11-26
JP7480098B2 (ja) 2024-05-09
WO2014037104A1 (en) 2014-03-13
US20150259782A1 (en) 2015-09-17
EP2893052A1 (en) 2015-07-15
JP2019143251A (ja) 2019-08-29
KR20210054602A (ko) 2021-05-13
CN105026605B (zh) 2018-01-26
DE102012017731A1 (de) 2014-03-13
EP2893052B1 (en) 2022-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7480098B2 (ja) 改善された熱安定性を示すチタン－アルミニウム－タンタルベースの被覆物
Mockuté et al. Synthesis and ab initio calculations of nanolaminated (Cr, Mn) 2 AlC compounds
KR101979041B1 (ko) 고성능 공구용 나노층 코팅
CN101254673B (zh) 硬质叠层被膜
KR102027610B1 (ko) 피복 절삭 공구 및 그의 제조 방법
JP5976631B2 (ja) ＡｌＴｉＮコーティングを被着する被着方法
KR20200049701A (ko) Al이 풍부한 AlTiN 기반의 필름
CN113966408B (zh) 包含多阴离子高熵合金氮氧化物的pvd涂层
CN111757948A (zh) 具有增强热稳定性的Al-Cr基陶瓷涂层
Tabaru et al. Residual stress reduction in piezoelectric Sc0. 4Al0. 6N films by variable-pressure sputtering from 0.4 to 1.0 Pa
EP3935202A1 (en) Tm-al-o-n coating layers with increased thermal stability
WO2020094882A1 (en) Cubic al-rich altin coatings deposited from ceramic targets
Ag US20150259782 A1
EP3068920B1 (en) (al,cr,ta)n coating for enhanced high temperature resistance
US12006564B2 (en) Cubic Al-rich AlTiN coatings deposited from ceramic targets
US20240018642A1 (en) Hard cubic al-rich altin coating layers produced by pvd from ceramic targets
CN112930417A (zh) 用钛和/或硅微合金化的钒铝氮化物(VAlN)
WO2022069686A1 (en) Ai-rich aicrn coating layers produced by pvd from metallic targets
JPH1096077A (ja) 傾斜機能薄膜およびその製造方法
DE102009044838A1 (de) Metastabilisiertes, nanostabilisiertes Material und Verfahren zu dessen Herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X601 Decision of rejection after re-examination
A107 Divisional application of patent