JP2019125506A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11966203B2 (en) 2019-08-21 2024-04-23 Kla Corporation System and method to adjust a kinetics model of surface reactions during plasma processing
JP7542417B2 (ja) 2019-12-27 2024-08-30 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置、基板処理方法、基板処理システム、及び学習用データの生成方法
JP7429623B2 (ja) * 2020-08-31 2024-02-08 株式会社日立製作所 製造条件設定自動化装置及び方法
WO2026018701A1 (ja) * 2024-07-17 2026-01-22 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及びレシピ登録方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4317701B2 (ja) 2003-03-12 2009-08-19 東京エレクトロン株式会社 処理結果の予測方法及び予測装置
JP2004335841A (ja) * 2003-05-09 2004-11-25 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置の予測装置及び予測方法
JP2005051269A (ja) * 2004-10-12 2005-02-24 Hitachi Ltd 半導体処理装置
WO2007066404A1 (ja) 2005-12-08 2007-06-14 Spansion Llc 半導体製造装置、その制御システムおよびその制御方法
JP2009049382A (ja) 2007-07-26 2009-03-05 Panasonic Corp ドライエッチング方法およびドライエッチング装置
JP4836994B2 (ja) 2008-06-11 2011-12-14 株式会社日立製作所 半導体処理装置
JP5334787B2 (ja) * 2009-10-09 2013-11-06 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置
US9184021B2 (en) * 2013-10-04 2015-11-10 Applied Materials, Inc. Predictive method of matching two plasma reactors
JP6220319B2 (ja) 2014-07-17 2017-10-25 株式会社日立ハイテクノロジーズ データ解析方法及びプラズマエッチング方法並びにプラズマ処理装置
JP6310866B2 (ja) * 2015-01-30 2018-04-11 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法並びに解析方法
JP6446334B2 (ja) * 2015-06-12 2018-12-26 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置、プラズマ処理装置の制御方法及び記憶媒体
JP6549917B2 (ja) * 2015-06-26 2019-07-24 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置およびそのデータ解析装置
KR102901060B1 (ko) * 2016-03-03 2025-12-16 램 리써치 코포레이션 매칭 네트워크 모델의 파라미터들을 결정하도록 하나 이상의 픽스처들 및 효율을 사용하기 위한 시스템들 및 방법들

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