JP2019117960A - ウェットエッチング装置 - Google Patents
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Abstract
Description
20 貯留部(リン酸水溶液貯留部)
21 タンク
22 濃度検出部
25 サブタンク
28 濃度検出部
30 添加剤貯留部
31 添加剤タンク
40 処理部
41 回転機構
42 ノズル
50 循環部
51 循環配管
52 吐出配管
52a 開閉弁(第1の開閉弁)
53 回収配管
53b 開閉弁(第2の開閉弁)
54 添加剤配管
100 制御部
100A 制御部
少なくとも窒化膜と酸化膜とが形成された基板を処理するウェットエッチング装置において、
リン酸水溶液を貯留するリン酸水溶液貯留部と、
前記リン酸水溶液貯留部につながり、前記リン酸水溶液貯留部内のリン酸水溶液を循環させる循環配管と、
前記循環配管に設けられる第1のヒータと、
前記循環配管に接続される吐出配管と、
前記吐出配管に設けられる第1の開閉弁と、
前記基板を保持して回転させる回転機構、前記吐出配管に設けられ回転する前記基板に前記リン酸水溶液を供給するノズル、を有する処理部と、
前記処理部と前記リン酸水溶液貯留部とを接続する回収配管と、
制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記リン酸水溶液貯留部内の前記リン酸水溶液を前記循環配管にて循環させるとともに、前記循環配管を流れる前記リン酸水溶液を前記ヒータによって加熱しつつ、前記リン酸水溶液貯留部内の前記リン酸水溶液を前記吐出配管を介して前記ノズルに供給するように制御するとともに、前記リン酸水溶液貯留部内の前記リン酸水溶液のシリカ濃度が予め設定された所定の濃度より低くなると、前記第1の開閉弁を閉状態とすることを特徴とするウェットエッチング装置にある。
Claims (7)
- 少なくとも窒化膜と酸化膜とが形成された基板を処理するウェットエッチング装置において、
リン酸水溶液を貯留する貯留部と、
シリカ添加剤を貯留する添加剤貯留部と、
前記貯留部に貯留されたリン酸水溶液のシリカ濃度を検出する濃度検出部と、
この濃度検出部により検出されたリン酸水溶液のシリカ濃度が所定値より低い場合に、前記添加剤貯留部から前記貯留部へシリカ添加剤を供給する添加剤供給部と、
前記貯留部に貯留されたリン酸水溶液により基板を処理する処理部とを備えることを特徴とするウェットエッチング装置。 - 前記処理部から前記リン酸水溶液を回収して、前記貯留部へ戻す回収部をさらに備えることを特徴とする請求項1記載のウェットエッチング装置。
- 前記濃度検出部により検出された前記リン酸水溶液のシリカ濃度が予め設定した所定の濃度であることを条件に、前記貯留部から前記処理部に前記リン酸水溶液を供給することを特徴とする請求項1記載のウエットエッチング装置。
- 前記シリカ添加剤は、コロイダルシリカであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のウエットエッチング装置。
- 前記添加剤供給部は、前記添加剤貯留部と前記貯留部との間に副貯留部を有し、
前記副貯留部は、リン酸水溶液を収容するリン酸水溶液供給部からリン酸水溶液を供給されることを特徴とする請求項1に記載のウェットエッチング装置。 - 前記貯留部に貯留された前記リン酸水溶液の温度を検出する温度検出部を有し、
この温度検出部により検出された前記リン酸水溶液の温度が予め設定した所定の温度であることを条件に、前記貯留部から前記処理部に前記リン酸水溶液を供給することを特徴とする請求項3に記載のウェットエッチング装置。 - 前記貯留部には、内部のリン酸水溶液を循環しつつ、加熱する循環部が設けられていることを特徴とする請求項2に記載のウェットエッチング装置。
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