JP6687784B2 - ウェットエッチング装置 - Google Patents
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少なくとも窒化膜と酸化膜とが形成された基板を処理するウェットエッチング装置において、
リン酸水溶液を貯留するリン酸水溶液貯留部と、
前記リン酸水溶液貯留部につながり、前記リン酸水溶液貯留部内のリン酸水溶液を循環させる循環配管と、
前記循環配管に設けられる第1のヒータと、
前記循環配管に接続される吐出配管と、
前記吐出配管に設けられる第1の開閉弁と、
前記基板を保持して回転させる回転機構、前記吐出配管に設けられ回転する前記基板に前記リン酸水溶液を供給するノズル、を有する処理部と、
前記処理部と前記リン酸水溶液貯留部とを接続する回収配管と、
制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記リン酸水溶液貯留部内の前記リン酸水溶液を前記循環配管にて循環させるとともに、前記循環配管を流れる前記リン酸水溶液を前記ヒータによって加熱しつつ、前記リン酸水溶液貯留部内の前記リン酸水溶液を前記吐出配管を介して前記ノズルに供給するように制御するとともに、前記リン酸水溶液貯留部内の前記リン酸水溶液のシリカ濃度が予め設定された所定の濃度より低くなると、前記第1の開閉弁を閉状態とすることを特徴とするウェットエッチング装置にある。
20 貯留部(リン酸水溶液貯留部)
21 タンク
22 濃度検出部
25 サブタンク
28 濃度検出部
30 添加剤貯留部
31 添加剤タンク
40 処理部
41 回転機構
42 ノズル
50 循環部
51 循環配管
52 吐出配管
52a 開閉弁(第1の開閉弁)
53 回収配管
53b 開閉弁(第2の開閉弁)
54 添加剤配管
100 制御部
100A 制御部
Claims (6)
- 少なくとも窒化膜と酸化膜とが形成された基板を処理するウェットエッチング装置において、
リン酸水溶液を貯留するリン酸水溶液貯留部と、
前記リン酸水溶液貯留部につながり、前記リン酸水溶液貯留部内のリン酸水溶液を循環させる循環配管と、
前記循環配管に設けられる第1のヒータと、
前記循環配管に接続される吐出配管と、
前記吐出配管に設けられる第1の開閉弁と、
前記基板を保持して回転させる回転機構、前記吐出配管に設けられ回転する前記基板に前記リン酸水溶液を供給するノズル、を有する処理部と、
前記処理部と前記リン酸水溶液貯留部とを接続する回収配管と、
制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記リン酸水溶液貯留部内の前記リン酸水溶液を前記循環配管にて循環させるとともに、前記循環配管を流れる前記リン酸水溶液を前記ヒータによって加熱しつつ、前記リン酸水溶液貯留部内の前記リン酸水溶液を前記吐出配管を介して前記ノズルに供給するように制御するとともに、前記リン酸水溶液貯留部内の前記リン酸水溶液のシリカ濃度が予め設定された所定の濃度より低くなると、前記第1の開閉弁を閉状態とすることを特徴とするウェットエッチング装置。 - 前記制御部は、前記リン酸水溶液貯留部内の前記リン酸水溶液の温度が予め設定された所定の温度であることを条件に前記第1の開閉弁を開状態とすることを特徴とする請求項1に記載のウェットエッチング装置。
- 前記制御部は、前記回収配管内の前記リン酸水溶液のシリカ濃度が予め設定された所定の濃度を超えると前記回収配管に設けられる第2の開閉弁を閉状態とすることを特徴とする請求項1または2に記載のウェットエッチング装置。
- 前記回収配管に接続される排出配管を有し、
前記制御部によって前記第2の開閉弁が閉状態とされると、前記回収配管内の前記リン酸水溶液は前記排出配管から排出されることを特徴とする請求項3に記載のウェットエッチング装置。 - 前記回収配管に第2のヒータが設けられることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のウェットエッチング装置。
- 前記制御部は、前記処理部による前記基板の処理中に、前記リン酸水溶液のシリカ濃度が予め設定された所定の濃度より低くなると、その基板への処理が終了した時点で、前記第1の開閉弁を閉状態とすることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のウェットエッチング装置。
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- 2018-03-05 JP JP2018038606A patent/JP6529625B2/ja active Active
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- 2019-04-24 JP JP2019082656A patent/JP6687784B2/ja active Active
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