JP2019114663A5 - - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 3
- TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N nitride(3-) Chemical compound [N-3] TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 2
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims 3
Description
本発明の他の実施態様による製造方法は、MOVPE法によりIII族窒化物半導体からなる面発光レーザを製造する製造方法であって、
(a)基板上に第1導電型の第1のクラッド層を成長する工程と、
(b)前記第1のクラッド層上に前記第1導電型の第1のガイド層を成長する工程と、
(c)前記第1のガイド層に、エッチングにより前記第1のガイド層に平行な面内において互いに垂直な2 軸を配列方向として正方格子位置に周期的に配された穴部を形成する工程と、
(d)III族原料及び窒素源を含むガスを供給して、前記穴部の上部を表面が平坦となるよう塞ぐ工程と、を有し、
前記穴部は、前記第1のガイド層に平行な面内において長軸及び前記長軸に垂直な短軸を有する多角形状又は長円形状を有する多角柱又は長円柱構造を有し、前記穴部の前記長軸の方向は<11−20>方向であり、前記長軸は前記穴部の前記配列方向のうちの1軸に対して傾き角θだけ傾いている。
(a)基板上に第1導電型の第1のクラッド層を成長する工程と、
(b)前記第1のクラッド層上に前記第1導電型の第1のガイド層を成長する工程と、
(c)前記第1のガイド層に、エッチングにより前記第1のガイド層に平行な面内において互いに垂直な2 軸を配列方向として正方格子位置に周期的に配された穴部を形成する工程と、
(d)III族原料及び窒素源を含むガスを供給して、前記穴部の上部を表面が平坦となるよう塞ぐ工程と、を有し、
前記穴部は、前記第1のガイド層に平行な面内において長軸及び前記長軸に垂直な短軸を有する多角形状又は長円形状を有する多角柱又は長円柱構造を有し、前記穴部の前記長軸の方向は<11−20>方向であり、前記長軸は前記穴部の前記配列方向のうちの1軸に対して傾き角θだけ傾いている。
Claims (12)
- III族窒化物半導体からなる面発光レーザであって、
第1導電型の第1のクラッド層と、
前記第1のクラッド層上に形成された前記第1導電型の第1のガイド層と、
前記第1のガイド層上に形成された発光層と、
前記発光層上に形成された第2のガイド層と、
前記第2のガイド層上に形成された前記第1導電型と反対導電型の第2導電型の第2のクラッド層と、を有し、
前記第1のガイド層または前記第2のガイド層は、当該ガイド層に平行な面内において互いに垂直な2軸を配列方向として正方格子位置に周期的に配された空孔を内部に有し、
前記空孔は、前記平行な面内において長軸及び前記長軸に垂直な短軸を有する多角形状又は長円形状を有する多角柱構造又は長円柱構造を有し、前記長軸は前記空孔の前記配列方向のうちの1軸に対して傾き角θだけ傾いている面発光レーザ。 - 前記第1のガイド層に平行な面は(0001)面であり、前記長軸の方向は<11−20>方向であり、前記空孔は前記長軸に平行な{10−10}面である2つの側面を有する請求項1に記載の面発光レーザ。
- 前記空孔は、前記2つの側面以外の4つの側面が{10−10}面である六角柱構造を有する請求項1又は2に記載の面発光レーザ。
- 前記傾き角θは、30°≦θ≦45°を満たす請求項1ないし3のいずれか1項に記載の面発光レーザ。
- 前記傾き角θは、θ=45°である請求項1ないし3のいずれか1項に記載の面発光レーザ。
- 前記空孔は、底部に{1−102}ファセットを有する請求項1ないし5のいずれか1項に記載の面発光レーザ。
- MOVPE法によりIII族窒化物半導体からなる面発光レーザを製造する製造方法であって、
(a)基板上に第1導電型の第1のクラッド層を成長する工程と、
(b)前記第1のクラッド層上に前記第1導電型の第1のガイド層を成長する工程と、
(c)前記第1のガイド層に、エッチングにより前記第1のガイド層に平行な面内において互いに垂直な2軸を配列方向として正方格子位置に周期的に配された穴部を形成する工程と、
(d)III族原料及び窒素源を含むガスを供給して、前記穴部の上部を表面が平坦となるよう塞ぐ工程と、
を有し、
前記穴部は、前記第1のガイド層に平行な面内において長軸及び前記長軸に垂直な短軸を有する多角形状又は長円形状を有する多角柱又は長円柱構造を有し、前記穴部の前記長軸の方向は<11−20>方向であり、前記長軸は前記穴部の前記配列方向のうちの1軸に対して傾き角θだけ傾いている製造方法。 - 前記穴部の前記上部を塞ぐ工程(d)は、
(d1)III族原料及び窒素源を含むガスを供給して、前記穴部の前記上部にファセットを有する凹部が形成されるように成長を行って、前記穴部の前記上部を塞ぐ工程と、
(d2)前記穴部の前記上部を塞いだ後、マストランスポートによって前記凹部を平坦化する工程と、を有する、請求項7に記載の製造方法。 - 前記穴部の上部を塞ぐ工程(d1)及び前記平坦化する工程(d2)により、前記穴部は前記第1のガイド層に埋め込まれた空孔として形成され、前記第1のガイド層に平行な面は(0001)面であり、前記空孔は前記長軸に平行な{10−10}面である2つの側面を有する請求項8に記載の製造方法。
- 前記空孔は、前記2つの側面以外の4つの側面が{10−10}面である六角柱構造を有する請求項9に記載の製造方法。
- 前記傾き角θは、30°≦θ≦45°を満たす請求項7ないし10のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記穴部は、底部に{1−102}ファセットを有する請求項7ないし11のいずれか1項に記載の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017247048A JP7173478B2 (ja) | 2017-12-22 | 2017-12-22 | 面発光レーザ素子及び面発光レーザ素子の製造方法 |
PCT/JP2018/046367 WO2019124312A1 (ja) | 2017-12-22 | 2018-12-17 | 面発光レーザ素子及び面発光レーザ素子の製造方法 |
US16/956,512 US11539187B2 (en) | 2017-12-22 | 2018-12-17 | Surface emitting laser element and manufacturing method of the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017247048A JP7173478B2 (ja) | 2017-12-22 | 2017-12-22 | 面発光レーザ素子及び面発光レーザ素子の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019114663A JP2019114663A (ja) | 2019-07-11 |
JP2019114663A5 true JP2019114663A5 (ja) | 2021-01-07 |
JP7173478B2 JP7173478B2 (ja) | 2022-11-16 |
Family
ID=66993454
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017247048A Active JP7173478B2 (ja) | 2017-12-22 | 2017-12-22 | 面発光レーザ素子及び面発光レーザ素子の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11539187B2 (ja) |
JP (1) | JP7173478B2 (ja) |
WO (1) | WO2019124312A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7504369B2 (ja) * | 2019-12-16 | 2024-06-24 | 国立大学法人京都大学 | 面発光レーザ素子及び面発光レーザ素子の製造方法 |
JP7504368B2 (ja) * | 2019-12-16 | 2024-06-24 | 国立大学法人京都大学 | 面発光レーザ素子及び面発光レーザ素子の製造方法 |
CN115298916A (zh) * | 2020-03-16 | 2022-11-04 | 国立大学法人京都大学 | 面发射激光元件及面发射激光元件的制造方法 |
EP4131675A4 (en) * | 2020-03-31 | 2023-09-20 | Kyoto University | PHOTONIC CRYSTAL LASER IN TWO DIMENSIONS |
WO2024024190A1 (ja) * | 2022-07-29 | 2024-02-01 | 住友電気工業株式会社 | フォトニック結晶面発光レーザおよびその製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3561244B2 (ja) | 2001-07-05 | 2004-09-02 | 独立行政法人 科学技術振興機構 | 二次元フォトニック結晶面発光レーザ |
KR101131380B1 (ko) | 2004-12-08 | 2012-04-04 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 반도체 레이저 소자 및 그 제조 방법 |
JP4891579B2 (ja) * | 2005-08-31 | 2012-03-07 | 住友電気工業株式会社 | フォトニック結晶構造を備える素子の製造方法 |
US8228604B2 (en) * | 2005-11-14 | 2012-07-24 | Industrial Technology Research Institute | Electromagnetic (EM) wave polarizing structure and method for providing polarized electromagnetic (EM) wave |
JP4647020B2 (ja) | 2009-07-30 | 2011-03-09 | キヤノン株式会社 | 窒化物半導体の微細構造の製造方法 |
JP4818464B2 (ja) | 2009-07-30 | 2011-11-16 | キヤノン株式会社 | 微細構造の製造方法 |
TWI419427B (zh) * | 2009-08-21 | 2013-12-11 | Univ Nat Chiao Tung | 能帶邊緣型光子晶體雷射二極體 |
JP5643553B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2014-12-17 | キヤノン株式会社 | 窒化物半導体の微細構造の製造方法、面発光レーザとその製造方法 |
JP2013135001A (ja) * | 2011-12-23 | 2013-07-08 | Canon Inc | 微細構造の製造方法 |
JP6213915B2 (ja) * | 2013-03-04 | 2017-10-18 | 国立大学法人京都大学 | 半導体レーザ素子 |
WO2016148075A1 (ja) * | 2015-03-13 | 2016-09-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | 半導体発光素子 |
WO2018155710A1 (ja) * | 2017-02-27 | 2018-08-30 | 国立大学法人京都大学 | 面発光レーザ及び面発光レーザの製造方法 |
-
2017
- 2017-12-22 JP JP2017247048A patent/JP7173478B2/ja active Active
-
2018
- 2018-12-17 US US16/956,512 patent/US11539187B2/en active Active
- 2018-12-17 WO PCT/JP2018/046367 patent/WO2019124312A1/ja active Application Filing
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