JP2019102495A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3807720B1 (en) 2018-11-07 2022-05-11 ASML Netherlands B.V. Method for configuring a semiconductor manufacturing process, a lithographic apparatus and an associated computer program product
JP6896036B2 (ja) * 2019-09-30 2021-06-30 キヤノン株式会社 情報処理装置、判定方法、インプリント装置、リソグラフィシステム、物品の製造方法及びプログラム
JP7466403B2 (ja) * 2020-08-03 2024-04-12 キヤノン株式会社 制御装置、リソグラフィー装置、制御方法および物品製造方法
JP7649188B2 (ja) * 2021-04-21 2025-03-19 キヤノン株式会社 処理システム、計測装置、基板処理装置及び物品の製造方法
US20230274987A1 (en) * 2022-02-25 2023-08-31 Applied Materials, Inc. Machine learning & integrated metrology for run-to-run optimization of chip-to-wafer alignment accuracy
KR102870303B1 (ko) * 2022-08-16 2025-10-15 주식회사 선익시스템 머신 러닝 기반 이미지 처리 유닛을 구비하는 증착 장치 및 그 얼라인 마크의 촬영 조건 설정 방법

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100375559B1 (ko) 2001-07-03 2003-03-10 삼성전자주식회사 공정장치의 제어방법
JP2006013178A (ja) 2004-06-28 2006-01-12 Toshiba Corp 露光方法及び露光システム
JP5583791B2 (ja) * 2010-02-19 2014-09-03 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
NL2010691A (en) * 2012-05-29 2013-12-02 Asml Netherlands Bv A method to determine the usefulness of alignment marks to correct overlay, and a combination of a lithographic apparatus and an overlay measurement system.
JP5840584B2 (ja) 2012-09-06 2016-01-06 株式会社東芝 露光装置、露光方法および半導体装置の製造方法
JP2014229675A (ja) 2013-05-21 2014-12-08 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルＰＳ４ Ｌｕｘｃｏ Ｓ．ａ．ｒ．ｌ． 重ね合わせ補正システム
JP6356996B2 (ja) 2014-04-01 2018-07-11 キヤノン株式会社 パターン形成方法、露光装置、および物品の製造方法
JP6506521B2 (ja) 2014-09-17 2019-04-24 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法
JP6751871B2 (ja) * 2014-11-25 2020-09-09 ピーディーエフ ソリューションズ，インコーポレイテッド 半導体製造プロセスのための改善されたプロセス制御技術

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