JP2019080047A5 - - Google Patents

Description

本発明のインプリント装置は、型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、基板上のインプリント材の粘性を増加させるための照射光を、型を介してインプリント材に照射する光学系を有し、型とインプリント材とが接触する領域を囲む周辺領域は、第１領域と、型とインプリント材を接触させた状態で、インプリント材が周辺領域の複数の領域のそれぞれに到達する時間が第１領域よりも遅い第２領域とを含んでおり、型とインプリント材とを接触させた状態で、第１領域に照射する照射光の強度が、第２領域に照射する照射光の強度よりも高くなるように、光学系を制御する制御部を備えることを特徴とする。

Claims (15)

1. 型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
   前記基板上のインプリント材の粘性を増加させるための照射光を、前記型を介して前記インプリント材に照射する光学系を有し、
   前記型と前記インプリント材とが接触する領域を囲む周辺領域は、第１領域と、前記型と前記インプリント材を接触させた状態で、前記インプリント材が前記周辺領域の複数の領域のそれぞれに到達する時間が前記第１領域よりも遅い第２領域とを含んでおり、
   前記型と前記インプリント材とを接触させた状態で、前記第１領域に照射する照射光の強度が、前記第２領域に照射する照射光の強度よりも高くなるように、前記光学系を制御する制御部を備える、
   ことを特徴とするインプリント装置。
2. 前記第２領域は、前記周辺領域のうち前記型と前記インプリント材とが接触する前記型のメサ部のコーナーを含む領域であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
3. 前記第２領域は、前記周辺領域のうち前記型と前記インプリント材とが接触する領域に形成されているパターンがアライメントマークを含む領域であることを特徴とする請求項１または２に記載のインプリント装置。
4. 前記第２領域は、前記周辺領域のうち前記型のパターン領域に形成されているパターン方向が前記型と前記インプリント材とが接触する領域の端に沿った方向であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載のインプリント装置。
5. 前記第２領域に供給される前記インプリント材の液滴の滴下位置と、前記型と前記インプリント材とが接触する領域の前記型に形成されたパターンが転写される前記基板のショット領域の端部との距離は、
   前記第１領域に供給される前記インプリント材の液滴の滴下位置と、前記周辺領域の複数の領域のそれぞれとの距離よりも長いことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のインプリント装置。
6. 前記光学系は、前記照射光を照射する強度の分布を形成する光変調素子を有することを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載のインプリント装置。
7. 前記制御部は、前記第２領域に前記照射光を照射しないように前記光学系を制御することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載のインプリント装置。
8. 前記インプリント装置は、前記インプリント材を硬化させる光を照射する光照射系を備え、
   前記制御部は、前記インプリント材の粘性を増加させ、前記型と前記基板の位置合わせを行った後、
   前記光照射系は、前記インプリント材を硬化させるために前記型と前記インプリント材とが接触する領域の全体に光を照射することを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載のインプリント装置。
9. 型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
   前記基板上のインプリント材の粘性を上げる硬化部、を有し、
   前記型と前記インプリント材とが接触する領域を囲む周辺領域は、第１領域と、前記型と前記インプリント材を接触させた状態で、前記インプリント材が前記周辺領域の複数の領域のそれぞれに到達する時間が前記第１領域よりも遅い第２領域とを含んでおり、
   前記型と前記インプリント材とを接触させた状態で、前記硬化部が前記第１領域に対して与える単位面積当たりの熱量が、前記硬化部が前記第２領域に対して与える単位面積当たりの熱量よりも多くなるように、前記硬化部を制御する制御部を備える、
   ことを特徴とするインプリント装置。
10. 前記第２領域は、前記周辺領域のうち前記型と前記インプリント材とが接触する前記型のメサ部のコーナーを含む領域であることを特徴とする請求項９に記載のインプリント装置。
11. 前記第２領域は、前記周辺領域のうち前記型と前記インプリント材とが接触する領域に形成されているパターンがアライメントマークを含む領域であることを特徴とする請求項９または１０に記載のインプリント装置。
12. 前記第２領域は、前記周辺領域のうち前記型のパターン領域に形成されているパターン方向が前記型と前記インプリント材とが接触する領域の端に沿った方向であることを特徴とする請求項９乃至１１の何れか１項に記載のインプリント装置。
13. 前記第２領域に供給される前記インプリント材の液滴の滴下位置と、前記型と前記インプリント材とが接触する領域の前記型に形成されたパターンが転写される前記基板のショット領域の端部との距離は、
    前記第１領域に供給される前記インプリント材の液滴の滴下位置と、前記周辺領域の複数の領域のそれぞれとの距離よりも長いことを特徴とする請求項９乃至１２の何れか１項に記載のインプリント装置。
14. 前記光学系は、前記照射光を照射する強度の分布を形成する光変調素子を有することを特徴とする請求項９乃至１３の何れか１項に記載のインプリント装置。
15. 請求項１乃至１４の何れか１項に記載のインプリント装置を用いて、基板上にパターンを形成する工程と、
    パターンが形成された基板を加工する工程と、を有し、
    加工された基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。