JP2019073788A - プラズマスパッタリング成膜装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は基材に対して成膜を行う成膜室と、
成膜室外の上方に隣接して設置される複数のホロカソードプラズマガンと、
成膜室内の底面に設置される複数のホロカソードプラズマガン用アノードと、
成膜室内の対向する側面に設置される複数の蒸着材料と、
複数のホロカソードプラズマガンと成膜室の間に設置される複数の第1コイルと、
成膜室外の下方で複数のホロカソードプラズマガン用アノードの鉛直直下に設置される複数の第2コイルと、を備えるプラズマスパッタリング成膜装置とした。
2、12 ホロカソードプラズマガン
3、13 ホロカソードプラズマガン用アノード
4A、4B 蒸着材料
4S 蒸着材料4Bの表面
5、15 第1コイル
6、16 第2コイル
10 プラズマスパッタリング成膜装置
14A、14B 蒸着材料
20 プラズマ
20C プラズマ20の中心
d プラズマ20の中心20Cから蒸着材料4Bの表面4Sまでの距離
Claims (4)
- 基材に対して成膜を行う成膜室と、前記成膜室外の上方に隣接して設置される複数のホロカソードプラズマガンと、前記成膜室内の底面に設置される複数のホロカソードプラズマガン用アノードと、前記成膜室内の対向する側面に設置される複数の蒸着材料と、前記複数のホロカソードプラズマガンと前記成膜室の間に設置される複数の第1コイルと、前記成膜室外の下方で前記複数のホロカソードプラズマガン用アノードの鉛直直下に設置される複数の第2コイルと、を備えていることを特徴とするプラズマスパッタリング成膜装置。
- 前記複数のホロカソードプラズマガンから発生するプラズマの中心と前記蒸着材料の表面との距離は5〜15mmの範囲であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマスパッタリング成膜装置。
- 前記成膜室内は横断面視で八角形の形状であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマスパッタリング成膜装置。
- 前記成膜室には、前記成膜室内の対向する側面に設置される複数のアーク放電用電極と、前記複数のアーク放電用電極に隣接して設置される複数の第2蒸着材料と、をさらに備えていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のプラズマスパッタリング成膜装置。
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---|---|---|---|---|
JPH0273967A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-13 | Asahi Glass Co Ltd | 高効率スパッタリング方法 |
JP2008038203A (ja) * | 2006-08-07 | 2008-02-21 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | プラズマ成膜システム及びその運転方法 |
JP2013023744A (ja) * | 2011-07-22 | 2013-02-04 | Kobe Steel Ltd | 真空成膜装置 |
JP2017064676A (ja) * | 2015-10-02 | 2017-04-06 | 株式会社Ihi | 触媒の製造装置 |
-
2017
- 2017-10-19 JP JP2017202864A patent/JP6986674B2/ja active Active
Patent Citations (4)
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JPH0273967A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-13 | Asahi Glass Co Ltd | 高効率スパッタリング方法 |
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JP2017064676A (ja) * | 2015-10-02 | 2017-04-06 | 株式会社Ihi | 触媒の製造装置 |
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