JP2019039808A - パターン検査装置及びパターン検査方法 - Google Patents
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Abstract
【構成】検査装置は、被検査画像に対応する参照画像を用いて、被検査画像と参照画像とを相対的にサブ画素単位で可変にずらしながら、当該参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて補間処理することにより被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算するサブ画素補間処理部60と、ずらし量毎に、補間処理された当該参照画像の画素値に対してずらし量に依存するノイズの影響を抑制するフィルタ関数を用いてフィルタ処理する補償フィルタ処理部68と、ずらし量毎に、被検査画像の各画素値とフィルタ処理された参照画像の対応する画素値との差分二乗和を演算するSSD値演算部62と、演算された差分二乗和が最小となるずらし量を用いて被検査画像と参照画像とを位置合わせした状態で、被検査画像と参照画像とを画素毎に比較する比較処理部72と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】図13
Description
電子ビームを用いて、図形パターンが形成された基板から図形パターンの被検査画像を取得する画像取得機構と、
被検査画像に対応する参照画像を用いて、被検査画像と参照画像とを相対的にサブ画素単位で可変にずらしながら、当該参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて補間処理することにより被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算するサブ画素補間処理部と、
ずらし量毎に、補間処理された当該参照画像の画素値に対してずらし量に依存するノイズの影響を抑制するフィルタ関数を用いてフィルタ処理するフィルタ処理部と、
ずらし量毎に、被検査画像の各画素値とフィルタ処理された参照画像の対応する画素値との差分二乗和を演算する差分二乗和演算部と、
演算された差分二乗和が最小となるずらし量を用いて被検査画像と参照画像とを位置合わせした状態で、被検査画像と参照画像とを画素毎に比較する比較部と、
を備えたことを特徴とする。
電子ビームを用いて、図形パターンが形成された基板から図形パターンの被検査画像を取得する画像取得機構と、
被検査画像を記憶する第1の記憶装置と、
被検査画像に対応する参照画像を記憶する第2の記憶装置と、
被検査画像内の図形パターンに対してパターン端部をなめらかにするスムージング処理を行う第1のスムージング処理部と、
参照画像の図形パターンに対してパターン端部をなめらかにするスムージング処理を行う第2のスムージング処理部と、
スムージング処理が行われた被検査画像と参照画像とを相対的にサブ画素単位で可変にずらしながら、ずらし量毎に、スムージング処理が行われた参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて補間処理することにより被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算する第1のサブ画素補間処理部と、
ずらし量毎に、被検査画像の各画素値と補間処理された参照画像の対応する画素値との差分二乗和を演算する差分二乗和演算部と、
第2の記憶装置からスムージング処理を行っていない参照画像を読み出し、スムージング処理を行っていない参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて差分二乗和が最小となるずらし量にて補間処理することにより被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算する第2のサブ画素補間処理部と、
被検査画像とスムージング処理が成された状態で差分二乗和が最小となるずらし量にて補間処理された参照画像とを画素毎に比較する比較部と、
を備えたことを特徴とする。
電子ビームを用いて、図形パターンが形成された基板から図形パターンの被検査画像を取得する工程と、
被検査画像に対応する参照画像を用いて、被検査画像と参照画像とを相対的にサブ画素単位で可変にずらしながら、当該参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて補間処理することにより被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算する工程と、
ずらし量毎に、補間処理された当該参照画像の画素値に対してずらし量に依存するノイズの影響を抑制するフィルタ関数を用いてフィルタ処理する工程と、
ずらし量毎に、被検査画像の各画素値とフィルタ処理された参照画像の対応する画素値との差分二乗和を演算する工程と、
演算された差分二乗和が最小となるずらし量を用いて被検査画像と参照画像とを位置合わせした状態で、被検査画像と参照画像とを画素毎に比較する工程と、
を備えたことを特徴とする。
電子ビームを用いて、図形パターンが形成された基板から図形パターンの被検査画像を取得する工程と、
被検査画像を記憶する第1の記憶装置から被検査画像を読み出し、被検査画像内の図形パターンに対してパターン端部をなめらかにするスムージング処理を行う工程と、
被検査画像に対応する参照画像を記憶する第2の記憶装置から参照画像を読み出し、参照画像の図形パターンに対してパターン端部をなめらかにするスムージング処理を行う工程と、
スムージング処理が行われた被検査画像と参照画像とを相対的にサブ画素単位で可変にずらしながら、ずらし量毎に、スムージング処理が行われた参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて補間処理することにより被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算する工程と、
ずらし量毎に、被検査画像の各画素値と補間処理された参照画像の対応する画素値との差分二乗和を演算する工程と、
第2の記憶装置からスムージング処理を行っていない参照画像を読み出し、スムージング処理を行っていない参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて差分二乗和が最小となるずらし量にて補間処理することにより被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算する工程と、
被検査画像とスムージング処理が成された状態で差分二乗和が最小となるずらし量にて補間処理された参照画像とを画素毎に比較する工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。図1において、基板に形成されたパターンを検査する検査装置100は、電子ビーム検査装置の一例である。検査装置100は、画像取得機構150、及び制御系回路160(制御部)を備えている。画像取得機構150は、電子ビームカラム102(電子鏡筒)、検査室103、検出回路106、チップパターンメモリ123、ステージ駆動機構142、及びレーザ測長システム122を備えている。電子ビームカラム102内には、電子銃201、照明レンズ202、成形アパーチャアレイ基板203、縮小レンズ205、制限アパーチャ基板206、対物レンズ207、主偏向器208、副偏向器209、一括ブランキング偏向器212、ビームセパレーター214、投影レンズ224,226、偏向器228、及びマルチ検出器222が配置されている。
(1) SSD値=Σ(ノイズ無しの画素値の差)2+Σ(ノイズ成分の差)2
(2) g(x,y)=Σg(i,j)・a(i,j)
(3) gx=q−1・g−1+q0・g0+q1・g1+q2・g2
(3) g’=c1・g−1+c0・g0+c1・g1
実施の形態1では、ノイズ成分自体を消去してから位置合わせを行う構成について説明したが、実施の形態2では、画像シフト量(ずらし量)に依存したノイズレベルの変動分を消去した上で位置合わせを行う構成について説明する。実施の形態2における検査装置100の構成は図1と同様である。また、以下、特に説明する点以外の内容は、実施の形態1と同様で構わない。
上述した各実施の形態では、位置合わせに伴い参照画像側だけをシフトする場合について説明したが、これに限るものではない。実施の形態3では、参照画像と被検査画像との両画像をシフトさせて歩み寄らせる構成について説明する。実施の形態3における検査装置100の構成は図1と同様である。また、以下、特に説明する点以外の内容は、実施の形態1と同様で構わない。
22 穴
28 画素
29 サブ゛照射領域
33 マスクダイ
34 照射領域
36 画素
50,52,67,69,74 記憶装置
54,56 スムージング処理部
58 位置合わせ部
60,61,66 サブ画素補間処理部
62 SSD値算出部
64 最適化処理部
68,69 補償フィルタ処理部
70 スムージング処理部
72 比較処理部
100 検査装置
101 基板
102 電子ビームカラム
103 検査室
106 検出回路
107 位置回路
108 比較回路
109 記憶装置
110 制御計算機
112 参照画像作成回路
114 ステージ制御回路
117 モニタ
118 メモリ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
123 チップパターンメモリ
124 レンズ制御回路
126 ブランキング制御回路
128 偏向制御回路
142 ステージ駆動機構
150 画像取得機構
160 制御系回路
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203 成形アパーチャアレイ基板
205 縮小レンズ
206 制限アパーチャ基板
207 対物レンズ
208 主偏向器
209 副偏向器
212 一括ブランキング偏向器
214 ビームセパレーター
216 ミラー
222 マルチ検出器
224,226 投影レンズ
228 偏向器
300 2次電子
330 検査領域
332 チップ
Claims (7)
- 電子ビームを用いて、図形パターンが形成された基板から前記図形パターンの被検査画像を取得する画像取得機構と、
前記被検査画像に対応する参照画像を用いて、前記被検査画像と前記参照画像とを相対的にサブ画素単位で可変にずらしながら、当該参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて補間処理することにより前記被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算するサブ画素補間処理部と、
前記ずらし量毎に、補間処理された当該参照画像の画素値に対して前記ずらし量に依存するノイズの影響を抑制するフィルタ関数を用いてフィルタ処理するフィルタ処理部と、
前記ずらし量毎に、前記被検査画像の各画素値と前記フィルタ処理された前記参照画像の対応する画素値との差分二乗和を演算する差分二乗和演算部と、
演算された前記差分二乗和が最小となるずらし量を用いて前記被検査画像と前記参照画像とを位置合わせした状態で、前記被検査画像と前記参照画像とを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。 - 前記被検査画像と前記参照画像とを相対的にずらす場合に、前記ずらし量の半分ずつ前記被検査画像と前記参照画像とをそれぞれずらすことを特徴とする請求項1記載のパターン検査装置。
- 前記フィルタ関数は、前記参照画像に対する前記補間処理により生じたノイズレベルの変化を打ち消すように設定されることを特徴とする請求項1又は2記載のパターン検査装置。
- 電子ビームを用いて、図形パターンが形成された基板から前記図形パターンの被検査画像を取得する画像取得機構と、
前記被検査画像を記憶する第1の記憶装置と、
前記被検査画像に対応する参照画像を記憶する第2の記憶装置と、
前記被検査画像内の前記図形パターンに対してパターン端部をなめらかにするスムージング処理を行う第1のスムージング処理部と、
前記参照画像の図形パターンに対してパターン端部をなめらかにするスムージング処理を行う第2のスムージング処理部と、
スムージング処理が行われた前記被検査画像と前記参照画像とを相対的にサブ画素単位で可変にずらしながら、ずらし量毎に、スムージング処理が行われた前記参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて補間処理することにより前記被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算する第1のサブ画素補間処理部と、
前記ずらし量毎に、前記被検査画像の各画素値と前記補間処理された前記参照画像の対応する画素値との差分二乗和を演算する差分二乗和演算部と、
前記第2の記憶装置からスムージング処理を行っていない前記参照画像を読み出し、前記スムージング処理を行っていない前記参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて前記差分二乗和が最小となるずらし量にて補間処理することにより前記被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算する第2のサブ画素補間処理部と、
前記被検査画像と前記スムージング処理が成された状態で前記差分二乗和が最小となるずらし量にて補間処理された前記参照画像とを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。 - 前記差分二乗和が最小となるずらし量にて補間処理された前記参照画像に対して前記ずらし量に依存するノイズの影響を抑制するフィルタ関数を用いてフィルタ処理するフィルタ処理部をさらに備えたことを特徴とする請求項4記載のパターン検査装置。
- 電子ビームを用いて、図形パターンが形成された基板から前記図形パターンの被検査画像を取得する工程と、
前記被検査画像に対応する参照画像を用いて、前記被検査画像と前記参照画像とを相対的にサブ画素単位で可変にずらしながら、当該参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて補間処理することにより前記被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算する工程と、
前記ずらし量毎に、補間処理された当該参照画像の画素値に対して前記ずらし量に依存するノイズの影響を抑制するフィルタ関数を用いてフィルタ処理する工程と、
前記ずらし量毎に、前記被検査画像の各画素値と前記フィルタ処理された前記参照画像の対応する画素値との差分二乗和を演算する工程と、
演算された前記差分二乗和が最小となるずらし量を用いて前記被検査画像と前記参照画像とを位置合わせした状態で、前記被検査画像と前記参照画像とを比較する工程と、
を備えたことを特徴とするパターン検査方法。 - 電子ビームを用いて、図形パターンが形成された基板から前記図形パターンの被検査画像を取得する工程と、
前記被検査画像を記憶する第1の記憶装置から前記被検査画像を読み出し、前記被検査画像内の前記図形パターンに対してパターン端部をなめらかにするスムージング処理を行う工程と、
前記被検査画像に対応する参照画像を記憶する第2の記憶装置から前記参照画像を読み出し、前記参照画像の図形パターンに対してパターン端部をなめらかにするスムージング処理を行う工程と、
スムージング処理が行われた前記被検査画像と前記参照画像とを相対的にサブ画素単位で可変にずらしながら、ずらし量毎に、スムージング処理が行われた前記参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて補間処理することにより前記被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算する工程と、
前記ずらし量毎に、前記被検査画像の各画素値と前記補間処理された前記参照画像の対応する画素値との差分二乗和を演算する工程と、
前記第2の記憶装置からスムージング処理を行っていない前記参照画像を読み出し、前記スムージング処理を行っていない前記参照画像の少なくとも1つの画素値を用いて前記差分二乗和が最小となるずらし量にて補間処理することにより前記被検査画像の各画素の位置に対応する当該参照画像の画素値を演算する工程と、
前記被検査画像と前記スムージング処理が成された状態で前記差分二乗和が最小となるずらし量にて補間処理された前記参照画像とを比較する工程と、
を備えたことを特徴とするパターン検査方法。
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