JP2019036578A - ワイヤーボンディング方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 安定した初期ボールを形成できるワイヤーボンディング方法を提供する。【解決手段】 キャピラリー12に挿通されたワイヤー11の先端に第1エネルギーP1を有する第1スパーク31を印加し、第1エネルギーP1より大きい第2エネルギーP2を有する第2スパーク32を印加して、ワイヤー11の先端に初期ボール16を形成する。キャピラリーを配線基板17に載置された半導体チップ19の上方に移動して降下させ、初期ボール16を半導体チップ19に設けられワイヤー11と異なる第1の材質を有する第1接続端子に接合する。キャピラリー12を配線基板17に設けられワイヤー11と異なる第2の材質を有する第2接続端子18の上方に移動して降下させ、ワイヤー11を第2接続端子18に接合する。キャピラリー12を上昇させ、ワイヤー11がキャピラリー12に挿通された状態でワイヤー11を第2接続端子18から切り離す。【選択図】 図2

Description

本発明の実施形態は、ワイヤーボンディング方法に関する。
主に半導体分野で微細配線のツールとしてワイヤーボンディングが用いられている。特にボールボンディングにおいては、ボンディングワイヤー(テール)の先端に真球性のある初期ボールを形成する必要がある。初期ボールの形成は、電流と時間を調整して熔融エネルギーを自由に設定できる電気トーチにより行われている。
然しながら、配線導体を有する配線基板の電極材質に起因して、初期ボールの形状や大きさが一定せず、安定した初期ボールが得られないという問題がある。
その結果、ワイヤーボンディングが阻害され、不着や隣接パターンとのショートなどの不具合が生じる恐れがある。
特開2017−013334号公報
安定した初期ボールを形成できるワイヤーボンディング方法を提供する。
一つの実施形態によれば、ワイヤーボンディング方法は、キャピラリーに挿通されたワイヤーの先端に第1エネルギーを有する第1スパークを印加し、前記第1エネルギーより大きい第2エネルギーを有する第2スパークを印加して、前記ワイヤーの先端に初期ボールを形成する工程と、前記キャピラリーを配線基板に載置された半導体チップの上方に移動して降下させ、前記初期ボールを前記半導体チップに設けられ前記ワイヤーと異なる第1の材質を有する第1接続端子に接合する工程と、前記キャピラリーを前記配線基板に設けられ前記ワイヤーと異なる第2の材質を有する第2接続端子の上方に移動して降下させ、前記ワイヤーを前記第2接続端子に接合する工程と、前記キャピラリーを上昇させ、前記ワイヤーが前記キャピラリーに挿通された状態で前記ワイヤーを前記第2接続端子から切り離す工程と、を具備する。
本実施形態によれば、安定した初期ボールを形成できるワイヤーボンディング方法が得られる。
実施形態1に係るワイヤーボンディングの原理を説明するための図。 実施形態1に係るワイヤーボンディング方法を示すフローチャート。 実施形態1に係るワイヤーボンディング工程を順に示す図。 実施形態1に係るワイヤーボンディング工程を順に示す図。 実施形態1に係るワイヤーボンディング工程を順に示す図。 実施形態1に係るワイヤーボンディング方法を比較例と対比して示す図。 実施形態1に係るワイヤーボンディング方法を比較例と対比して示すタイミングチャート。 実施形態1に係るワイヤーボンディング方法の試験結果を示す図。 実施形態1に係るワイヤーボンディング方法が適用されるサーマルプリントヘッドを示す図。 実施形態1に係るサーマルプリントヘッドのワイヤーボンディング状態を示す図。 実施形態2に係るワイヤーボンディング方法を示すフローチャート。 実施形態2に係るワイヤーボンディング工程を順に示す図。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
(実施形態1)
本実施形態に係るワイヤーボンディング方法について、図1乃至図5を用いて説明する。図1はワイヤーボンディングの原理を説明するための図、図2はワイヤーボンディング方法を示すフローチャート、図3乃至図5はワイヤーボンディング工程を順に示す図である。なお本実施の形態は単なる例示であり、本発明はこれに限定されない。
始めに、ワイヤーボンディング方法の原理を説明する。
図1に示すように、ワイヤーボンディング装置10は、ワイヤー11が挿通されるとともに昇降および面内移動可能に支持されたキャピラリー12と、キャピラリー12に挿通されたワイヤー11a(以後、テールとも称する)の先端に電気スパーク13を印加する電気トーチ14と、テール11aを切断するためのクランパー15とを有している。
配線基板17には、配線導体(図示せず)と、接続端子18が設けられている。半導体チップ19は配線基板17に載置されている。
ワイヤーボンディング装置10は、以下のようにして半導体チップ19と接続端子18とをワイヤー11により接続する。(1)テール11aに電気スパーク13を印加して、熔融する。熔融したテール11aは表面張力により丸まり、球状の初期ボール16が形成される。(2)初期ボール16を半導体チップ19に設けられたボンディングパッド(図示せず)に押し付けて、圧着ボール20を形成する(1stボンドとも称する)。(3)ワイヤー11をループ状に引き回し、接続端子18に押し付けてステッチ(図示せず)を形成する(2ndボンドとも称する)。(4)クランパー15によりワイヤー11を固定し、ステッチからテール11aを引きちぎる。
然しながら、配線導体を有する配線基板の電極材質に起因して、2ndボンディング時のワイヤーカット後に生じるテールの曲がり具合および電極材の付着状態が一定しないことがある。
テールの曲がり具合および電極材の付着状態に応じて、電気トーチ電極とテールの先端との距離が変化すると、予め熔融エネルギーを設定しておくだけでは初期ボールの形状や大きさが一定せず、安定した初期ボールが得られない。その結果、ワイヤーボンディングが阻害され、不着や隣接パターンとのショートなどの不具合が生じる。
次に、本実施形態のワイヤーボンディング方法について説明する。
本実施形態のワイヤーボンディング方法は、テール先端に第1エネルギーを有する第1スパークを印加し、その後第1エネルギーより大きい第2エネルギーを有する第2スパークを印加する2ステップで初期ボールを形成することを特徴としている。
ワイヤー11がキャピラリー12に挿通される。電気トーチ14にてキャピラリー12に挿通されたワイヤー11の先端に第1エネルギーP1を有する第1スパーク31を印加する。これにより、後述するようにテール11aの曲り11bや異種金属等の付着物11cを熔融除去し、テール11aを初期状態に整える(ステップS10、図3(a))。
ワイヤー11は、例えば銅(Cu)を主成分とする金属ワイヤーである。銅(Cu)を主成分とする金属ワイヤーとは、例えばパラジウム(Pd)メッキおよび金(Au)メッキが施された銅ワイヤーである。
電気トーチ14にてテール11aに第1エネルギーP1より大きい第2エネルギーP2を有する第2スパーク32を印加する。これにより、初期状態に整えられたテール11aが熔融し、溶けたテール11aは表面張力で丸まり、きれいな真球状の初期ボール16(FAB:Free Air Ball)が形成される(ステップS11、図3(b))。
クランパー15が開いて、キャピラリー12が半導体チップ19に設けられワイヤー11と異なる第1の材質を有するボンディングパッド(第1接続端子、図示せず)に向かって降下する。この時、初期ボール16はキャピラリー12内に捕捉される。
半導体チップ19のボンディングパッドに初期ボール16が接触すると、キャピラリー12が初期ボール16をグリップし、初期ボール16に熱・荷重・超音波を与える。初期ボール16が圧着されて、圧着ボール20となり、半導体チップ19のボンディングパッドと固相拡散接合される。これにより、ワイヤー11と半導体チップ19とが接合する1stボンドが形成される(ステップS12、図3(c))。
第1の材質は、例えばアルミニウム(Al)を主成分とする金属である。アルミニウム(Al)を主成分とする金属とは、例えばAlに数パーセントのシリコン(Si)を混ぜた合金である。
キャピラリー12は、所定の高さまで上昇した後、ワイヤー11と異なる第2の材質を有する接続端子18(第2接続端子)の真上まで移動する。このとき、安定したループを形成するため、キャピラリー12の軌跡によりワイヤー11に「くせ」を付ける動作を行う(ステップS13、図4(a))。
第2の材質は、第1の材質と同じであることが望ましい。然し、第2の材質は、第1の材質と異なっていても構わない。
接続端子18の真上に至ったキャピラリー12は、接続端子18に向かって降下し、ワイヤー11を接続端子18に押付ける。これと同時に、その押付け部位に熱・荷重・超音波を与え、それによってワイヤー11を変形させ、ワイヤー11を接続端子18に接合させるためのステッチボンド(図示せず)と、次のステップでテール11aを確保するテールボンド(図示せず)を形成する(ステップS14、図4(b))。
ステッチボンドおよびテールボンドを形成した後、キャピラリー12はワイヤー11を残したまま上昇し、キャピラリー12の先端に一定の長さのテール11aを確保する(ステップS15、図4(c))。
その後、クランプ15を閉じて、ワイヤー11をつかんで、テールボンドの部分からワイヤー11を引きちぎる。キャピラリー12は、所定の高さまで上昇し停止する(ステップS16、図5(a))。
ここまでの工程で、1本のワイヤーボンディングが終了する。全てのワイヤーボンディングが完了していない場合は(ステップS17のNo)、ステップS10に戻る。全てのワイヤーボンディングが完了した場合は(ステップS17のYes)、ワイヤーボンディングを終了する。
図6および図7を用いて本実施形態のワイヤーボンディング方法と比較例のワイヤーボンディング方法とを対比して説明する。比較例のワイヤーボンディング方法とは、1回のスパークで初期ボールを形成するワイヤーボンディング方法のことである。
図6は初期ボールの形成工程を示す図で、図6(a)が本実施形態の初期ボールの形成工程を示す図、図6(b)が比較例の初期ボールの形成工程を示す図である。図7は電気トーチのスパークを示すタイミングチャートで、図7(a)は本実施形態のスパークを示すタイミングチャート、図7(b)は比較例のスパークを示すタイミングチャートである。
図6(a)、(b)に示すように、スタート時、テール11aには曲り11bが生じており、電極材(異種金属)の付着物11cが付着した状態にある。
始めに、比較例のワイヤーボンディング方法について説明する。
図6(b)に示すように、比較例のワイヤーボンディング方法では、曲り11bおよび付着物11cが付着した状態で、電気トーチ14によりスパーク33を印加して、初期ボール34を1ステップで形成している。
図7(b)に示すように、時間t1で電気トーチ14に電流I3を流してスパーク33を発生させ、時間t5でスパーク34を停止させる。スパーク持続期間ΔT3=t5−t4で、テール11aの曲り11cおよび付着物11cの熔融除去と、テール11aの熔融が並んで進行する。以後、スパーク持続期間を単に期間とも称する。
従って、スパーク33には、予めテール11aの曲り11bおよび付着物11cを熔融除去しながらテール11aを熔融するだけのエネルギーを設定しておくことが必要である。
然しながら、テール11aの曲り11bおよび付着物11cの状態は一定とは限らない。テール11aの曲がり11bおよび付着物11cの状態に応じて、電気トーチ14とテール11aの先端との距離が変化するので、予め所定のエネルギーにセットしておくだけでは初期ボール34の形状や大きさが一定せず、安定した初期ボール34が得られない。
テール11aの曲り11bおよび付着物11cが過大のときは、テール11aの曲り11bおよび付着物11cの熔融に多くのエネルギーが費やされ、テール11aを熔融するエネルギーが不足する。逆に、テール11aの曲り11bおよび付着物11cが過小のときは、テール11aを熔融するエネルギーが過大になる。
即ち、テール11aの曲がり11bおよび付着物11cの状態に応じて、電流I3の適切な値が変わるので、予め電流I3を好ましい値にセットしておくことが難しい。
一方、本実施形態のワイヤーボンディング方法では、まず第1エネルギーP1を有する第1スパーク31を印加して、テール11aの曲り11bおよび付着物11cを熔融除去し、次に第1エネルギーP1より大きい第2エネルギーP2を有する第2スパーク32を印加して、テール11aを熔融することにより、初期ボール16を2ステップで形成している。
図7(a)に示すように、時間t1で電気トーチ14に電流I1を流してスパーク31を発生させ、時間t2でスパーク31を停止させ、時間t3で電気トーチ14に電流I2を流してスパーク32を発生させ、時間t4でスパーク32を停止させる。
期間ΔT1=t2−t1で、テール11aの曲り11bおよび付着物11cが熔融除去され、期間ΔT2=t3−t4で、テール11aが熔融する。テール11aの曲り11bおよび付着物11cが熔融する期間ΔT1とテール11aが熔融する期間ΔT2とが独立している。
従って、第1スパーク31は、テール11aを熔融しない範囲で、できるだけ大きな第1エネルギーP1を有することかできる。テール11aの曲り11bおよび付着物11cの状態が一定でなくても、テール11aの曲り11bおよび付着物11cを熔融除去することが容易になる。
これにより、テール11aの状態を一定に保つことが可能である。テール11aの曲がり11bおよび付着物11cの状態に影響されず、電気トーチ14とテール11aの先端との距離が一定に保たれる。
第2スパーク32は、電気トーチ14とテール11aの先端との距離が一定なので、予めテール11aを熔融できるだけの第2エネルギーP2を有していればよい。
即ち、予め第1、第2エネルギーP1、P2を好ましい値にセットしておくだけで初期ボール16の形状や大きさが一定になり、安定した初期ボール16が得られる。
尚、第1スパーク31と第2スパーク32との期間(t3−t2)が、初期ボール16の形成におよぼす影響は特に認められなかった。時間短縮のためには、できるだけ短くすると良い。
図8は本実施形態のワイヤーボンディング方法で、第1スパーク31および第2スパーク32を種々変化させて得られた初期ボールの評価結果を示す図である。
第1スパーク31は、電流I1を10〜30mA、期間ΔT1を1000〜1500μsecの間で変化させた。第2スパーク32は、電流I2を40〜60mAの間で変化させ、期間ΔT2は1100μsecと一定にした。
実施例1〜実施例6は、第1スパーク31を、電流I1=10mA、期間ΔT1を1000〜1500μsecとし、第2スパーク32を、電流I2=40mA、期間ΔT2を1100μsecとした場合である。
実施例7〜実施例12は、第1スパーク31を、電流I1=20mA、期間ΔT1を1000〜1500μsecとし、第2スパーク32を、電流I2=40mA、期間ΔT2を1100μsecとした場合である。
実施例13〜実施例18は、第1スパーク31を、電流I1=30mA、期間ΔT1を1000〜1500μsecとし、第2スパーク32を、電流I2=40mA、期間ΔT2を1100μsecとした場合である。
実施例19〜実施例24は、第1スパーク31を、電流I1=20mA、期間ΔT1を1000〜1500μsecとし、第2スパーク32を、電流I2=50mA、期間T2を1100μsecとした場合である。
実施例25〜実施例30は、第1スパーク31を、電流I1=20mA、期間ΔT1を1000〜1500μsecとし、第2スパーク32を、電流I2=60mA、期間ΔT2を1100μsecとした場合である。
尚、第1スパーク31および第2スパーク32を印加するときは、テール11aの酸化を防止するために、不活性ガス、例えば窒素(N2)ガスを吹き付けながら行うと良い。
第1スパーク31を印加した後に、テール先端の直進性および酸化の有無を評価し、第2スパーク32を印加した後に、初期ボールの偏心および真球性について評価した。それぞれの評価は、該当部分を顕微カメラで撮影し、画像解析とカラー写真判定により行った。
図8に示すように、テールボンド形成後のテール先端状態に関して、実施例1〜実施例6では、第1スパーク31でテール先端の付着物11c(AlまたはAl合金)の残存率が高く、テール先端の曲り11bも解消できないない結果となった。但し、テールの酸化は認められず、光沢も失われていなかった。
実施例12〜実施例30では、第1スパーク31の段階で小さな初期ボールが形成しつつあり、第2スパーク32時に初期ボールが歪な形状になり、外観(偏心、真球性)不良となった。また、テールの酸化が認められ、光沢は失われていた。
実施例7〜実施例11では、第1スパーク31でテール先端の付着物11c(AlまたはAl合金)の残存率が低く、テール形状も曲り11b等が解消されて真っ直ぐな状態になった。この状態で、第2スパーク32を行うため、良好な初期ボール16が形成されることが確認された。また、テールの酸化は認められず、光沢も失われていなかった。
実施例7〜実施例11において、第1スパーク31は、電流(A)と持続期間(sec)の積で20〜30μA・secの範囲内にあり、第2スパーク32は44μA・secである。第1スパーク31と第2スパーク32との比は、おおよそ1.5〜2.5の範囲内にある。
中でも、実施例9の条件がより好ましい結果であった。従って、第1スパーク31を、電流I1=20mA、期間ΔT1を1200μsecとし、第2スパーク32を、電流I2=40mA、期間ΔT2を1100μsecとするとよい。
尚、第1スパーク31および第2スパーク32の電流と持続期間との積は、それぞれ第1エネルギーP1および第2エネルギーP2に相当するものである。
次に、本実施形態のワイヤーボンディング方法を適用した電子部品の一例について説明する。図9は本実施形態のワイヤーボンディング方法を用いたサーマルプリントヘッドを示す図で、図9(a)はその平面図、図9(b)はV1−V1線に沿って切断し矢印方向に眺めた断面図である。図10はサーマルプリントヘッドのワイヤーボンディング状態を示す図で、図10(a)はその平面図、図10(b)はその断面図である。
図9および図10に示すように、サーマルプリントヘッド110は、記録媒体に画像が形成可能な主走査方向S1に長い長尺型のヘッドユニット111を有している。ヘッドユニット111は、放熱板112、ヘッド基板113、回路基板114及び複数の駆動用IC115を有している。
放熱板112は、アルミニウム等の放熱性の良い金属製で、主走査方向S1と直交する副走査方向S2の放熱板一端面112A及び当該副走査方向S2とは反対方向(以下、これを副走査反対方向とも呼ぶ)の放熱板他端面112Bがほぼ平行で、ほぼ均一な厚みを有する主走査方向S1に長い平板状に形成されている。
また放熱板112の副走査反対方向の放熱板他端部は、回路基板114が配置される回路基板配置部となり、主走査方向S1に長い長方形状に形成されている。そして放熱板112は、一面に回路基板114及びヘッド基板113が、副走査方向S2へ順に並べて配置されている。
ヘッド基板113は、主走査方向S1に長く、副走査方向S2のヘッド基板一端面113A及び副走査反対方向のヘッド基板他端面113Bがほぼ平行である。
実際にヘッド基板113は、Al等のセラミックにより直方体状に形成された支持基板116を有し、当該支持基板116の外形が、そのままヘッド基板113の外形になっている。支持基板116は、一面にSiO等のガラス膜でなるグレーズ層117が設けられている。
そしてグレーズ層117の一面には、副走査方向S2に長い複数の発熱抵抗体118が主走査方向S1へ順に所定の基板内抵抗体配置間隔で配置されている。またグレーズ層117の一面には、複数の発熱抵抗体118において副走査方向S2に沿った両端部に共通電極119及び個別電極120が配置され、これら複数の発熱抵抗体118と共通電極119及び個別電極120とにより発熱素子が形成されている。これによりヘッド基板113は、主走査方向S1に沿った帯状の部分が、共通電極119及び個別電極120間で複数の発熱抵抗体118が発熱する発熱領域121になっている。
またグレーズ層117の一面には、複数の発熱抵抗体118、共通電極119及び個別電極120を覆う保護膜122が形成されている。
なお図9(a)には、ヘッド基板113に配置される複数の発熱抵抗体118として、発熱領域121を形成する共通電極119及び個別電極120間の抵抗体電極間部分を実線で示している。そしてヘッド基板113は、放熱板112のヘッド基板配置部の一面に、両面テープ又はシリコン樹脂等の熱可塑性の樹脂である接着剤123を介して支持基板116の他面が接着されている。
回路基板114は、主走査方向S1に長いプリント配線基板として形成され、又はそれぞれ主走査方向S1に長いセラミック板にフレキシブル基板が貼着されて形成されている。そして回路基板114は、放熱板112の回路基板配置部の一面に両面テープまたは接着剤123を介して他面が接着されている。因みに回路基板114には、ヘッド基板113と駆動用IC115を介して電気的に接続される接続回路が形成され、外部から当該接続回路に駆動電力及び制御信号を入力するコネクタ(図示せず)が実装されている。
複数の駆動用IC115は、それぞれ一面に複数の第1端子及び第2端子が設けられ、発熱素子を制御可能なスイッチング機能を有する制御素子である。そして複数の駆動用IC115は、例えば回路基板114の一面の副走査方向S2の一端部(すなわちヘッド基板113との境界部分)に、主走査方向S1に沿って順に並べて配置されている。
複数の駆動用IC115は、複数の第1端子が複数のボンディングワイヤ124を介して個別電極120と電気的に接続されている。また複数の駆動用IC115は、複数の第2端子が複数のボンディングワイヤ125を介して、回路基板114の接続回路に形成された対応する基板電極(図示せず)と電気的に接続されている。
そして複数の駆動用IC115は、複数のボンディングワイヤ124、125と共にヘッド基板113の一面及び回路基板114の一面の境界付近に、エポキシ樹脂からなる封止体126によって封止されている。
ワイヤー11として、例えば直径23μmの銅ワイヤーを用い、0.5mm〜3mmのロングスパンでワイヤー124をボンディングした場合、ワイヤー124の曲がりは認められなかった。一般的な金(Au)ワイヤーに比べて直線性は良好であった。
直線性が良好なので、複数のワイヤー124が平行に配置され、ピッチが19μm〜110μmと狭くても、ワイヤー124同士が接触する恐れはない。高密度ボンディングに適している。
以上説明したように、本実施形態のワイヤーボンディング方法は、テール11aの先端に第1エネルギーP1を有する第1スパーク31を印加し、第1エネルギーP1より大きい第2エネルギーP2を有する第2スパーク32を印加して、ワイヤー11aの先端に初期ボール16を形成している。
その結果、テール11aの曲り11bおよび電極材の付着物11cを熔融除去するための第1エネルギーP1と、テール11aを熔融するための第2エネルギーP2とを独立に最適化することができる。
従って、予め第1、第2エネルギーを好ましい値にセットしておくだけで初期ボール16の形状や大きさが一定になり、安定した初期ボール16が得られる。
ここでは、本実施形態のワイヤーボンディング方法を適用した電子部品がサーマルプリントヘッドである場合について説明したが、特に限定されるものではなく、ワイヤーと第1、第2接続端子との材質が異なるものであれば同様に適用することかできる。
(実施形態2)
本実施形態に係るワイヤーボンディング方法について図11および図12を用いて説明する。図11は本実施形態のワイヤーボンディング方法を示すフローチャート、図12はワイヤーボンディング工程の要部を示す図である。
本実施形態が実施形態1と同様の部分の説明は省略し、異なる点について説明する。本実施形態が実施形態1と異なる点は、2ndボンドを2回行うようにしたことにある。
即ち、図11に示すように本実施形態のワイヤーボンディング方法は、ワイヤー11を接続端子18に接合する工程(ステップS14)とワイヤー11を接続端子18から切り離す工程(ステップS15、S16)との間に、2回目の2ndボンドを行うものである。
始めに、クランパー15を開いた状態で、キャピラリー12を上昇させて短いテール11aを形成する(ステップS20、図12(a))。
キャピラリー12を、半導体チップ19側に所定量だけ移動する(ステップS21、図12(b))。
キャピラリー12を降下させ、テール11aを接続端子18に既接合のワイヤー11に重なるように押し付ける。これと同時に、その押付け部位に熱・荷重・超音波を与え、それによってワイヤー11を変形させ、ワイヤー11を既接合のワイヤー11に接合させるためのステッチボンド(図示せず)と、次のステップでテール11aを確保するテールボンド(図示せず)を形成する(ステップS22、図12(c))。
ワイヤー11上でテールカットしているので、テールボンドは、例えばアルミニウム(Al)を主成分とする接続端子18に接触していない。テール11aにアルミニウム等の異種金属が付着するのを低減することができる。第1スパーク31により、テール11aの付着物11cの熔融除去が容易になる。第1スパーク31は、主にテール11aの曲り11bを熔融除去するだけでよい。
さらに、2ndボンドを2回行うとステッチが厚くなるので、図10に示すワイヤー124の引っ張り強度が向上することが認められた。
以上説明したように、本実施形態のワイヤーボンディング方法では、2ndボンドを2回行っている。その結果、テール11aへの異種金属の付着が低減できる。従って、第1スパーク31によるテール11aの付着物11cの熔融除去が容易になる。
以上、いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
なお、以下の付記に記載されているような構成が考えられる。
(付記1) 前記ワイヤーは、パラジウム(Pd)メッキおよび金(Au)メッキが施された銅ワイヤーであり、前記第1接続端子および第2接続端子は、アルミニウム(Al)とシリコン(Si)の合金である請求項4に記載のワイヤーボンディング方法。
(付記2) 前記第1スバークの電流と持続時間との積と前記第2スパークの電流と持続時間との積との比は、1.5〜2.5の間にある請求項1記載のワイヤーボンディング方法。
(付記3) 前記第1スバークの電流と持続時間との積が20〜30μA・secであり、前記第2スバークの電流と持続時間との積が44μA・secである請求項1記載のワイヤーボンディング方法。
10 ボンディング装置
11 ワイヤー
11a テール
11b 曲がり
11c 付着物
12 キャピラリー
13、33 スパーク
14 電気トーチ
15 クランパー
16、34 初期ボール
17 配線基板
18 接続端子
19 半導体チップ
20 圧着ボール
31、32 第1、第2スパーク
110 サーマルプリントヘッド
111 ヘッドユニット
112 放熱板
113 ヘッド基板
114 回路基板
115 駆動用IC
124、125 ボンディングワイヤ

Claims (6)

  1. キャピラリーに挿通されたワイヤーの先端に第1エネルギーを有する第1スパークを印加し、前記第1エネルギーより大きい第2エネルギーを有する第2スパークを印加して、前記ワイヤーの先端に初期ボールを形成する工程と、
    前記キャピラリーを配線基板に載置された半導体チップの上方に移動して降下させ、前記初期ボールを前記半導体チップに設けられ前記ワイヤーと異なる第1の材質を有する第1接続端子に接合する工程と、
    前記キャピラリーを前記配線基板に設けられ前記ワイヤーと異なる第2の材質を有する第2接続端子の上方に移動して降下させ、前記ワイヤーを前記第2接続端子に接合する工程と、
    前記キャピラリーを上昇させ、前記ワイヤーが前記キャピラリーに挿通された状態で前記ワイヤーを前記第2接続端子から切り離す工程と、
    を具備するワイヤーボンディング方法。
  2. 前記第1スパークにより、前記ワイヤーの前記先端の状態を補正し、前記第2スパークにより、前記ワイヤーの補正された前記先端を熔融する請求項1記載のワイヤーボンディング方法。
  3. 前記先端の状態の補正は、前記先端の曲りおよび付着物の熔融除去を含む請求項2記載のワイヤーボンディング方法。
  4. 前記ワイヤーは銅を主成分とし、前記第1の材質および前記第2の材質はアルミニウムを主成分とする請求項1乃至3記載のワイヤーボンディング方法。
  5. 前記初期ボールを形成する工程乃至前記ワイヤーを前記第2接続端子から切り離す工程を繰り返す請求項1乃至4記載のワイヤーボンディング方法。
  6. 前記ワイヤーを前記第2接続端子に接合する工程と前記ワイヤーを前記第2接続端子から切り離す工程との間に、前記キャピラリーを上昇させ、前記半導体チップ側に所定量だけ移動して降下させ、前記ワイヤーを前記第2接続端子に接合されている前記ワイヤーに重なるように押し付けて、前記ワイヤーを前記第2接続端子に接合する工程を更に具備する請求項1乃至5記載のワイヤーボンディング方法。
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