JP2019028086A - 露光装置および露光方法 - Google Patents

Abstract

【課題】露光装置において、千鳥配列された複数の投影光学系を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらを低減することができるようにする。【解決手段】露光装置１００は、第１の露光光Ｌ１Ａ、Ｌ１Ｂを発生する主照明光源２と、第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成され、複合開口領域と、単独開口領域と、が交互に形成されている視野絞り３と、第１の露光光Ｌ１Ａ、Ｌ１Ｂによる光像を、それぞれ被露光体６に投影する複数の第１の投影光学系と、主照明光源２に対して第１の方向に隣り合うように配置され、フォトマスク１に照射する第２の露光光Ｌ２Ａ、Ｌ２Ｂを発生する追加露光用照明光源８と、光量補正領域に限って、第２の露光光Ｌ１２Ａ、Ｌ１２Ｂを被露光体６に照射する補正露光部と、を備える。【選択図】図１

Description

本発明は、露光装置および露光方法に関する。

例えば液晶装置などに用いられる大型基板にパターン形成を行う装置として走査型露光装置が知られている。
このような走査型露光装置の一例としては、特許文献１に記載の露光装置が挙げられる。
特許文献１に記載の露光装置では、照明光でマスクを照明し、マスクに形成されたパターンの像を複数の投影光学系によって被露光体であるプレートに露光する。
マスクとプレートとは、同期して同速度で、投影光学系に対してＸ方向に移動することができる。投影光学系は、それぞれ正立等倍実結像系で構成され、Ｘ方向に直交するＹ方向に沿って千鳥配列されている。
照明光は、各投影光学系の各光軸上に配列されたＸ方向において二辺が対向する平行四辺形の視野絞りを通して、マスクに照射される。各視野絞りは、Ｙ方向における対辺が、走査方向であるＸ方向から見て重なる位置関係に配置されている。
各投影光学系は、マスクに形成されたパターンの画像を、平面視において千鳥配列された複数の平行四辺形状の光像として、プレートに投影する。しかし、各投影光学系に対してマスクおよびプレートがＸ方向に移動することによって、各光像がプレートの表面をＸ方向に走査する。このため、Ｘ方向の走査が終了すると、マスクの全面の画像によってプレートが露光される。
このような露光装置では、走査方向において、単一の視野絞りを通過した光によって露光される第１の領域と、Ｙ方向に隣り合う２つの視野絞りを通過した光によって露光される第２の領域とが発生する。各視野絞りの形状および配列は、第１の領域における走査露光量と、第２の領域における走査露光量とが等しくなるように設定されている。
特許文献１の露光装置は、照度センサによって、照明光の照明強度も各視野絞り上で光強度が均一になるように制御する。
このような露光装置は、マスクに形成されたパターンを、プレートに正確に転写することによって、マスクのパターンをプレート上に複製している。

特許文献２に記載の投影露光方法では、走査型露光装置において、投影光学系の投影領域の重ね合わせ誤差に起因する「画面分かれ」を抑制するため、レクチルのパターンの描画位置と基板の搬送位置とを光学系の光軸に垂直かつ走査方向に垂直な方向に所定量ずらすことが記載されている。

特開平１１−１６０８８７号公報 特開平１０−６２８０９号公報

しかしながら、上記のような従来の走査型露光装置では、種々の要因によって、マスクにおけるパターンとプレート上の露光パターンとの間に、製造誤差が生じる。
例えば、マスクに均一性が高い格子状パターンを有する場合、個々のパターンの線幅同士を比較しても視認困難な変動であっても、一定の領域における線幅が全体的に変化していると、濃淡むらとして容易に視認できてしまう場合がある。例えば、液晶装置に用いられるカラーフィルタのブラックマトリクスパターンなどは、特にこのようなムラが視認されやすい。
このため、露光装置の走査方向に沿って発生するパターンの線幅などの変動は抑制される必要がある。
本発明者は、上述のような走査型露光装置において、各視野絞りに対応する各露光光量を正確に一致させても、視野絞りの配置ピッチに対応するピッチでパターンの濃度むらが発生する現象を発見した。本発明者がこの現象を鋭意検討したところ、この濃度むらは、走査方向に延びる帯状の領域でパターンの線幅がわずかに狭くなっているために発生していることが分かった。さらに、濃度むらが発生する領域は、隣り合う視野絞りによる露光領域が重なる継ぎ目領域であることも分かった。
この問題は、複数の投影光学系を用いる走査型露光装置に特有の問題である。例えば、液晶装置の高精細化などの要求が高まるにつれて、このような線幅のむらをさらに低減していく技術が強く求められている。
このような継ぎ目領域における濃度むらは、例えば、特許文献２における「画面分かれ」とは異なる現象であり、特許文献２に記載の方法では解決されない。

本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、千鳥配列された複数の投影光学系を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらを低減することができる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するために、本発明の第１の態様の露光装置は、第１の露光光を発生する第１の光源と、平面視において第１の軸線に沿う第１の方向の開口量が前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定となるように、前記第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成され、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、が前記第２の方向において交互に形成されており、前記第１の光源と露光用フォトマスクとの間に前記複数の開口部が位置するように配置された絞り部材と、前記絞り部材の前記複数の開口部のそれぞれと対向して配置され、前記複数の開口部のそれぞれを透過した前記第１の露光光による光像を、それぞれ露光対象物に投影する複数の第１の投影光学系と、前記第１の光源に対して前記第１の方向に隣り合うように配置され、前記露光用フォトマスクに照射する第２の露光光を発生する第２の光源と、前記露光用フォトマスクから前記露光対象物までの間の前記第２の露光光の光路上に配置され、前記露光用フォトマスクを透過した前記第２の露光光の前記露光対象物への照射範囲を、平面視において前記第２の方向における前記複合開口領域の幅が前記第１の方向に延長された領域である光量補正領域に限って、前記第２の露光光を照射する補正露光部と、を備える。

上記第１の態様の露光装置においては、前記補正露光部は、前記光量補正領域における前記第２の露光光の前記第１の方向における積算光量を、前記第２の方向における前記光量補正領域の両端部よりも中心部が高くなるように前記第２の露光光を照射してもよい。

上記第１の態様の露光装置においては、前記補正露光部は、前記第２の露光光を前記露光対象物に向けて投影する第２の投影光学系と、前記露光用フォトマスクと前記露光対象物との間で、前記第２の露光光を前記光量補正領域の範囲に規制する光透過量規制部材と、を備えてもよい。

上記第１の態様の露光装置においては、前記光透過量規制部材は、前記第２の投影光学系と前記露光対象物との間に配置されてもよい。

上記第１の態様の露光装置においては、前記光透過量規制部材は、光減衰フィルタを含んでもよい。

上記第１の態様の露光装置においては、前記光透過量規制部材は、開口絞りを含んでもよい。

上記第１の態様の露光装置においては、前記光透過量規制部材は、液晶シャッターを含んでもよい。

本発明の第２の態様の露光方法は、平面視において第１の軸線に沿う第１の方向の開口量が前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定となるように、前記第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成され、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、前記第２の方向において交互に形成された絞り部材を準備することと、前記絞り部材の前記複数の開口部を透過する第１の露光光を、露光用フォトマスクおよび露光対象物に対して前記第１の方向に相対走査することによって、前記第１の露光光による前記露光用フォトマスクの光像を前記露光対象物に投影する第１の露光を行うことと、前記第１の露光の前または後に、第２の露光光を、前記露光用フォトマスクに照射し、前記露光用フォトマスクを透過した前記第２の露光光を前記露光用フォトマスクおよび前記露光対象物に対して前記第１の方向に相対走査することによって、前記第２の露光光による前記露光用フォトマスクの光像を前記露光対象物に投影する第２の露光を行うことと、前記第２の露光を行う際に、平面視において前記第２の方向における前記複合開口領域の幅が前記第１の方向に延長された領域である光量補正領域に限って前記第２の露光光を前記露光対象物に照射することと、を含む。

本発明の露光装置および露光方法によれば、千鳥配列された複数の投影光学系を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらを低減することができる。

本発明の第１の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。 図１におけるＡ視の平面図である。 本発明の第１の実施形態の露光装置に用いる露光用フォトマスクの一例を示す模式的な平面図である。 本発明の第１の実施形態の露光装置に用いる露光用フォトマスクのマスクパターンの一例を示す模式的な拡大図である。 本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる視野絞りの一例を示す模式的な平面図である。 本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる補正用露光部の一例を示す模式的な部分断面図である。 本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。 図７におけるＢ−Ｂ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。 本発明の第１の実施形態の露光方法における第１の露光について説明する模式図である。 第１の露光における実効的な露光量について説明する模式図である。 本発明の第１の実施形態の露光方法における第２の露光について説明する模式図である。 第２の露光における積算光量について説明する模式的なグラフである。 第１の露光および第２の露光による実効的な全露光量について説明する模式的なグラフである。 本発明の第２の実施形態の露光装置の主要部の一例を示す模式的な平面図およびＤ−Ｄ断面図である。 本発明の第２の実施形態の露光装置に用いられる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。 図１５におけるＥ−Ｅ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。 本発明の第３の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図およびそのＦ視の平面図である。 本発明の第４の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図およびそのＧ視の平面図である。 本発明の第５の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。 本発明の第５の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。 本発明の第６の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。 本発明の第６の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。 本発明の第７の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の主要部の一例を示す模式的な平面図である。 本発明の第８の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な部分断面図およびそのＨ視の拡大図である。

以下では、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。すべての図面において、実施形態が異なる場合であっても、同一または相当する部材には同一の符号を付し、共通する説明は省略する。

［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態の露光装置について説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。図２は、図１におけるＡ視の平面図である。図３は、本発明の第１の実施形態の露光装置に用いる露光用フォトマスクの一例を示す模式的な平面図である。図４は、本発明の第１の実施形態の露光装置に用いる露光用フォトマスクのマスクパターンの一例を示す模式的な拡大図である。図５（ａ）、（ｂ）は、本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる視野絞りの一例を示す模式的な平面図である。
なお、各図面は模式図のため、形状および寸法は誇張されている（以下の図面も同様）。

図１、２に示す露光装置１００は、複数の投影光学系によって、フォトマスク１（露光用フォトマスク、図１参照）の露光用パターンを被露光体６（露光対象物）に等倍走査露光する走査型露光装置である。
露光装置１００の詳細構成について説明する前に、フォトマスク１の一例について説明する。

図３に示すように、フォトマスク１は、光透過性基板１Ａと、マスク部１Ｂと、を備える。
光透過性基板１Ａは、露光装置１００の照明光を透過できる光透過性を有する適宜の基板の使用が可能である。例えば、光透過性基板１Ａは、ガラス基板によって構成されてもよい。光透過性基板１Ａの外形は特に限定されない。図３に示す例では、光透過性基板１Ａの外形は平面視矩形状である。

マスク部１Ｂは、露光装置１００によって被露光体６に投影される露光用パターンとなるマスクパターンＰを備える。マスクパターンＰは、例えば、光透過性基板１Ａ上に積層された金属などの遮光層がパターニングされて構成される。
等倍露光の露光装置１００に用いるマスクパターンＰは、被露光体６に形成する露光パターンと同一の形状にすればよい。
マスクパターンＰは、光透過性基板１Ａの表面において、光透過性基板１Ａの長辺に沿うｙ方向と、光透過性基板１Ａの短辺に沿うｘ方向と、に２次元的に形成されている。
光透過性基板１Ａ上におけるマスクパターンＰの位置を記述するため、ｘ方向にはｘ座標軸が、ｙ方向にはｙ座標軸がそれぞれ設定されている。図３では、一例として、光透過性基板１Ａの外形の一頂点を原点Ｏとするｘ座標軸とｙ座標軸とが設定されている。ただし、ｘｙ座標系の原点Ｏは、光透過性基板１Ａにおける適宜の位置に設定されていてもよい。

マスクパターンＰの具体的な形状は、露光パターンに必要な適宜の形状である。
以下では、マスクパターンＰの一例として、光透過部の平面視形状が矩形格子の場合の例で説明する。このような矩形格子状の露光パターンは、例えば、液晶装置におけるカラーフィルタに用いられるブラックマトリクス（ＢＭ）を形成するために用いられてもよい。

図４にマスクパターンＰの拡大図を示す。
マスクパターンＰは、平面視矩形状の遮光部１ｂが、ｘ方向およびｙ方向において矩形格子状に配列されている。例えば、遮光部１ｂの配列ピッチは、ｘ方向ではＰ_ｘ、ｙ方向ではＰ_ｙである。例えば、フォトマスク１がＢＭ形成用の場合には、ピッチＰ_ｘ（Ｐ_ｙ）は、ｘ方向（ｙ方向）におけるサブ画素の配列ピッチに一致している。
各遮光部１ｂの間には、光透過性基板１Ａ（図３参照）の表面が露出した光透過部１ａが形成されている。光透過部１ａは、ｘ方向に延びる第１線状部１ａ_ｘと、ｙ方向に延びる第２線状部１ａ_ｙとに分けられる。
第１線状部１ａ_ｘは、一定の線幅Ｌ_１ｙを有する。同じく第２線状部１ａ_ｙは、一定の線幅Ｌ_１ｘを有する。例えば、フォトマスク１がＢＭ形成用の場合には、線幅Ｌ_１ｙ、Ｌ_１ｘは、それぞれ、ｙ方向、ｘ方向におけるＢＭの線幅に等しい。

ここで、露光装置１００の説明に戻る。
図１、２に示すように、露光装置１００は、ベース７、第２の駆動部１１、第１の駆動部１０、主照明光源２（第１の光源）、視野絞り３（絞り部材）、投影光学ユニット５、追加露光用照明光源８（第２の光源）、および追加露光用投影光学ユニット９（補正露光部）を備える。

ベース７は、被露光体６を載置するため、水平方向に配置された平坦な上面７ａを有している。図１に示すように、ベース７は、第２の駆動部１１によって水平方向のうちＹ方向（第１の方向、図示左側から右側に向かう方向）に移動可能に支持されている。第２の駆動部１１の構成は特に限定されない。例えば、第２の駆動部１１は、Ｙ方向において往復移動可能な１軸ステージで構成されてもよい。ただし、第２の駆動部１１は、ベース７を水平面においてＹ方向に直交するＸ方向（第２の方向、図１における紙面奥から手前に向かう方向）に移動できるように構成されてもよい。
図２に示すように、本実施形態では、ベース７の移動方向は、水平方向のうちＹ方向（図２の左から右に向かう方向）に延びる軸線Ｏ_５（第１の軸線）に沿う方向である。
第２の駆動部１１は、図示二点鎖線で示すように、ベース７をＹ方向における移動限度まで移動した後、ベース７をＹ方向と反対に移動して移動開始位置に戻すことができる。

被露光体６には、露光装置１００によって、フォトマスク１のマスクパターンＰの光像に基づいた露光パターンが露光される。被露光体６は、上面７ａよりも小さく、フォトマスク１以下の大きさの矩形板状に形成されている。被露光体６は、その長手方向がＹ方向と一致するように、上面７ａ上に載置される。
被露光体６は、適宜の基板上に、フォトリソグラフィを行うための感光性のレジストが塗布されて構成される。

図１に示すように、露光装置１００において、フォトマスク１は、ベース７に載置された被露光体６と対向する位置に配置される。フォトマスク１は、第１の駆動部１０によって駆動可能に設けられた図示略の支持部によって支持される。第１の駆動部１０は、図示略の支持部をベース７の上面７ａと一定の間隔を保つように、ベース７と同期して平行移動できるようになっている。第１の駆動部１０は、第２の駆動部１１と同様、Ｙ方向に移動可能な１軸ステージ、ＸＹ方向に移動可能な２軸ステージなどが用いられてもよい。
露光装置１００におけるフォトマスク１は、ｙ座標軸の正方向がＹ方向と反対向きとされ、ｘ座標軸がＸ方向に沿うように配置される。

主照明光源２は、被露光体６を露光するため、被露光体６上のレジストを感光させる波長を有する照明光（第１の露光光）を発生する。主照明光源２は、フォトマスク１の移動領域の上方において図示略の支持部材によって固定支持されている。主照明光源２は、鉛直下方に照明光を照射する。

視野絞り３は、主照明光源２と、フォトマスク１の移動領域との間に配置される。視野絞り３は、図示略の支持部材によって固定支持されている。視野絞り３は、主照明光源２が照射する照明光を整形し、照明光を複数の照明領域に分割する。
図５（ａ）に示すように、視野絞り３は、Ｘ方向にｗ_１＋ｗ_２（ただし、ｗ_１＜ｗ_２）のピッチで配列された複数の第１開口部３Ａと、Ｙ方向にΔ（ただしΔ＞ｈ／２）だけ平行にずれた軸線上でＸ方向にｗ_１＋ｗ_２のピッチで配列された複数の第２開口部３Ｂと、を有する。

第１開口部３Ａの平面視形状は、頂角が直角でない等脚台形である。第１開口部３Ａは、第１辺３ａ、第２辺３ｂ、第３辺３ｃ、および第４辺３ｄで構成される。第１辺３ａは等脚台形の上底であり、第２辺３ｂは等脚台形の下底である。第１辺３ａ、第２辺３ｂの長さはそれぞれｗ_１、ｗ_２である。第１辺３ａ、第２辺３ｂは、Ｙ方向においてｈだけ離れている平行線である。第３辺３ｃ、第４辺３ｄは、Ｘ方向においてこの順に配置された等脚台形の脚である。

第２開口部３Ｂの平面視形状は、平面視において第１開口部３Ａを１８０°回転した形状である。Ｘ方向における第２開口部３Ｂの位置は、第１開口部３Ａに対して（ｗ_１＋ｗ_２）／２だけずれている。このため、第２開口部３Ｂは、２つの第１開口部３Ａの間の中間点に対向する位置に配置されている。
このような配置により、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂは、Ｘ方向に延びる軸線Ｏ_３（第２の軸線）に沿って千鳥配列されている。
Ｙ方向から見ると、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂにおける第３辺３ｃ同士と、第４辺３ｄ同士とは互いに重なっている。Ｙ方向から見ると、第１開口部３Ａの第１辺３ａ（第２辺３ｂ）と第２開口部３Ｂの第２辺３ｂ（第１辺３ａ）とにおける端部は同じ位置にある。

視野絞り３をＹ方向に見ると、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂの一方のみが開口する単独開口領域ｒ_Ｓと、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂの両方が開口する複合開口領域ｒ_Ｃと、がＸ方向に交互に現れる。
視野絞り３では、単独開口領域ｒ_ＳのＸ方向における幅はｗ_１、複合開口領域ｒ_ＣのＸ方向における幅は（ｗ_２−ｗ_１）／２である。

視野絞り３における第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂの形状、配置は、後述する投影光学ユニット５の配列の都合などによって、適宜の大きさに設定されればよい。以下に、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂに関する具体的な寸法例を示す。
（ｗ_２−ｗ_１）／２は、例えば、１４ｍｍ以上１８ｍｍとされてもよい。ｈは、例えば、２５ｍｍ以上４５ｍｍとされてもよい。（ｗ_１＋ｗ_２）／２は、例えば、９５ｍｍ以上１００ｍｍ以下とされてもよい。Δは、例えば、２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下とされてもよい。

露光装置１００における視野絞り３は、例えば、図５（ｂ）に示す視野絞り４に置換されてもよい。
視野絞り４は、Ｘ方向に２ｗ_３のピッチで配列された複数の第１開口部４Ａと、Ｙ方向にΔだけ平行にずれた軸線上でＸ方向に２ｗ_２のピッチで配列された複数の第２開口部４Ｂと、を有する。

第１開口部４Ａの平面視形状は、頂角が直角でない平行四辺形である。第１開口部４Ａは、第１辺４ａ、第２辺４ｂ、第３辺４ｃ、および第４辺４ｄで構成される。第１辺４ａおよび第３辺４ｃは、Ｙ方向における対辺である。第３辺４ｃおよび第４辺４ｄは、Ｘ方向における対辺である。第１辺３ａ、第２辺３ｂの長さはそれぞれｗ_３である。第３辺３ｃ、第４辺３ｄの長さはそれぞれｗ_４（ただし、ｗ_４＜ｗ_３）である。

第２開口部４Ｂの平面視形状は、第１開口部４Ａと同じである。Ｘ方向における第２開口部４Ｂの位置は、第１開口部４Ａに対してｗ_３だけずれている。このため、第２開口部４Ｂは、２つの第１開口部４Ａの間の中間点に対向する位置に配置されている。
このような配置により、第１開口部４Ａおよび第２開口部４Ｂは、Ｘ方向に延びる軸線Ｏ_４（第２の軸線）に沿って千鳥配列されている。
Ｙ方向から見ると、第１開口部４Ａおよび第２開口部４Ｂにおける第３辺４ｃ同士と、第４辺４ｄ同士とは互いに重なっている。Ｙ方向から見ると、第１開口部４Ａの第１辺４ａ（第２辺４ｂ）と第２開口部４Ｂの第２辺４ｂ（第１辺４ａ）とにおける端部は同じ位置にある。

視野絞り４をＹ方向に見ると、第１開口部４Ａおよび第２開口部４Ｂの一方のみが開口する単独開口領域ｒ_Ｓと、第１開口部４Ａおよび第２開口部４Ｂの両方が開口する複合開口領域ｒ_Ｃと、がＸ方向に交互に現れる。
視野絞り４では、単独開口領域ｒ_ＳのＸ方向における幅は（ｗ_３−ｗ_４）、複合開口領域ｒ_ＣのＸ方向における幅はｗ_４である。
以下では、特に断らない限り、露光装置１００が視野絞り３を備える場合の例で説明する。

図１に示すように、投影光学ユニット５は、ベース７上の被露光体６よりも上方であって、かつ視野絞り３との間にフォトマスク１の移動領域を挟んで対向するように配置されている。投影光学ユニット５は、図示略の支持部材によって固定支持されている。
図２に示すように、投影光学ユニット５は、軸線Ｏ_３に沿って千鳥配列された複数の第１列投影光学系５Ａ（第１の投影光学系）と、複数の第２列投影光学系５Ｂ（第１の投影光学系）とを備える。

第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）は、物体像を像面に正立等倍像として結像する結像光学系である。第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）は、フォトマスク１のマスクパターンＰとレジストが塗布された被露光体６の上面とを互いに共役な位置関係にする位置に配置される。本実施形態では、第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）から被露光体６に向かう出射光は、平行光束になっている。
図５（ａ）に二点鎖線で示すように、第１列投影光学系５Ａは、第１開口部３Ａを透過する光の光像を被露光体６に投影できるように、第１開口部３Ａの下方に配置されている。第２列投影光学系５Ｂは、第２開口部３Ｂを透過する光の光像を被露光体６に投影できるように、第２開口部３Ｂの下方に配置されている。
第１列投影光学系５Ａ（第２列投影光学系５Ｂ）は、第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）を透過する光による光像を正立等倍像として、被露光体６に投影する。このため、第１開口部３Ａ（第２開口部３Ｂ）における単独開口領域ｒ_Ｓ、複合開口領域ｒ_Ｃの光像も、それぞれに鉛直方向に対向する被露光体６上に投影される。

第１列投影光学系５Ａおよび第２列投影光学系５Ｂは、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂと同様の千鳥配列の位置関係に配置されるために、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂの間の間隔は、第１列投影光学系５Ａおよび第２列投影光学系５Ｂが互いに干渉しないような寸法とされている。このため、第１開口部３Ａと第２開口部３Ｂとのｙ方向におけるピッチΔは、例えば、ｙ方向の開口幅ｈの６倍から８倍程度のような大きな値になる場合もある。

図５（ｂ）に示すように、視野絞り３に代えて視野絞り４が用いられる場合には、第１列投影光学系５Ａは、第１開口部４Ａを透過する光の光像を被露光体６に投影できるように、第１開口部４Ａの下方に配置されている。第２列投影光学系５Ｂは、第２開口部４Ｂを透過する光の光像を被露光体６に投影できるように、第２開口部４Ｂの下方に配置されている。

追加露光用照明光源８は、被露光体６を露光するため、被露光体６上のレジストを感光させる波長を有する照明光（第２の露光光）を発生する。追加露光用照明光源８は、フォトマスク１の移動領域の上方においてＹ方向において主照明光源２と隣り合う位置に、図示略の支持部材によって固定支持されている。追加露光用照明光源８は、鉛直下方に照明光を照射する。
図示は省略するが、追加露光用照明光源８は、必要に応じて照明光を後述する追加露光用投影光学ユニット９の各投影光学系のみに入射させる適宜の遮光部材を備える。

図１に示すように、追加露光用投影光学ユニット９は、ベース７上の被露光体６よりも上方であって、かつフォトマスク１の移動領域を挟んで対向するように配置されている。追加露光用投影光学ユニット９は、Ｙ方向において追加露光用照明光源８と隣り合う位置に、図示略の支持部材によって固定支持されている。
図２に示すように、追加露光用投影光学ユニット９は、軸線Ｏ_３に平行な軸線Ｏ_９に沿って千鳥配列された複数の第１列投影光学系９Ａと、複数の第２列投影光学系９Ｂと、を備える。

第２列投影光学系９Ｂは、第１列投影光学系９Ａと配置が異なるのみで第１列投影光学系９Ａと同様の構成を備える。以下では、第１列投影光学系９Ａの構成を中心として説明する。
図６は、本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる補正用露光部の一例を示す模式的な部分断面図である。図７は、本発明の第１の実施形態の露光装置に用いられる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。図８は、図７におけるＢ−Ｂ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。図８において横軸はＢ−Ｂ線に沿う位置、縦軸は透過率を表す。

図６に示すように、第１列投影光学系９Ａは、レンズユニット９ａ（第２の投影光学系）、フィルタ９ｂ（光透過量規制部材、光減衰フィルタ）、およびフィルタホルダ９ｃを備える。
レンズユニット９ａは、物体像を像面に正立等倍像として結像する結像光学系を構成するレンズと、レンズを保持する鏡筒と、を備えて構成される。レンズユニット９ａは、フォトマスク１のマスクパターンＰとレジストが塗布された被露光体６の上面とを互いに共役な位置関係にする位置に配置される。本実施形態では、レンズユニット９ａから被露光体６に向かう出射光は、平行光束になっている。
レンズユニット９ａは、投影光学ユニット５における第１列投影光学系５Ａと異なる構成が用いられてもよい。ただし、本実施形態では、第１列投影光学系５Ａ、第２列投影光学系５Ｂと同様の構成が用いられている。
例えば、第１列投影光学系９Ａのレンズユニット９ａは、第１列投影光学系５Ａと同様な構成が第１列投影光学系５ＡからＹ方向に距離δ１（図２参照）だけ平行移動した位置に配置されて構成されてもよい。同様に、第２列投影光学系９Ｂのレンズユニット９ａは、第２列投影光学系５Ｂと同様な構成が第２列投影光学系５Ｂから、Ｙ方向に距離δ１（図２参照）だけ平行移動した位置に配置されて構成されてもよい。

フィルタ９ｂは、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）を、被露光体６上における光量補正領域Ｍに限って照射する第２の露光光Ｌ_１２Ａ（Ｌ_１２Ｂ）に変換する。ここで、被露光体６上における光量補正領域Ｍとは、平面視においてＸ方向における複合開口領域ｒ_Ｃの幅がＹ方向に延長された帯状の領域である。
本実施形態では、図７に示すように、フィルタ９ｂは、第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅ、および遮光部９ｆを備える。
第１減光部９ｄは、平面視にてフィルタ９ｂと重なる光量補正領域Ｍのうち、Ｘ方向負方向側（図示左側）の光量補正領域Ｍ_Ｌにおいて、Ｘ方向正方向側（図示右側）に片寄せされて配置されている。第１減光部９ｄのＸ方向における幅は、光量補正領域Ｍ_ＬのＸ方向における幅の半分である。
第２減光部９ｅは、平面視にてフィルタ９ｂと重なる光量補正領域Ｍのうち、Ｘ方向正方向側の光量補正領域Ｍ_Ｒにおいて、Ｘ方向負方向側に片寄せされて配置されている。第２減光部９ｅのＸ方向における幅は、光量補正領域Ｍ_ＲのＸ方向における幅の半分である。
このため、Ｙ方向に見ると、第１列投影光学系９Ａにおけるフィルタ９ｂの第１減光部９ｄと、第２列投影光学系９Ｂにおけるフィルタ９ｂの第２減光部９ｅとは、それぞれ、互いに重なり合うことなく、光量補正領域ＭのＸ方向における幅を隙間なく埋めるように配置されている。
同様に、Ｙ方向に見ると、第１列投影光学系９Ａにおけるフィルタ９ｂの第１減光部９ｅと、第２列投影光学系９Ｂにおけるフィルタ９ｂの第２減光部９ｄとは、それぞれ、互いに重なり合うことなく、光量補正領域ＭのＸ方向における幅を隙間なく埋めるように配置されている。

第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅのＹ方向の長さは、フィルタ９ｂの範囲内であれば特に限定されない。
フィルタ９ｂにおいて、第１減光部９ｄおよび第２減光部９ｅを除く領域は、透過率０％の遮光部９ｆになっている。

本実施形態では、第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅは、Ｘ方向において、図８に曲線２０１（実線参照）で示すような透過率分布を有する。
図８の横軸における符号は、図７に記載されたＢ−Ｂ線上の同符号の点の位置を表す。点ａは、Ｂ−Ｂ線におけるフィルタ９ｂのＸ方向負方向側の端点である。点ｂから点ｄまでの区間は、光量補正領域Ｍ_Ｌと重なる区間である。点ｅから点ｇまでの区間は、光量補正領域Ｍ_Ｒと重なる区間である。点ｈは、Ｂ−Ｂ線におけるフィルタ９ｂのＸ方向正方向側の端点である。
第１減光部９ｄは、点ｃから点ｄまでの間に配置されている。第２減光部９ｅは、点ｅから点ｆまでの間に配置されている。点ａから点ｂ、点ｄから点ｅ、および点ｇから点ｈまでの各区間は遮光部９ｆが配置されている。
曲線２０１で示すように、第１減光部９ｄの透過率は、点ｃで１００％以下の最大値Ｔ_Ｌであり、点ｄに向かって漸次減少し、点ｄで０％となる透過率分布を有する。第２減光部９ｅの透過率は、点ｅで０％であり、点ｆに向かって漸次増大し、点ｆで最大値Ｔ_Ｌとなる透過率分布を有する。
第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅにおける透過率の変化率は、後述するように光量補正領域Ｍにおける光量補正の必要に応じて、例えば、実験、シミュレーションなどに基づいて設定される。第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅにおける透過率の変化率は、一定（直線変化）でもよいし、適宜の関数に基づいて変化していてもよい。透過率の変化率は、単調でもよいし、非単調でもよい。さらに、透過率の変化は滑らかな変化には限定されない。例えば、透過率は、ステップ状に変化していてもよい。

図６に示すように、フィルタホルダ９ｃは、フィルタ９ｂをレンズユニット９ａに対して一定位置に保持する。フィルタホルダ９ｃの中心部には、少なくとも第１減光部９ｄ、９ｅを透過した第２の露光光Ｌ_１２Ａ（Ｌ_１２Ｂ）を透過させる貫通孔９ｇが貫通されている。
フィルタホルダ９ｃは、レンズユニット９ａに対して、下方から着脱可能に取り付けられている。フィルタホルダ９ｃの着脱手段は、フィルタ９ｂの第１減光部９ｄおよび第２減光部９ｅを平面視にて上述の光量補正領域Ｍの範囲と重なるように配置できれば、特に限定されない。例えば、レンズユニット９ａに対して周方向に位置決め可能な適宜のマウント、ネジ嵌合などが用いられてもよい。本実施形態では、レンズユニット９ａから出射される第２の露光光は、光軸に沿う平行光束であるため、光軸方向におけるフィルタ９ｂの位置合わせは、高精度に行われなくてもよい。

フィルタホルダ９ｃによって、フィルタ９ｂの水平方向の位置が位置合わせされた状態でフィルタ９ｂが保持されると、フィルタ９ｂは、上述したように、各フィルタ９ｂの第１減光部９ｄおよび第２減光部９ｅが平面視にて光量補正領域Ｍと重なる位置関係に配置される。
このため、図８に曲線２０１、および曲線２０２、２０３（二点鎖線参照）で示すように、Ｙ方向に見ると、光量補正領域Ｍ_ＬにＸ方向に重なる範囲において、第２列投影光学系９Ｂの第２減光部９ｅと第１列投影光学系９Ａの第１減光部９ｄとで、点ｃでピーク透過率Ｔ_Ｌを有する山型（釣り鐘型）の透過率分布が形成される。同様に、Ｙ方向に見ると、光量補正領域Ｍ_ＲにＸ方向に重なる範囲において、第１列投影光学系９Ａの第２減光部９ｅと第２列投影光学系９Ｂの第１減光部９ｄとで、点ｆでピーク透過率Ｔ_Ｌを有する山型（釣り鐘型）の透過率分布が形成される。

次に、露光装置１００の動作について、本実施形態の露光方法を中心として説明する。
本実施形態の露光方法は、露光装置１００を使用することによって好適に行われる。
本実施形態の露光方法は、視野絞り３を含む露光装置１００を準備することと、第１の露光を行うことと、第２の露光を行うことと、第２の露光を行う際に、平面視において光量補正領域Ｍに限って第２の露光光を被露光体６に照射することと、を含む。

露光装置１００では、フォトマスク１および被露光体６をＹ方向に移動することによって、被露光体６のｙ方向における各位置で、第１の露光と、第２の露光とが、順次おこなわれる。
まず第１の露光に関する露光装置１００の露光動作について説明する。第１の露光は、主照明光源２、視野絞り３、および投影光学ユニット５を用いて行われる。
図９は、本発明の第１の実施形態の露光方法における第１の露光について説明する模式図である。図１０（ａ）、（ｂ）は、第１の露光における実効的な露光量について説明する模式図である。

図９には、投影光学ユニット５の下方に配置された被露光体６の先端部の一部が拡大して示されている。図９の図示には現れないが、視野絞り３と投影光学ユニット５との間には、被露光体６と対向した状態で、フォトマスク１が被露光体６と同期してＹ方向に移動されている（図１参照）。
図１に示すように、主照明光源２が点灯されると、第１の露光光Ｌ_１Ａ、Ｌ_１Ｂが視野絞り３に照射される。第１の露光光Ｌ_１Ａ、Ｌ_１Ｂは、視野絞り３の各第１開口部３Ａ、各第２開口部３Ｂ（図５参照）を透過し、フォトマスク１に照射される。
フォトマスク１における光透過部１ａを透過した光のうち、第１開口部３Ａを通過した光は第１列投影光学系５Ａによって、第２開口部３Ｂを通過した光は第２列投影光学系５Ｂによって、それぞれ第１の露光光Ｌ_１１Ａ、Ｌ_１１Ｂとして被露光体６に等倍投影される。
この結果、図９に示すように、被露光体６上には、第１開口部３Ａの光像である第１の光像１３Ａと、第２開口部３Ｂの光像である第２の光像１３Ｂとが結像される。第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂは、マスクパターンＰなどの物体像に対応する輝度分布が形成される。ただし、図９では簡単のため輝度分布の図示は省略されている。
第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂは、第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂと同様、被露光体６上において、ｘ座標軸に平行な軸線Ｏ_１３に沿って千鳥配列される。

ベース７がＹ方向に移動すると、図示斜線で示すように、各第１の光像１３Ａおよび各第２の光像１３Ｂは、幅ｗ_２の帯状の領域を掃くことになる。このため、各第１の光像１３Ａおよび各第２の光像１３Ｂは、被露光体６上をｙ方向に走査する。
ただし、第１開口部３Ａおよび第２開口部３ＢはＹ方向においてΔだけずれている。このため、第１の光像１３Ａと第２の光像１３Ｂとが同時に掃く領域は、ｘ方向において距離（ｗ_１＋ｗ_２）／２だけずれるとともに、ｙ方向において距離Δだけずれている。
ベース７の移動速度をｖ（図１参照）とすると、第２の光像１３Ｂは、Ｔ＝Δ／ｖだけ遅れて、先行して第１の光像１３Ａが走査しているｙ方向の領域に到達する。
例えば、走査が開始された時刻ｔ_０とすると、第２の光像１３Ｂは、時刻ｔ_０における第１の光像１３Ａのｙ方向の位置に、時刻ｔ_１＝ｔ_０＋Ｔにおいて到達する。このとき、第２の光像１３Ｂは、時刻ｔ_０において結像された互いに隣り合う第１の光像１３Ａの間にちょうど嵌り込む。
すなわち、時刻ｔ_０では、第１の光像１３Ａが並ぶｘ方向の領域は、第１の光像１３Ａによって、飛び飛びに露光されるのみであるが、時刻ｔ_１においては、同領域の非露光部が、第２の光像１３Ｂによって露光される。これにより、ｘ方向に延びる領域は、時間差Ｔをあけて、隙間なく帯状に露光される。第１の光像１３Ａにおける等脚台形の脚と第２の光像１３Ｂにおける等脚台形の脚とは、それぞれによる露光領域の継ぎ目の境界を構成している。

平面視においてフォトマスク１におけるマスク部１Ｂは、時刻ｔ_０における第１開口部３Ａの第２辺３ｂよりもＹ方向の反対方向側に位置する。図９では、一例として、時刻ｔ_０において、マスク部１Ｂのｙ方向における先端が第１開口部３Ａの第２辺３ｂと同位置にある場合が図示されている。このため、時刻ｔ_０において、第１の光像１３Ａにおける等脚台形の下底が、マスク部１Ｂの端に位置している。
走査によって第１の光像１３Ａが掃く領域では、時刻ｔ_０以降の走査によって、フォトマスク１のマスクパターンＰが被露光体６上に投影されていく。マスクパターンＰの露光時間は、第１開口部３ＡにおけるＹ方向の開口幅ｈを速度ｖで割った時間である。第１開口部３Ａの第１辺３ａと第２辺３ｂとで挟まれた矩形状領域では、露光時間ｔ_ｆはｈ／ｖである。以下では、露光時間ｔ_ｆをフル露光時間という。
ところが、第１開口部３Ａの第３辺３ｃおよび第４辺３ｄと、第２辺３ｂとで挟まれた三角形領域では、ｘ方向における露光時間が０からフル露光時間の間で線形に変化する。
同様に、走査によって第２の光像１３Ｂが掃く領域では、時間Ｔだけ遅れて、第１の光像１３Ａによるのと同様な露光が行われる。このため、第２の光像１３Ｂが掃く領域は、フル露光時間ｔ_ｆで露光される領域と、フル露光時間ｔ_ｆ未満で露光される領域とに分かれる。
フル露光時間ｔ_ｆ未満で露光される領域は、第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂの継ぎ目に関わる露光領域である。

本実施形態においては、第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂによってフル露光時間ｔ_ｆで露光される領域は互いに離れており、それぞれ幅ｗ_１でｙ方向に延びる帯状の単独露光領域Ａ_Ｓを構成する。
これに対して、単独露光領域Ａ_Ｓの間の幅（ｗ_１＋ｗ_２）／２の領域は、第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂによって、フル露光時間ｔ_ｆ未満で露光される複合露光領域Ａ_Ｃを構成する。
複合露光領域Ａ_Ｃにおけるｘ方向の各位置における露光時間は、第１の光像１３Ａと第２の光像１３Ｂとの露光割合が異なるだけで、合計の露光時間はいずれも等しい。
このため、単独露光領域Ａ_Ｓにおける露光量と、複合露光領域Ａ_Ｃにおける露光量とは、第１の光像１３Ａおよび第２の光像１３Ｂにおける照明光強度が同じであれば、互いに等しくなる。

しかしながら、本発明者の観察によれば、被露光体６上において単独露光領域Ａ_Ｓに形成される露光パターンに比べると、複合露光領域Ａ_Ｃに形成される露光パターンとは、光透過部の線幅がわずかに狭くなる傾向がある。
複合露光領域Ａ_Ｃは、一定幅でｙ方向に延び、かつｘ方向に等ピッチで形成されるため、線幅の変化が露光パターンにおける帯状の濃度むらとして視認されやすくなっている。例えば、露光装置１００によってＢＭ形成用のフォトマスクを形成すると、サブ画素の開口の大きさのむらになるため、規則的な色むらが視認されやすい液晶装置が形成されてしまうおそれがある。

露光時間が同じでも線幅が異なる理由は、必ずしもはっきりしているわけではないが、時間Ｔで表される時間差の影響が考えられる。
レジストは、露光されると光化学反応が進行する結果、現像液によって除去可能になる。ところが、レジストの光化学反応は、反応の立ち上がりにはある程度時間を要する。一方、露光が中断されると急速に反応が停止し、始まった光反応がリセットされてしまう。この結果、連続露光よりも断続的な露光の方が、実効的な露光時間が短くなるため、露光量が低下したのと同様な効果が生じると考えられる。
このため、被露光体６上の複合露光領域Ａ_Ｃにおいてレジストの正味の感光に用いられる実効的な露光量は、同じ光量であれば、第１の光像１３Ａと第２の光像１３Ｂとによる露光時間の比率で決まると考えられる。

図１０（ａ）に模式的に示すように、第１の光像１３Ａが走査する単独露光領域Ａ_Ｓ１と、第１の光像１３Ａが走査する単独露光領域Ａ_Ｓ２と、に挟まれた複合露光領域Ａ_Ｃでは、第１の光像１３Ａによる露光時間と、第２の光像１３Ｂによる露光時間とがｘ方向に沿って線形に変化する。
例えば、点ｐ_１で示す位置は、単独露光領域Ａ_Ｓ１との境界位置であるため、第１の光像１３Ａによる露光時間が１００％、第２の光像１３Ｂによる露光時間が０％である。各点における露光時間の比率（％）を、ｐ_ｎ［ｔ_Ａ，ｔ_Ｂ］のように表すと、例えば、ｐ_１［１００，０］、ｐ_２［９０，１０］、ｐ_３［８０，２０］、ｐ_４［７０，３０］、ｐ_５［６０，４０］、ｐ_６［５０，５０］、ｐ_７［４０，６０］、ｐ_８［３０，７０］、ｐ_９［２０，８０］、ｐ_１０［２０，８０］、ｐ_１１［０，１００］である。以下では、これらの点ｐ_ｎのｘ方向における位置座標をｘ_ｎで表す（ただし、ｎ＝１，…，１１）。
このとき、線幅などに影響する実効的な露光量（以下、単に露光量と称する場合がある）は、図１０（ｂ）に示すように、複合露光領域Ａ_Ｃでは、下に凸の略Ｖ字状のグラフで示される。位置ｘ_１、ｘ_１１における露光量ｑ_１、ｑ_１１は、それぞれ単独露光領域Ａ_Ｓにおける露光量ｑ_０に等しい。例えば、位置ｘ_６における露光量ｑ_６は、露光量ｑ_０よりも低く、複合露光領域Ａ_Ｃにおける露光量の最小値である。位置ｘ_１、ｘ_１１の近傍および位置ｘ_６の近傍における露光量の変化率は滑らかに変化している。このグラフは、位置ｘ_６を通る縦軸に関して左右対称である。
このように、複合露光領域Ａ_Ｃにおける露光量は、ｘ方向の位置座標を独立変数とする連続関数で表されるが、簡易的には、階段状の変化で近似されてもよい。
例えば、区間Ａ_ｎを位置ｘ_２ｎ−１と位置ｘ_２ｎ＋１との間として、区間Ａ_ｎの平均露光量によって、区間Ａ_ｎ内の各露光量が近似されてもよい。

以上説明したように、第１の露光では、複合露光領域Ａ_Ｃにおいて実効的な露光量が低下する。本実施形態では、複合露光領域Ａ_Ｃを光量補正領域Ｍとして、光量補正領域Ｍに第２の露光を行うことによって、実効的な露光量の不足を解消する。以下、第２の露光について説明する。
図１１は、本発明の第１の実施形態の露光方法における第２の露光について説明する模式図である。図１２は、第２の露光における積算光量について説明する模式的なグラフである。図１２において、横軸は位置、縦軸は第２の露光における積算光量を表す。図１３は、第１の露光および第２の露光による実効的な全露光量について説明する模式的なグラフである。図１３において、横軸は位置、縦軸は実効的な全露光量を表す。

第２の露光は、追加露光用照明光源８、追加露光用投影光学ユニット９を用いて行われる。
図１に示すように、追加露光用照明光源８が点灯されると、第２の露光光Ｌ_２Ａ、Ｌ_２Ｂが、フォトマスク１に照射される。
フォトマスク１における光透過部１ａを透過した光のうち、第１列投影光学系９Ａに入射した光は第１列投影光学系９Ａによって、第２列投影光学系９Ｂに入射した光は第２列投影光学系９Ｂによって、それぞれ第２の露光光Ｌ_１２Ａ、Ｌ_１２Ｂとして、被露光体６に等倍投影される。
この結果、Ｙ方向において、被露光体６上の光量補正領域Ｍ上を、第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅを透過した第２の露光光Ｌ_１２Ａ、Ｌ_１２Ｂが走査する。
このため、図１１に示すように、光量補正領域Ｍ_Ｌには、第１列投影光学系９Ａにおける第１減光部９ｄの透過光の光像である第１の補正用光像１９ｄ_Ａと、第２列投影光学系９Ｂにおける第２減光部９ｅの透過光の光像である第２の補正用光像１９ｅ_Ｂと、が結像される。同様に、光量補正領域Ｍ_Ｒには、第１列投影光学系９Ａにおける第２減光部９ｅの透過光の光像である第３の補正用光像１９ｅ_Ａと、第２列投影光学系９Ｂにおける第１減光部９ｄの透過光の光像である第４の補正用光像１９ｄ_Ｂと、が結像される。
第１の補正用光像１９ｄ_Ａ、第２の補正用光像１９ｅ_Ｂ、第３の補正用光像１９ｅ_Ａ、および第４の補正用光像１９ｄ_Ｂ（以下、総称する場合に、各補正用光像と称する場合がある）は、マスクパターンＰなどの物体像に対応する輝度分布が形成される。ただし、図１１では簡単のため輝度分布の図示は省略されている。

各補正用光像による第２の露光の積算光量は、各第１減光部９ｄおよび各第２減光部９ｅのＸ方向における透過率分布に応じて決まる。例えば、図１１においてＸ方向に延びるＣ−Ｃ線に沿う積算光量分布は、図１２に曲線２１１で示すように、光量補正領域ＭのＸ方向（横軸方向）における両端部で０、光量補正領域ＭのＸ方向における中心で最大値ｑ_ｍとなる山形の分布を有する。ただし、図１２は、簡単のため、マスクパターンＰに依存する光量変化の表示は省略されている。すなわち、図１２は、マスクパターンＰの透過率が一定の領域における積算光量を示している。
曲線２１１に示す山形の積算光量分布は、図１２に曲線２１２（二点鎖線参照）で示す第１の露光における実効的な露光量の光量補正領域Ｍにおける低下量を補正可能な分布になっている。
このため、第１の露光および第２の露光が行われた後の被露光体６上における実効的な全露光量は、図１３に曲線２１３で示すように、Ｘ方向（横軸方向）の位置によらず略一定となる。
なお、図１３は模式図のため、曲線２１３は、単純化されて横軸に平行な直線で描かれているが、実効的な露光量の許容範囲内であれば、横軸の位置によって縦軸方向に変動する曲線になっていてもよい。

以上、説明したように、本実施形態の露光方法では、第１の露光によって複合露光領域Ａ_Ｃに発生する実効的な露光量の低下分は、複合露光領域Ａ_Ｃに合わせた光量補正領域Ｍにおいて第２の露光が行われることによって補正される。このため、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。

［第２の実施形態］
本発明の第２の実施形態の露光装置について説明する。
図１４（ａ）は、本発明の第２の実施形態の露光装置の主要部の一例を示す模式的な平面図である。図１４（ｂ）は、図１４（ａ）におけるＤ−Ｄ断面図である。図１５は、本発明の第２の実施形態の露光装置に用いられる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。図１６は、図１５におけるＥ−Ｅ線に沿う透過率分布を示す模式的なグラフである。図１６において横軸はＥ−Ｅ線に沿う位置、縦軸は透過率を表す。

図１に示すように、本実施形態の露光装置１０１は、上記第１の実施形態の露光装置１００の追加露光用照明光源８および追加露光用投影光学ユニット９に代えて、追加露光用照明光源１８（第２の光源）および追加露光用投影光学ユニット１９（補正露光部）を備える。
以下、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

追加露光用照明光源１８は、Ｙ方向における光照射範囲が狭い以外は、上記第１の実施形態における追加露光用投影光学ユニット９と同様に構成される。具体的には、追加露光用照明光源１８は、上記追加露光用投影光学ユニット９が照射する第２の露光光Ｌ_２Ａと同様な光束を照射できればよい。

図１に示すように、追加露光用投影光学ユニット１９は、上記第１の実施形態における追加露光用投影光学ユニット９と同様の位置に配置されている。
図１４（ａ）に示すように、追加露光用投影光学ユニット１９は、軸線Ｏ_３に平行な軸線Ｏ_１９に沿って配列された複数の投影光学系１９Ａ（第２の投影光学系）を備える。
図１４（ａ）に示すように、投影光学系１９Ａは、上記第１の実施形態における第１列投影光学系５Ａのフィルタ９ｂに代えて、フィルタ１９ｂ（光透過量規制部材、光減衰フィルタ）を備える。
投影光学系１９Ａは、上記第１の実施形態における第１列投影光学系９Ａと同様、第１列投影光学系５ＡからＹ方向に距離δ１だけ平行移動した位置に配置されて構成されている。

図１４（ｂ）に示すように、フィルタ１９ｂは、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２Ａを、被露光体６上における光量補正領域Ｍに限って照射する第２の露光光Ｌ_２２Ａに変換する。
本実施形態では、図１５に示すように、フィルタ１９ｂは、第１減光部１９ｄ、第２減光部１９ｅ、および遮光部１９ｆを備える。
第１減光部１９ｄは、平面視にてＸ方向における光量補正領域Ｍ_Ｌの全幅に重なる矩形の範囲に形成されている。
第２減光部１９ｅは、平面視にてＸ方向における光量補正領域Ｍ_Ｒの全幅に重なる矩形の範囲に形成されている。
第１減光部１９ｄ、第２減光部１９ｅのＹ方向の長さは、フィルタ１９ｂの範囲内であれば特に限定されない。
フィルタ１９ｂにおいて、第１減光部１９ｄおよび第２減光部１９ｅを除く領域は、透過率０％の遮光部１９ｆになっている。

本実施形態では、第１減光部１９ｄ、第２減光部１９ｅは、Ｘ方向において、図１６に示すような透過率分布を有する。
図１６の横軸における符号は、図１５に記載されたＥ−Ｅ線上の同符号の点の位置を表す。点ｉは、Ｅ−Ｅ線におけるフィルタ１９ｂのＸ方向負方向側の端点である。点ｊから点ｋまでの区間は、光量補正領域Ｍ_Ｌと重なる区間である。点ｍから点ｎまでの区間は、光量補正領域Ｍ_Ｒと重なる区間である。点ｐは、Ｅ−Ｅ線におけるフィルタ１９ｂのＸ方向正方向側の端点である。
第１減光部１９ｄは、点ｊから点ｋまでの間に配置されている。第２減光部１９ｅは、点ｍから点ｎまでの間に配置されている。点ｉから点ｂ、点ｄから点ｅ、および点ｇから点ｈまでの各区間は遮光部１９ｆが配置されている。
図１６に曲線２２１で示すように、第１減光部１９ｄの透過率は、点ｃで１００％以下の最大値Ｔ_Ｌであり、点ｄに向かって漸次減少し、点ｄで０％となる山型（釣り鐘型）の透過率分布を有する。第２減光部１９ｅの透過率は、点ｅで０％であり、点ｆに向かって漸次増大し、点ｆで最大値Ｔ_Ｌとなる山型（釣り鐘型）の透過率分布を有する。
具体的には、曲線２２１は、上記第１の実施形態における図８で説明した曲線２０２と曲線２０１（曲線２０１と曲線２０３）で表されるのと同様の山型の透過率分布になっている。

第１減光部１９ｄ、第２減光部１９ｅにおける透過率の変化率は、上記第１の実施形態と同様、光量補正領域Ｍにおける光量補正の必要に応じて、例えば、実験、シミュレーションなどに基づいて設定される。第１減光部１９ｄ、第２減光部１９ｅにおける透過率の変化率は、一定（直線変化）でもよいし、適宜の関数に基づいて変化していてもよい。透過率の変化率は、単調でもよいし、非単調でもよい。さらに、透過率の変化は滑らかな変化には限定されない。例えば、透過率は、ステップ状に変化していてもよい。

このような構成の追加露光用照明光源１８および追加露光用投影光学ユニット１９によれば、軸線Ｏ_３に平行に１列に配置された複数の投影光学系１９Ａによって、各光量補正領域Ｍに、上記第１の実施形態と同様な第１の露光を行った後、上記第１の実施形態と同様な積算光量分布を有する第２の露光光Ｌ_２２Ａによる第２の露光を行うことが可能である。
すなわち、追加露光用照明光源１８および追加露光用投影光学ユニット１９を備える露光装置１０１によれば、上記第１の実施形態と同様な露光方法を行うことができる。
このため、本実施形態の露光装置１０１によれば、上記第１の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
さらに、本実施形態によれば、追加露光用投影光学ユニット１９におけるレンズユニット９ａ、フィルタ１９ｂ、およびフィルタホルダ９ｃの個数が、第１の実施形態における追加露光用投影光学ユニット９のレンズユニット９ａ、フィルタ９ｂ、およびフィルタホルダ９ｃの個数が略半減される。同様に、追加露光用照明光源１８における光照射範囲も追加露光用照明光源８に比べて略半減する。このため、露光装置１０１では、露光装置１００に比べて部品コスト低減および小型化が可能になる。

［第３の実施形態］
本発明の第３の実施形態の露光装置について説明する。
図１７（ａ）は、本発明の第３の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。図１７（ｂ）は、図１７（ａ）におけるＦ視の平面図である。

図１７（ａ）に示すように、本実施形態の露光装置１０２は、上記第１の実施形態の露光装置１００の追加露光用照明光源８および追加露光用投影光学ユニット９に代えて、追加露光用照明光源２８（第２の光源）および追加露光用投影光学ユニット２９（補正露光部）を備える。
以下、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

追加露光用照明光源２８は、上記第１の実施形態と同様の第２の露光光Ｌ_２Ａを照射する第１光源部２８Ａと、上記第１の実施形態と同様の第２の露光光Ｌ_２Ｂを照射する第２光源部２８Ｂと、を備える。
第１光源部２８Ａは、主照明光源２のＹ方向負方向側（図示左側）主照明光源２と隣り合って配置されている。第２光源部２８Ｂは、主照明光源２のＹ方向正方向側（図示右側）に主照明光源２と隣り合って配置されている。

図１７（ａ）、（ｂ）に示すように、追加露光用投影光学ユニット２９は、第２の露光光Ｌ_２Ａを上記第１の実施形態と同様の第２の露光光Ｌ_１２Ａに変換する第１光学ユニット２９Ａと、上記第１の実施形態と同様の第２の露光光Ｌ_２Ｂを第２の露光光Ｌ_１２Ｂに変換する第２光学ユニット２９Ｂと、を備える。
第１光学ユニット２９Ａは、上記第１の実施形態と同様の複数の第１列投影光学系９Ａ（第２の投影光学系）を備える。第１光学ユニット２９Ａは、投影光学ユニット５のＹ方向負方向側に投影光学ユニット５と隣り合って配置されている。
第２光学ユニット２９Ｂは、上記第１の実施形態と同様の複数の第２列投影光学系９Ｂ（第２の投影光学系）を備える。第２光学ユニット２９Ｂは、投影光学ユニット５のＹ方向正方向側に投影光学ユニット５と隣り合って配置されている。
第１光学ユニット２９Ａにおける各第１列投影光学系９Ａは、軸線Ｏ_３に平行な直線に沿って配列されている。各第１列投影光学系９Ａと各第１列投影光学系５Ａとの距離はδ２であってもよい。第２光学ユニット２９Ｂにおける各第２列投影光学系９Ｂは、軸線Ｏ_３に平行な直線に沿って配列されている。各第２列投影光学系９Ｂと各第２列投影光学系５Ｂとの距離はδ２であってもよい。

このような構成により、第１光源部２８Ａおよび第２光源部２８Ｂは、上記第１の実施形態における追加露光用照明光源８がＹ方向に２分割されたのと同様の構成を有する。
本実施形態における主照明光源２は、Ｙ方向において第１光源部２８Ａと第２光源部２８Ｂとの間に挟まれて配置されている。
第１光学ユニット２９Ａおよび第２光学ユニット２９Ｂは、上記第１の実施形態における追加露光用投影光学ユニット９がＹ方向に２分割されたのと同様の構成を有する。
本実施形態における投影光学ユニット５は、Ｙ方向において第１光学ユニット２９Ａと第２光学ユニット２９Ｂとの間に挟まれて配置されている。
ただし、各第１列投影光学系９Ａと各第１列投影光学系５ＡとのＸ方向における位置関係、および各第２列投影光学系９Ｂと各第２列投影光学系５ＢとのＸ方向における位置関係は、上記第１の実施形態と同様である。

このような構成の露光装置１０２によれば、フォトマスク１および被露光体６がＹ方向に移動されるにつれて、第２の露光光Ｌ_１２Ａによる第２の露光、第１の露光光Ｌ_１１Ａ、Ｌ_１１Ｂによる第１の露光、および第２の露光光Ｌ_１２Ｂによる第２の露光が、この順に行われる以外は、上記第１の実施形態と同様の露光方法が行われる。
このため、本実施形態の露光装置１０２によれば、上記第１の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
さらに、本実施形態によれば、Ｙ方向において、第１列投影光学系５Ａと第１列投影光学系９Ａとが隣り合い、第２列投影光学系５Ｂと第２列投影光学系９Ｂとが隣り合うように配置される。このため、それぞれの間の離間距離δ２は、上記第１の実施形態における離間距離δ１よりも短縮することが可能になる。
これにより、第１の露光と第２の露光との間の時間差をより短縮できるため、より少ない露光量でも、良好な補正が可能となる。

［第４の実施形態］
本発明の第４の実施形態の露光装置について説明する。
図１８（ａ）は、本発明の第４の実施形態の露光装置の一例を示す模式的な正面図である。図１８（ｂ）は、図１８（ａ）におけるＦ視の平面図である。

図１８（ａ）に示すように、本実施形態の露光装置１０３は、上記第１の実施形態の露光装置１００の主照明光源２および投影光学ユニット５に代えて、主照明光源３２（第１の光源）、視野絞り３３Ａ、３３Ｂ（絞り部材）、および投影光学ユニット３５を備える。
以下、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

主照明光源３２は、上記第１の実施形態と同様の第１の露光光Ｌ_１Ａを照射する第１光源部３２Ａと、上記第１の実施形態と同様の第１の露光光Ｌ_１Ｂを照射する第２光源部３２Ｂと、を備える。
第１光源部３２Ａは、追加露光用投影光学ユニット９のＹ方向負方向側に追加露光用投影光学ユニット９と隣り合って配置されている。第２光源部３２Ｂは、追加露光用投影光学ユニット９のＹ方向正方向側に追加露光用投影光学ユニット９と隣り合って配置されている。

視野絞り３３Ａ、３３Ｂは、上記第１の実施形態における視野絞り３をＹ方向に分割したのと同様の構成を有する。
視野絞り３３Ａは、上記第１の実施形態における視野絞り３の複数の第１開口部３Ａの配列を含む。視野絞り３３Ａは、第１の露光光Ｌ_１Ａを透過させるために、第１光源部３２Ａの下方に配置される。
視野絞り３３Ｂは、上記第１の実施形態における視野絞り３の複数の第２開口部３Ｂの配列を含む。視野絞り３３Ｂは、第１の露光光Ｌ_１Ｂを透過させるために、第１光源部３２Ｂの下方に配置される。

図１８（ａ）、（ｂ）に示すように、投影光学ユニット３５は、視野絞り３３Ａを透過した第１の露光光Ｌ_１Ａによる光像を被露光体６に投影する第１光学ユニット３５Ａと、視野絞り３３Ｂを透過した第１の露光光Ｌ_１Ｂによる光像を被露光体６に投影する第２光学ユニット３５Ｂと、を備える。
第１光学ユニット３５Ａは、上記第１の実施形態と同様の複数の第１列投影光学系５Ａ（第１の投影光学系）を備える。第１光学ユニット３５Ａは、追加露光用投影光学ユニット９のＹ方向負方向側に追加露光用投影光学ユニット９と隣り合って配置されている。
第２光学ユニット３５Ｂは、上記第１の実施形態と同様の複数の第２列投影光学系５Ｂ（第１の投影光学系）を備える。第２光学ユニット３５Ｂは、追加露光用投影光学ユニット９のＹ方向正方向側に追加露光用投影光学ユニット９と隣り合って配置されている。
第１光学ユニット３５Ａにおける各第１列投影光学系５Ａは、軸線Ｏ_９に平行な直線に沿って配列されている。各第１列投影光学系５Ａと各第１列投影光学系９Ａとの距離はδ２であってもよい。第２光学ユニット３５Ｂにおける各第２列投影光学系５Ｂは、軸線Ｏ_９に平行な直線に沿って配列されている。各第２列投影光学系５Ｂと各第２列投影光学系９Ｂとの距離はδ２であってもよい。

このような構成により、第１光源部３２Ａおよび第２光源部３２Ｂは、上記第１の実施形態における主照明光源２がＹ方向に２分割されたのと同様の構成を有する。
本実施形態の追加露光用照明光源８は、第１光源部３２Ａおよび第２光源部３２Ｂの間に挟まれて配置されている。
第１光学ユニット３５Ａおよび第２光学ユニット３５Ｂは、上記第１の実施形態における投影光学ユニット５がＹ方向に２分割されたのと同様の構成を有する。
本実施形態の追加露光用投影光学ユニット９は、第１光学ユニット３５Ａと第２光学ユニット３５Ｂとの間に挟まれて配置されている。
ただし、各第１列投影光学系９Ａと各第１列投影光学系５ＡとのＸ方向における位置関係、および各第２列投影光学系９Ｂと各第２列投影光学系５ＢとのＸ方向における位置関係は、上記第１の実施形態と同様である。

このような構成の露光装置１０３によれば、フォトマスク１および被露光体６がＹ方向に移動されるにつれて、第１の露光光Ｌ_１１Ａによる第１の露光、第２の露光光Ｌ_１２Ａ、Ｌ_１２Ｂによる第２の露光、および第１の露光光Ｌ_１１Ｂによる第１の露光が、この順に行われる以外は、上記第１の実施形態と同様の露光方法が行われる。
このため、本実施形態の露光装置１０３によれば、上記第１の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
さらに、本実施形態によれば、Ｙ方向において、第１列投影光学系５Ａと第１列投影光学系９Ａとが隣り合い、第２列投影光学系５Ｂと第２列投影光学系９Ｂとが隣り合うように配置される。このため、それぞれの間の離間距離δ２は、上記第１の実施形態における離間距離δ１よりも短縮することが可能になる。
このため、第１の露光と第２の露光との間の時間差をより短縮できるため、より少ない露光量でも、良好な補正が可能となる。

［第５の実施形態］
本発明の第５の実施形態の露光装置について説明する。
図１９、２０は、本発明の第５の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。

図１に示すように、本実施形態の露光装置１０４は、上記第１の実施形態の露光装置１００の追加露光用投影光学ユニット９に代えて、追加露光用投影光学ユニット４９（補正露光部）を備える。
以下、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

図６に示すように、追加露光用投影光学ユニット４９は、上記第１の実施形態における第１列投影光学系９Ａ、第２列投影光学系９Ｂに代えて、第１列投影光学系４９Ａ、第２列投影光学系４９Ｂを備える。
第１列投影光学系４９Ａ（第２列投影光学系４９Ｂ）は、第１列投影光学系９Ａ（第２列投影光学系９Ｂ）のフィルタ９ｂに代えて、アパーチャ４９ａ（光透過量規制部材、開口絞り）を備える。
アパーチャ４９ａは、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）を、被露光体６上における光量補正領域Ｍに限って照射する第２の露光光Ｌ_１２Ａ（Ｌ_１２Ｂ）に変換する。
本実施形態では、図１９に示すように、アパーチャ４９ａは、遮光性を有する金属板に第１開口部４９ｂおよび第２開口部４９ｃが貫通されて構成される。
第１開口部４９ｂは、Ｙ方向に延びる上底辺Ｓ１と、上底辺Ｓ１よりも短い下底辺Ｓ２と、上底辺Ｓ１および下底辺Ｓ２を結ぶ脚Ｓ３、Ｓ４に囲まれた等脚台形状に開口している。上底辺Ｓ１はＸ方向正方向側、下底辺Ｓ２はＸ方向不方向側に配置されている。第１開口部４９ｂのＸ方向における幅および配置位置は、上記第１の実施形態における第１減光部９ｄと同様である。
このような構成により、第１開口部４９ｂは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向正方向側からＸ方向負方向側に向かって漸次増大している。このため、第１開口部４９ｂは、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）のＸ方向における光量分布が光量補正領域Ｍ_ＬのＸ方向における端部から中心部に向かって増大するように、第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）の透過光量を規制している。

第２開口部４９ｃは、第１開口部４９ｂをＸ方向に反転した等脚台形状に開口している。第２開口部４９ｃのＸ方向における幅および配置位置は、上記第１の実施形態における第２減光部９ｅと同様である。
このような構成により、第２開口部４９ｃは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向負方向側からＸ方向正方向側に向かって漸次増大している。このため、第２開口部４９ｃは、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）のＸ方向における光量分布が光量補正領域Ｍ_ＲのＸ方向における端部から中心部に向かって増大するように、第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）の透過光量を規制している。

このような構成により、追加露光用照明光源８から第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）が照射され、レンズユニット９ａを透過すると、第２の露光光Ｌ_２Ａ（Ｌ_２Ｂ）は、Ｙ方向における積算光量は、上記第１の実施形態と同様、図１２に曲線２１１で示すような山型の分布を示す。
このため、露光装置１０４によれば、光透過量規制部材が、アパーチャ４９ａで構成された以外は、上記第１の実施形態の露光装置１００と同様の構成を有するため、上記第１の実施形態と同様の露光方法が行われる。
本実施形態の露光装置１０４によれば、上記第１の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
さらに、本実施形態によれば、第１減光部９ｄ、第２減光部９ｅを有するフィルタ９ｂに比べると、安価に製造できるアパーチャ４９ａが用いられるため、さらなる低コスト化が可能である。
さらに、アパーチャ４９ａは、開口形状を変更することで、積算光量の大きさおよびＸ方向における光量分布を容易に変更することができる。

上述したアパーチャ４９ａの第１開口部４９ｂ、第２開口部４９ｃの形状は、一例である。アパーチャ４９ａの開口形状は、Ｙ方向における開口幅がＸ方向に沿って変化する形状であれば、等脚台形には限定されない。
例えば、露光装置１０４において、アパーチャ４９ａに代えて、図２０に示すアパーチャ４９ｄ（光透過量規制部材、開口絞り）が用いられてもよい。
アパーチャ４９ｄは、アパーチャ４９ａの第１開口部４９ｂ、第２開口部４９ｃに代えて、それぞれ、第１開口部４９ｅ、第２開口部４９ｈを備える。
第１開口部４９ｅは、Ｙ方向に延びる直線部４９ｇと、直線部４９ｇの両端部からＸ方向正方向側に張り出した弧状部４９ｆによって囲まれたＹ方向に細長い半月状の開口している。
このような構成により、第１開口部４９ｅは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向正方向側からＸ方向負方向側に向かって漸次増大している。
第２開口部４９ｈは、第１開口部４９ｅをＸ方向に反転したＹ方向に細長い半月状の開口している。
このような構成により、第２開口部４９ｈは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向負方向側からＸ方向正方向側に向かって漸次増大している。
第１開口部４９ｅ、４９ｈは、曲線を含む形状で構成される開口形状を有する例になっている。

［第６の実施形態］
本発明の第６の実施形態の露光装置について説明する。
図２１、２２は、本発明の第６の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な平面図である。

図１に示すように、本実施形態の露光装置１０５は、上記第２の実施形態の露光装置１０１の追加露光用投影光学ユニット１９に代えて、追加露光用投影光学ユニット５９（補正露光部）を備える。
以下、上記第２の実施形態と異なる点を中心に説明する。

図１４（ａ）に示すように、追加露光用投影光学ユニット５９は、上記第２の実施形態における投影光学系１９Ａに代えて、投影光学系５９Ａを備える。
図１４（ｂ）に示すように、投影光学系５９Ａは、上記第２の実施形態におけるフィルタ１９ｂに代えて、アパーチャ５９ａ（光透過量規制部材、開口絞り）を備える。
アパーチャ５９ａは、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２Ａを、被露光体６上における光量補正領域Ｍに限って照射する第２の露光光Ｌ_２２Ａに変換する。
本実施形態では、図２１に示すように、アパーチャ５９ａは、遮光性を有する金属板に第１開口部５９ｂおよび第２開口部５９ｃが貫通されて構成される。
第１開口部５９ｂは、Ｘ方向において光量補正領域Ｍ_Ｌと同じ幅を有し、Ｙ方向に細長い六角形状に開口している。例えば、第１開口部５９ｂは、上記第５の実施形態における第１開口部４９ｂの下底辺Ｓ２と、第２開口部４９ｃの下底辺Ｓ２とを一致させて形成される六角形形状に形成されている。第１開口部５９ｂのＸ方向における配置位置は、上記第２の実施形態における第１減光部１９ｄと同様である。
このような構成により、第１開口部５９ｂは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向の両端部から中心部に漸次増大している。このため、第１開口部５９ｂは、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２ＡのＸ方向における光量分布が光量補正領域Ｍ_ＬのＸ方向における両端部から中心部に向かって増大するように、第２の露光光Ｌ_２Ａの透過光量を規制している。

第２開口部５９ｃは、第１開口部５９ｂと同形の六角形状に開口している。第２開口部４９ｃのＸ方向における配置位置は、上記第２の実施形態における第２減光部１９ｅと同様である。
このような構成により、第２開口部５９ｃは、レンズユニット９ａを透過した第２の露光光Ｌ_２ＡのＸ方向における光量分布が光量補正領域Ｍ_ＲのＸ方向における両端部から中心部に向かって増大するように、第２の露光光Ｌ_２Ａの透過光量を規制している。

このような構成により、追加露光用照明光源１８から第２の露光光Ｌ_２Ａが照射され、レンズユニット９ａを透過すると、第２の露光光Ｌ_２Ａは、Ｙ方向における積算光量は、上記第２の実施形態と同様、図１２に曲線２１１で示すような山型の分布を示す。
このため、露光装置１０５によれば、光透過量規制部材が、アパーチャ５９ａで構成された以外は、上記第２の実施形態の露光装置１０１と同様の構成を有するため、上記第２の実施形態と同様の露光方法が行われる。
本実施形態の露光装置１０５によれば、上記第２の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
さらに、本実施形態によれば、第１減光部１９ｄ、第２減光部１９ｅを有するフィルタ１９ｂに比べると、安価に製造できるアパーチャ５９ａが用いられるため、さらなる低コスト化が可能である。
さらに、アパーチャ５９ａは、開口形状を変更することで、積算光量の大きさおよびＸ方向における光量分布を容易に変更することができる。

上述したアパーチャ５９ａの第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃの形状は、一例である。アパーチャ５９ａの開口形状は、Ｙ方向における開口幅がＸ方向に沿って変化する形状であれば、等脚台形には限定されない。
例えば、露光装置１０５において、アパーチャ５９ａに代えて、図２１に示すアパーチャ５９ｄ（光透過量規制部材、開口絞り）が用いられてもよい。
アパーチャ５９ｄは、アパーチャ５９ａの第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃに代えて、それぞれ、第１開口部５９ｅ、第２開口部５９ｆを備える。
第１開口部５９ｅは、Ｙ方向に細長い楕円状に開口している。このような構成により、第１開口部５９ｅは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向の両端部から中心部に向かって漸次増大している。
第２開口部５９ｆは、第１開口部５９ｅと同形状に開口している。
第１開口部５９ｅ、第２開口部５９ｆは、曲線で構成される開口形状を有する例になっている。

［第７の実施形態］
本発明の第７の実施形態の露光装置について説明する。
図２３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の第７の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の主要部の一例を示す模式的な平面図である。

図１に示すように、本実施形態の露光装置１０６は、上記第６の実施形態の露光装置１０５の追加露光用投影光学ユニット５９に代えて、追加露光用投影光学ユニット６９（補正露光部）を備える。
以下、上記第６の実施形態と異なる点を中心に説明する。

図１４（ａ）に示すように、追加露光用投影光学ユニット６９は、上記第６の実施形態における投影光学系５９Ａに代えて、投影光学系６９Ａを備える。
図１４（ｂ）に主要部の構成を示すように、投影光学系６９Ａは、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ａに代えて、開口可変アパーチャ６９ａ（光透過量規制部材、開口絞り）を備える。
開口可変アパーチャ６９ａは、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ａの第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃに代えて、それぞれと同様の位置に開口形状が可変の開口部６０ａを有する（図２３（ａ）参照）。
図２３（ａ）に示すように、開口可変アパーチャ６９ａの開口部６０ａは、Ｙ方向において互いに対向する２つの第１シャッター６１と、Ｘ方向において互いに対向する２つの第２シャッター６２とを備える。
第１シャッター６１は、Ｙ方向に独立して進退可能な複数の移動片６１ａがＸ方向に配列されて構成される。各移動片６１ａの各先端６１ｂの全体は、Ｙ方向における開口部６０ａの内縁を構成する。Ｙ方向における開口部６０ａの内縁（以下、第１内縁と称する）の位置および形状は、各移動片６１ａの進退位置によって変化する。図２３（ａ）に示す例では、第１内縁の形状は、Ｘ方向幅の中心部が最も凹んだＶ字状になっている。
第２シャッター６２は、Ｙ方向に延びる先端６２ａを有しＸ方向に進退可能な板状部材を備える。第２シャッター６２の各先端６２ａは、Ｘ方向における開口部６０ａの内縁（以下、第２内縁と称する）を構成する。Ｘ方向における開口部６０ａの第２内縁の位置は、各第２シャッター６２の各先端６２ａの進退位置によって変化する。図２３（ａ）に示す例では、各第２内縁の間の離間距離は、光量補正領域Ｍの幅に等しい。
図２３（ａ）に示す例では、平面視における開口部６０ａの形状は、上記第６の実施形態と略同様の六角形状である。

図示は省略するが、各第１シャッター６１および各第２シャッター６２は、それぞれを駆動する駆動部が接続されている。駆動部の構成としては、例えば、モータとカムとを組み合わせた機構、マイクロメーター、マイクロボールねじ、ピエゾモーターなどが用いられてもよい。

このような構成により、開口可変アパーチャ６９ａは、上記第６の実施形態と同様の光透過量規制部材として機能する。
このため、露光装置１０６によれば、光透過量規制部材が、開口可変アパーチャ６９ａで構成された以外は、上記第２の実施形態の露光装置１０１と同様の構成を有するため、上記第２の実施形態と同様の露光方法が行われる。
本実施形態の露光装置１０６によれば、上記第２の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
さらに、本実施形態によれば、開口可変アパーチャ６９ａの開口部６０ａの形状および大きさが変更できるため、視野絞り３の第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂの形状およびＹ方向における配置が変わっても、第２の露光が適正に行われる。このため、視野絞り３が変更された場合にも開口可変アパーチャ６９ａを交換しなくてもよいので、露光装置１０６の稼働効率が向上する。
さらに、開口部６０ａの形状を微調整することによって、第２の露光の露光量の最適化を図ることができるため、露光むらをさらに低減することが可能になる。

図２３（ａ）に示す開口可変アパーチャ６９ａの開口部６０ａの形状は、一例である。開口可変アパーチャ６９ａの開口形状は、例えば、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ｄのような細長い楕円状の形状も可能である。

露光装置１０６において、開口可変アパーチャ６９ａは、図２３（ｂ）に示す開口可変アパーチャ６９ｂ（光透過量規制部材、開口絞り）に置換されてもよい。
開口可変アパーチャ６９ｂは、開口可変アパーチャ６９ａの開口部６０ａに代えて開口部６０ｂを有する。開口可変アパーチャ６９ｂは、開口可変アパーチャ６９ａの第１シャッター６１の１つが第３シャッター６３に置換されて構成される。
第３シャッター６３は、Ｘ方向に延びる先端６３ａを有しＹ方向に進退可能な板状部材を備える。第３シャッター６３の先端６３ａは、第１シャッター６１の先端６１ｂによる第１内縁に対向する開口部６０ｂの内縁（以下、第３内縁と称する）を構成する。Ｙ方向における開口部６０ｂの第３内縁の位置は、第３シャッターの先端６３ａの進退位置によって変化する。第３シャッター６３は、第２シャッター６２と同様の図示略の駆動部を備える。
図２３（ｂ）に示す例では、平面視における開口部６０ｂの形状は、略五角形状である。このような開口部６０ｂは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向の両端部から中心部に向かって漸次増大している。
このような構成により、開口可変アパーチャ６９ｂは、上記第６の実施形態と略同様の光透過量規制部材として機能する。

露光装置１０６において、開口可変アパーチャ６９ａは、図２３（ｃ）に示す開口可変アパーチャ６９ｃ（光透過量規制部材、開口絞り）に置換されてもよい。
開口可変アパーチャ６９ｃは、開口可変アパーチャ６９ａの開口部６０ａに代えて開口部６０ｃを有する。開口可変アパーチャ６９ｃは、開口可変アパーチャ６９ａの第１シャッター６１の１つが第４シャッター６４に置換されて構成される。
第４シャッター６４は、Ｙ方向に凹んだＶ字状の先端切り欠き６４ａを有しＹ方向に進退可能な板状部材を備える。先端切り欠き６４ａは、図示略の光量補正領域ＭのＸ方向の中心軸線に関して対称な形状を有する。
第４シャッター６４の先端切り欠き６４ａは、第１シャッター６１の先端６１ｂによる第１内縁に対向する開口部６０ｃの内縁（以下、第４内縁と称する）を構成する。Ｙ方向における開口部６０ｃの第４内縁の位置は、第４シャッターの先端切り欠き６４ａの進退位置によって変化する。第４シャッター６４は、第２シャッター６２と同様の図示略の駆動部を備える。
図２３（ｃ）に示す例では、平面視における開口部６０ｃの形状は、略六角形状である。このような開口部６０ｃは、Ｙ方向における開口幅が、Ｘ方向の両端部から中心部に向かって漸次増大している。ただし、第１シャッター６１の各移動片６１ａの移動位置によっては、平面視における開口部６０ｃの形状は略六角形以外の形状に変化する。
このような構成により、開口可変アパーチャ６９ｃは、上記第６の実施形態と略同様の光透過量規制部材として機能する。

［第８の実施形態］
本発明の第８の実施形態の露光装置について説明する。
図２４（ａ）は、本発明の第８の実施形態の露光装置に用いる光透過量規制部材の一例を示す模式的な部分断面図である。図２４（ｂ）は、図２４（ａ）におけるＨ視の拡大図である。

図１に示すように、本実施形態の露光装置１０７は、上記第６の実施形態の露光装置１０５の追加露光用投影光学ユニット５９に代えて、追加露光用投影光学ユニット７９（補正露光部）を備える。
以下、上記第６の実施形態と異なる点を中心に説明する。

図１４（ａ）に示すように、追加露光用投影光学ユニット７９は、上記第６の実施形態における投影光学系５９Ａに代えて、投影光学系７９Ａを備える。
図２４（ａ）、（ｂ）に主要部の構成を示すように、投影光学系７９Ａは、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ａに代えて、遮蔽板８０、液晶シャッターパネル７９ａ（光透過量規制部材、液晶シャッター）を備える。

遮蔽板８０は、遮光性を有する薄板で形成されている。遮蔽板８０は、レンズユニット９ａを透過する第２の露光光Ｌ_２Ａの透過範囲を、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ａの第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃの形成位置を含む範囲に制限する。本実施形態では、上記第６の実施形態におけるアパーチャ５９ａの第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃをそれぞれ囲む矩形状に形成された開口部８０ａ、８０ｂを有する。
遮蔽板８０は、レンズユニット９ａの下方においてレンズユニット９ａと対向するようにフィルタホルダ９ｃに固定されている。

液晶シャッターパネル７９ａは、遮蔽板８０の下方に遮蔽板８０と隣り合って配置され、フィルタホルダ９ｃに固定されている。液晶シャッターパネル７９ａは、平面視において少なくとも遮蔽板８０の開口部８０ａ（８０ｂ）と重なる範囲に、液晶シャッター部７９ｄ（図２４（ｂ）参照）を備える。
図２４（ａ）に示すように、液晶シャッターパネル７９ａは、液晶シャッター部７９ｄの各画素の濃度を切り替える液晶シャッターコントローラ７９ｅが電気的に接続されている。例えば、図２４（ａ）には、液晶シャッターコントローラ７９ｅによって、上記第６の実施形態における第１開口部５９ｂ、第２開口部５９ｃと同様な六角形状の光透過部７９ｂと、光透過部７９ｂを囲む光遮蔽部７９ｃとが形成された状態が図示されている。
液晶シャッターコントローラ７９ｅは、液晶シャッター部７９ｄの各画素を独立してオンオフすることによって、光透過部７９ｂおよび光遮蔽部７９ｃのパターンを変更することができる。
このため、投影光学系７９Ａによれば、第２の露光光Ｌ_２Ａを、開口部８０ａ、８０ｂの範囲内で平面視において、六角形を含む適宜の形状に整形された第２の露光光Ｌ_２２Ａに変換して、図示略の被露光体６を露光することができる。

このような構成により、液晶シャッターパネル７９ａは、上記第６の実施形態と同様の光透過量規制部材として機能する。
このため、露光装置１０７によれば、光透過量規制部材が、液晶シャッターパネル７９ａで構成された以外は、上記第２の実施形態の露光装置１０１と同様の構成を有するため、上記第２の実施形態と同様の露光方法が行われる。
本実施形態の露光装置１０７によれば、上記第２の実施形態と同様にして、千鳥配列された複数の投影光学系（第１の投影光学系）を用いる場合に、露光領域の継ぎ目に起因する露光むらが低減される。
さらに、本実施形態によれば、液晶シャッターパネル７９ａの光透過部７９ｂの形状および大きさが変更できるため、視野絞り３の第１開口部３Ａおよび第２開口部３Ｂの形状およびＹ方向における配置が変わっても、第２の露光が適正に行われる。このため、視野絞り３が変更された場合にも液晶シャッターパネル７９ａを交換しなくてもよいので、露光装置１０７の稼働効率が向上する。
さらに、光透過部７９ｂの形状を微調整することによって、第２の露光の露光量の最適化を図ることができるため、露光むらをさらに低減することが可能になる。

なお、上記各実施形態の説明では、露光装置において、第１の光源、第２光源、絞り部材、第１の投影光学系、および補正露光部（以下、露光部と称する）が固定され、露光用フォトマスクおよび露光対象物（以下、被露光物と称する）が移動することによって走査露光が行われる場合の例で説明した。しかし、走査露光は、露光部と、被露光物と、が走査方向（Ｙ方向、第１の方向）に相対移動して、相対走査が行われればよい。したがって、露光装置において、露光部が走査方向に移動し、被露光物が固定されていてもよい。さらに、露光装置において、露光部および被露光物がそれぞれ移動してもよい。

上記各実施形態の説明では、第１の方向と第２の方向とが互いに直交する場合の例で説明した。しかし、第１の方向と第２の方向とは、平面上において互いに交差する方向であればよく、交差角は直角には限定されない。

上記各実施形態の説明では、フォトマスク１が第１の駆動部１０によって移動され、被露光体６がベース７を移動する第２の駆動部１１によって移動される場合の例で説明した。しかし、フォトマスク１とベース７とは１つの駆動部によって走査方向に移動されてもよい。

上記各実施形態の説明では、第２の投影光学系が、第１の投影光学系を第１の方向において平行移動した位置に配置された場合の例で説明した。しかし、第２の投影光学系は、光量補正領域のみに第２の露光光を照射できればよいため、第２の投影光学系の光軸は第１の投影光学系の光軸を第１の方向に平行移動した位置以外に配置されてもよい。例えば、第２の投影光学系は、平面視にて光量補正領域の重なる位置に光軸を有する位置に配置されてもよい。

上記各実施形態の説明では、視野絞り３、４が、第１の投影光学系の全体に重なる１枚の１枚のアパーチャからなる場合の例で説明した。しかし、視野絞り３、４は、第１の投影光学系のＮＡの範囲に開口部を形成し、開口部を透過する光以外を第１の投影光学系に入射させない構成であれば、２以上のアパーチャの組み合わせによって構成されてもよい。

上記各実施形態の説明では、光透過量規制部材が、第２の投影光学系と露光対象物との間に配置される場合の例で説明した。しかし、光透過量規制部材は、第２の光源から露光対象物までの間であれば、どの位置に配置されていてもよい。

上記第７、第８の実施形態の説明では、上記第６の実施形態の第１開口部５９ｂおよび第２開口部５９ｃと略同様の位置に開口部を形成するための光透過量規制部材の構成について説明した。しかし、上記第７、第８の実施形態の光透過量規制部材の構成は、例えば、上記第５の実施形態における第１開口部４９ｂおよび第２開口部４９ｃを形成するために用いられてもよい。

上記第８の実施形態の説明では、液晶シャッター部７９ｄが開口部８０ａ、８０ｂと重なる領域に配置された１つの液晶シャッターパネル７９ａが用いられる場合の例で説明した。しかし、開口部８０ａ、８０ｂと重なる範囲にそれぞれ１つずつ液晶シャッターパネルが設けられていてもよい。この場合、より小型の液晶シャッターパネルを用いることができる。

上記第８の実施形態の説明では、遮蔽板８０が用いられる構成の例で説明した。しかし第２の露光光の光量と、液晶シャッターパネルの消光比と、によっては、遮蔽板８０は省略されてもよい。

上記第８の実施形態の説明では、液晶シャッターパネル７９ａの光透過部７９ｂによって、アパーチャの開口形状に対応する光学的な開口が形成される場合の例で説明した。
しかし、液晶駆動によって、透過率分布を制御できる場合には、上記第１および第２の実施形態におけるフィルタに対応する透過率分布を有する光学的な開口が形成されてもよい。液晶駆動によって、透過率分布を制御する方法としては、液晶の透過率の多値制御、面積階調法による透過率制御などが上げられる。

上記各実施形態の説明では、投影光学ユニット５が、Ｘ方向における被露光体６の全幅を露光する場合の例で説明した。しかし、単一のフォトマスク１によって、被露光体６の露光パターンを露光できれば、投影光学ユニット５は、Ｘ方向の一部を覆う大きさでもよい。この場合、露光装置１００におけるＹ方向の走査露光を、Ｘ方向にずらして複数回行うことによって、被露光体６の全体が露光される。

以上、本発明の好ましい各実施形態を説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されることはない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。
また、本発明は前述した説明によって限定されることはなく、添付の特許請求の範囲によってのみ限定される。

１ フォトマスク（露光用フォトマスク）
２、３２ 主照明光源（第１の光源）
３、４、３３Ａ、３３Ｂ 視野絞り（絞り部材）
３Ａ、４Ａ 第１開口部（開口部）
３Ｂ、４Ｂ 第２開口部（開口部）
５、３５ 投影光学ユニット
５Ａ 第１列投影光学系（第１の投影光学系）
５Ｂ 第２列投影光学系（第１の投影光学系）
６ 被露光体（露光対象物）
７ ベース
８、１８、２８ 追加露光用照明光源（第２の光源）
９、１９、２９、４９、５９、６９、７９ 追加露光用投影光学ユニット（補正露光部）
９Ａ、４９Ａ 第１列投影光学系
９Ｂ、４９Ｂ 第２列投影光学系
９ａ レンズユニット（第２の投影光学系）
９ｂ、１９ｂ フィルタ（光透過量規制部材、光減衰フィルタ）
９ｄ、１９ｄ 第１減光部
９ｅ、１９ｅ 第２減光部
１３Ａ 第１の光像
１３Ｂ 第２の光像
１９Ａ、５９Ａ、６９Ａ、７９Ａ 投影光学系
１９ｄ_Ａ 第１の補正用光像
１９ｄ_Ｂ 第２の補正用光像
１９ｅ_Ａ 第３の補正用光像
１９ｅ_Ｂ 第４の補正用光像
４９ａ、４９ｄ、５９ａ、５９ｄ アパーチャ（光透過量規制部材、開口絞り）
６９ａ、６９ｂ、６９ｃ 開口可変アパーチャ（光透過量規制部材、開口絞り）
７９ａ 液晶シャッターパネル（光透過量規制部材、液晶シャッター）
１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６、１０７ 露光装置
Ａ_Ｃ 複合露光領域
Ａ_Ｓ、Ａ_Ｓ１、Ａ_Ｓ２ 単独露光領域
Ｌ_１Ａ、Ｌ_１Ｂ、Ｌ_１１Ａ、Ｌ_１１Ｂ 第１の露光光
Ｌ_２Ａ、Ｌ_２Ｂ、Ｌ_１２Ａ、Ｌ_１２Ｂ、Ｌ_２２Ａ 第２の露光光
Ｍ、Ｍ_Ｌ、Ｍ_Ｒ 光量補正領域
Ｍ 述するように光量補正領域
Ｏ_３、Ｏ_４ 軸線（第２の軸線）
Ｏ_５ 軸線（第１の軸線）
Ｏ_９、Ｏ_１３、Ｏ_１９ 軸線
Ｐ マスクパターン
ｒ_Ｃ 複合開口領域
ｒ_Ｓ 単独開口領域

Claims (8)

1. 第１の露光光を発生する第１の光源と、
   平面視において第１の軸線に沿う第１の方向の開口量が前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定となるように、前記第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成され、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、が前記第２の方向において交互に形成されており、前記第１の光源と露光用フォトマスクとの間に前記複数の開口部が位置するように配置された絞り部材と、
   前記絞り部材の前記複数の開口部のそれぞれと対向して配置され、前記複数の開口部のそれぞれを透過した前記第１の露光光による光像を、それぞれ露光対象物に投影する複数の第１の投影光学系と、
   前記第１の光源に対して前記第１の方向に隣り合うように配置され、前記露光用フォトマスクに照射する第２の露光光を発生する第２の光源と、
   前記露光用フォトマスクから前記露光対象物までの間の前記第２の露光光の光路上に配置され、前記露光用フォトマスクを透過した前記第２の露光光の前記露光対象物への照射範囲を、平面視において前記第２の方向における前記複合開口領域の幅が前記第１の方向に延長された領域である光量補正領域に限って、前記第２の露光光を照射する補正露光部と、
   を備える、露光装置。
2. 前記補正露光部は、
   前記光量補正領域における前記第２の露光光の前記第１の方向における積算光量を、前記第２の方向における前記光量補正領域の両端部よりも中心部が高くなるように前記第２の露光光を照射する、
   請求項１に記載の露光装置。
3. 前記補正露光部は、
   前記第２の露光光を前記露光対象物に向けて投影する第２の投影光学系と、
   前記露光用フォトマスクと前記露光対象物との間で、前記第２の露光光を前記光量補正領域の範囲に規制する光透過量規制部材と、
   を備える、
   請求項１または２に記載の露光装置。
4. 前記光透過量規制部材は、
   前記第２の投影光学系と前記露光対象物との間に配置された、
   請求項３に記載の露光装置。
5. 前記光透過量規制部材は、光減衰フィルタを含む、
   請求項３または４に記載の露光装置。
6. 前記光透過量規制部材は、開口絞りを含む、
   請求項３〜５のいずれか１項に記載の露光装置。
7. 前記光透過量規制部材は、液晶シャッターを含む、
   請求項３〜６のいずれか１項に記載の露光装置。
8. 平面視において第１の軸線に沿う第１の方向の開口量が前記第１の軸線に交差する第２の軸線に沿う第２の方向において一定となるように、前記第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成され、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの２つが間をあけて隣り合う複合開口領域と、前記第１の方向において前記複数の開口部のうちの１つが開口する単独開口領域と、前記第２の方向において交互に形成された絞り部材を準備することと、
   前記絞り部材の前記複数の開口部を透過する第１の露光光を、露光用フォトマスクおよび露光対象物に対して前記第１の方向に相対走査することによって、前記第１の露光光による前記露光用フォトマスクの光像を前記露光対象物に投影する第１の露光を行うことと、
   前記第１の露光の前または後に、第２の露光光を、前記露光用フォトマスクに照射し、前記露光用フォトマスクを透過した前記第２の露光光を前記露光用フォトマスクおよび前記露光対象物に対して前記第１の方向に相対走査することによって、前記第２の露光光による前記露光用フォトマスクの光像を前記露光対象物に投影する第２の露光を行うことと、
   前記第２の露光を行う際に、平面視において前記第２の方向における前記複合開口領域の幅が前記第１の方向に延長された領域である光量補正領域に限って前記第２の露光光を前記露光対象物に照射することと、
   を含む、露光方法。

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