JP2019012580A - 塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】磁気記録媒体に加工された際に、ハンドリング性を保ちつつ、良好な磁性層を形成させることが可能であって、更に保存耐久性と幅寸法安定性に優れる塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルムを提供すること。【解決手段】２層以上の層構成を有する積層ポリエステルフィルムであって、磁性層を塗布する側の最表層に位置する層をＡ層、他方の最表層に位置する層をＢ層としたとき、下記（１）〜（３）の要件を満足する塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルムとする。（１）Ａ層が不活性粒子Ａを含有し、Ａ層側表面（表面Ａ）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａが２〜２０ｎｍである。（２）Ｂ層が不活性粒子Ｂを含有し、Ｂ層側表面（表面Ｂ）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ｂが３〜４０ｎｍである。（３）原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）のフォースボリューム法により測定した、表面Ｂの突起高さ分布において最大ピークの突起部分の弾性率ＥＢｈと、最大ピーク以外の部分の弾性率ＥＢとの差（ＥＢｈ−ＥＢ）が１ＧＰａ以下である。【選択図】なし

Description

本発明は、塗布型磁気記録媒体用として好適に使用できるポリエステルフィルムに関する。

近年、データストレージやデジタルビデオテープ用等の磁気記録媒体においては、高密度化や高容量化が進んでいる。例えば、ＬＴＯ（Ｌｉｎｅａｒ Ｔａｐｅ Ｏｐｅｎ）やＳＤＬＴ（Ｓｕｐｅｒ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｌｉｎｅａｒ Ｔａｐｅ）等のリニア記録方式の磁気記録媒体では、１巻で７ＴＢの高容量を有するものが開発されている。

高容量化のために、延伸倍率アップによるベースフィルムの高強度化、テープ幅方向の温度膨張係数や湿度膨張係数の最適化、添加粒子の小粒径化等、これまで数多くの検討がなされてきた（特許文献１〜５）。しかしながら、これらの技術を用いても１巻で７ＴＢより高容量を有する磁気記録媒体用としては十分な特性が得られなかった。

これらの磁気記録媒体においては、高容量化を実現するために記録媒体磁性面の欠陥を最小限に抑制することが不可欠である。磁性面欠陥の代表例として、バックコート層の凹凸形状が転写することにより磁性面に発生する陥没が挙げられる。バックコート層は、磁気層と反対の面に設けられるものであり、主としてテープの走行性を向上させる役割を担う。この層は、磁性層が設けられる面と反対側の表面に、バックコート層を形成させる塗材を塗布してこれを乾燥させることで形成された塗膜である。生産工程におけるハンドリング性向上のために、バックコート層はある程度粗面であることが好ましいが、粗すぎるとロールに巻き取った後の後処理工程でバックコート層の突起が磁性層表面に転写し、ミッシングパルス（ＭＰ）のようなデータエラーの原因となる。バックコート層の凹凸はベースフィルムの寄与が大きいため、ベースフィルム平滑化の要求が高まっている。

特開２０１６−１９２２４７号公報 特開２０１５−２０２６０２号公報 特開２０１５−３４０８号公報 特開２０１２−１５３１００号公報 特開２０１２−５６１５７号公報

磁気記録媒体の記録容量の増加に伴い、データエラー抑制に対する要求が高まっている。データエラーの代表であるミッシングパルス（ＭＰ）を低減させるためには、磁気層の欠陥を低減させることが不可欠である。磁気層欠陥の代表的原因として挙げられるのは、バックコート層の凹凸形状の転写である。バックコート層は生産工程でのハンドリング性向上のためにある程度粗面であることが好ましいが、粗すぎるとロールに巻き取った後の後処理工程でバックコート層の突起が磁気層表面に転写してしまう。バックコート層の凹凸は、支持体として用いられるベースフィルムの表面形状の寄与が大きいため、ベースフィルムの平滑化への要求が高まっている。一方で、ベースフィルムを平滑化すると、ハンドリング性が低下し、ベースフィルム生産工程の歩留まりが悪化するという課題があった。

後述する本発明の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルムを用いると、ベースフィルム表面が従来同等の粗さであっても、フィルム表面の弾性率や硬さが低いことによって、クッション作用が働き、磁気層への転写が最小限に抑制されることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、上記課題を解決するための本発明は、次の特徴を有している。

２層以上の層構成を有する積層ポリエステルフィルムであって、磁性層を塗布する側の最表層に位置する層をＡ層、他方の最表層に位置する層をＢ層としたとき、下記（１）〜（３）の要件を満足する塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
（１）Ａ層が不活性粒子Ａを含有し、Ａ層側表面（表面Ａ）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａが２〜２０ｎｍである。
（２）Ｂ層が不活性粒子Ａより平均粒径が大きい不活性粒子Ｂ１を含有し、Ｂ層側表面（表面Ｂ）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ｂが３〜４０ｎｍである。
（３）原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）のフォースボリューム法により測定した、表面Ｂの突起高さ分布において最大ピークの突起部分の弾性率ＥＢｈと、最大ピーク以外の部分の弾性率ＥＢとの差（ＥＢｈ−ＥＢ）が１ＧＰａ以下である。

本発明によれば、磁気記録媒体に加工された際に、ハンドリング性を保ちつつ、良好な磁性層を形成させることが可能であって、更に保存耐久性と幅寸法安定性に優れる塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルムが提供される。

以下、本発明の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルムの一実施形態について説明する。塗布型磁気記録媒体とは、製造過程において、支持体上に塗布された塗材（例えば磁気記録用の磁性粉を含有した分散体など）を乾燥させることにより塗膜を形成させる工程を有する磁気記録媒体である。

本発明の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム（以下、単に「本発明のフィルム」と呼ぶことがある。）は、塗布型磁気記録媒体の支持体として好ましく用いられる。本発明のフィルムは磁気層を塗布しない側の面（Ｂ面）側表面の押し込みに対する弾性率が低いことにより、磁気記録媒体の加工工程でＢ面側の凹凸形状が磁気層に転写しにくくなり、データエラーが少なく良好な電磁変換特性を得ることができる。

本発明のフィルムは２層以上の層構成を有する積層ポリエステルフィルムであって、磁性層を塗布する側の最表層に位置する層をＡ層、他方の最表層に位置する層をＢ層としたとき、下記（１）〜（３）の要件を満足することを特徴とする。
（１）Ａ層が不活性粒子Ａを含有し、Ａ層側表面（表面Ａ）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａが２〜２０ｎｍである。
（２）Ｂ層が不活性粒子Ａより平均粒径が大きい不活性粒子Ｂ１を含有し、Ｂ層側表面（表面Ｂ）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ｂが５〜４０ｎｍである。
（３）原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）のフォースボリューム法により測定した、表面Ｂの突起高さ分布において最大ピークの突起部分の弾性率ＥＢｈと、最大ピーク以外の部分の弾性率ＥＢとの差（ＥＢｈ−ＥＢ）が１ＧＰａ以下である。

磁気記録媒体の製造工程においては、支持体であるフィルムの両面に磁気層、バックコート層をそれぞれ塗布した後、塗膜の硬化を行う。その際、ロールに巻き取られた状態で加熱を行うため、巻き取られたフィルムが応力緩和によって巻き締まり、ロールの径方向に応力が発生する。ロール径方向の応力によって、特にロール巻芯側では磁気層とバックコート層（Ｂ面）が強く圧縮される。その際、バックコート層（Ｂ面）側の表面に凹凸形状があると、磁気層表面にその凹凸が転写する。転写した凹凸は、磁気記録媒体としたときに、読み取りヘッドと磁気層の間隙を不安定にさせ、ミッシングパルス（ＭＰ）と呼ばれる出力低下に繋がり、磁気記録媒体の性能低下をもたらす。

ＭＰについては、磁気層への凹凸の転写を防ぐためには、バックコート層の凹凸を軽減することが有効である。バックコート層の凹凸は支持体として用いるフィルムの表面形状の影響を大きく受けるため、フィルムの表面を平滑にすることが有効である。しかしながら、フィルム表面を平滑にしすぎると、ハンドリング性が低下し、フィルム製造工程での歩留まりが低下する他、磁気テープとヘッドとの摩擦上昇によりヘッドによる削れのため保存耐久性も低下する。したがって、Ｂ面表面は磁気層への転写が許容される範囲内で適度に粗面であることが好ましいが、粗すぎると磁気テープ特性、例えばエラーレートが低下するだけでなく、ヘッドによる削れの起点となって保存耐久性が低下したりする。しかしながら、近年記録媒体の高容量化の要求がますます高まっており、フィルム製造工程の歩留まり維持と表面平滑性の両立、磁気テープのエラーレートと保存耐久性の両立が困難な状況となっている。

そこで、Ｂ面表面がハンドリング性を維持できる程度粗面でありながら、磁気記録媒体への加工時に、磁気層への転写が抑制される本発明のポリエステルフィルムが有効である。
本発明のフィルムは、Ｂ面表面の突起高さ分布において最大ピーク以外の部分の弾性率ＥＢと、添加した不活性粒子によって形成されるＢ面表面の突起高さ分布において最大ピークの突起部分の弾性率ＥＢｈのバランスが重要となる。（ＥＢｈ−ＥＢ）が１ＧＰａ以下だと、地肌部分と突起部分がもたらすクッション効果が最も効果的に現れる。（ＥＢｈ−ＥＢ）が１ＧＰａより大きいと、突起部分の弾性率のみが高くなるため、突起部分に応力集中が起こって磁性層へ凸形状が転写しやすくなってしまう。ベースの対キズ性やエア抜け性の観点から、（ＥＢｈ−ＥＢ）の下限は−０．５ＧＰａであることが好ましく、０ＧＰａであることがより好ましい。（ＥＢｈ−ＥＢ）が−０．５ＧＰａより小さいと、ベースから粒子が脱落しやすくなる上に、粒子添加による効果が弱くなりハンドリング性が悪くなる。ＥＢｈを調整するためには、例えば、Ｂ層に含有せしめる不活性粒子Ｂの弾性率を高くすることである。不活性粒子Ｂの弾性率を高くする方法については、後述の不活性粒子Ｂの具体例において説明する。

また本発明のポリエステルフィルムにおいては、前記表面ＢについてＡＦＭのフォースボリューム法により測定した、表面Ｂの最大ピーク以外の部分の弾性率ＥＢが１．５ＧＰａ以上４．５ＧＰａ以下であることが好ましく、より好ましくは３．０ＧＰａ以上、４．５ＧＰａ以下、最も好ましくは３．０ＧＰａ以上４．０ＧＰａ以下である。ＥＢが１．５ＧＰａ以下の場合、保存耐久性および耐キズ性が低下しやすい。また、ＥＢが４．５ＧＰａより大きいと、凹凸の転写が起こりやすくなる。

本発明のフィルムにおいて、ＡＦＭのフォースボリューム法による表面Ｂの最大ピーク以外の部分の弾性率ＥＢを調節する手法はＢ面側の配向度を低くすることである。配向度を低くするためには、Ｂ面側に主として用いるポリエステルとは異なる熱可塑性樹脂を添加すればよい。異種のポリマーが混合されると、ポリエステル鎖による微結晶形成が阻害され配向度が低下する。

また、本発明のフィルムにおいては、ベース表面の弾性率分布が小さいことも有効である。ベース表面の弾性率分布でヒストグラムを作成した場合の半値幅が２ＧＰａ以下であることが好ましく、１．５ＧＰａ以下であることがより好ましい。ベース表面の弾性率のばらつきが小さいと、面全体に均一に圧力がかかり磁性層への凹凸形状の転写が抑制される。一方で、弾性率分布の半値幅が２ＧＰａより大きいと、弾性率が高い箇所に局所的に応力集中が起こり、磁性層への凹凸形状が転写しやすくなってしまう。ベース表面の弾性率分布を小さくするためには、複数のポリマー原料を用いる場合は、均一に分散させることが重要であり、さらに製膜工程で均一かつ高倍率で延伸することが重要である。たとえば、各方向において２段階以上に分けて延伸する、すなわち、再縦、再横延伸を行うと、高倍率かつ均一に延伸することができるため有利となる。

本発明に用いることができるポリエステルとしては、分子配向により高強度フィルムとなるポリエステルであれば特に限定されないが、ポリエチレンテレフタレートや、ポリエチレン−２，６−ナフタレートを構成成分とすることが好ましい。

本発明では、外観、耐熱性、寸法安定性、経済性の点から、特にポリエステルの主成分がポリエチレンテレフタレートであることが好ましく、ポリエステル全体の５０質量％以上、さらには６０質量％以上がポリエチレンテレフタレートであることが好ましい。より具体的にはポリエステルを構成するグリコール単位の６０モル％以上がエチレングリコール由来の構造単位であり、ジカルボン酸単位の６０モル％以上がテレフタル酸由来の構造単位であることが好ましい。なお、ここで、ジカルボン酸単位（構造単位）あるいはジオール単位（構造単位）とは、重縮合によって除去される部分が除かれた２価の有機基を意味し、要すれば、以下の一般式で表される。

ジカルボン酸単位（構造単位）： −ＣＯ−Ｒ−ＣＯ−
ジオール単位（構造単位）： −Ｏ−Ｒ’−Ｏ−
（ここで、Ｒ、Ｒ’は二価の有機基）
なお、トリメリット酸単位やグリセリン単位など３価以上のカルボン酸あるいはアルコール並びにそれらの誘導体が含まれる場合は、３価以上のカルボン酸あるいはアルコール単位（構造単位）についても、同様に、重縮合によって除去される部分が除かれた３価以上の有機基を意味する。

本発明に用いるポリエステルを与える、グリコールあるいはその誘導体としては、ジエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールなどの脂肪族ジヒドロキシ化合物、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリオキシアルキレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、スピログリコールなどの脂環族ジヒドロキシ化合物、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳなどの芳香族ジヒドロキシ化合物、並びに、それらの誘導体が挙げられる。中でも、耐熱性、取り扱い性の点で、ジエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールが好ましく用いられる。

また、本発明に用いるポリエステルを与えるジカルボン酸あるいはその誘導体としては、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、５−ナトリウムスルホンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、マレイン酸、フマル酸などの脂肪族ジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸、パラオキシ安息香酸などのオキシカルボン酸、並びに、それらの誘導体を挙げることができる。ジカルボン酸の誘導体としてはたとえばテレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸２−ヒドロキシエチルメチルエステル、２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、ダイマー酸ジメチルなどのエステル化物を挙げることができる。中でも、耐熱性、取り扱い性の点で、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、および、それらのエステル化物が好ましく用いられる。

また本発明では、寸法安定性の低下を防ぐために、または配向度を調整するために、ポリエステルとは異なる熱可塑性樹脂（以下、耐熱性熱可塑性樹脂ということがある）を含有することが好ましい。耐熱性熱可塑性樹脂としては、ポリイミド系樹脂（ポリエーテルイミドを含む）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレートが挙げられる。これらの中でも、ポリエステルとの親和性及び溶融成形性の観点から、ポリイミド系樹脂、特にポリエーテルイミドが好ましく例示される。

耐熱性熱可塑性樹脂については、磁気記録媒体に加工した際の寸法安定性と保存耐久性の効果を得やすくするため、後述の不活性粒子、特にＢ層に含有せしめる不活性粒子Ｂ１、Ｂ２とは異なる成分であることが好ましい。さらに耐熱性熱可塑性樹脂の含有量は０．３質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．４質量％以上８質量％以下である。０．３質量％未満の場合、寸法安定性が低下しやすい。一方、１０質量％より多い場合、フィルム製膜中に破れやすくなる。

本発明のフィルムは、２層以上の層構成を有する。これは、磁気記録媒体の支持体として用いたときに、一方の表面（Ａ面）には優れた電磁変換特性を得るための平滑さを、他方の表面（Ｂ面）には製膜及び加工工程での優れた搬送性やテープの走行性を付与するための適度な粗さを両立させることが容易になるからである。

なお、２層以上の層構成を有するとは、少なくとも２層の層が存在することを意味し、３層や４層など、あるいはそれ以上の多層積層構成であっても構わない。そして一方の表面（表面Ａ）の表面形状を支配する層をＡ層とし、他方の表面（表面Ｂ）の表面形状を支配する層をＢ層として、表面Ａや表面Ｂ、Ａ層やＢ層の特徴を本願発明において規定する。これらの層は、塗布層により構成されていてもよいが、共押出により形成された層であることが好ましい。

例えば、本願発明が２層で構成されている場合、一方の層がＡ層、他方の層がＢ層となる。また、この２層構成の一方の表面や両表面に塗布層が形成された３層構成や４層構成の場合、当該塗布層をＣ層やＤ層として、Ｃ層／Ａ層／Ｂ層、Ｃ層／Ａ層／Ｂ層／Ｄ層といった層構成となるが、Ｃ層やＤ層が表面形状に影響を及ぼさない場合やその影響が軽微である場合は、Ｃ層やＤ層がＡ層やＢ層に該当することはなく、Ｃ層表面が表面ＡとなりＤ層表面が表面Ｂとなる。

既に述べたように、本発明のフィルムを塗布型磁気記録媒体用支持体として用いる場合、表面Ａ（Ａ面）は、磁性層を設ける側の表面とされ、反対側の表面Ｂ（Ｂ面）は、バックコート層等を設ける、走行面側の表面となる。

表面Ａ側（Ａ面側、Ａ層側表面）に磁性層を設ける場合、ポリエステルフィルムの表面粗さＳＲａ−Ａは、２〜２０ｎｍであることが必要である。表面Ａ（Ａ面）のＳＲａ−Ａが２ｎｍ以上であれば、フィルム製造、加工工程等で、搬送ロール等との摩擦係数が大きくなることに伴う工程トラブルが抑制されるので好ましい。また、ＳＲａ−Ａが２０ｎｍ以下であれば、高密度記録の磁気テープとして用いる場合に、適切な電磁変換特性を維持できるので好ましい。表面Ａ側に磁性層を設ける場合、ＳＲａ−Ａの下限は、より好ましくは２．５ｎｍ、さらに好ましくは３ｎｍであり、ＳＲａ−Ａの上限は、より好ましくは１５ｎｍ、さらに好ましくは１０ｎｍである。

一方、表面Ｂ側（Ｂ面側、Ｂ層側表面）にバックコート層を設ける場合、その表面粗さＳＲａ−Ｂは、３〜４０ｎｍであることが必要である。表面Ｂ（Ｂ面）のＳＲａ−Ｂが３ｎｍ以上であれば、搬送ロール等との摩擦係数が小さくなり、工程トラブルの発生が抑制されるので好ましい。また、ＳＲａ−Ｂが４０ｎｍ以下であれば、フィルムロールやパンケーキとして保管する際に、表面突起が反対側の表面に転写されることに伴う電磁変換特性の低下を抑制できるので好ましい。表面Ｂ側にバックコート層を設ける場合、ＳＲａ−Ｂの下限は、より好ましくは４ｎｍ、さらに好ましくは５ｎｍであり、ＳＲａ−Ｂの上限は、より好ましくは３０ｎｍ、さらに好ましくは２０ｎｍである。

ＳＲａを上記の範囲とするには、層内に不活性粒子を添加することが好ましく、本発明において表面Ａを構成するＡ層に不活性粒子Ａを用いる場合、その平均粒径ｄＡは、０．０１〜０．６μｍであるのが好ましく、０．０４〜０．４μｍであるのがより好ましく、その含有量は、０．００５〜０．５質量％であるのが好ましく、０．０１〜０．３質量％であるのがより好ましい。磁気記録用媒体支持体においては、平均粒径が０．６μｍ以下の粒子を用いれば電磁特性の悪化を抑制できるので好ましい。一般に、添加する不活性粒子の平均粒径及び添加量を小さくするほどＳＲａが小さくなり、添加する不活性粒子の平均粒径及び添加量を大きくするほどＳＲａが大きくなる。

表面Ｂを構成するＢ層に粒子を含有させる場合、その粒子は１種類であっても２種類以上であってもよい。Ｂ層に含有させる最も平均粒径の大きい不活性粒子を不活性粒子Ｂ１としたとき、その平均粒径ｄＢ１は、０．１〜２μｍであるのが好ましく、０．２〜１μｍであるのがより好ましく、その含有量は、０．００１〜０．１質量％であるのが好ましく、０．００２〜０．０５質量％であるのがより好ましい。層Ｂにさらに不活性粒子Ｂ２を含有させる場合、その平均粒径ｄＢ２は、０．０２〜０．５μｍであるのが好ましく、０．０５〜０．４μｍであるのがより好ましく、その含有量は、０．０８〜２質量％であるのが好ましく、０．１〜１質量％であるのがより好ましい。

また本発明においては、磁気記録媒体に加工された際のハンドリング性を確保しやすくする観点から、ｄＢ１はｄＢ２より０．２〜１．０μｍ大きいことが好ましく、またｄＢ２はｄＡより０．０５〜０．４μｍ大きいことが好ましい。

本発明のフィルムに添加される不活性粒子としては、球状シリカ、ケイ酸アルミニウム、二酸化チタン、炭酸カルシウム等の無機粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋スチレン−アクリル樹脂粒子、架橋ポリエステル粒子、ポリイミド粒子、メラミン樹脂粒子等の耐熱性ポリマー粒子である有機系高分子粒子等を好ましく挙げることができる。これらは、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの内、不活性粒子Ｂ１、Ｂ２としては、表面Ｂの最大ピークの突起部分の弾性率ＥＢｈを調節しやすい点で、無機粒子として球状シリカ、炭酸カルシウム、あるいは耐熱性ポリマーである有機系高分子粒子として架橋ポリスチレン粒子、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋スチレン−アクリル樹脂粒子が好ましい。中でもエラーレートと保存耐久性のバランスを取りやすい点で耐熱性ポリマーである有機系高分子粒子が好ましく、特に架橋ポリスチレン粒子が最も好ましい。

有機系高分子粒子の弾性率を調節する方法としては、例えば、核となるシードポリマー粒子に重合性モノマーを吸収させ、さらに重合、架橋せしめることで架橋ポリマー粒子とする方法が挙げられる。

シードポリマー粒子の組成は、重合に用いるモノマーに溶解または膨潤するものであれば特に制限されないが、通常、オレフィン系モノマーの重合体であるオレフィン系ポリマーであって、重合に用いるモノマーと同系統のものであることが好ましい。具体的にはポリスチレン、メチルアクリレートやブチルアクリレートなどのアクリル酸エステル、ブタジエンなどのモノマーを単独であるいは２種以上組み合わせて得られるポリマー粒子を好適に用いることができる。

架橋ポリマー粒子を合成するための重合性モノマーは、架橋性モノマーのみから構成されていることが好ましいが、当該架橋性モノマーと共重合可能な共重合性モノマーとにより重合性モノマーが構成されていてもよい。架橋性モノマーとしては、ジビニルベンゼンに代表される非共役ジビニル化合物、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートに代表される多価アクリレート化合物などの、２個以上、好ましくは２個の共重合性二重結合を有する化合物を好ましく用いることができる。

共重合性モノマーとしては、芳香族モノビニル化合物、シアン化ビニル化合物、アクリル酸エステルモノマー、メタクリル酸エステルモノマー、モノまたはジカルボン酸およびジカルボン酸の酸無水物、アミド系モノマーなどを用いることができる。また重合速度および重合安定性の点で許容される範囲内において、ブタジエン、イソプレンなどの共役二重結合化合物や酢酸ビニルなどのビニルエステル化合物、４−メチル−１−ペンテン、その他のα−オレフィン化合物も使用することができる。これらの内、スチレン、エチルビニルベンゼン、α−メチルスチレン、フルオロスチレン、ビニルピリンなどの芳香族モノビニル化合物、特に、スチレン、エチルビニルベンゼンが好ましい。これらの共重合性モノマーは２種以上を混合して用いることができる。

重合性モノマーにおいて、架橋性モノマーと共重合性モノマーとの質量比率〔架橋性モノマー／共重合性モノマー〕としては、（７０質量部／３０質量部）以下であることが好ましく、更に好ましくは（６５質量部／３５質量部）以下、特に好ましくは（６０質量部／４０質量部）以下である。架橋性モノマーの割合を７０質量部以下とすることにより、得られる架橋ポリマー粒子は、架橋密度が小さくなり、本発明に好適な弾性率、さらに優れた耐熱性を有するものとなる。

本発明のフィルムに添加される不活性粒子としては、球状シリカ、ケイ酸アルミニウム、二酸化チタン、炭酸カルシウム等の無機粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋スチレン−アクリル樹脂粒子、架橋ポリエステル粒子、ポリイミド粒子、メラミン樹脂粒子等の有機系高分子粒子等を好ましく挙げることができる。これらは、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

また、本発明のフィルムに添加される不活性粒子は、粒子径状及び粒子分布の均一なものが好ましく、その体積形状係数ｆが、０．３〜π／６であることが好ましく、０．４〜π／６であることがより好ましい。体積形状係数ｆは、次式で表される。

ｆ＝Ｖ／Ｄｍ^３
ここで、Ｖは粒子体積（μｍ^３）であり、Ｄｍは粒子の投影面における最大径（μｍ）である。

なお、体積形状係数ｆは、粒子が球のときに最大のπ／６（＝０．５２）となる。不活性粒子は、必要に応じて、粗大粒子や介在物を除去するために濾過等を行われることが好ましい。また、不活性粒子の中でも、球状シリカは、単分散性に優れるためフィルムの表面突起の形成を容易に制御でき、本発明において好ましく用いられる。

本発明のフィルムにおいて幅方向のヤング率は、４〜１３ＧＰａであることが好ましい。幅方向のヤング率が４ＧＰａ以上であれば、エッジダメージを抑制できるので好ましい。幅方向のヤング率の下限は、５ＧＰａであるのがより好ましく、６ＧＰａであるのがさらに好ましい。また、幅方向のヤング率が１３ＧＰａ以下であれば、十分な長手方向のヤング率が得られるので好ましい。幅方向のヤング率の上限は、１１ＧＰａであるのが好ましく、１０ＧＰａであるのがさらに好ましい。

なお、本発明において長手方向とは、一般的にＭＤ方向と呼ばれる方向であって、ポリエステルフィルム製造工程時の長手方向と同じ方向を指す。また、本発明において幅方向とは、一般的にＴＤ方向と呼ばれる方向であって、ポリエステルフィルム製造工程時の幅方向と同じ方向（ＭＤ方向と直交する方向）を指す。

また、本発明のフィルムの厚さは、２〜１０μｍであることが好ましい。フィルムの厚さが２μｍ以上であることにより、磁気記録媒体として必要なこしが得られるので好ましい。フィルムの厚さの下限は、３μｍであるのが好ましく、４μｍであるのがより好ましい。また、フィルムの厚さが１０μｍ以下であることにより、テープ１巻あたりのテープ長さを十分に確保できるので、磁気テープの小型化、高容量化を実現でき好ましい。フィルムの厚さの上限は、８μｍであるのが好ましく、６μｍであるのがより好ましい。

またＡ層とＢ層の厚み比率については、総厚みを１００％とした時のＢ層厚み比率が１〜３０％が好ましく、より好ましくは２〜２８％、最も好ましくは４〜２５％である。Ｂ層厚み比率が１％未満の場合、均一な積層とすることが困難となり、不活性粒子Ｂ１、Ｂ２が少ない箇所ではフィルムおよび磁気テープのすべり性が低下し、フィルムの製膜性あるいはフィルムと磁気テープのスリット性が低下しやすい。その他に工程ロールからのキズによりフィルム、磁気テープの歩留まりが低下する傾向にある。一方、Ｂ層比率が３０％より大きい場合には、表面Ｂが粗くなり、フィルムあるいは磁気テープの製造工程においてロール状に巻き取った際の転写跡により表面Ａの平滑性と共に磁気テープの電磁変換特性が低下、あるいはエラーレートが増加しやすくなる。なお、３層以上の構成とした場合には、Ａ層、Ｂ層以外の層も含めた総厚みを１００％とした上で、Ｂ層厚み比率が上記範囲内であることが好ましい。

本発明のフィルムは、例えば次のように製造される。以下、ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用いた例を代表例として説明するが、本発明は特にこれらに限定されるものではない。

不活性粒子の作製方法としては、例えばポリスチレンをシードポリマー粒子、重合性モノマーの内、架橋性モノマーをジビニルベンゼン、共重合性モノマーをエチルビニルベンゼンとし、架橋性モノマーと共重合性モノマーとの質量比率〔架橋性モノマー／共重合性モノマー〕を（７０質量部／３０質量部）以下として、ポリスチレンにジビニルベンゼン／エチルビニルベンゼンを吸収させた後に、重合および架橋せしめて、ジビニルベンゼン／スチレン共重合架橋粒子（ＤＶＢＳ）を調整することが好ましい。

ポリエステルに不活性粒子を含有させる方法としては、例えばジオール成分であるエチレングリコールに不活性粒子Ａあるいは不活性粒子Ｂを所定の割合にてスラリーの形で分散させ、このエチレングリコールスラリーをポリエステル重合完結前の任意段階で添加することを挙げられる。ここで、粒子を添加する際には、例えば、粒子を合成した際に得られる水ゾルやアルコールゾルを乾燥させることなくポリエステル重合完結前の任意段階で添加すると粒子の分散性が良好であり、フィルムの滑り性や電磁変換特性等を良好にすることができる。また、粒子の水スラリーを所定のポリエステルペレットと混合し、ベント方式の二軸混練押出機に供給しポリエステルに練り込む方法も有効な手法である。これらの方法により、粒子を含有したポリエステルペレットを調製する。

以上のようにして準備した、粒子を含有したポリエステルペレット、及び粒子等を実質的に含有しないポリエステルペレットを所定の割合で混合し、乾燥した後、公知の溶融積層用押出機に供給し、ポリマーをフィルターにより濾過する。

また、非常に薄い磁性層が塗布される塗布型の高密度磁気記録媒体用途においては、ごく小さな異物も磁気記録欠陥であるＤＯ（ドロップアウト）の原因となるため、フィルターには例えば１．５μｍ以上の異物を９５％以上捕集することのできる高精度の繊維焼結ステンレスフィルターを用いることが有効である。続いてスリット状のスリットダイからシート状にポリマーを押し出し、キャスティングロール上でこのポリマーを冷却固化させて未延伸フィルムとする。すなわち、複数の押出機、複数のマニホールド又は合流ブロック（例えば矩形合流部を有する合流ブロック）を用いて必要な層数を積層させ、口金からシートを押し出して、キャスティングロールで冷却させて未延伸フィルムを得る。この場合、背圧の安定化及び厚さ変動の抑制の観点からは、ポリマー流路にスタティックミキサーやギアポンプを設置することが有効である。

続いて、上記未延伸フィルムを長手方向と幅方向の二軸に延伸した後、熱処理する。延伸工程は、特に限定されないが、各方向において２段階以上に分けて延伸することが好ましい。すなわち、再縦、再横延伸を行うことが高密度記録の磁気テープとして最適な高強度のフィルムが得られやすいため好ましい。

延伸方法は、同時二軸延伸であっても、逐次二軸延伸であってもよい。同時二軸延伸においてはロールによる延伸を伴わないため、フィルム表面の局所的な加熱が発生せず、表面性が制御しやすく、延伸方法としてより好ましい。同時二軸延伸においては、未延伸フィルムを、まず長手方向及び幅方向に、延伸温度を例えば８０〜１６０℃、好ましくは８５〜１３０℃、さらに好ましくは９０〜１１０℃として同時に延伸する。延伸温度を８０℃以上とすることによりフィルムの破断を抑制できるので好ましく、延伸温度を１６０℃以下とすることにより磁気記録媒体として用いたときに十分な強度が得られるので好ましい。また、延伸ムラを防止する観点から、長手方向及び幅方向の合計延伸倍率は、例えば８〜３０倍、好ましくは９〜２５倍、さらに好ましくは１０〜２０倍とすることが好ましい。延伸倍率を８倍以上とすることにより、高密度磁気記録媒体用として十分な強度が得られるので好ましい。また、延伸倍率を３０倍以下とすることにより、製造過程でフィルムが破れてしまうのを抑制できるので好ましい。高密度磁気記録媒体に必要な強度を得るとの観点からは、必要に応じて、好ましくは温度１４０〜２１０℃で、より好ましくは１６０〜２００℃で、再度長手方向及び／又は幅方向に、好ましくは１．０５〜１．８倍、より好ましくは１．２〜１．６倍で延伸を行うことが好ましい。延伸倍率が１．０５倍以上であることにより十分な強度が得られるので好ましく、延伸倍率が１．８倍以下であることにより製造過程でフィルムが破れてしまうのを抑制できるので好ましい。その後、例えば１８０〜２３５℃で、好ましくは１９０〜２２０℃で、例えば０．５〜２０秒間、好ましくは１〜１５秒間熱固定を行う。熱固定温度が１８０℃以上であることにより、フィルムの結晶化が進んで構造を安定にできるので好ましい。また、熱固定温度を２３５℃以下とすることにより、ポリエステル非晶鎖部分の緩和が進むことに伴うヤング率の低下を抑制できるので、磁気記録媒体用途として十分な強度を得るとの観点から好ましい。その後長手方向及び／又は幅方向に０．５〜７．０％の弛緩処理を施す。

本発明のフィルムは、バックコートを施すＢ面側が適度に粗いことでフィルムおよびテープの走行性や滑り性を十分に確保し、ハンドリング性に優れる。したがって、ベースフィルムの製造工程での歩留まりの向上が期待される。一方で、Ｂ面側の表面の弾性率が低いことでクッション効果が期待され、バックコート層の凹凸が磁性層側に転写するのを防ぐことができる。このため、本発明のフィルムは、塗布型磁気記録媒体の支持体として好ましく用いることができる。

本発明のポリエステルフィルムは、特に磁気記録媒体としての特性、並びに塗布型磁気記録媒体への加工性が良好であり、該用途のベース基材として好適に使用することができる。

具体的に好ましい用途としては、民生用、業務用を問わず、デジタルビデオカセット、データストレージ、ＤＬＴ、ＬＴＯ、デジタルＡＩＴ、ＡＩＴターボ等のデジタルデータ記録方式の磁気テープ用ベースフィルムに好適に用いられ、特に、記録層としてメタル磁性体等の磁性金属薄膜を塗布せしめた、データストレージ用のベース基材として最も好ましく用いられる。

［物性の測定方法及び効果の評価方法］
本発明における特性値の測定方法及び効果の評価方法は次の通りである。

（１）フィルム全体の厚み（総厚み）、およびＡ層、Ｂ層の厚み
フィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いた。１点の測定に当たっては１０枚を採取した試験片を全て重ねた状態で測定した。最終的に平均値を試験片の重ね合わせ枚数（１０）で除した値をフィルム全体厚みとした。

また、Ａ層、Ｂ層の厚みについては、相対的に薄いポリエステル層の厚みを以下に述べる方法にて測定し、相対的に厚いポリエステル層の厚みは、全厚みより相対的に薄いポリエステル層の厚みを引き算して求めた。

すなわち、フィルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により２０，０００倍で観察した。ＴＥＭの切片厚さは約１００ｎｍとし、含有粒子径及び粒子濃度をもとに界面の観察結果から各層の厚みを評価した。

なお、上記による観察が困難な場合、二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて評価した。表面からエッチングしながら、粒子又は耐熱性熱可塑性樹脂に起因する元素濃度のデプスプロファイルを測定し、各層の厚みを評価した。ＳＩＭＳでの測定が難しい（例えば、シリコーン樹脂以外のポリマー粒子）場合は、表面をエッチング処理しながらフーリエ変換顕微赤外分光法（顕微ＦＴ−ＩＲ法）、あるいはＸ線光電分光法（ＸＰＳ法）等を使用する。

（２）フォースボリューム法による弾性率
弾性率測定は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の応用であるフォースボリューム法により行った。フォースボリューム法とは、探針（カンチレバー）を垂直移動させ、試料に押し当ててから離す、という一連の動作を繰り返しながら探針を２次元走査し、１サイクル毎に取得したフォースカーブの解析により算出する方法である。下記の測定装置、測定条件で得られたフォースカーブから、カンチレバーのたわみと試料変形量を計測し、試料の弾性率を求めた。不活性粒子Ｂ２突起部分の弾性率と不活性粒子Ｂ２以外の部分の弾性率は、ＡＦＭにより不活性粒子Ｂ１、Ｂ２を確認しながら、各々の弾性率を計１０回測定した値を平均して算出した。
・測定装置 ：Ｂｒｕｋｅｒ ＡＸＳ社製 走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）
ＮａｎｏＳｃｏｐｅ Ｖ Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ Ｉｃｏｎ
・探針 ：シリコンカンチレバー
・走査モード：フォースボリューム（コンタクトモード）
・走査範囲 ：１０μｍ□
・測定環境 ：室温・大気中
・前処理 ：２ｃｍ□に切り出し、エポキシ樹脂でシリコンウエハに固定した。

（３）不活性粒子Ａ、Ｂ１、Ｂ２の平均粒径（ｄＡ、ｄＢ１、ｄＢ２）
ポリエステルフィルムの表面Ａ（Ａ層側表面）および表面Ｂ（Ｂ層側表面）から、ポリエステル樹脂をプラズマ低温灰化処理法（たとえばヤマト科学製ＰＲ-５０３型）で除去し粒子を露出させる。処理条件は、ポリエステル樹脂は灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これを白金／パラジウム＝８５／１５（質量比）のイオンコーティング処理を施した上で、ＳＥＭ（（株）日立ハイテクノロジーズ製Ｓ−３４００Ｎ形走査電子顕微鏡）を用いて１０，０００倍で観察し、観察箇所を変えて粒子数が合計で１，０００個以上となるよう撮影した。得られた粒子の画像写真に、ＯＨＰフィルムを重ねて、写真の粒子部分を黒マジックで塗りつぶしてマーキングした。このＯＨＰフィルムを、イメージアナライザー（シーオン社製画像解析ソフト）で数値処理を行い、得られた各粒子の面積データ（μｍ^２）を等価円相当径に換算した。さらに全粒子の数平均径を平均粒径とした。

なお、不活性粒子Ｂ１、Ｂ２のように粒径の異なる２種類以上の粒子が存在する場合には、上記の等価円相当径の粒子個数分布が２個以上のピークを有する分布となる。そのため、等価円相当径換算で得たデータを、Ｘ軸を粒径（０．０１μｍ単位）、Ｙ軸を個数としてプロットし、粒子個数が最大値となる粒径を第１のピークとして不活性粒子Ｂ１の平均粒径ｄＢ１とした。次に第１のピークよりも粒径が大きい側について、粒子個数がピークとなる粒径の中で粒子個数が第１のピークに次いで多い粒径を不活性粒子Ｂ２の平均粒径ｄＢ２とした。

（４）３次元中心線表面粗さＳＲａ−Ａ、ＳＲａ−Ｂ
３次元粗さ計（（株）小坂研究所製 ＥＴ-４０００Ａ）を用い、スタイラスモード（針接触式粗さ測定）で、フィルムの平滑面（表面Ａ、Ａ層側表面）のＳＲａ−Ａと粗面（表面Ｂ、Ｂ層側表面）のＳＲａ−Ｂについて測定した（単位：ｎｍ）。なお、測定条件は以下の通りとし、フィルムＡ層側表面（表面Ａ）、Ｂ層側表面（表面Ｂ）から各々任意に選んだ５箇所で測定した平均値をＳＲａ−Ａ、ＳＲａ−Ｂとした。
走査速度 ０．０２mm／sec
測定長 ０．２mm
cut off ０．０８mm
針圧 ６ mgr
針径 ２μm
走行ピッチ（Ｘピッチ） ０．４０μｍ
送りピッチ（Ｙピッチ） ２μｍ
縦倍率（Ｚ測定倍率） １００，０００倍
測定本数 １００本
（５）ヤング率
ヤング率は、ＪＩＳ−Ｋ７１６１（１９９４）に準拠して測定した。なお、測定に際しては、インストロンタイプの引張試験機を用い、条件を下記の通りとした。５回の測定結果の平均値を本発明におけるヤング率とした。

試料サイズ ：幅１０ｍｍ×試長間１００ｍｍ
引張り強度 ：２００ｍｍ／分
測定環境 ：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
測定回数 ：５回測定し、平均値から算出
（６）磁気テープの作製
実施例、比較例で得た二軸配向積層ポリエステルフィルムを１ｍ幅にスリットした後、張力２００Ｎで搬送させ、支持体としてフィルムの平滑面（表面Ａ、Ａ層側表面）に下記組成の磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより塗布し（上層が磁性塗料で乾燥後の塗布厚み０．１μｍ、下層が非磁性塗料で塗布厚み１．０μｍ）、磁気配向させ、乾燥温度１００℃で乾燥させた。次いで反対側のＢ層側表面（表面Ｂ）に下記組成のバックコートを塗布し（乾燥後の塗布厚み０．５μｍ）、乾燥温度１００℃で乾燥させた後、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）で、温度８５℃、線圧２．０×１０^５Ｎ／ｍでカレンダー処理した後、巻き取った。上記テープ原反を１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅にスリットし、パンケーキを作成し、次いで、このパンケーキから長さ２００ｍ分をカセットに組み込んで、カセットテープとした。
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末 ： １００質量部
〔Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｙ：Ｃａ＝７０：２４：１：２：２：１(質量比)〕
〔長軸長：０．０９μｍ、軸比：６、保磁力：１５３ｋＡ／ｍ（１，９２２Ｏｅ）、飽和磁化：１４６Ａｍ^２／ｋｇ（１４６ｅｍｕ／ｇ）、ＢＥＴ比表面積：５３ｍ^２／ｇ、Ｘ線粒径：１５ｎｍ〕
・変成塩化ビニル共重合体（結合剤） ： １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０^−５当量／ｇ）
・変成ポリウレタン（結合剤） ： １０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０^−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・ポリイソシアネート（硬化剤） ： ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤） ： １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤） ： １質量部
・カーボンブラック（帯電防止剤） ： １質量部
（平均一次粒子径：０．０１８μｍ）
・アルミナ（研磨剤） ： １０質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
（非磁性塗料の組成）
・変成ポリウレタン ： １０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０^−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体 ： １０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０^−５当量／ｇ）
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
・ポリイソシアネート ： ５質量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤） ： １．５質量部
・パルミチン酸（潤滑剤） ： １質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック ： ９５質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．０１８μｍ）
・カーボンブラック ： １０質量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．３μｍ）
・アルミナ ： ０．１質量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・変成ポリウレタン ： ２０質量部
（数平均分子量：２５，０００、スルホン酸基含有量：１．２×１０^−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体 ： ３０質量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１質量％、スルホン酸基含有量：８×１０^−５当量／ｇ）
・シクロヘキサノン ： ２００質量部
・メチルエチルケトン ： ３００質量部
・トルエン ： １００質量部
（７）エラーレート
上記（７）の方法で作製したカセットテープを、市販のＩＢＭ社製ＬＴＯドライブ３５８０−Ｌ１１を用いて、２５℃・６５％ＲＨの環境下で記録・再生（記録波長０．５５μｍ）を５０回繰り返した後、下記の基準で評価した。

◎：エラーレートが１．０×１０^−６未満（最も望ましい）
○：エラーレートが１．０×１０^−６以上、１．０×１０^−５未満（望ましい）
△：エラーレートが１．０×１０^−５以上、１．０×１０^−４未満（実用的に使用可能）
×：エラーレートが１．０×１０^−４以上（使用不可）
エラーレートはドライブから出力されるエラー情報（エラービット数）から次式にて算出する。

エラーレート＝（エラービット数）／（書き込みビット数）
（８）ポリマーの固有粘度（極限粘度）
オルソクロロフェノールを溶媒として２５℃で測定した。フィルムについてはポリエステルＡ層、ポリエステルＢ層から削り出した試料を用いた。

［実施例１］
テレフタル酸ジメチル１９４質量部とエチレングリコール１２４質量部とをエステル交換反応装置に仕込み、内容物を１４０℃に加熱して溶解した。その後、内容物を撹拌しながら酢酸マグネシウム四水和物０．３質量部および三酸化アンチモン０．０５質量部を加え、１４０〜２３０℃でメタノールを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リン酸トリメチルの５質量％エチレングリコール溶液を０．５質量部（リン酸トリメチルとして０．０２５質量部）とリン酸二水素ナトリウム２水和物の５質量％エチレングリコール溶液を０．３質量部（リン酸二水素ナトリウム２水和物として０．０１５質量部）添加した。

トリメチルリン酸のエチレングリコール溶液を添加すると反応内容物の温度が低下する。そこで余剰のエチレングリコールを留出させながら反応内容物の温度が２３０℃に復帰するまで撹拌を継続した。このようにしてエステル交換反応装置内の反応内容物の温度が２３０℃に達した後、反応内容物を重合装置へ移行した。

移行後、反応系を２３０℃から２９０℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を０．１ｋＰａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。最終温度、最終圧力に到達した後、２時間（重合を始めて３時間）反応させたところ、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートのペレットを得た（原料−１）。

平均粒径０．１０μｍ、体積形状係数ｆ＝０．５１の球状シリカ粒子を含有するポリエチレンテレフタレートのペレットと、実質上粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートのペレット（原料−１）とを、球状シリカ粒子の含有量が０．０５質量％、さらに耐熱性熱可塑性樹脂として、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社製“ウルテム”１０１０を４質量％となるように混合して熱可塑性樹脂Ａを調製した。

また、核となるシードポリマー粒子をポリスチレン、架橋性モノマー／共重合性モノマーの比率をジビニルベンゼン６０質量部／エチルビニルベンゼン４０質量部とする、平均粒径０．３μｍ、体積形状係数ｆ＝０．５２のジビニルベンゼン／スチレン共重合架橋粒子（ＤＶＢＳ）を含有するポリエチレンテレフタレート、また核となるシードポリマー粒子をポリスチレン、架橋性モノマー／共重合性モノマーの比率をジビニルベンゼン５０質量部／エチルビニルベンゼン５０質量部とする、平均粒径０．８μｍ、体積形状係数ｆ＝０．５２のジビニルベンゼン／スチレン共重合架橋粒子を含有するポリエチレンテレフタレート、および実質上粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートのペレット（原料−１）とを、０．３μｍのＤＶＢＳ粒子含有量が０．２６質量％、０．８μｍのＤＶＢＳ粒子含有量が０．０１質量％となるよう、さらに耐熱性熱可塑性樹脂として、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社製“ウルテム”１０１０を４質量％になるように混合して熱可塑性樹脂Ｂを得た。

熱可塑性樹脂Ａ及び熱可塑性樹脂Ｂをそれぞれ１６０℃で８時間減圧乾燥した後、別々の押出機に供給し、２７５℃で溶融押出して高精度濾過した後、矩形の２層用合流ブロックで積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝７｜１とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流積層し、２層積層とした。その後、２９５℃に保ったスリットダイを介し冷却ロール上に静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃のキャスティングドラムに巻き付け冷却固化し、未延伸積層フィルムを得た。

この未延伸積層フィルムをロール式延伸機にて１１３℃で長手方向に３．１倍延伸した（ＭＤ延伸１）。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。

得られた一軸延伸積層フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の９５℃の温度の予熱ゾーンに導き、引き続き連続的に９２℃の温度の加熱ゾーンで長手方向に直角な幅方向（ＴＤ方向）に３．４倍延伸した（ＴＤ延伸１）。

得られた二軸延伸積層フィルムをロール式延伸機にて１４２℃で長手方向に１．３３倍延伸した（ＭＤ延伸２）。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。

さらに続いて１９２℃の温度の加熱ゾーンでに幅方向に１．３２倍延伸した（ＴＤ延伸２）。引き続いて、テンター内の熱処理ゾーンで２０７℃の温度で１０秒間の熱処理を施し、さらに１５０℃の温度で２．７％幅方向に弛緩処理を行った。次いで、２５℃に均一に冷却後、フィルムエッジを除去し、コア上に巻き取って全体厚さ５．０μｍ、Ｂ層厚み０．６５μｍの二軸延伸積層ポリエステルフィルムを得た。

この二軸延伸積層ポリエステルフィルムの製造条件について、原料組成および厚み関係を表１に示す。得られた二軸延伸積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表２に示す通り、表面粗さＳＲａは層Ａ側が４ｎｍ、層Ｂ側が８ｎｍであった。また、長手方向のヤング率は４．６ＧＰａ、幅方向のヤング率は６．０ＧＰａであった。また磁気テープとして使用した際に、エラーレート、保存耐久性、幅寸法安定性に優れた特性を有していた。

［実施例２〜６］
耐熱性熱可塑性樹脂およびＢ層中のＤＶＢＳ粒子の添加量を表１の通り変更したこと以外は実施例１と同様にして、実施例２〜６の二軸延伸積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸延伸積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表２に示すように各特性に優れており、磁気テープとして使用した際のエラーレートに優れた特性を有していた。

［実施例７］
Ｂ層中の０．８μｍのＤＶＢＳ粒子について、架橋性モノマー／共重合性モノマーの比率をジビニルベンゼン６０質量部／エチルビニルベンゼン４０質量部に変更したこと以外は、実施例１と同様にして二軸延伸積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸延伸積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表２に示すように各特性に優れており、磁気テープとして使用した際のエラーレートに特に優れていた。

［比較例１〜５］
Ｂ層中の０．８μｍのＤＶＢＳ粒子について、架橋性モノマー／共重合性モノマーの比率をジビニルベンゼン８０質量部／エチルビニルベンゼン２０質量部に変更し、さらに耐熱性熱可塑性樹脂およびＢ層中のＤＶＢＳ粒子の添加量を表１の通り変更したこと以外は実施例１と同様にして、比較例１〜３の二軸延伸積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸延伸積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表２に示すように、磁気テープとして使用した際のエラーレートに劣っていた。

［比較例６］
熱可塑性樹脂Ａの球状シリカ粒子の平均粒径を０．５μｍ、含有量を０．６質量％としたこと以外は実施例１と同様にして、二軸延伸積層ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸延伸積層ポリエステルフィルムを評価したところ、表２に示すように、磁気テープとして使用した際のエラーレートに特に劣っていた。

Claims (11)

1. ２層以上の層構成を有する積層ポリエステルフィルムであって、磁性層を塗布する側の最表層に位置する層をＡ層、他方の最表層に位置する層をＢ層としたとき、下記（１）〜（３）の要件を満足する塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
   （１）Ａ層が不活性粒子Ａを含有し、Ａ層側表面（表面Ａ）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ａが２〜２０ｎｍである。
   （２）Ｂ層が不活性粒子Ｂを含有し、Ｂ層側表面（表面Ｂ）の３次元中心線表面粗さｓＲａ−Ｂが３〜４０ｎｍである。
   （３）原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）のフォースボリューム法により測定した、表面Ｂの突起高さ分布において最大ピークの突起部分の弾性率ＥＢｈと、最大ピーク以外の部分の弾性率ＥＢとの差（ＥＢｈ−ＥＢ）が１ＧＰａ以下である。
2. ＡＦＭのフォースボリューム法により測定した、表面Ｂの最大ピーク以外の部分の弾性率ＥＢが１．５ＧＰａ以上４．５ＧＰａ以下であることを特徴とする、請求項１に記載の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
3. Ａ層が平均粒径（ｄＡ）０．０１〜０．６μｍの不活性粒子Ａを０．００５〜０．５質量％含有し、Ｂ層が平均粒径（ｄＢ２）０．１〜２μｍかつ平均粒径が０．０２〜０．５μｍである不活性粒子Ｂ２を０．０８〜２．０質量％含有し、更に平均粒径（ｄＢ１）０．１〜２．０μｍである不活性粒子Ｂ１を０．００１〜０．１０質量％含有する、請求項１または２に記載の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
4. 不活性粒子Ｂ１、Ｂ２の成分が耐熱性ポリマー粒子である、請求項１〜３のいずれかに記載の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
5. 耐熱性ポリマー粒子が架橋ポリスチレン粒子である、請求項４に記載の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
6. 架橋ポリスチレン粒子が核となるシードポリマー粒子に重合性モノマーを吸収させ、さらに重合、架橋せしめたものであって、シードポリマー粒子がポリスチレン、重合性モノマーがジビニルベンゼンとエチルビニルベンゼンとの共重合体である、請求項５に記載の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
7. 不活性粒子Ｂ１、Ｂ２とは異なる成分の耐熱性熱可塑性樹脂を０．３質量％以上１０質量％以下含有する、請求項１〜６のいずれかに記載の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
8. 前記耐熱性熱可塑性樹脂がポリエーテルイミドである、請求項７に記載の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
9. ポリエステルの主成分がポリエチレンテレフタレートである、請求項１〜８のいずれかに記載の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
10. 塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いられる、請求項１〜９のいずれかに記載の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
11. 請求項１０に記載の塗布型磁気記録媒体用ポリエステルフィルムを用いた磁気記録媒体。