JP2019002962A

JP2019002962A - ポジ型感光性樹脂組成物、金属配線の製造方法、及び積層体

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Publication number: JP2019002962A
Application number: JP2017115467A
Authority: JP
Inventors: 鈴木　茂; Shigeru Suzuki; 鈴木　　茂
Original assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Current assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date: 2017-06-12
Filing date: 2017-06-12
Publication date: 2019-01-10
Anticipated expiration: 2037-06-12
Also published as: JP6878160B2

Abstract

【課題】金属膜をエッチングして金属配線を形成する際には、エッチングマスクとして使用され、且つ硬化された状態において、エッチングにより形成された金属配線を被覆する永久膜として使用される有機膜の形成に用いられ、金属配線の全面を均一に被覆し、且つ金属配線以外の箇所を被覆しない永久膜を形成できるポジ型感光性樹脂組成物と、当該ポジ型感光性樹脂組成物を用いる金属配線の製造方法と、当該ポジ型感光性樹脂組成物を硬化させてなる永久膜と、金属配線とを備える積層体とを提供すること。【解決手段】金属膜をエッチングして金属配線を形成する際には、エッチングマスクとして使用され、且つ硬化された状態において、エッチングにより形成された金属配線を被覆する永久膜として使用される、パターン化された有機膜の形成に、（Ａ）ノボラック樹脂と、（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物と、（Ｃ）着色剤とを含むポジ型感光性樹脂組成物を用いる。【選択図】図１

Description

本発明は、金属膜をエッチングして金属配線を形成する際には、エッチングマスクとして使用され、且つ硬化された状態において、エッチングにより形成された金属配線を被覆する永久膜として使用される、パターン化された有機膜の形成に用いられる、ポジ型感光性樹脂組成物と、当該ポジ型感光性樹脂組成物を用いる金属配線の製造方法と、当該ポジ型感光性樹脂組成物を硬化させてなる永久膜と、金属配線とを備える積層体とに関する。

スマートフォンやタブレット型情報通信端末の急速な普及にともない、タッチパネル市場が急速に成長している。
かかるタッチパネルでは、表示面内に金属からなる電極や配線が形成される場合がある。例えば、このような電極としては、ＣｕやＡｇを用いた金属メッシュ電極が挙げられる。しかし、表示面内に金属からなる電極や配線が形成される場合、タッチパネルの使用者に金属電極や金属配線が視認されやすくなる問題があり、仮に、この金属電極や金属配線の線幅を人間の目で視認できない程度に細くしても、金属の反射率の高さに起因する外光反射が起こるという問題が生じうる。

かかる問題を解消するために、金属電極や金属配線等の金属薄膜上に、反射率の低い反射率制御手段を設ける方法が提案されている。
具体的には、透明な支持体上の金属層上に、感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィー法によりパターン化された樹脂層を設けた後、パターン化された樹脂層の開口部から露出する金属層をエッチングにより除去し、次いで、樹脂層をベークすることによってエッチングされた金属層の表面を均一に被覆する反射率制御手段（ベークされた樹脂層）を設ける方法が知られている（特許文献１を参照。）。

つまり、特許文献１に記載される方法では、パターン化された樹脂層は、エッチングにより金属配線を形成するためのエッチングマスクと、反射制御手段とを兼ね備える。

特開２０１６−０７１２４２号公報

しかし、特許文献１に記載される感光性樹脂組成物を用い、上記の方法によって、エッチングされた金属層（金属配線）の表面を被覆する反射率制御手段（ベークされた樹脂層）を形成する場合、金属配線の全面を均一に被覆できても、金属配線以外の箇所（典型的にはピクセル部）が反射率制御手段によって被覆されてしまう場合があった。この場合、金属配線以外の箇所での光の透過が妨げられるため、高画質の画像を表示できる画像表示装置を、金属配線を備える基板を用いて製造することが難しい。

本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、金属膜をエッチングして金属配線を形成する際には、エッチングマスクとして使用され、且つ硬化された状態において、エッチングにより形成された金属配線を被覆する永久膜として使用される、パターン化された有機膜の形成に用いられる、ポジ型感光性樹脂組成物であって、金属配線の全面を均一に被覆し、且つ金属配線以外の箇所を被覆しない永久膜を形成できるポジ型感光性樹脂組成物と、当該ポジ型感光性樹脂組成物を用いる金属配線の製造方法と、当該ポジ型感光性樹脂組成物を硬化させてなる永久膜と、金属配線とを備える積層体とを提供することを目的とする。
なお、本願明細書において、永久膜が金属配線の全面を被覆するとは、永久膜で被覆された金属配線を備える基板を、基板の金属配線が設けられた面に対して垂直方向から観察した場合に、金属配線の露出が観察されない状態を意味する。
金属配線と、永久膜とを備える基板の断面を観察した場合に、金属配線の側面の一部が露出していてもよい。

本発明者らは、金属膜をエッチングして金属配線を形成する際には、エッチングマスクとして使用され、且つ硬化された状態において、エッチングにより形成された金属配線を被覆する永久膜として使用される、パターン化された有機膜の形成に、（Ａ）ノボラック樹脂と、（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物と、（Ｃ）着色剤とを含むポジ型感光性樹脂組成物を用いることにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明の第１の態様は、金属膜をエッチングして金属配線を形成する際には、エッチングマスクとして使用され、且つ硬化された状態において、エッチングにより形成された金属配線を被覆する永久膜として使用される、パターン化された有機膜の形成に用いられる、
（Ａ）ノボラック樹脂と、（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物と、（Ｃ）着色剤とを含む、ポジ型感光性樹脂組成物である。

本発明の第２の態様は、
金属膜上に、第１の態様にかかるポジ型感光性樹脂組成物を塗布して、塗布膜を形成する工程、
塗布膜を、位置選択的に露光する工程、
露光された塗布膜を、現像して、エッチングマスクを形成する工程、
エッチングマスクを表面に備える金属膜をエッチングして、エッチングマスクで被覆された金属配線を形成する工程、及び、
エッチングマスクをベークして、金属配線を被覆する永久膜を形成する工程、
を含む、金属配線の製造方法である。

本発明の第３の態様は、金属配線と、永久膜とを含み、
永久膜が、金属配線に接しつつ金属配線を被覆し、
永久膜が、第１の態様にかかるポジ型感光性樹脂組成物を硬化させてなる膜である、積層体である。

本発明によれば、金属膜をエッチングして金属配線を形成する際には、エッチングマスクとして使用され、且つ硬化された状態において、エッチングにより形成された金属配線を被覆する永久膜として使用される、パターン化された有機膜の形成に用いられる、ポジ型感光性樹脂組成物であって、金属配線の全面を均一に被覆し、且つ金属配線以外の箇所を被覆しない永久膜を形成できるポジ型感光性樹脂組成物と、当該ポジ型感光性樹脂組成物を用いる金属配線の製造方法と、当該ポジ型感光性樹脂組成物を硬化させてなる永久膜と、金属配線とを備える積層体とを提供することができる。

基板上での金属配線の製造方法の概略を模式的に示す図である。本実施形態で製造される基板の液晶表示装置用途の一例を模式的に示す図である。

≪ポジ型感光性樹脂組成物≫
ポジ型感光性樹脂組成物は、金属膜をエッチングして金属配線を形成する際には、エッチングマスクとして使用され、且つ硬化された状態において、エッチングにより形成された金属配線を被覆する永久膜として使用される、パターン化された有機膜の形成に用いられる。
また、ポジ型感光樹脂性組成物は、（Ａ）ノボラック樹脂と、（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物と、（Ｃ）着色剤とを含む。

なお、以下において、ポジ型感光性樹脂組成物を「ポジ型組成物」とも記す。
金属配線を被覆する永久膜として使用される、パターン化された有機膜を形成する方法については、詳細に後述する。
以下、（Ａ）ノボラック樹脂と、（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物と、（Ｃ）着色剤と、その他の任意成分とについて説明する。

＜（Ａ）ノボラック樹脂＞
（Ａ）ノボラック樹脂としては、従来からポジ型組成物に配合されている種々のノボラック樹脂を用いることができる。（Ａ）ノボラック樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物（以下、単に「フェノール類」という。）とアルデヒド類とを酸触媒下で付加縮合させることにより得られるものが好ましい。

・フェノール類
フェノール類としては、例えば、フェノール；ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール等のクレゾール類；２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール等のキシレノール類；ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール等のエチルフェノール類；２−イソプロピルフェノール、３−イソプロピルフェノール、４−イソプロピルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、並びにｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等のアルキルフェノール類；２，３，５−トリメチルフェノール、及び３，４，５−トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類；レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、及びフロログリシノール等の多価フェノール類；アルキルレゾルシン、アルキルカテコール、及びアルキルハイドロキノン等のアルキル多価フェノール類（いずれのアルキル基も炭素数１以上４以下である。）；α−ナフトール；β−ナフトール；ヒドロキシジフェニル；並びにビスフェノールＡ等が挙げられる。これらのフェノール類は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

これらのフェノール類の中でも、ｍ−クレゾール及びｐ−クレゾールが好ましく、ｍ−クレゾールとｐ−クレゾールとを併用することがより好ましい。この場合、両者の配合割合を調整することにより、ポジ型組成物としての感度や、形成される被覆樹脂層１７の耐熱性等の諸特性を調節することができる。ｍ−クレゾールとｐ−クレゾールの配合割合は特に限定されるものではないが、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールの質量比で、３／７以上８／２以下が好ましい。ｍ−クレゾールの割合が３／７以上であると、ポジ型組成物としての感度を向上させることができ、８／２以下であると、被覆樹脂層１７の耐熱性を向上させることができる。

・アルデヒド類
アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、及びアセトアルデヒド等が挙げられる。これらのアルデヒド類は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

・酸触媒
酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、及び亜リン酸等の無機酸類；蟻酸、シュウ酸、酢酸、ジエチル硫酸、及びパラトルエンスルホン酸等の有機酸類；並びに酢酸亜鉛等の金属塩類等が挙げられる。これらの酸触媒は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

・分子量
（Ａ）ノボラック樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ；以下、単に「重量平均分子量」ともいう。）は、ポジ型組成物の現像性、解像性等の観点から、１０００以上が好ましく、２０００以上がより好ましく、３０００以上がさらに好ましく、また、５００００以下が好ましく、４００００以下がより好ましく、３００００以下がさらに好ましく、２００００以下がさらにより好ましい。

（Ａ）ノボラック樹脂の分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は、１以上２０以下が好ましく、２以上１７以下がより好ましく、３以上１５以下が特に好ましく、４以上１２以下がさらに好ましい。
（Ａ）ノボラック樹脂の分散度が１以上２０以下であることによって、金属配線を、ポジ型組成物を用いて後述の方法により形成される永久膜（被覆樹脂層）によって均一に被覆でき、且つ金属配線が形成されていない箇所を永久膜（被覆樹脂層）で被覆されにくくすることができる。
（Ａ）ノボラック樹脂の分散度は、本発明による効果を特に得やすいことから、２以上１７以下が好ましく、３以上１５以下がより好ましく、４以上１２以下が特に好ましい。
また、より良好なフロー性の点から、（Ａ）ノボラック樹脂の分散度が５超２０以下であるのも好ましい。
なお、本明細書において、重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎは、ＧＰＣ（ゲル透過クロマトグラフィ）測定における、ポリスチレン換算の相対値として定義することができる。
また、（Ａ）ノボラック樹脂基を複数種用いる場合、これら複数種の（Ａ）ノボラック樹脂を組み合わせた状態で、ＧＰＣ（ゲル透過クロマトグラフィ）測定を行い、得られたチャートから分散度を決定すればよい。

（Ａ）ノボラック樹脂としては、ポリスチレン換算の重量平均分子量が異なるものを少なくとも２種組み合わせて用いることができる。重量平均分子量が異なるものを大小組み合わせて用いることにより、ポジ型組成物に現像性、解像性、成膜性等の多面的な優れた特性を付与することができる。
（Ａ）ノボラック樹脂として、重量平均分子量が異なる樹脂の組み合わせとしては、特に限定されないが、重量平均分子量が１０００以上１００００以下である低重量平均分子量側の樹脂と、重量平均分子量が５０００以上５００００以下である高重量平均分子量側の樹脂との組み合わせが好ましく、重量平均分子量が２０００以上８０００以下である低重量平均分子量側の樹脂と、重量平均分子量が８０００以上４００００以下である高重量平均分子量側の樹脂との組み合わせがより好ましく、重量平均分子量が３０００以上７０００以下である低重量平均分子量側の樹脂と、重量平均分子量が１００００以上２００００以下である高重量平均分子量側の樹脂との組み合わせがさらに好ましい。

（Ａ）ノボラック樹脂として、重量平均分子量が異なる樹脂を組み合わせて用いる場合、それぞれの含有率は特に限定されないが、（Ａ）ノボラック樹脂の全量における低重量平均分子量側の樹脂の含有率は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上がさらに好ましく、一方で、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。

ポジ型組成物の固形分全体における（Ａ）ノボラック樹脂の含有率は、４０質量％以上が好ましく、４５質量％以上がより好ましく、５０質量％以上がさらに好ましく、９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましい。上記範囲内とすることにより、ポジ型組成物に含まれる他の成分を適度にバインドしながら、金属成分に対する親液性を発揮でき、結果、ポジ型組成物を用いて金属配線との密着性にも優れた永久膜（被覆樹脂層）を形成することができる。

ポジ型組成物は、（Ａ）ノボラック樹脂とともに、（Ａ）ノボラック樹脂以外のその他の樹脂を含んでいてもよい。その他の樹脂の種類は、ポジ型組成物の感度や解像性等のフォトリソグラフィー特性を過度に損なわない限りにおいて特に限定されない。
その他の樹脂の好適な例としては、（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂が挙げられる。かかる（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂は、ポジ型組成物を用いて形成される永久膜（被覆樹脂層）において可塑剤として作用し、永久膜におけるクラックの発生を抑制する。
（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂としては、一般に、可塑剤としてポジ型感組成物に配合されているものを使用することができる。

（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂としては、より具体的には、エーテル結合を有する重合性化合物に基づく構成単位を３０モル％以上９０モル％以下と、カルボキシ基を有する重合性化合物に基づく構成単位を２モル％以上５０モル％以下と、を含有する樹脂が挙げられる。

エーテル結合を有する重合性化合物としては、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、及びテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等のエーテル結合とエステル結合とを有する（メタ）アクリル酸誘導体等のラジカル重合性化合物が挙げられる。これらの中でも、２−メトキシエチルアクリレート及びメトキシトリエチレングリコールアクリレートを用いることが好ましい。これらの化合物は単独で用いてもよく、二種以上混合して用いてもよい。

カルボキシ基を有する重合性化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、及びクロトン酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、及びイタコン酸等のジカルボン酸；並びに２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、及び２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のカルボキシ基とエステル結合とを有するメタクリル酸誘導体等のラジカル重合性化合物が挙げられる。これらの中でも、アクリル酸、及びメタクリル酸を用いることが好ましい。これらの化合物は単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。

（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂中におけるエーテル結合を有する重合性化合物に由来する単位の含有量は、３０モル％以上９０モル％以下が好ましく、４０モル％以上８０モル％以下がより好ましい。かかる範囲内の量のエーテル結合を有する重合性化合物に由来する単位を含む（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂を可塑剤としてポジ型組成物に配合することにより、ポジ型組成物を用いて形成される永久膜（被覆樹脂層）におけるクラックの発生を抑制しつつ均質な永久膜（被覆樹脂層）を形成しやすい。

（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂におけるカルボキシ基を有する重合性化合物に基づく構成単位の含有量は、２モル％以上５０モル％以下が好ましく、５モル％以上４０モル％以下がより好ましい。かかる範囲内の量のカルボキシ基を有する重合性化合物に基づく構成単位を含む（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂を可塑剤としてポジ型組成物に配合することにより、ポジ型組成物の現像性を良好にすることができる。

（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は、１００００以上８０００００以下が好ましく、３００００以上５０００００以下がより好ましい。
また、（Ａ）ノボラック樹脂と、（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂とを組み合わせて用いる場合、（Ａ）ノボラック樹脂と、（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂との混合物の分散度は、１以上２０以下が好ましく、２以上１７以下がより好ましく、３以上１５以下がさらに好ましく、４以上１２以下が特に好ましい。
また、より良好なフロー性の点から、（Ａ）ノボラック樹脂と、（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂との混合物の分散度が５超２０以下であるのも好ましい。

（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂は、物理的・化学的特性を適度にコントロールする目的で、他のラジカル重合性化合物に基づく構成単位を含んでいてもよい。ここで、「他のラジカル重合性化合物」とは、前術の重合性化合物以外のラジカル重合性化合物の意味である。

このような他のラジカル重合性化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、及びブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、及び２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル類；フェニル（メタ）アクリレート、及びベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アリールエステル類；マレイン酸ジエチル、及びフマル酸ジブチル等のジカルボン酸ジエステル類；スチレン、及びα−メチルスチレン等のビニル基含有芳香族化合物；酢酸ビニル等のビニル基含有脂肪族化合物；ブタジエン及びイソプレン等の共役ジオレフィン類；アクリロニトリル及びメタクリロニトリル等のニトリル基含有重合性化合物；塩化ビニル及び塩化ビニリデン等の塩素含有重合性化合物；並びにアクリルアミド及びメタクリルアミド等のアミド結合含有重合性化合物等を用いることができる。これらの化合物は単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。これらの化合物の中でも、特に、ｎ−ブチルアクリレート、ベンジルメタクリレート、及びメチルメタクリレート等を用いることが好ましい。（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂中の他のラジカル重合性化合物に基づく構成単位の含有量は５０質量％未満が好ましく、４０質量％未満がより好ましい。

（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂を合成する際に用いられる重合溶媒としては、例えばエタノール及びジエチレングリコール等のアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル等の多価アルコールのアルキルエーテル類；エチレングリコールエチルエーテルアセテート、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテート等の多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類；アセトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン類；並びに酢酸エチル及び酢酸ブチル等のエステル類等を用いることができる。これらの重合溶媒の中でも、特に、多価アルコールのアルキルエーテル類及び多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類を用いることが好ましい。

（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂を合成する際に用いられる重合触媒としては、通常のラジカル重合開始剤が使用でき、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物；並びにベンゾイルパーオキシド、及びジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド等の有機過酸化物等を使用することができる。

ポジ型組成物について、（Ａ１）アルカリ可溶性アクリル樹脂を含ませる場合の配合量は、（Ａ）ノボラック樹脂１００質量部に対し、３０質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましい。

＜（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物＞
ポジ型組成物は、（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有する。（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物としては、従来から種々のポジ型組成物に配合されているキノンジアジド基を有する化合物から、適宜選択することができる。
（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物の好適な具体例としては、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシ−２’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，４’，６−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，５−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，４’，５’，６−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、２，３，３’，及び４，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等のポリヒドロキシベンゾフェノン類；ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−２−（２’，３’，４’−トリヒドロキシフェニル）プロパン、４，４’−｛１−［４−〔２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル〕フェニル］エチリデン｝ビスフェノール、及び３，３’−ジメチル−｛１−［４−〔２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル〕フェニル］エチリデン｝ビスフェノール等のビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン類；トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３、５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン、及びビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン等のトリス（ヒドロキシフェニル）メタン類又はそのメチル置換体；ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、及びビス（５−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン等のビス（シクロヘキシルヒドロキシフェニル）（ヒドロキシフェニル）メタン類又はそのメチル置換体；フェノール、ｐ−メトキシフェノール、ジメチルフェノール、ヒドロキノン、ナフトール、ピロカテコール、ピロガロール、ピロガロールモノメチルエーテル、ピロガロール−１，３−ジメチルエーテル、没食子酸、アニリン、ｐ−アミノジフェニルアミン、及び４，４’−ジアミノベンゾフェノン等の水酸基又はアミノ基を有する化合物；並びにノボラック、ピロガロール−アセトン樹脂、及びｐ−ヒドロキシスチレンのホモポリマー又はこれと共重合し得るモノマーとの共重合体等と、キノンジアジド基含有スルホン酸との完全エステル化合物、部分エステル化合物、アミド化物、又は部分アミド化物等が挙げられる。これらの（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物として使用される上記キノンジアジド基含有スルホン酸としては、特に限定されないが、例えば、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸等のナフトキノンジアジドスルホン酸；オルトアントラキノンジアジドスルホン酸等が挙げられ、ナフトキノンジアジドスルホン酸が好ましい。キノンジアジド基含有スルホン酸、好ましくはナフトキノンジアジドスルホン酸の上記エステル化合物は、ポジ型組成物を溶液として使用する際に通常用いられる溶剤によく溶解し、且つ（Ａ）ノボラック樹脂との相溶性が良好である。これらの化合物を（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物として、ポジ型組成物に配合すると、高感度のポジ型（Ｂ）組成物を得やすい。

（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物としての上記エステル化合物の製造方法としては、特に限定されず、例えば、キノンジアジド基含有スルホン酸を、例えば、ナフトキノン−１，２−ジアジド−スルホニルクロリド等のスルホニルクロリドとして添加し、ジオキサンのような溶媒中において、トリエタノールアミン、炭酸アルカリ、炭酸水素アルカリ等のアルカリの存在下で縮合させ、完全エステル化又は部分エステル化する方法等が挙げられる。

（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物の含有量は、ポジ型組成物の感度の点から、（Ａ）ノボラック樹脂１００質量部に対して、５質量部以上が好ましく、１０質量部以上がより好ましく、１００質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましく、３０質量部以下がさらに好ましい。

＜（Ｃ）着色剤＞
ポジ型組成物を用いて後述する方法で形成される永久膜（被覆樹脂層）の光学濃度は、例えば０．１０／μｍ以上である。このような光学濃度を達成する観点から、ポジ型組成物は、（Ｃ）着色剤を含む。
（Ｃ）着色剤としては、特に限定されないが、例えば、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；ＴｈｅＳｏｃｉｅｔｙｏｆＤｙｅｒｓａｎｄＣｏｌｏｕｒｉｓｔｓ社発行）において、ピグメント（Ｐｉｇｍｅｎｔ）に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号が付されているものを用いるのが好ましい。

好適に使用できる黄色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー」は同様であり、番号のみを記載する。）、３、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、２０、２４、３１、５３、５５、６０、６１、６５、７１、７３，７４、８１、８３、８６、９３、９５、９７、９８、９９、１００、１０１、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１６、１１７、１１９、１２０、１２５、１２６、１２７、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１６６、１６７、１６８、１７５、１８０、及び１８５が挙げられる。

好適に使用できる橙色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。）、５、１３、１４、１６、１７、２４、３４、３６、３８、４０、４３、４６、４９、５１、５５、５９、６１、６３、６４、７１、及び７３が挙げられる。

好適に使用できる紫色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。）、１９、２３、２９、３０、３２、３６、３７、３８、３９、４０、及び５０が挙げられる。

好適に使用できる赤色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。）２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２１、２２、２３、３０、３１、３２、３７、３８、４０、４１、４２、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９：１、４９：２、５０：１、５２：１、５３：１、５７、５７：１、５７：２、５８：２、５８：４、６０：１、６３：１、６３：２、６４：１、８１：１、８３、８８、９０：１、９７、１０１、１０２、１０４、１０５、１０６、１０８、１１２、１１３、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４９、１５０、１５１、１５５、１６６、１６８、１７０、１７１、１７２、１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８０、１８５、１８７、１８８、１９０、１９２、１９３、１９４、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２４２、２４３、２４５、２５４、２５５、２６４、及び２６５が挙げられる。

好適に使用できる青色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。）、２、１５、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、６４、及び６６が挙げられる。

好適に使用できる、上記の他の色相の顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３７等の緑色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２８等の茶色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７等の黒色顔料が挙げられる。

また、ポジ型組成物は、（Ｃ）着色剤として遮光剤を含むのが好ましい。（Ｃ）着色剤が遮光剤である場合、遮光剤としては黒色顔料や紫顔料を用いることが好ましい。黒色顔料や紫顔料の例としては、カーボンブラック、ペリレン系顔料、ラクタム系顔料、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩又は金属炭酸塩等、有機物、無機物を問わず各種の顔料を挙げることができる。

カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができる。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。

カーボンブラックとしては、酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックも好ましい。カーボンブラックに導入される酸性基は、ブレンステッドの定義による酸性を示す官能基である。酸性基の具体例としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。カーボンブラックに導入された酸性基は、塩を形成していてもよい。酸性基と塩を形成するカチオンは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カチオンの例としては、種々の金属イオン、含窒素化合物のカチオン、アンモニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン等のアルカリ金属イオンや、アンモニウムイオンが好ましい。

以上説明した酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックの中では、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、及びスルホン酸塩基からなる群より選択される１種以上の官能基を有するカーボンブラックが好ましい。

カーボンブラックに酸性基を導入する方法は特に限定されない。酸性基を導入する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
１）濃硫酸、発煙硫酸、クロロスルホン酸等を用いる直接置換法や、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩等を用いる間接置換法により、カーボンブラックにスルホン酸基を導入する方法。
２）アミノ基と酸性基とを有する有機化合物と、カーボンブラックとをジアゾカップリングさせる方法。
３）ハロゲン原子と酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとをウィリアムソンのエーテル化法により反応させる方法。
４）ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとを反応させる方法。
５）ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物を用いて、カーボンブラックに対してフリーデルクラフツ反応を行った後、脱保護する方法。

これらの方法の中では、酸性基の導入処理が、容易且つ安全であることから、方法２）が好ましい。方法２）で使用されるアミノ基と酸性基とを有する有機化合物としては、芳香族基にアミノ基と酸性基とが結合した化合物が好ましい。このような化合物の例としては、スルファニル酸のようなアミノベンゼンスルホン酸や、４−アミノ安息香酸のようなアミノ安息香酸が挙げられる。

カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、カーボンブラック１００ｇに対して、１ｍｍｍｏｌ以上２００ｍｍｏｌ以下が好ましく、５ｍｍｏｌ以上１００ｍｍｏｌ以下がより好ましい。

酸性基を導入されたカーボンブラックは、樹脂による被覆処理を施されていてもよい。
樹脂により被覆されたカーボンブラックを含む感光性樹脂組成物を用いる場合、遮光性に優れ、表面反射率が低い遮光性の永久膜（被覆樹脂層）を形成しやすい。
カーボンブラックの被覆に使用できる樹脂の例としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グリプタル樹脂、エポキシ樹脂、アルキルベンゼン樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、変性ポリフェニレンオキサイド、ポリスルフォン、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリアミノビスマレイミド、ポリエーテルスルフォポリフェニレンスルフォン、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。カーボンブラックに対する樹脂の被覆量は、カーボンブラックの質量と樹脂の質量の合計に対して、１質量％以上３０質量％以下が好ましい。

また、遮光剤としてはペリレン系顔料も好ましい。ペリレン系顔料の具体例としては、下記式（ｃ−１）で表されるペリレン系顔料、下記式（ｃ−２）で表されるペリレン系顔料、及び下記式（ｃ−３）で表されるペリレン系顔料が挙げられる。市販品では、ＢＡＳＦ社製の製品名Ｋ００８４、及びＫ００８６や、ピグメントブラック２１、３０、３１、３２、３３、及び３４等を、ペリレン系顔料として好ましく用いることができる。

式（ｃ−１）中、Ｒ^ｃ１及びＲ^ｃ２は、それぞれ独立に炭素原子数１以上３以下のアルキレン基を表し、Ｒ^ｃ３及びＲ^ｃ４は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、メトキシ基、又はアセチル基を表す。

式（ｃ−２）中、Ｒ^ｃ５及びＲ^ｃ６は、それぞれ独立に、炭素原子数１以上７以下のアルキレン基を表す。

式（ｃ−３）中、Ｒ^ｃ７及びＲ^ｃ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１以上２２以下のアルキル基であり、Ｎ，Ｏ、Ｓ、又はＰのヘテロ原子を含んでいてもよい。Ｒ^ｃ７及びＲ^ｃ８がアルキル基である場合、当該アルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。

上記の式（ｃ−１）で表される化合物、式（ｃ−２）で表される化合物、及び式（ｅ−３）で表される化合物は、例えば、特開昭６２−１７５３号公報、特公昭６３−２６７８４号公報に記載の方法を用いて合成することができる。すなわち、ペリレン−３，５，９，１０−テトラカルボン酸又はその二無水物とアミン類とを原料とし、水又は有機溶媒中で加熱反応を行う。そして、得られた粗製物を硫酸中で再沈殿させるか、又は、水、有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒中で再結晶させることによって目的物を得ることができる。

ポジ型組成物中においてペリレン系顔料を良好に分散させるためには、ペリレン系顔料の平均粒子径は１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるのが好ましい。

また、遮光剤としては、ラクタム系顔料を含ませることもできる。ラクタム系顔料としては、例えば、下記式（ｃ−４）で表される化合物が挙げられる。

式（ｃ−４）中、Ｘ^ｃは二重結合を示し、幾何異性体としてそれぞれ独立にＥ体又はＺ体であり、Ｒ^ｃ９は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、臭素原子、塩素原子、フッ素原子、カルボキシ基、又はスルホ基を示し、Ｒ^ｃ１０は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はフェニル基を示し、Ｒ^ｃ１１は、各々独立に、水素原子、メチル基、又は塩素原子を示す。
式（ｃ−４）で表される化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
Ｒ^ｃ９は、式（ｃ−４）で表される化合物の製造が容易である点から、ジヒドロインドロン環の６位に結合するのが好ましく、Ｒ^ｃ１１はジヒドロインドロン環の４位に結合するのが好ましい。同様の観点から、Ｒ^ｃ９、Ｒ^ｃ１０、及びＲ^ｃ１１は、好ましくは水素原子である。
式（ｃ−４）で表される化合物は、幾何異性体としてＥＥ体、ＺＺ体、ＥＺ体を有するが、これらのいずれかの単一の化合物であってもよいし、これらの幾何異性体の混合物であってもよい。
式（ｃ−４）で表される化合物は、例えば、国際公開第２０００／２４７３６号，国際公開第２０１０／０８１６２４号に記載された方法により製造することができる。

ポジ型組成物中においてラクタム系顔料を良好に分散させるためには、ラクタム系顔料の平均粒子径は１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるのが好ましい。

さらに、銀錫（ＡｇＳｎ）合金を主成分とする微粒子（以下、「ＡｇＳｎ合金微粒子」という。）も遮光剤として好ましく用いられる。このＡｇＳｎ合金微粒子は、ＡｇＳｎ合金が主成分であればよく、他の金属成分として、例えば、Ｎｉ、Ｐｄ、Ａｕ等が含まれていてもよい。
このＡｇＳｎ合金微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好ましい。

ＡｇＳｎ合金は、化学式ＡｇｘＳｎにて表した場合、化学的に安定したＡｇＳｎ合金が得られるｘの範囲は１≦ｘ≦１０であり、化学的安定性と黒色度とが同時に得られるｘの範囲は３≦ｘ≦４である。
ここで、上記ｘの範囲でＡｇＳｎ合金中のＡｇの質量比を求めると、
ｘ＝１の場合、Ａｇ／ＡｇＳｎ＝０．４７６２
ｘ＝３の場合、３・Ａｇ／Ａｇ３Ｓｎ＝０．７３１７
ｘ＝４の場合、４・Ａｇ／Ａｇ４Ｓｎ＝０．７８４３
ｘ＝１０の場合、１０・Ａｇ／Ａｇ１０Ｓｎ＝０．９００８
となる。
従って、このＡｇＳｎ合金は、Ａｇを４７．６質量％以上９０質量％以下含有した場合に化学的に安定なものとなり、Ａｇを７３．１７質量％以上７８．４３質量％以下含有した場合にＡｇ量に対し効果的に化学的安定性と黒色度とを得ることができる。

このＡｇＳｎ合金微粒子は、通常の微粒子合成法を用いて作製することができる。微粒子合成法としては、気相反応法、噴霧熱分解法、アトマイズ法、液相反応法、凍結乾燥法、水熱合成法等が挙げられる。

ＡｇＳｎ合金微粒子は絶縁性の高いものであるが、さらに絶縁性を高めるため、表面を絶縁膜で覆うようにしても構わない。このような絶縁膜の材料としては、金属酸化物又は有機高分子化合物が好適である。
金属酸化物としては、絶縁性を有する金属酸化物、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、酸化イットリウム（イットリア）、酸化チタン（チタニア）等が好適に用いられる。
また、有機高分子化合物としては、絶縁性を有する樹脂、例えば、ポリイミド、ポリエーテル、ポリアクリレート、ポリアミン化合物等が好適に用いられる。

絶縁膜の膜厚は、ＡｇＳｎ合金微粒子の表面の絶縁性を十分に高めるためには１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚さが好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。
絶縁膜は、表面改質技術あるいは表面のコーティング技術により容易に形成することができる。特に、テトラエトキシシラン、アルミニウムトリエトキシド等のアルコキシドを用いれば、比較的低温で膜厚の均一な絶縁膜を形成することができるので好ましい。

遮光剤としては、上述のペリレン系顔料、ラクタム系顔料、ＡｇＳｎ合金微粒子単独でも用いてもよいし、これらを組み合わせて用いてもよい。
その他、遮光剤は、色調の調整の目的等で、上記の黒色顔料や紫顔料とともに、赤、青、緑、黄等の色相の色素を含んでいてもよい。黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素は、公知の色素から適宜選択することができる。例えば、黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素としては、上記の種々の顔料を用いることができる。黒色顔料や紫顔料以外の他の色相の色素の使用量は、遮光剤の全質量に対して、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。

上記の（Ｃ）着色剤をポジ型組成物において均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。特に、（Ｃ）着色剤として、カーボンブラックを用いる場合には、分散剤としてアクリル樹脂系の分散剤を用いることが好ましい。
なお、分散剤の種類や表示装置の製造条件、使用条件によっては、分散剤に起因する揮発成分が表示装置に悪影響を及ぼす可能性があるため、（Ｃ）着色剤が、分散剤を用いることなく分散処理されるのも好ましい。

また、無機顔料と有機顔料はそれぞれ単独又は２種以上併用してもよいが、併用する場合には、無機顔料と有機顔料との総量１００質量部に対して、有機顔料を１０質量部以上８０質量部以下の範囲で用いることが好ましく、２０質量部以上４０質量部以下の範囲で用いることがより好ましい。

なお、ポジ型組成物において、（Ｃ）着色剤として顔料以外にも染料を用いることができる。この染料は公知の材料のなかから適宜選択すればよい。
ポジ型組成物に適用可能な染料としては、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、アントラキノン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、シアニン染料、ナフトキノン染料、キノンイミン染料、メチン染料、フタロシアニン染料等を挙げることができる。
また、これら染料については、レーキ化（造塩化）することで有機溶媒等に分散させ、これを（Ｃ）着色剤として用いることができる。
これらの染料以外にも、例えば、特開２０１３−２２５１３２号公報、特開２０１４−１７８４７７号公報、特開２０１３−１３７５４３号公報、特開２０１１−３８０８５号公報、特開２０１４−１９７２０６号公報等に記載の染料等も好ましく用いることができる。
これら染料もまた、前述の顔料（例えば、ペリレン系顔料、ラクタム系顔料、ＡｇＳｎ合金微粒子等）と組み合わせて使用することもできる。

ポジ型組成物における（Ｃ）着色剤の使用量は、特に限定されない。例えば、後述する永久膜形成工程でベークされた後に、光学濃度が０．１０／μｍ以上である永久膜（被覆樹脂層）を形成できる量とすることができる。
このポジ型組成物における（Ｃ）着色剤の使用量は、例えば、（Ａ）ノボラック樹脂１００質量部に対して、１質量部以上が好ましく、３質量部以上がより好ましく、５質量部以上がさらに好ましく、また、６０質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましく、４５質量部以下がさらに好ましく、４０質量部以下がさらにより好ましい。
また、ポジ型組成物を用いて後述の方法により形成される永久膜（被覆樹脂層）の光学濃度は０．２０／μｍ以上２．０／μｍ以下であることがより好ましく、０．３０／μｍ以上１．０／μｍ以下であることがさらに好ましい。

（Ｃ）着色剤は分散剤の存在下又は不存在下に適当な濃度で分散させた分散液とした後、ポジ型組成物に添加することが好ましい。

＜架橋剤＞
ポジ型組成物は、架橋剤を含有していてもよい。架橋剤は、（Ａ）ノボラック樹脂を架橋させることができる化合物の中から適宜選択することができるが、例えば、メラミン化合物；ヘキサメチレンテトラミン、尿素誘導体等のアミン系架橋剤；エポキシ化合物を用いることができる。ポジ型組成物が、このような架橋剤を含有することにより、耐水性、耐熱性、及び耐溶剤性に優れる永久膜（被覆樹脂層）を形成することができる。

メラミン化合物としては、メラミンから誘導され得る化学構造を有する化合物であって、（Ａ）ノボラック樹脂に対して架橋剤として作用する化合物を用いることができ、例えば、下記式（Ｉ）で表される化合物を用いることができる。

（式中、Ｒ^１〜Ｒ^６はそれぞれ独立に水素原子又は−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^７で表される基を示し、Ｒ^７は水素原子又は炭素原子数１以上１０以下のアルキル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^６の少なくとも１つは−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^７で表される基である。）

上記式（Ｉ）において、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^７で表される基は、Ｒ^１〜Ｒ^６のうち、２個以上存在していることが好ましい。
Ｒ^７で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭素原子数１以上６以下のアルキル基がより好ましい。

上記式（Ｉ）で表されるメラミン化合物としては、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサブチロールメラミン及び部分メチロール化メラミン並びにこれらのアルキル化体；テトラメチロールベンゾグアナミン及び部分メチロール化ベンゾグアナミン並びにこれらのアルキル化；等が挙げられる。

エポキシ化合物としては、エポキシ基を有する化合物であって、（Ａ）ノボラック樹脂に対して架橋剤として作用する化合物を用いることができる。エポキシ化合物としては、１分子中に２以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物が好ましい。尚、本明細書において、後述のシランカップリング剤のうち、その構造内にエポキシ基を有するものは、架橋剤として使用されるエポキシ化合物にはあたらないものとする。

エポキシ化合物としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、多官能脂環式エポキシ樹脂、脂肪族ポリグリシジルエーテル等が好ましい。

上記架橋剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
架橋剤の含有量は、（Ａ）ノボラック樹脂１００質量部に対して、３質量部以上とすることができ、１０質量部以上とすることができ、１５質量部以上とすることができる。また、架橋剤の含有量は、（Ａ）ノボラック樹脂１００質量部に対して、４０質量部以下とすることができ、３０質量部以下とすることができ、２５質量部以下とすることができる。架橋剤の含有量が上記下限値以上であると、樹脂の架橋が十分となりやすく、上記上限値以下であると、ポジ型組成物の貯蔵安定性が良好となりやすい。

（シランカップリング剤）
ポジ型組成物は、シランカップリング剤を含有していてもよい。
シランカップリング剤は、ケイ素原子に結合するアルコキシ基及び／又は反応性基を介して、（Ａ）ノボラック樹脂が有するフェノール性水酸基と反応し得るので、架橋剤として作用し、ポジ型組成物を用いて形成される永久膜（被覆樹脂層）を緊密化することができ、永久膜の耐水性、耐溶剤性、耐熱性等を向上し得るほか、永久膜の金属配線との密着性を向上することができる。

シランカップリング剤としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン等のモノアルキルトリアルコキシシラン；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のジアルキルジアルコキシシラン；フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のモノフェニルトリアルコキシシラン；ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等のジフェニルジアルコキシシラン；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のモノビニルトリアルコキシシラン；３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン等の（メタ）アクリロキシアルキルモノアルキルジアルコキシシラン；３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシアルキルトリアルコキシシラン；３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有トリアルコキシシラン；３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等の非脂環式エポキシ基含有アルキルトリアルコキシシラン；３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等の非脂環式エポキシ基含有アルキルモノアルキルジアルコキシシラン；２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等の脂環式エポキシ基含有アルキルトリアルコキシシラン；２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン等の脂環式エポキシ基含有アルキルモノアルキルジアルコキシシラン；〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕プロピルトリメトキシシラン、〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕プロピルトリエトキシシラン等のオキセタニル基含有アルキルトリアルコキシシラン；３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプトアルキルトリアルコキシシラン；３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のメルカプトアルキルモノアルキルジアルコキシシラン；３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイドアルキルトリアルコキシシラン；３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネートアルキルトリアルコキシシラン；３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物等の酸無水物基含有アルキルトリアルコキシシラン；Ｎ−ｔ−ブチル−３−（３−トリメトキシシリルプロピル）コハク酸イミド等のイミド基含有アルキルトリアルコキシシラン；等が挙げられる。シランカップリング剤は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

シランカップリング剤の中では、反応性基を有するシランカップリング剤が好ましい。
反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニル基、アミノ基、エポキシ基又はオキセタニル基を有するシランカップリング剤が好ましい。現像液との相溶性が高く、残渣（溶け残り）を低減でき、特に金属との密着性に優れる永久膜（被覆樹脂層）を形成できる観点から、エポキシ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。

エポキシ基を有するシランカップリング剤としては、非脂環式エポキシ基を有するシランカップリング剤及び脂環式エポキシ基を有するシランカップリング剤のいずれも好ましく用いることができる。

シランカップリング剤の含有量は、（Ａ）ノボラック樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上とすることができ、０．５質量部以上とすることができ、１質量部以上とすることができる。また、シランカップリング剤の含有量は、（Ａ）ノボラック樹脂１００質量部に対して、１０質量部以下とすることができ、７質量部以下とすることができ、５質量部以下とすることができ、３質量部以下とすることができる。
シランカップリング剤の含有量が上記下限値以上であると、金属配線との密着性に優れる永久膜（被覆樹脂層）を形成しやすい。
シランカップリング剤の含有量が上記上限値以下であると、保管中のシランカップリング剤同士の縮合反応による、現像時の残渣の発生を抑制しやすい。

＜その他の成分＞
ポジ型組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、増感剤、密着性向上剤、界面活性剤、可塑剤等の種々の添加剤を含有していてもよい。

・増感剤
増感剤としては、特に限定されず、ポジ型組成物において通常用いられる増感剤の中から任意に選択することができる。増感剤としては、例えば、分子量１０００以下のフェノール性水酸基を有する化合物等が挙げられる。

・密着性向上剤
密着性向上剤としては、永久膜（被覆樹脂層）と、金属配線との密着性を向上させることのできる材料の中から適宜選択できる。例えば、２−ヒドロキシエチルピリジン等のヒドロキシアルキル含窒素複素環化合物を、この密着性向上剤として用いることができる。

・界面活性剤
ポジ型組成物は、塗布性、消泡性、及びレベリング性等を向上させるため、界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（ＢＭケミー社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、メガファックＦ１７２、メガファックＦ１７３、メガファックＦ１８３（大日本インキ化学工業社製）、フロラードＦＣ−１３５、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、フロラードＦＣ−４３０、フロラードＦＣ−４３１（住友スリーエム社製）、サーフロンＳ−１１２、サーフロンＳ−１１３、サーフロンＳ−１３１、サーフロンＳ−１４１、サーフロンＳ−１４５（旭硝子社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８（東レシリコーン社製）、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３３０（ビックケミージャパン社製）等の名称で市販されているシリコン系又はフッ素系界面活性剤を使用することができる。

界面活性剤の含有量は、（Ａ）ノボラック樹脂１００質量部に対して、０．０５質量部以上５質量部以下が好ましい。

＜溶剤＞
ポジ型組成物は、上記の各成分を適当な溶剤に溶解して、溶液の形で用いることが好ましい。このような溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、及びエチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールアルキルエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、及びジエチレングリコールジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；メチルセロソルブアセテート、及びエチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、及びプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びメチルアミルケトン等のケトン類；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類；ジオキサン等の環式エーテル類；並びに２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセト酢酸メチル、及びアセト酢酸エチル等のエステル類等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。

ポジ型組成物における溶剤の含有量は、ポジ型組成物の粘度や塗布性を勘案して適宜調整される。具体的には、溶剤は、ポジ型組成物の固形分濃度が、好ましくは５質量％以上５０質量％以下、より好ましくは１０質量％以上３０質量％以下であるように使用される。

＜ポジ型組成物の調製方法＞
ポジ型組成物は、上記の各成分を所定の比率で配合した後、通常の方法で混合、撹拌することにより調製することができる。また、必要に応じて、さらにメッシュ、メンブレンフィルタ等を用いて濾過してもよい。

≪金属配線の製造方法≫
金属配線の製造方法は、
金属膜上に、前述のポジ型感光性樹脂組成物を塗布して、塗布膜を形成する工程、
塗布膜を、位置選択的に露光する工程、
露光された塗布膜を、現像して、エッチングマスクを形成する工程、
エッチングマスクを表面に備える金属膜をエッチングして、エッチングマスクで被覆された金属配線を形成する工程、及び、
エッチングマスクをベークして、金属配線を被覆する永久膜を形成する工程、
を含む方法である。

以下、金属膜上に、前述のポジ型感光性樹脂組成物を塗布して、塗布膜を形成する工程を「塗布膜形成工程」と記す。
塗布膜を、位置選択的に露光する工程を「露光工程」と記す。
露光された塗布膜を、現像して、エッチングマスクを形成する工程を「エッチングマスク形成工程」と記す。
エッチングマスクを表面に備える金属膜をエッチングして、エッチングマスクで被覆された金属配線を形成する工程を「金属配線形成工程」と記す。
エッチングマスクをベークして、金属配線を被覆する永久膜を形成する工程を「永久膜形成工程」と記す。

以下、金属配線の製造方法に含まれる各工程について、図１を参照しつつ説明する。
なお、図１では、基板１０として、カラーフィルタ１３と、カラーフィルタ１３上に、透明層１４を介して形成された金属膜１１とを備える基板を用いる場合について説明する。

＜塗布膜形成工程＞
塗布膜形成工程では、図１（ａ）及び図１（ｂ）に示されるように、金属膜１１を備える基板１０において、金属膜１１上に前述のポジ型組成物を塗布して塗布膜１２が形成される。
以下、基板と、塗布方法とについて説明する。

（基板）
基板１０としては、透光性の層の上に金属配線１８の製造に使用される金属膜１１を備える基板であれば特に制限なく使用することができる。
基板１０の典型例としては、カラーフィルタ１３と、カラーフィルタ１３上に、直接又は透明層１４を介して形成された金属膜１１とを備える基板が挙げられる。
また、ＴＦＴを備える面の上に、直接、又はカラーフィルタ１３や透明層１４等の１層以上の機能層を介して金属膜１１を備える基板も、好ましく用いられる。
なお、図１（ａ）〜図１（ｆ）には、透明層１４を備える基板１０を用いる態様について示す。金属膜１１、カラーフィルタ１３、及び透明層１４以外の基板１０の構成については図示を割愛する。

基板１０中の金属膜１１の材質や製造方法等は特に限定されず、従来より知られる種々の材質及び種々の製造方法から適宜選択される。適度な導電性を発現させる観点から、この金属膜１１は、銀（Ａｇ）や銅（Ｃｕ）、又はこれらの合金を含むことが好ましい。
なお、図１においては、単層の金属膜が示されているが、所望の特性を発現させる観点から、モリブデン（Ｍｏ）やモリブデン合金等の複数種の金属が積層された膜を基板１０中の金属膜１１とすることができる。
ほか、金属膜１１を構成する金属としては、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、タングステン（Ｗ）、金（Ａｕ）等を採用することができる。

基板１０中のカラーフィルタ１３の材質や製造方法等は特に限定されず、従来より知られる種々の材質及び種々の製造方法から適宜選択される。カラーフィルタ１３は、通常、ブラックマトリックス（図１中不図示）により区画された領域内に、ＲＧＢ等の透光性の着色膜（図１中不図示）を備える。

図２に、本実施形態で製造される基板の液晶表示装置用途の一例の断面図を示す。
図２に示される液晶表示装置用基板１は基板１０を加工して得られるものであり、アレイ基板２３、絶縁層２２、液晶層２０、透明樹脂層１９、カラーフィルタ１３、透明層１４、金属配線１８、被覆樹脂層１７（永久膜）がこの順で積層されている。かかる基板は、例えば、オンセルタッチパネルに好適に使用される。
カラーフィルタ１３は、ブラックマトリックスＢＭと、赤色着色膜Ｒ、緑色着色膜Ｇ、及び青色着色膜Ｂとを備える。
また、絶縁層２２上面には、カラーフィルタ１３の赤色着色膜Ｒ、緑色着色膜Ｇ、及び青色着色膜Ｂの位置に対応する位置に画素電極２１が形成されている。
また、ブラックマトリックスＢＭと、被覆樹脂層１７と、金属配線１８とは基板の平面視において、これらが重なるように構成されている。
かかる液晶表示装置用基板１を、バックライト等の一般的に液晶表示装置に備えられる部材と組み合わせ、適宜配線することにより、液晶表示装置が製造される。

なお、図２に示される液晶表示装置用基板１は、液晶注入後の液晶セルであって、その構造中に液晶層２０を含む。この場合、用いられる液晶化合物の耐熱性の問題から、後述する永久膜形成工程において、被覆樹脂層１７を備える基板１０を高温でベークできないという問題が生じうる。
このような点を考慮し、本実施形態においては、後述する永久膜形成工程におけるベーク温度を８０℃以上１５０℃以下のような低い温度で行うことが好ましい。このような温度条件においても、被覆樹脂層１７を良好に形成することが可能である。

（塗布方法）
以上説明したポジ型組成物を、金属膜１１上に塗布して塗布膜１２が形成される。塗布膜１２の膜厚は特に限定されないが、０．１μｍ以上１０μｍ以下が好ましい。
ポジ型組成物の塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、アプリケーター法等の方法を採用することができる。塗布膜１２に対してはプリベークを行うのが好ましい。プリベーク条件は、感光層中の各成分の種類、配合割合、塗布膜厚等によって異なるが、通常は、温度は、７０℃以上１５０℃以下で、好ましくは８０℃以上１４０℃以下であり、時間は、２分以上６０分以下程度である。

以上のようにして形成された塗布膜１２を備える基板１０は、次いで、露光工程に供される。

＜露光工程＞
露光工程では、図１（ｃ）に示されるように、塗布膜１２中の、パターン化された金属膜である金属配線１８が形成される位置以外の位置に対して露光が行われる。
塗布膜１２は、前述の通りポジ型組成物を用いて形成される。ポジ型組成物からなる塗布膜１２では、露光された部位がアルカリ現像液に対して可溶化する。このため、露光によって、塗布膜１２中の金属配線１８が形成される位置以外の位置が、現像液に対して可溶化する。

露光工程では、上記のようにして形成された塗布膜１２に対して、金属配線１８のパターンに対応した所定のパターンのフォトマスク１５を介して、位置選択的に露光光１６が照射される。
露光光１６としては、活性光線又は放射線、例えば波長が３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の紫外線又は可視光線が用いられる。

放射線の線源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、アルゴンガスレーザー等を用いることができる。また、放射線には、マイクロ波、赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線、γ線、電子線、陽子線、中性子線、イオン線等が含まれる。放射線照射量は、ポジ型組成物の組成や塗布膜１２の膜厚等によっても異なるが、例えば超高圧水銀灯使用の場合、１００ｍＪ／ｃｍ^２以上１００００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。

＜エッチングマスク形成工程＞
図１（ｃ）に示されるように位置選択的に露光された塗布膜１２が、エッチングマスク形成工程において現像されることで、図１（ｄ）に示されるように、パターン化された塗布膜１２であって、エッチングマスクとして使用される被覆樹脂層１７が形成される。この際、現像液としては、アルカリ性水溶液が使用される。

現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノナン等のアルカリ類の水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や公知の界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。

現像時間は、ポジ型組成物の組成や塗布膜１２の膜厚等によっても異なるが、通常１分以上３０分以下である。現像方法は、液盛り法、ディッピング法、パドル法、スプレー現像法等のいずれでもよい。

現像後は、流水洗浄を３０秒以上９０秒以下の間行い、エアーガンや、オーブン等を用いて乾燥させる。このようにして、金属膜１１上に、パターン化された塗布膜１２である被覆樹脂層１７が形成される。

＜金属配線形成工程＞
金属配線形成工程では、図１（ｄ）及び図１（ｅ）に示されるように、エッチングマスク形成工程で形成された被覆樹脂層１７をエッチングマスクとして用いて、エッチングマスクから露出する金属膜１１をエッチングにより除去して金属配線１８を形成する。
エッチング方法は特に限定されず、金属膜１１の材質に応じて適宜選択される。エッチング方法は、ウェットエッチングでもドライエッチングでもよく、低コストであることからウェットエッチングが好ましい。
なお、図１（ｅ）に示されるように、エッチングマスクである被覆樹脂層１７と金属膜１１との接触面の端部付近において金属膜１１がエッチングされる、アンダーエッチがエッチング時に生じる場合がある。

＜永久膜形成工程＞
永久膜形成工程では、図１（ｅ）に示されるように形成された被覆樹脂層１７に対してベークを行う。ベークは、エッチングマスク形成工程と金属配線形成工程との間に行われてもよく、金属配線形成工程後に行われてもよい。
被覆樹脂層１７に対してベークを行うことにより、被覆樹脂層１７が一旦軟化した後に冷却されることで硬化、及び緊密化し、その結果、被覆樹脂層１７が永久膜となる。被覆樹脂層１７をベークして形成される永久膜は、耐水性、耐熱性、耐溶剤性等に優れる。
また、前述の金属配線形成工程において、被覆樹脂層１７の端部の下部におけるエッチングが過度に進行するアンダーエッチが生じ、金属配線１８のトップ（被覆樹脂層１７側）の幅がボトム（透明層１４側）の幅よりも狭くなる場合がある。
この場合、金属配線形成工程後に永久膜形成工程を実施するのが好ましい。永久膜形成工程での加熱により、被覆樹脂層１７が軟化し、被覆樹脂層１７が金属配線１８の表面形状に沿って変形するためである。その結果、図１（ｆ）に示されるように、金属配線１８のほぼ全表面に密着する被覆樹脂層１７が永久膜として形成されるので、金属配線１８が画像表示装置の使用者に視認されにくい。

ベークは、例えば、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて行われる。ベークの温度は、特に限定されず、基板１０を構成する材料の耐熱性等を勘案して適宜定められる。ベーク温度としては例えば、８０℃以上４００℃以下が好ましく、１５０℃以上３００℃以下がより好ましい。
なお、基板１０が液晶層２０を含む液晶セルを備える場合は、ベーク温度は８０℃以上１５０℃以下が好ましい。
ベーク時間は、１５分以上６０分以下が好ましく、３０分以下がより好ましい。

以上説明した方法に従って、金属配線１８を形成することにより、金属配線１８と、永久膜（被覆樹脂層１７）とを含み、永久膜（被覆樹脂層１７）が、金属配線１８に接しつつ金属配線１８を被覆する積層体が得られる。
かかる積層体では、永久膜である被覆樹脂層１７がピクセル部分を過度に被覆せず、且つ金属配線１８の表面全面を良好に被覆している。このため、かかる積層体を用いることにより、金属配線１８が視認されにくく、高品質な画像を表示できる画像表示装置を製造できる。

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。

〔実施例１〕
ノボラック樹脂１００質量部と、増感剤１３質量部と、キノンジアジド基含有化合物２２．６質量部と、全固形分質量に対して２７質量％の顔料とを、固形分濃度が２０質量％であるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中に均一に、溶解、分散させて、ポジ型組成物を得た。
なお、ポジ型組成物には、全固形分に対して１質量％の２−ヒドロキシエチルピリジンと、全固形分に対して０．４質量％のシリコン系界面活性剤（ＢＹＫ−３１０、ビックケミー社製）を含有させた。

ノボラック樹脂としては、重量平均分子量４７００、分散度４．５であるクレゾール型のノボラック樹脂を用いた。
増感剤としては、フェノール樹脂（商品名：ＴｒｉｓＰ−ＰＡ−ＭＦ、本州化学工業株式会社製）を用いた。
キノンジアジド基含有化合物としては、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸とをエステル化させて得られる化合物を用いた。
顔料としては、全固形分に対して１４．９質量％の御国色素社製の赤色顔料と、全固形分に対して１２．１質量％の御国色素社製の青色顔料を用いた。

得られたポジ型組成物を、カラーフィルタと金属膜（Ａｌ膜）とを備える基板の金属膜上にスピンコーターを用いて塗布した後、９０℃で６０秒間プリベークを行い、膜厚１．５μｍの感光層を形成した。
得られた感光層を、Ｌ／Ｓ＝１：１で３μｍ幅のフォトマスクを介して、露光装置（ＭＰＡ−６００ＦＡ、３６５ｍＷ、１００ｍＪ／ｃｍ^２、キヤノン社製）を用いて露光した。
次いで、濃度２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液を現像液として用いて現像を行い、所定の形状にパターニングされた被覆樹脂層を形成した。
形成された被覆樹脂層をエッチングマスクとして用いて、Ａｌエッチャント混酸（リン酸・硝酸・酢酸）を用いてエッチングを行い、金属配線としてパターニングされた金属層を形成した。金属配線の表面は、被覆樹脂層で被覆されていた。
エッチング後の基板に対して、１２０℃で５分間のポストベークを行い、被覆樹脂層を永久膜化した。これにより、金属配線と、永久膜（被覆樹脂層）とを備える基板を得た。

なお、基板としては、試験的に、以下のものを用いた。
すなわち、まず、ガラス基板の片方の面に対して、線幅５μｍのブラックマトリクスと、ＲＧＢのパターンを設け、ガラス基板の他方の面の表面上に厚さ０．２μｍのアルミニウム層をスパッタ形成して、基板とした。

形成された被覆樹脂層の光学濃度は０．６０／μｍであった。
また、形成された永久膜の形状を顕微鏡観察したところ、永久膜の膜厚がほぼ均一であり、基板の金属配線が形成されている面を、当該面に対して垂直方向から観察した場合にピクセル上が永久膜により被覆されておらず、金属配線の露出は観察されなかった。
なお、ピクセルは、基板を画像表示装置に適用した場合に、バックライト等の光源が発する光を透過させる光透過部に該当する。

〔比較例１〕
アクリル樹脂１００質量部と、光酸発生剤３質量部と、着色剤５質量部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中に、固形分濃度１２質量％であるように溶解、分散させてポジ型組成物を得た。

アクリル樹脂として、ｐ−ヒドロキシスチレンの１−エトキシエチルエーテル４０モル％、メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル３５モル％、メタクリル酸メチル１５モル％、及びメタクリル酸２−ヒドロキシエチル２０モル％の共重合体を用いた。かかるアクリル樹脂の重量平均分子量は６０００であり、分散度は７．２であった。
光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩（商品名：ＤＴＳ−１０５、みどり化学社製）を用いた。
着色剤としては、カーボンブラック１３．１質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル７９．５３質量部中で、分散剤０．６５質量部と、ポリマー（ベンジルメタクリレート（７２モル％）とメタクリル酸（２８モル％）とのランダム共重合体、重要平均分子量３．７万）とを用いて分散させた黒色顔料を用いた。

得られたポジ型組成物を用いて、実施例１と同様にして基板上に金属配線と永久膜とを形成した。
形成された永久膜の光学濃度は０．６０／μｍであった。
また、形成された永久膜の形状を顕微鏡観察したところ、永久膜の膜厚がほぼ均一であり、基板の金属配線が形成されている面を、当該面に対して垂直方向から観察した場合に金属配線の露出は観察されなかったが、ピクセル上の金属配線の近傍の領域において、永久膜により被覆されている箇所が散見された。

１液晶表示装置用基板
１０基板
１１金属膜
１２塗布膜
１３カラーフィルタ
１４透明層
１５フォトマスク
１６露光光
１７被覆樹脂層
１８金属配線
１９透明樹脂層
２０液晶層
２１画素電極
２２絶縁層
２３アレイ基板
ＢＭブラックマトリックス
Ｒ，Ｇ，Ｂ赤色（Ｒ）着色膜、緑色（Ｇ）着色膜、青色（Ｂ）着色膜

Claims

金属膜をエッチングして金属配線を形成する際には、エッチングマスクとして使用され、且つ硬化された状態において、エッチングにより形成された前記金属配線を被覆する永久膜として使用される、パターン化された有機膜の形成に用いられる、
（Ａ）ノボラック樹脂と、（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物と、（Ｃ）着色剤とを含む、ポジ型感光性樹脂組成物。
前記（Ａ）ノボラック樹脂の重量平均分子量が、１０００以上５００００以下である、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
金属膜上に、請求項１又は２に記載のポジ型感光性樹脂組成物を塗布して、塗布膜を形成する工程、
前記塗布膜を、位置選択的に露光する工程、
露光された前記塗布膜を、現像して、エッチングマスクを形成する工程、
前記エッチングマスクを表面に備える前記金属膜をエッチングして、前記エッチングマスクで被覆された金属配線を形成する工程、及び、
前記エッチングマスクをベークして、前記金属配線を被覆する永久膜を形成する工程、
を含む、金属配線の製造方法。
前記エッチングがウェットエッチングである、請求項３に記載の金属配線の製造方法。
金属配線と、永久膜とを含み、
前記永久膜が、前記金属配線に接しつつ前記金属配線を被覆し、
前記永久膜が、請求項１又は２に記載のポジ型感光性樹脂組成物を硬化させてなる膜である、積層体。