JP2018532684A - ガラス基板部分を有する、蛍光検出法で使用するための基板 - Google Patents

ガラス基板部分を有する、蛍光検出法で使用するための基板 Download PDF

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Abstract

蛍光検出法で使用するための基板が提供される。上記基板は少なくとも１つのガラス基板部分を含み、上記少なくとも１つのガラス基板部分は：約６０モル％〜約８０モル％のＳｉＯ２；約０モル％〜約１５モル％のＡｌ２Ｏ３；約０モル％〜約１５モル％のＢ２Ｏ３；及び約２モル％〜約５０モル％のＲｘＯを含み、ここでＲは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１である。

Description

関連出願の相互参照
本出願は、２０１５年１０月２２日出願の米国仮特許出願第６２／２４５，００６号、及び２０１６年７月１４日出願の米国仮特許出願第６２／３６２，３３１号の優先権を主張するものであり、各上記仮特許出願の内容は信頼できるものであり、参照によりその全体が本出願に援用される。
本開示は一般に、蛍光検出法で使用するための基板に関し、より詳細には、少なくとも１つのガラス基板部分を有する、蛍光検出法で使用するための基板に関する。
生物学又は化学的調査の様々なプロトコルは、局所支持表面上、又は所定の反応チャンバ内で、多数の制御された反応を実施するステップを伴う。所望の反応を観察及び検出でき、また後続の分析は、反応に関与する化学物質の特性を同定する、又は明らかにするのを補助できる。例えばいくつかの複合アッセイでは、同定可能な標識（例えば蛍光標識）を有する未知の分析物を、制御された条件下で、多数の公知のプローブに曝露してよい。公知のプローブはそれぞれ、マイクロアレイ上、又はマイクロプレートの対応するウェル内に堆積させてよい。公知のプローブと未知の分析物との間で発生するいずれの化学反応を観察することにより、分析物を同定する、又は明らかにするのを補助できる。このようなプロトコルの他の例としては、合成シーケンシング（ｓｅｑｕｅｎｃｉｎｇ‐ｂｙ‐ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ：ＳＢＳ）又はサイクリックアレイシーケンシングといった公知のＤＮＡシーケンシングプロセスが挙げられる。
いくつかの従来の蛍光検出プロトコルでは、光学系を用いて、蛍光標識済み分析物に対して励起光を配向し、また分析物から放出され得る蛍光信号を検出する。蛍光検出法は、放射性同位体を用いずに既存の光学部品を組み合わせることにより、生体分子の測定を安全かつ安価に実施できるため、この方法は、例えば酵素免疫測定法、電気泳動法、及び共焦点走査蛍光顕微鏡法といった様々な種類の生体分子検出プロトコルに適用されている。
一般に、蛍光検出法の実施時、試料を保持するための基板、セル、チャネル等を使用する（これ以降、「基板」と呼ぶ）。溶融シリカ等のシリカは、紫外光に対する高い透過率を有し、このような基板の材料の選択肢として従来採用されてきた。しかしながら、光学品質のシリカは比較的高価な材料であり、より安価な選択肢が求められてきた。シリカ等の比較的高価な材料を置換するために、特定のプラスチック及び高重合体材料が提案されている。このようなプラスチック及びポリマー材料は容易に成形可能であり、使用後に廃棄できるものとして特徴付けることができるが、プラスチック及びポリマー材料はまた、励起光を照射したときに自己蛍光を放出することが知られている。本明細書中で使用される場合、用語「自己蛍光（ａｕｔｏ‐ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ）」は、蛍光検出法で使用するための基板が生成する、天然の又は固有の蛍光を指す。基板から放出された自己蛍光はバックグラウンドノイズを引き起こし、これは蛍光検出法のＳＮ比にとって有害となり得、またユーザが蛍光のベースラインレベルを正確に検出するのを妨げる場合がある。
本開示のある実施形態によると、蛍光検出法で使用するための基板が提供される。上記基板は少なくとも１つのガラス基板部分を含み、上記少なくとも１つのガラス基板部分は：約６０モル％〜約８０モル％のＳｉＯ２；約０モル％〜約１５モル％のＡｌ２Ｏ３；約０モル％〜約１５モル％のＢ２Ｏ３；及び約２モル％〜約５０モル％のＲｘＯを含み、ここでＲは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１である。
本開示の更なる特徴及び利点は、以下の「発明を実施するための形態」に記載され、その一部は、当業者には「発明を実施するための形態」から容易に明らかになるか、又は以下の「発明を実施するための形態」、特許請求の範囲及び添付の図面を含む本明細書に記載の方法を実行することによって認識されるだろう。
上述の「発明の概要」及び以下の「発明を実施するための形態」はいずれも、本開示の様々な実施形態を提示しており、請求対象の主題の性質及び特徴を理解するための概観又は枠組みを提供することを意図したものであることを理解されたい。添付の図面は、本開示の更なる理解を提供するために含まれており、本明細書に組み込まれて本明細書の一部を構成する。これらの図面は、本開示の様々な実施形態を図示しており、本記載と併せて、本開示の原理及び動作を説明する役割を果たす。
以下の「発明を実施するための形態」は、以下の図面と併せて読むと更に理解できる。
本開示の実施形態によるマルチウェルプレートの断面図 本開示の実施形態によるマルチウェルプレートの断面図 本開示の実施形態によるフローセルの斜視図 本開示の実施形態によるフローセルの分解立体図 本開示の実施形態によるペトリ皿
本開示の実施形態は、蛍光検出法で使用するための基板に関し、より詳細には、少なくとも１つのガラス基板部分を有する、蛍光検出法で使用するための基板に関する。本明細書に記載の基板は、蛍光検出法での使用に好適ないずれの基板であってよい。特に本開示の実施形態は、微生物学、細胞培養、組織培養、細胞アッセイ、ＩＶＦ及びＤＮＡシーケンシングの分野において用途が見出される基板に関する。本明細書では図１〜５を参照して具体的実施形態を説明するが、上記基板は例えば、限定するものではないが、顕微鏡スライド、マイクロアレイ、フラスコ、毛細管、マルチウェルプレート、微小流体チャネル、微小流体リザーバ、ペトリ皿等の皿等であってよい。適用される具体的な蛍光検出法にかかわらず、本明細書に記載に基板の少なくとも１つのガラス基板部分は、分析物に対して配向される励起光の高い透過率、及び／又は分析物から放出され得る蛍光信号の高い透過率を示す。透過率と吸収率との間の関係に鑑みて理解されるように、本明細書に記載の基板の少なくとも１つのガラス基板部分はまた、分析物に対して配向される励起光の低い吸収率、及び／又は分析物から放出され得る蛍光信号の低い吸収率を示す。更に、本明細書に記載の基板は、低い自己蛍光を有する少なくとも１つのガラス基板部分を含む。
様々な実施形態では、基板のガラスのガラス組成物は、６０〜８０モル％のＳｉＯ２、０〜２０モル％のＡｌ２Ｏ３、及び０〜１５モル％のＢ２Ｏ３、並びに５０ｐｐｍ未満の鉄（Ｆｅ）濃度を含んでよい。いくつかの実施形態では、２５ｐｐｍ未満のＦｅが存在してよく、又はいくつかの実施形態ではＦｅ濃度は約２０ｐｐｍ以下であってよい。追加の実施形態では、ガラスは、研磨済みフロートガラス、フュージョンドロープロセス、スロットドロープロセス、リドロープロセス、又は別の好適な成形プロセスによって形成してよい。
他の実施形態では、基板のガラスのガラス組成物は、６３〜８１モル％のＳｉＯ２、０〜５モル％のＡｌ２Ｏ３、０〜６モル％のＭｇＯ、７〜１４モル％のＣａＯ、０〜２モル％のＬｉ２Ｏ、９〜１５モル％のＮａ２Ｏ、０〜１．５モル％のＫ２Ｏ、並びに微量のＦｅ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＭｎＯ２、Ｃｏ３Ｏ４、ＴｉＯ２、ＳＯ３及び／又はＳｅを含んでよい。
１つ以上の実施形態によると、ガラスは、ガラス形成剤ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３及びＢ２Ｏ３から選択された無色の酸化物成分を含んでよい。例示的なガラスは、好ましい溶融属性及び形成属性を得るために、フラックスも含んでよい。このようなフラックスとしては、アルカリ酸化物（Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｒｂ２Ｏ及びＣｓ２Ｏ）並びにアルカリ土類酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯ及びＢａＯ）が挙げられる。一実施形態では、ガラスは、６０〜８０モル％のＳｉＯ２、０〜２０モル％のＡｌ２Ｏ３、０〜１５モル％のＢ２Ｏ３、及び５〜２０％のアルカリ酸化物、アルカリ土類酸化物又はこれらの組み合わせという構成成分を含有する。他の実施形態では、ガラス組成物はＢ２Ｏ３を含まなくてよく、６３〜８１モル％のＳｉＯ２、０〜５モル％のＡｌ２Ｏ３、０〜６モル％のＭｇＯ、７〜１４モル％のＣａＯ、０〜２モル％のＬｉ２Ｏ、９〜１５モル％のＮａ２Ｏ、０〜１．５モル％のＫ２Ｏ、並びに微量のＦｅ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＭｎＯ２、Ｃｏ３Ｏ４、ＴｉＯ２、ＳＯ３及び／又はＳｅを含んでよい。
本明細書に記載のいくつかのガラス組成物において、ＳｉＯ２は塩基性ガラス形成剤として作用できる。特定の実施形態では、ＳｉＯ２の濃度は６０モル％超とすることができ、これによりガラスに、本明細書に記載の基板の意図した用途に好適な密度及び耐化学性、並びにダウンドロープロセス（例えばフュージョンプロセス）で形成できるようにする液相線温度（液相粘度）を提供できる。上限に関して、一般にＳｉＯ２濃度は約８０モル％以下とすることができ、これにより、従来の大容積溶融技法、例えば耐火性溶融器内でのジュール溶融を用いてバッチ材料を溶融できるようにする。ＳｉＯ２の濃度を上昇させると、２００ポアズ温度（溶融温度）は一般に上昇する。様々な用途において、ＳｉＯ２濃度は、ガラス組成物が１７５０℃以下の溶融温度を有するように調整される。様々な実施形態では、ＳｉＯ２のモル％は約６０％〜約８１％、あるいは約６６％〜約７８％、又は約７２％〜約８０％、又は約６５％〜約７９％、及びこれらの間の全ての部分範囲内であってよい。追加の実施形態では、ＳｉＯ２のモル％は、約７０％〜約７４％、又は約７４％〜約７８％であってよい。いくつかの実施形態では、ＳｉＯ２のモル％は約７２％〜７３％であってよい。他の実施形態では、ＳｉＯ２のモル％は約７６％〜７７％であってよい。
Ａｌ２Ｏ３は、本明細書に記載のガラスを作製するために使用される別のガラス形成剤である。Ａｌ２Ｏ３のモル％を高めると、ガラスのアニール点及び弾性率を改善できる。様々な実施形態では、Ａｌ２Ｏ３のモル％は、約０％〜約２０％、あるいは約４％〜約１１％、又は約６％〜約８％、又は約３％〜約７％、及びこれらの間の全ての部分範囲内であってよい。追加の実施形態では、Ａｌ２Ｏ３のモル％は、約４％〜約１０％、又は約５％〜約８％であってよい。いくつかの実施形態では、Ａｌ２Ｏ３のモル％は約７％〜８％であってよい。他の実施形態では、Ａｌ２Ｏ３のモル％は、約５％〜６％、又は０％〜約５％、又は０％〜約２％であってよい。
Ｂ２Ｏ３は、ガラス形成剤、及び溶融を補助して溶融温度を低下させるフラックスの両方である。これは液相線温度及び液相粘度の両方に影響を及ぼす。Ｂ２Ｏ３を増加させることによって、ガラスの液相粘度を上昇させることができる。これらの効果を達成するために、１つ以上の実施形態のガラス組成物は、０．１モル％以上のＢ２Ｏ３濃度を有してよいが、いくつかの組成物は、無視できる量のＢ２Ｏ３を有してよい。ＳｉＯ２に関して上述したように、ガラスの耐久性は、本明細書に記載の基板の意図した用途には非常に重要である。耐久性は、アルカリ土類酸化物の濃度を上昇させることによってある程度制御でき、またＢ２Ｏ３含有量を増大させることによって大幅に低減できる。アニール点はＢ２Ｏ３の増大に従って低下するため、Ｂ２Ｏ３含有量を低く維持することが役立つ場合が多い。従って様々な実施形態では、Ｂ２Ｏ３のモル％は、約０％〜約１５％、あるいは約０％〜約１２％、又は約０％〜約１１％、又は約３％〜約７％、又は約０％〜約２％、及びこれらの間の全ての部分範囲内であってよい。いくつかの実施形態では、Ｂ２Ｏ３のモル％は約７％〜８％であってよい。他の実施形態では、Ｂ２Ｏ３のモル％は無視できるものであるか、又は約０％〜１％であってよい。
ガラス形成剤（ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３及びＢ２Ｏ３）に加えて、本明細書に記載のガラスは、アルカリ土類酸化物も含む。一実施形態では、少なくとも３つのアルカリ土類酸化物がガラス組成物の要素であり、これらは例えばＭｇＯ、ＣａＯ及びＢａＯ、並びに任意にＳｒＯである。アルカリ土類酸化物は、ガラスに、溶融、焼成、成形及び最終的な使用に重要な様々な特性を提供する。従って、これらの点でガラスの性能を改善するために、一実施形態では、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３の比は０〜２．０である。この比が上昇すると、粘度が液相線温度よりもより大きく上昇する傾向を有し、従ってＴ３５ｋ‐Ｔｌｉｑに関して、好適な高い値を得ることがますます困難となる。よって別の実施形態では、比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３は約２以下である。いくつかの実施形態では、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３の比は約０〜約１．０、又は約０．２〜約０．６、又は約０．４〜約０．６である。詳細な実施形態では、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３の比は約０．５５未満又は約０．４未満である。
本開示の特定の実施形態に関して、複数のアルカリ土類酸化物を、これらが実際には単一の組成成分であるものとして扱ってよい。これは、粘弾性、液相線温度及び液相関係に対するこれらの影響が、ガラス形成酸化物ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３及びＢ２Ｏ３に比べて、定量的に互いに同等であるためである。しかしながら、アルカリ土類酸化物ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯは、長石鉱物、特にアノーサイト（ＣａＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８）及びセルシアン（ＢａＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８）、並びにこれらのストロンチウム担持固溶体を形成し得るが、ＭｇＯは、これらの結晶中に相当な度合いで関与することはない。従って、長石鉱物が液相中に既に存在する場合、ＭｇＯの更なる添加は、結晶に対してこの液体を安定させることによって液相線温度を低下させる役割を果たすことができる。同時に、粘度曲線は典型的にはより急峻になり、低温粘度に影響をほとんど又は全く与えることなく、融点が低下する。
本発明者らは、少量のＭｇＯの添加は、高いアニール点を保持したまま、融点の低下によって溶融に、そして液相線温度の低下及び液相粘度の上昇によって成形に便益をもたらすことができることを発見した。様々な実施形態では、ガラス組成物は、約０モル％〜約１０モル％、又は約０モル％〜約６モル％、又は約１．０モル％〜約８．０モル％、又は約０モル％〜約８．７２モル％、又は約１．０モル％〜約７．０モル％、又は約０モル％〜約５モル％、又は約１モル％〜約３モル％、又は約２モル％〜約１０モル％、又は約４モル％〜約８モル％、及びこれらの間の全ての部分範囲内のＭｇＯを含む。
いずれの特定の動作理論によって束縛されるものではないが、ガラス組成物中に存在する酸化カルシウム（ＣａＯ）が、低い液相線温度（高い液相粘度）、高いアニール点及び弾性率、並びに本明細書に記載の基板の意図した用途に最も望ましい範囲のＣＴＥを生成できると考えられる。これはまた、耐化学性にも良好に寄与し、他のアルカリ土類酸化物に比べて、バッチ材料として比較的安価である。しかしながら、高い濃度においては、ＣａＯは密度及びＣＴＥを上昇させる。更に、十分に低いＳｉＯ２濃度では、ＣａＯはアノーサイトを安定させることにより、液相粘度を低下させ得る。従って１つ以上の実施形態では、ＣａＯ濃度を０〜６モル％とすることができる。様々な実施形態では、ガラス組成物のＣａＯ濃度は、約０モル％〜約４．２４モル％、又は約０モル％〜約２モル％、又は約０モル％〜約１モル％、又は約０モル％〜約０．５モル％、又は約０モル％〜約０．１モル％、及びこれらの間の全ての部分範囲内である。他の実施形態では、ガラス組成物のＣａＯ濃度は、約７モル％〜約１４モル％、又は約９モル％〜約１２モル％である。
ＳｒＯ及びＢａＯはいずれも、低い液相線温度（高い液相粘度）に寄与できる。これらの酸化物及びその濃度は、ＣＴＥ及び密度の上昇並びに弾性率及びアニール点の低下を回避するように選択できる。ＳｒＯ及びＢａＯの相対比率のバランスを取ることによって、ガラスをダウンドロープロセスで成形できるような物理的特性及び液相粘度の好適な組み合わせを得ることができる。様々な実施形態では、上記ガラスは、ＳｒＯを、約０〜約８．０モル％、又は約０モル％〜約４．３モル％、又は約０〜約５モル％、１モル％〜約３モル％、又は約２．５モル％未満、及びこれらの間の全ての部分範囲内の量で含む。１つ以上の実施形態では、上記ガラスは、ＢａＯを、約０〜約５モル％、又は０〜約４．３モル％、又は０〜約２．０モル％、又は０〜約１．０モル％、又は０〜約０．５モル％、及びこれらの間の全ての部分範囲内の量で含む。
以上の成分に加えて、本明細書に記載のガラス組成物は、ガラスの様々な物理的属性、溶融属性、清澄属性及び成形属性を調整するために、様々な他の酸化物を含むことができる。このような他の酸化物の例としては、限定するものではないが、ＴｉＯ２、ＭｎＯ、Ｖ２Ｏ３、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｏＯ３、Ｔａ２Ｏ５、ＷＯ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３及びＣｅＯ２、並びに他の希土類酸化物及びリン酸塩が挙げられる。一実施形態では、これらの酸化物の量は、２．０モル％以下とすることができ、合計濃度は５．０モル％以下とすることができる。いくつかの実施形態では、ガラス組成物は、ＺｎＯを、約０〜約３．５モル％、又は約０〜約３．０１モル％、又は約０〜約２．０モル％、及びこれらの間の全ての部分範囲内の量で含む。他の実施形態では、ガラス組成物は：約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化チタン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化バナジウム；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化ニオブ；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化マンガン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化ジルコニウム；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化スズ；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化モリブデン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化セリウム；及びこれらの間の全ての部分範囲内の、上で列挙した遷移金属酸化物のうちのいずれを含む。本明細書に記載のガラス組成物はまた、バッチ材料に関連する、並びに／又はガラスの製造に使用される溶融、清澄及び／若しくは成形設備によってガラスに導入される、様々な汚染物質を含み得る。ガラスはまた、酸化スズ電極を用いたジュール溶融の結果として、及び／又は例えばＳｎＯ２、ＳｎＯ、ＳｎＣＯ３、ＳｎＣ２Ｏ２等のスズ含有材料のバッチ形成によって、ＳｎＯ２も含有し得る。
本明細書に記載のガラス組成物は、いくつかのアルカリ構成成分を含有してよく、例えばこれらのガラスはアルカリ非含有ガラスではない。本明細書中で使用される場合、「アルカリ非含有ガラス（ａｌｋａｌｉ‐ｆｒｅｅ ｇｌａｓｓ）」は、合計アルカリ濃度が０．１モル％以下のガラスであり、この合計アルカリ濃度は、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ及びＬｉ２Ｏ濃度の総和である。いくつかの実施形態では、上記ガラスは、Ｌｉ２Ｏを、約０〜約３．０モル％、約０〜約３．０１モル％、約０〜約２．０モル％、約０〜約１．０モル％、約３．０１モル％未満、又は約２．０モル％未満、及びこれらの間の全ての部分範囲内の量で含む。他の実施形態では、上記ガラスは、Ｎａ２Ｏを、約３．５モル％〜約１３．５モル％、約３．５２モル％〜約１３．２５モル％、約４．０モル％〜約１２モル％、約６．０モル％〜約１５モル％、又は約６．０モル％〜約１２モル％、約９．０モル％モル％〜約１５モル％、及びこれらの間の全ての部分範囲内の量で含む。いくつかの実施形態では、上記ガラスは、Ｋ２Ｏを、約０〜約５．０モル％、約０〜約４．８３モル％、約０〜約２．０モル％、約０〜約１．５モル％、約０〜約１．０モル％、又は約４．８３モル％未満、及びこれらの間の全ての部分範囲内の量で含む。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のガラス組成物は、以下の組成的特徴：（ｉ）最大０．０５〜１．０モル％のＡｓ２Ｏ３濃度；（ｉｉ）最大０．０５〜１．０モル％のＳｂ２Ｏ３濃度；（ｉｉｉ）最大０．２５〜３．０モル％のＳｎＯ２濃度のうちの１つ以上の又は全てを有することができる。
Ａｓ２Ｏ３は、ディスプレイガラスのための有効な高温清澄剤であり、本明細書に記載のいくつかの実施形態では、Ａｓ２Ｏ３は、その優れた清澄特性により、清澄に使用される。しかしながらＡｓ２Ｏ３は有毒であり、ガラス製造プロセス中に特別な取り扱いを必要とする。従って特定の実施形態では、清澄は、有意量のＡｓ２Ｏ３を用いずに実施され、即ち完成品のガラスは最大０．０５モル％のＡｓ２Ｏ３を有する。一実施形態では、ガラスの清澄においてＡｓ２Ｏ３を故意に使用しない。このような場合、完成品のガラスは典型的には、バッチ材料及び／又はバッチ材料の溶融に使用される設備中に存在する汚染物質により、最大０．００５モル％のＡｓ２Ｏ３を有することになる。
Ａｓ２Ｏ３ほどの毒性はないが、Ｓｂ２Ｏ３もまた有毒であり、特別な取り扱いを必要とする。更にＳｂ２Ｏ３は、清澄剤としてＡｓ２Ｏ３又はＳｎＯ２を使用したガラスに比べて密度を上昇させ、ＣＴＥを上昇させ、アニール点を低下させる。従って特定の実施形態では、清澄は、有意量のＳｂ２Ｏ３を用いずに実施され、即ち完成品のガラスは最大０．０５モル％のＳｂ２Ｏ３を有する。別の実施形態では、ガラスの清澄においてＳｂ２Ｏ３を故意に使用しない。このような場合、完成品のガラスは典型的には、バッチ材料及び／又はバッチ材料の溶融に使用される設備中に存在する汚染物質により、最大０．００５モル％のＳｂ２Ｏ３を有することになる。
Ａｓ２Ｏ３及びＳｂ２Ｏ３による清澄に比べて、スズによる清澄（即ちＳｎＯ２による清澄）は効果が低いものの、ＳｎＯ２は、既知の有害な特性を有しない汎用性の高い材料である。しかしながら、ＳｎＯ２の濃度が高いことは、ディスプレイガラス中の結晶質の欠陥の形成をもたらし得るため、好ましくない。一実施形態では、完成品のガラス中のＳｎＯ２の濃度は、０．２５モル％以下、約０．０７〜約０．１１モル％、約０〜約２モル％、約０〜約３モル％、及びこれらの間の全ての部分範囲内である。
スズによる清澄は、単独で、又は他の清澄技法と組み合わせて使用できる。例えばスズによる清澄を、ハロゲン化物による清澄、例えば臭素による清澄と組み合わせることができる。他の可能な組み合わせとしては、限定するものではないが、スズによる清澄に、硫酸塩、硫化物、酸化セリウム、機械的バブリング、及び／又は真空による清澄を追加したものである。これらの他の清澄技法は、単独で用いることを想定できる。特定の実施形態では、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３の比及び個々のアルカリ土類の濃度を上述の範囲内に維持することにより、清澄プロセスの実施が容易になり、またより効果的になる。
様々な実施形態では、ガラスはＲｘＯを含んでよく、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２であるか、又はＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａであり、ｘは１である。いくつかの実施形態では、ＲｘＯ‐Ａｌ２Ｏ３＞０である。他の実施形態では、０＜ＲｘＯ‐Ａｌ２Ｏ３＜１５である。いくつかの実施形態では、ＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３は、０〜１０、０〜５、１超、又は１．５〜３．７５、又は１〜６、又は１．１〜５．７、及びこれらの間の全ての部分範囲内である。他の実施形態では、０＜ＲｘＯ‐Ａｌ２Ｏ３＜１５である。更なる実施形態では、ｘ＝２かつＲ２Ｏ‐Ａｌ２Ｏ３＜１５、＜５、＜０、‐８〜０、又は‐８〜‐１、及びこれらの間の全ての部分範囲内である。追加の実施形態では、Ｒ２Ｏ‐Ａｌ２Ｏ３＜０である。更なる追加の実施形態では、ｘ＝２かつＲ２Ｏ‐Ａｌ２Ｏ３‐ＭｇＯ＞‐１０、＞‐５、０〜‐５、０〜‐２、＞‐２、‐５〜５、‐４．５〜４、及びこれらの間の全ての部分範囲内である。更なる実施形態では、ｘ＝２であり、かつＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３は０〜４、０〜３．２５、０．５〜３．２５、０．９５〜３．２５、及びこれらの間の全ての部分範囲内である。これらの比は、ガラス物品の製造可能性の確立、及びガラス物品の透過性能の決定において、重要な役割を果たす。例えばＲｘＯ‐Ａｌ２Ｏ３がおおよそゼロ以上であるガラスは、比較的良好な溶融品質を有する傾向があるが、ＲｘＯ‐Ａｌ２Ｏ３の値が大きくなりすぎると、透過曲線に悪影響がある。同様に、ＲｘＯ‐Ａｌ２Ｏ３（例えばＲ２Ｏ‐Ａｌ２Ｏ３）が上述の所与の範囲内である場合、ガラスは、溶融性を維持しかつガラスの液相線温度を抑制したまま、可視スペクトルにおいて高い透過性を有しやすい。同様に、上述のＲ２Ｏ‐Ａｌ２Ｏ３‐ＭｇＯの値は、ガラスの液相線温度の抑制にも役立ち得る。
１つ以上の実施形態において、上述のように、例示的なガラスは、ガラスマトリクス中にある場合に可視光吸収を生成する元素を、低濃度で有し得る。このような吸収剤としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ及びＣｕ等の遷移元素、並びにＣｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ及びＴｍを含む、ｆ軌道が部分的に充填された希土類元素が挙げられる。これらのうち、ガラス溶融に使用される従来の原材料中に最も豊富なのは、Ｆｅ、Ｃｒ及びＮｉである。鉄は、ＳｉＯ２源である砂の一般的な汚染物質であり、アルミニウム、マグネシウム及びカルシウムの原材料源中の典型的な汚染物質でもある。クロム及びニッケルは典型的には、通常のガラス原材料中に低濃度で存在するが、砂の様々な鉱石にも存在し得、低濃度に制御されることが好ましい。更に、クロム及びニッケルは：例えば原材料又はカレットを粉砕する際のステンレス鋼との接触によって；鋼鉄で内張りされたミキサ若しくはスクリューフィーダの溶出によって；又は溶融ユニット自体の構造の鋼鉄との意図しない接触によって、導入され得る。いくつかの実施形態における鋼鉄の濃度は、具体的には５０ｐｐｍ未満、より具体的には４０ｐｐｍ未満、又は２５ｐｐｍ未満とすることができ、Ｎｉ及びＣｒの濃度は、具体的には５ｐｐｍ未満及びより具体的には２ｐｐｍ未満とすることができる。更なる実施形態では、上で列挙した他の全ての吸収剤の濃度は、それぞれ１ｐｐｍ未満であってよい。様々な実施形態では上記ガラスは、１ｐｐｍ以下のＣｏ、Ｎｉ及びＣｒ、あるいは１ｐｐｍ未満のＣｏ、Ｎｉ及びＣｒを含む。様々な実施形態では、遷移元素（Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ及びＣｕ）はガラス中に、０．１重量％以下で存在してよい。いくつかの実施形態では、Ｆｅの濃度は、＜約５０ｐｐｍ、＜約４０ｐｐｍ、＜約３０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ、又は＜約１０ｐｐｍとすることができる。他の実施形態では、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉは、＜約６０ｐｐｍ、＜約５０ｐｐｍ、＜約４０ｐｐｍ、＜約３０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ、又は＜約１０ｐｐｍである。
他の実施形態では、３００ｎｍ〜６５０ｎｍの吸収を引き起こさず、＜約３００ｎｍの吸収帯域を有する、特定の遷移金属酸化物の添加により、成形プロセスによるネットワーク欠陥が防止され、またインクの硬化時のＵＶ曝露後の色中心（例えば３００ｎｍ〜６５０ｎｍの光の吸収）が防止されることが発見された。これは、ガラスネットワーク中の遷移金属酸化物による結合が、ガラスネットワークの基本的な結合を光に破壊させることなく、光を吸収するためである。従って例示的実施形態は、ＵＶ色中心の形成を最小化するために、以下の遷移金属酸化物のうちのいずれの１つ又は組み合わせを含むことができる：約０．１モル％〜約３．０モル％の酸化亜鉛；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化チタン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化バナジウム；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化ニオブ；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化マンガン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化ジルコニウム；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化ヒ素；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化スズ；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化モリブデン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化アンチモン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化セリウム；及びこれらの間の全ての部分範囲内の、上で列挙した遷移金属酸化物のうちのいずれ。いくつかの実施形態では、例示的なガラスは、０．１モル％〜約３．０モル％未満又は以下の、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化マンガン、酸化ジルコニウム、酸化ヒ素、酸化スズ、酸化モリブデン、酸化アンチモン、及び酸化セリウムのいずれの組み合わせを含有できる。
遷移金属の濃度が上述の範囲内である場合でさえ、マトリクス及び酸化還元の影響が存在する場合があり、これは望ましくない吸収をもたらす。一例として、鉄はガラス中に２つの価数、即ち＋３又は第２鉄状態、及び＋２又は第１鉄状態で発生することが当業者にはよく知られている。ガラス中において、Ｆｅ３＋は、およそ３８０、４２０及び４３５ｎｍでの吸収を生成する一方、Ｆｅ２＋は主にＩＲ波長を吸収する。従って１つ以上の実施形態によると、可視波長において高い透過を達成するために、可能な限り多くの鉄を第１鉄状態とすることが望ましい場合がある。これを達成するための１つの非限定的な方法は、ガラスバッチに、自然に還元される成分を添加することである。このような成分としては、炭素、炭化水素、又は特定の半金属、例えばケイ素、ホウ素若しくはアルミニウムの還元形態が挙げられる。どのようにこれを達成してもよいが、１つ以上の実施形態によると、鉄のレベルが上述の範囲内である場合、即ち鉄の少なくとも１０％が第１鉄状態である、より具体的には鉄の２０％超が第１鉄状態である場合に、短い波長において透過を改善できる。よって様々な実施形態では、ガラス中の鉄の上記濃度は、ガラスにおいて１．１ｄＢ／５００ｍｍ未満の減衰を生成する。更に様々な実施形態では、Ｖ＋Ｃｒ＋Ｍｎ＋Ｆｅ＋Ｃｏ＋Ｎｉ＋Ｃｕの上記濃度は、ボロシリケートガラスに関する比（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ＋Ｒｂ２Ｏ＋Ｃｓ２Ｏ＋ＭｇＯ＋ＺｎＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３が０〜４である場合、ガラスにおいて２ｄＢ／５００ｍｍ以下の光減衰を生成する。
ガラスマトリクス中の鉄の価数及び配位状態は、ガラスのバルク組成によっても影響され得る。例えば鉄の酸化還元比を、溶融ガラスにおいて、高温の空気中で平衡となった系ＳｉＯ２‐Ｋ２Ｏ‐Ａｌ２Ｏ３で検査した。Ｆｅ３＋としての鉄の割合は、比Ｋ２Ｏ／（Ｋ２Ｏ＋Ａｌ２Ｏ３）と共に増大することが分かり、これは実用面において、短い波長におけるより良好な吸収を意味する。このマトリクス効果を調査すると、比（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ＋Ｒｂ２Ｏ＋Ｃｓ２Ｏ）／Ａｌ２Ｏ３及び（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＺｎＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３もまた、ボロシリケートガラスにおいて透過を最大化するために重要となり得ることが分かった。従って上述のＲｘＯの範囲に関して、所与の鉄含有量に対して、例示的な波長における透過を最大化できる。これは部分的には、Ｆｅ２＋の比率が高いことによるものであり、また部分的には、鉄の配位環境に関連するマトリクス効果によるものである。
更に、複数の例示的な組成に対して、各要素が最も強力に減衰させる可視光範囲内の波長を同定することによって、各要素の減衰能力を推定できる。以下の表１に示す実施例では、ＲｘＯに対するＡｌ２Ｏ３の濃度に関して、様々な遷移金属の吸収係数を実験によって決定した（ただし簡略化のために、改質剤Ｎａ２Ｏのみを以下に示す）。
Figure 2018532684
Ｖ（バナジウム）を除いて、最小の減衰は、Ａｌ２Ｏ３の濃度＝Ｎａ２Ｏであるガラスに関して、又は更に一般的にはＡｌ２Ｏ３〜ＲｘＯに関して、観察される。様々な例において、遷移金属は２価以上であると仮定でき（例えばＦｅは＋２及び＋３の両方となることができる）、従ってこれらの様々な価数の酸化還元比は、バルク組成にある程度影響され得る。遷移金属は、特に最も近い陰イオンの数（配位数とも呼ばれる）が変化する場合に、部分的に充填されたｄ軌道中の電子とその周囲の陰イオン（この場合は酸素）との相互作用によって発生する、いわゆる「結晶場（ｃｒｙｓｔａｌ ｆｉｅｌｄ）」又は「リガンド場（ｌｉｇａｎｄ ｆｉｅｌｄ）」効果に様々に応答する。よって、酸化還元比及び結晶場効果の両方がこの結果に寄与すると思われる。
また、以下の表２に示し、これ以降で更に詳細に議論するように、様々な遷移金属の吸収係数を利用して、可視スペクトル（即ち３８０〜７００ｎｍ）内の光路長にわたるガラス組成の減衰を決定でき、ソラリゼーションの問題に対処できる。
Figure 2018532684
当然のことながら、表２で同定された値は単なる例示であり、添付の請求項の範囲を限定するものではない。例えば予想外に、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉ＜６０ｐｐｍである場合に、高透過率ガラスを得ることができることも発見された。いくつかの実施形態では、Ｆｅの濃度を、＜約５０ｐｐｍ、＜約４０ｐｐｍ、＜約３０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ、又は＜約１０ｐｐｍとすることができる。他の実施形態では、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉ＜約５０ｐｐｍ、＜約４０ｐｐｍ、＜約３０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ、又は＜約１０ｐｐｍである。また予想外に、３００ｎｍ〜６５０ｎｍの吸収を引き起こさず、＜約３００ｎｍの吸収帯域を有する、特定の遷移金属酸化物の添加により、成形プロセスによるネットワーク欠陥が防止され、またインクの硬化時のＵＶ曝露後の色中心（例えば３００ｎｍ〜６５０ｎｍの光の吸収）が防止されることも発見された。これは、ガラスネットワーク中の遷移金属酸化物による結合が、ガラスネットワークの基本的な結合を光に破壊させることなく、光を吸収するためである。従って例示的実施形態は、ＵＶ色中心の形成を最小化するために、以下の遷移金属酸化物のうちのいずれの１つ又は組み合わせを含むことができる：約０．１モル％〜約３．０モル％の酸化亜鉛；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化チタン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化バナジウム；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化ニオブ；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化マンガン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化ジルコニウム；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化ヒ素；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化スズ；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化モリブデン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化アンチモン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化セリウム；及びこれらの間の全ての部分範囲内の、上で列挙した遷移金属酸化物のうちのいずれ。いくつかの実施形態では、例示的なガラスは、０．１モル％〜約３．０モル％未満又は超の、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化マンガン、酸化ジルコニウム、酸化ヒ素、酸化スズ、酸化モリブデン、酸化アンチモン、及び酸化セリウムのいずれの組み合わせを含有できる。
表３Ａ、３Ｂ、４Ａ及び４Ｂは、本主題の実施形態のために調製されたガラスのいくつかの非限定的な例を提供する。
Figure 2018532684
Figure 2018532684
Figure 2018532684
Figure 2018532684
よって、これまでに記載した例示的組成を用いて、約５２５℃〜約５７５℃、約５４０℃〜約５７０℃、又は約５４５℃〜約５６５℃及びこれらの間の全ての部分範囲内の歪み点を達成できる。一実施形態では、歪み点は約５４７℃であり、別の実施形態では、歪み点は約５６５℃である。例示的なアニール点は、約５７５℃〜約６２５℃、約５９０℃〜約６２０℃、及びこれらの間の全ての部分範囲内となり得る。一実施形態では、アニール点は約５９３℃であり、別の実施形態では、アニール点は約６１８℃である。ガラスの例示的な軟化点は、約８００℃〜約８９０℃、約８２０℃〜約８８０℃、又は約８３５℃〜約８７５℃及びこれらの間の全ての部分範囲内である。一実施形態では、軟化点は約８３６．２℃であり、別の実施形態では、軟化点は約８７４．７℃である。例示的なガラス組成の密度は、約１．９５ｇｍ／ｃｃ＠２０℃〜約２．７ｇｍ／ｃｃ＠２０℃、約２．１ｇｍ／ｃｃ＠２０℃〜約２．４ｇｍ／ｃｃ＠２０℃、又は約２．３ｇｍ／ｃｃ＠２０℃〜約２．４ｇｍ／ｃｃ＠２０℃及びこれらの間の全ての部分範囲内となり得る。一実施形態では密度は約２．３８９ｇｍ／ｃｃ＠２０℃であり、別の実施形態では、密度は約２．３８８ｇｍ／ｃｃ＠２０℃である。例示的実施形態に関するＣＴＥ（０〜３００℃）は、約３０×１０−７／℃〜約９５×１０−７／℃、約５０×１０−７／℃〜約８０×１０−７／℃、又は約５５×１０−７／℃〜約８０×１０−７／℃及びこれらの間の全ての部分範囲内となり得る。一実施形態ではＣＴＥは約５５．７×１０−７／℃であり、別の実施形態では、ＣＴＥは約６９×１０−７／℃である。
本明細書に記載の特定の実施形態及び組成は、９０％超、９１％超、９２％超、９３％超、９４％超、更には９５％超の、４００〜７００ｎｍでの内部透過を提供した。内部透過率は、試料を透過する光を、ソースから放出された光と比較することで測定できる。広帯域の非コヒーレント光は、試験対象の材料の端部に円筒形で集束し得る。遠方から放出された光は、分光光度計に結合された積分球ファイバによって集めることができ、これは試料データを形成する。基準データは、試験中の材料をシステムから取り除き、積分球を集束用光学素子の直前で並進移動させ、この装置を通る光を基準データとして集めることによって得られる。そして、所与の波長における吸収率は：
Figure 2018532684
によって得られる。０．５ｍにわたる内部透過率は：
透過率（％）＝１００×１０‐吸収率×０．５／１０
によって得られる。よって、本明細書に記載の例示的実施形態は、長さ５００ｍｍにおいて、８５％超、９０％超、９１％超、９２％超、９３％超、９４％超、更には９５％超の、４５０ｎｍにおける内部透過率を有することができる。本明細書に記載の例示的実施形態はまた、長さ５００ｍｍにおいて、９０％超、９１％超、９２％超、９３％超、９４％超、更には９６％超の、５５０ｎｍにおける内部透過率を有することができる。本明細書に記載の更なる実施形態は、長さ５００ｍｍにおいて、８５％超、９０％超、９１％超、９２％超、９３％超、９４％超、更には９５％超の、６３０ｎｍにおける内部透過率を有することができる。
１つ以上の実施形態では、ガラスを強化できる。例えば、例示的なガラスに、中程度の圧縮応力（ＣＳ）、大きな圧縮層深さ（ＤＯＬ）及び／又は中程度の中心張力（ＣＴ）といった特定の特徴を与えることができる。ある例示的なプロセスは、イオン交換可能なガラスを調製することにより、ガラスを化学強化するものである。続いてガラスをイオン交換プロセスに供することができ、その後必要であれば、ガラスをアニールプロセスに供することができる。当然のことながら、イオン交換ステップで得られるレベルのガラスのＣＳ及びＤＯＬが望まれている場合、アニールステップは不要である。他の実施形態では、酸エッチングプロセスを用いて、適当なガラス表面上のＣＳを増大させることができる。イオン交換プロセスは、ガラスを、約４００〜５００℃である１つ以上の第１の温度において、及び／又は約１〜２４時間、例えば限定するものではないが約８時間である第１の期間にわたって、ＫＮＯ３、好ましくは比較的純粋なＫＮＯ３を含む溶融塩浴に供するステップを伴ってよい。他の塩浴組成も可能であり、このような代替例を考慮することは当業者の技術レベルの範囲内であることに留意されたい。よってＫＮＯ３の開示は、添付の請求項の範囲を限定しないものとする。このような例示的なイオン交換プロセスは、ガラスの表面の初期ＣＳ、ガラス内への初期ＤＯＬ、及びガラス内の初期ＣＴを生成できる。続いてアニーリングにより、所望の通りに最終ＣＳ、最終ＤＯＬ及び最終ＣＴを生成できる。
図１及び２は、本開示の実施形態によるマルチウェルプレートの２つの断面図を示す。マルチウェルプレートは、本明細書に記載の基板であり、マルチウェルプレートの下側プレートである少なくとも１つのガラス基板部分を含む。図示されているマルチウェルプレート１００は、上側部分２００及び下側プレート２２０を含む２部構造のものである。上側部分２００は、周縁スカート１２０、上面１４０、及びウェル１６０の側壁２４０を含む。下側プレート２２０はウェル１６０の底部壁２６０を形成する。上側部分２００及び下側プレート２２０は、接着剤２８０によって、界面において一体に接合できる。上側部分２００は、周縁スカート１２０及び上面１４０に加えて、端部開放型試料ウェル１６０のアレイの側壁２４０を形成するフレームを含む。上側部分２００は、ポリマー材料（例えばポリスチレン）から形成してよい。
下側プレート２２０は、本明細書に記載の組成を有するガラスのシートであってよい。下側プレート２２０はまた、略平坦であってよい。また、ガラスシートは、所望のサイズのマルチウェルプレート１００の寸法にフィットするように改変できる。ガラス材料は、各試料ウェル１６０のための透明底部壁２６０を形成し、これを通した視認を可能とする。透明下側プレート２２０はまた、底部壁２６０を通した光放出の測定を可能とする。図示されているように、下側プレート２２０は略平坦であり、また、上側部分２００の全てのウェル１６０のための底部壁２６０を形成するようにサイズ設定される。
本明細書に記載のガラス組成を利用することにより、下側プレート２２０は、高い光学品質、高い光学的平坦性、及び低い自己蛍光を有する。ガラス底のマルチウェルプレートにおいて従来使用されてきたガラスに比べて、下側プレート２２０のガラスから放出される自己蛍光が低いことにより、蛍光ノイズが低減され、蛍光検出法の精度が改善される。高い光学品質により、いずれの顕微鏡観察技法の結果、及び蛍光検出法の結果が改善される。ウェル１６０の底部壁２６０の光学的平坦性は、マルチウェルプレート１００を、ウェル１６０内の試験片及び生きた細胞を顕微鏡で観察するために使用する場合に、特に重要となる。この平坦性により、均一な細胞分布も促進され、また光学的ばらつきが制限される。底部壁２６０はいずれの厚さのものであってよいが、底部壁２６０は、約５００マイクロメートル以下の厚さを有してよく、またその平坦性は、個々のウェル１６０の外側最低部表面の直径にわたって０〜１０マイクロメートルである。例えば、底部壁２６０の厚さは、約７５マイクロメートル〜約５００マイクロメートル、又は約１００マイクロメートル〜約４００マイクロメートル、又は約１５０マイクロメートル〜約３５０マイクロメートル、又は約１７５マイクロメートル〜約３００マイクロメートルでさえあってよい。
図３及び４は、本開示の実施形態による例示的なフローセルを示す。フローセルは、本明細書に記載の基板であり、少なくとも１つの層を含む。フローセルの少なくとも１つのガラス基板部分は、上記少なくとも１つの層のうちの少なくとも１つである。フローセル４００は、底部又はベース層４１０、ベース層４１０の上に重なったチャネルスペーサ又は層４２０、及びカバー層４３０を含む。ベース層４１０の厚さは、約５００マイクロメートル〜約１，５００マイクロメートル、例えば約１，０００マイクロメートルであってよい。チャネル層４２０の厚さは、約８０マイクロメートル〜約２００マイクロメートル、例えば約１００マイクロメートルであってよい。カバー層４３０の厚さは、約１５０マイクロメートル〜約５００マイクロメートル、例えば約３００マイクロメートルであってよい。層４１０、４２０及び４３０を組み立てると、これらは、各端部にカバー層４３０を通る流入ポート４１４及び流出ポート４１６を有する、少なくとも１つの封止されたフローチャネル４１２を形成する。フローセル４００は、マニホルドと係合するか、又は封止噛合するよう構成してよい。あるいは、フローセル４００の流入ポート４１４及び流出ポート４１６は、フローセル４００の底部又は側部に開いていてよい。また、図面は３層で形成されたフローセル４００を図示しているものの、本開示の実施形態によるフローセルは、チャネルがエッチング、切断又は形成されたベース層、及びカバー層といった、２つの層を含んでよい。更に他の実施形態は、エッチング、切断又はその他の方法で形成されたフローチャネルを含む１つの層のみを有する、フローセルを含んでよい。
フローセル４００の層４１０、４２０及び４３０は、多数の異なる方法で互いに対して付着させることができる。例えば上記層は、接着剤、結合（例えば熱結合、化学結合等）、及び／又は機械的方法で付着させることができる。例えば、化学作用剤若しくははんだガラスを用いた低融点ガラス結合プロセスを利用してよく、又は接合される相補的な層の表面を近接して配置し、表面の軟化及び互いに対する結合を引き起こすために十分な程度に加熱する、高温融着プロセスを利用してよい。当業者は、様々なガラス／ポリマー層を互いに対して付着させるための多数の方法及び技法に親しんでいるだろう。任意に、フローセル４００は、層４１０、４２０及び４３０のうちの少なくとも１つの間に結合剤を含んでよく、上記結合剤は、フローセル４００の層４１０、４２０及び４３０の、互いに対する付着を促進する。結合剤は例えば、金属、金属酸化物、ガラス、セラミック又はプラスチックを含む材料であってよいが、これらに限定されない。
更に、図示されているフローセル４００は８つのチャネル４１２を含むが、本開示の実施形態によるフローセルは、いずれの数のチャネルを含んでよい。例えばフローセル４００は、チャネルを１つのみ、又は２つ、又は３つ、又は４つ、又は１６個、又は更に多くのチャネルを含んでよい。更にチャネル４１２は、異なる深さ及び／又は幅（フローセルのチャネル間で異なっていても、同一のフローセル内のチャネル間で異なっていてもよい）を有してよい。例えば、チャネル４１２の深さは、５０マイクロメートル〜約５００マイクロメートル、又は約１００マイクロメートル〜約４００マイクロメートル、又は約１５０マイクロメートル〜約３００マイクロメートルであってよい。本明細書に記載のチャネル４１２は、フローセル４００内に、ＨＦエッチング液等の酸エッチング液を利用するエッチングプロセスを用いて形成してよい。酸エッチング液を、チャネルが形成されることになる層に適用する。保護マスクを用いて、除去したくない層の材料を保護し、その一方で除去したい層の材料を酸エッチング液に曝露する。
本開示の実施形態によるフローセルの少なくとも１つの層は、本明細書に記載の組成を有するガラスから形成してよい。例えばベース層を、本明細書に記載のガラス組成から形成してよい。更に、チャネル層４２０及びカバー層４３０のうちのいずれも、本明細書に記載のガラス組成から形成してよい。任意に、フローセルの異なる複数の層を、同一のフローセル内において異なる材料から形成してよい。よって、ベース層４１０、チャネル層４２０及びカバー層４３０は任意に、異なる材料から形成でき、好ましい実施形態は、本明細書に記載のガラス組成から形成されたベース層４１０を有する。上記異なる材料としては例えば、Ｆｏｔｕｒａｎ（登録商標）（Ｓｃｈｏｔｔ ＡＧ（ドイツ、マインツ）が市販）又はＦｏｔｏｆｏｒｍ（登録商標）（Ｈｏｙａ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（日本、東京）が市販）といった光感受性ガラスが挙げられる。任意に、上記層のうちの少なくとも１つをシリコンから形成してよい。上記異なる材料としては、優れた光学特性を有し、かつ高温に耐えられるポリマー、例えばＴｏｐａｓ（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ（ケンタッキー州フローレンス）が市販）又はＺｅｏｎｏｒ（登録商標）（Ｚｅｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（ケンタッキー州ルイスヴィル）が市販）といった環状オレフィンコポリマーが挙げられる。他のポリマー材料は例えば、限定するものではないが、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、及びポリ（ジメチルシロキサン）（ＰＤＭＳ）であってよい。
図５は、本開示の実施形態によるペトリ皿を図示しており、ここで上記ペトリ皿は、本明細書に記載の組成を有するガラスから形成される。ペトリ皿は、本明細書に記載の基板であり、底部パネル及びベース側壁のうちの少なくとも１つである少なくとも１つのガラス基板部分を含む。ペトリ皿５００は、円形ベース５０２及び円形蓋５０４を含む。円形ベース５０２は、平坦底部パネル５０６と、平坦底部パネル５０６から略垂直上向きに延在するベース側壁５０８とを有する。円形蓋５０４は、蓋パネル５１０と、蓋パネル５１０から略垂直下向きに延在する蓋側壁５１２とを有する。蓋側壁５１２の内径は、ベース側壁５０８の外径より大きく、これにより、円形蓋５０４を円形ベース５０２上に設置したときに、円形蓋５０４は円形ベース５０２を被覆し、蓋側壁５１２はベース側壁５０８の上部を越えて延在してこれを被覆する。ベース側壁５０８の高さは、蓋側壁５１２の深さより大きい。本開示の実施形態によると、ペトリ皿の少なくとも１つの部分、例えば円形ベース５０２及び円形蓋５０４は、本明細書に記載の組成を有するガラスから形成される。一実施形態によると、円形ベース５０２の平坦底部パネル５０６は、本明細書に記載の組成を有するガラスから形成される。
本明細書に記載のガラス組成を利用することにより、ペトリ皿５００は、高い光学品質及び低い自己蛍光を有する。ペトリ皿に従来使用されてきたガラスに比べて、ペトリ皿５００のガラスから放出される自己蛍光が低いことにより、蛍光ノイズが低減され、蛍光検出法の精度が改善される。高い光学品質により、いずれの顕微鏡観察技法の結果、及び蛍光検出法の結果が改善される。
以下の実施例は、本主題による方法及び結果を例示するために記載されている。これらの実施例は本明細書において開示される主題の全ての実施形態を包括することを意図したものではなく、代表的な方法及び結果を例示することを意図したものである。これらの実施例は、当業者に明らかである本開示の均等物及び変形例を除外することを意図したものではない。
数字（例えば量、温度等）に関して正確性を保証するよう努力したが、多少の誤差及びばらつきを考慮する必要がある。別段の指示がない限り、温度は℃で示されるか又は周囲温度であり、圧力は大気圧又は大気圧付近である。組成自体は酸化物ベースのモル％で与えられ、１００％に正規化されている。記載されるプロセスから得られる生成物の純度及び収率を最適化するために用いることができる、例えば成分濃度、温度、圧力並びに他の反応範囲及び条件といった反応条件の、多数の変形例及び組み合わせが存在する。このようなプロセス条件を最適化するためには、合理的な通例の実験しか必要とならない。
本明細書及び以下の表５に記載されるガラスの特性は、ガラスの分野における慣用の技法に従って決定した。よって、温度範囲２５〜３００℃にわたる線形の熱膨張係数（ＣＴＥ）は、×１０−７／℃で表され、アニール点は℃で表される。これらは、ファイバ伸長技法（それぞれＡＳＴＭ規格Ｅ２２８‐８５及びＣ３３６）によって決定された。密度（グラム／ｃｍ３）は、アルキメデス法（ＡＳＴＭ Ｃ６９３）によって測定された。（ガラス溶融物が２００ポアズ（２０Ｐａ・ｓ）の粘度を示す温度として定義される）融点（℃）は、回転シリンダ粘度法（ＡＳＴＭ Ｃ９６５‐８１）で測定された高温粘度データへのフルチャーの式のフィットを採用して算出した。
ガラスの液相線温度（℃）は、ＡＳＴＭ Ｃ８２９‐８１の標準勾配ボート液相線法を用いて測定した。これは：白金ボートに粉砕したガラス粒子を入れるステップ；温度勾配領域を有する炉内に上記ボートを置くステップ；２４時間にわたって適切な温度範囲でボートを加熱するステップ；及びガラスの内部に結晶が現れる最高温度を顕微鏡検査によって決定するステップを伴う。より詳細には、ガラス試料をＰｔボートから１片として取り出し、偏光顕微鏡を用いて試験して、Ｐｔ及び空気との界面に接して形成された結晶、並びに試料の内部に形成された結晶の、位置及び性質を同定する。炉の温度勾配は非常によく知られているため、位置に対する温度は５〜１０℃以内で十分に推定できる。試料の内部に結晶が観察された温度を、（対応する試験期間に対する）ガラスの液相線温度を表すものと解釈する。場合によっては、試験をより長時間（例えば７２時間）実施して、よりゆっくりと成長する相を観察する。液相粘度（ポアズ）は、液相線温度と、フルチャーの式の係数とから決定された。ヤング率の値（ＧＰａ）が含まれている場合、これは、ＡＳＴＭ Ｅ１８７５‐００ｅ１に記載されている一般的なタイプの共鳴超音波分光法を用いて決定された。
本明細書中の表の例示的なガラスは、９０重量％が米国規格の１００メッシュふるいを通過するように粉砕した市販の砂をシリカ源として用いて調製された。アルミナがアルミナ源であり、ペリクレースがＭｇＯ源であり、石灰岩がＣａＯ源であり、炭酸ストロンチウム、硝酸ストロンチウム又はこれらの混合物がＳｒＯ源であり、炭酸バリウムがＢａＯ源であり、酸化スズ（ＩＶ）がＳｎＯ２源であった。原材料を完全に混合し、炭化ケイ素グローバーで加熱された炉内に懸架した白金容器内に装填し、１６００℃〜１６５０℃で数時間溶融させて撹拌することにより均一性を保証し、白金容器の基部のオリフィスを通して送り出した。得られたガラスのパテをアニール点又はアニール点付近でアニールした後、様々な実験法に供して、物理的属性、粘度属性及び液相属性を決定した。
これらの方法は独自のものではなく、本明細書中の表のガラスは、当業者には公知の標準的な方法を用いて調製できる。このような方法としては、連続溶融プロセスで実施されるもの等の連続溶融プロセスが挙げられ、連続溶融プロセスで使用される溶融器は、ガスによって加熱されるか、電力によって加熱されるか、又はこれらの組み合わせによって加熱される。
例示的なガラスの製造に適した原材料としては：ＳｉＯ２源としての市販の砂；Ａｌ２Ｏ３源としてのアルミナ、水酸化アルミニウム、アルミナの水和形態、並びに様々なアルミノケイ酸塩、硝酸塩及びハロゲン化物；Ｂ２Ｏ３源としてのホウ酸、無水ホウ酸及び酸化ホウ素；ＭｇＯ源としてのペリクレース、ドロマイト（ＣａＯ源でもある）、マグネシア、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、並びにマグネシウムのケイ酸塩、アルミノケイ酸塩、硝酸塩及びハロゲン化物；ＣａＯ源としての石灰石、アラゴナイト、ドロマイト（ＭｇＯ源でもある）、ウォラストナイト、並びにカルシウムのケイ酸塩、アルミノケイ酸塩、硝酸塩及びハロゲン化物；並びにストロンチウム及びバリウムの酸化物、炭酸塩、硝酸塩及びハロゲン化物が挙げられる。化学清澄剤が望ましい場合、スズを：ＳｎＯ２として；別の主要なガラス成分（例えばＣａＳｎＯ３）との混合酸化物として；又はＳｎＯ、シュウ酸スズ、ハロゲン化スズ又は当業者に公知の他のスズ化合物としての酸化形態で、添加できる。
本明細書中の表のガラスは清澄剤としてＳｎＯ２を含有できるが、本明細書に記載の基板の意図した用途に十分な品質のガラスを得るために、他の化学清澄剤も採用してよい。例えば例示的なガラスは、清澄を促進するための意図的な添加物として、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、及びハロゲン化物のうちのいずれの１つ又は組み合わせを採用してよく、これらのうちのいずれを、実施例に示されているＳｎＯ２化学清澄剤と併用してよい。これらのうち、Ａｓ２Ｏ３及びＳｂ２Ｏ３は一般に有害な材料として認識されており、ガラス製造の過程で又はＴＦＴパネルの加工において生成され得るもの等の廃棄物流中で、制御を受ける。従って、Ａｓ２Ｏ３及びＳｂ２Ｏ３の濃度を、個別に又は合わせて、０．００５モル％以下に制限することが望ましい。
例示的なガラスに意図的に組み込まれる元素に加えて、周期表中の略全ての安定な元素が、原材料の低レベルの汚染によって、製造プロセス中の耐火物及び貴金属の高温溶出によって、又は完成品のガラスの属性の微調整のための、低レベルでの意図的な導入によって、ガラス中にある程度のレベルで存在する。例えばジルコニウムが、富ジルコニウム耐火物との相互作用によって、汚染物質として導入される場合がある。更なる例としては、白金及びロジウムが、貴金属との相互作用によって導入される場合がある。更なる例としては、鉄が原材料中の混入物として導入される場合があり、又は気体の包有の制御を増進するために意図的に添加される場合がある。更なる例としては、マンガンが、色を制御するため又は気体の包有の制御を増進するために導入される場合がある。
水素は、ヒドロキシル陰イオンＯＨ‐の形態で不可避的に存在し、その存在は、標準的な赤外線分光法によって確認できる。溶解したヒドロキシルイオンは、例示的なガラスのアニール点に有意に非線形の影響を及ぼし、従って所望のアニール点を得るためには、主要な酸化物成分の濃度を調整して補償する必要があり得る。ヒドロキシルイオン濃度は、原材料の選択及び溶融システムの選択によってある程度制御できる。例えばホウ酸は、ヒドロキシルの主要な源であり、ホウ酸を酸化ホウ素で置換することは、完成品のガラス中のヒドロキシル濃度を制御する有用な方法となり得る。同様の理由付けが、ヒドロキシルイオン、水和物、又は物理吸着された若しくは化学吸着された水分子を含む化合物を含む、可能性のある他の原材料にも当てはまる。溶融プロセスにバーナを用いる場合、ここでもまたヒドロキシルイオンが、天然ガス及び関連する炭化水素の燃焼による燃焼産物によって導入され得るため、溶融に使用するエネルギをバーナから電極にシフトして補償することが望ましい場合がある。あるいはその代わりに、主要な酸化物成分を調整する反復プロセスを採用して、溶解したヒドロキシルイオンの有害な影響を補償してもよい。
硫黄は天然ガス中に存在することが多く、また同様に、多くの炭酸塩、硝酸塩、ハロゲン化物及び酸化物原材料中の混入成分である。硫黄はＳＯ２の形態において、厄介な気体包有の源となり得る。富ＳＯ２欠陥が形成される傾向は、原材料中の硫黄レベルを制御することによって、及び相対的に還元された低レベルの多価陽イオンをガラスマトリクス中に組み込むことによって、管理できる。理論によって束縛されることを望むものではないが、富ＳＯ２気体包有は主に、ガラス中に溶解した硫酸塩（ＳＯ４＝）の還元によって発生すると思われる。例示的なガラスのバリウム濃度の上昇により、溶融の早期におけるガラス中での硫黄の保持が増大すると思われるが、上述のように、バリウムは、低い液相線温度、従って高いＴ３５ｋ‐Ｔｌｉｑ及び高い液相粘度を得るために必要である。原材料中の硫黄レベルを低いレベルに意図的に制御することは、ガラス中に溶解した（おそらく硫酸塩としての）硫黄を減少させる有用な手段である。特に硫黄は、好ましくはバッチ材料中で２００ｐｐｍ重量未満、より好ましくはバッチ材料中で１００ｐｐｍ重量未満である。
還元された多価イオンを用いて、例示的なガラスがＳＯ２ブリスターを形成する傾向を制御することもできる。理論によって束縛されることを望むものではないが、これらの要素は、硫酸塩の還元のための起電力を抑制する潜在的な電子供与体としての挙動を有する。硫酸塩の還元は、ＳＯ４＝→ＳＯ２＋Ｏ２＋２ｅ‐といった半反応式で記述でき、ここでｅ‐は電子を表す。この半反応に関する「平衡定数（ｅｑｕｉｌｉｂｒｉｕｍ ｃｏｎｓｔａｎｔ）」は、Ｋｅｑ＝［ＳＯ２］［Ｏ２］［ｅ‐］２／［ＳＯ４＝］であり、角括弧は化学活性を表す。理想的には、反応を推進して、ＳＯ２、Ｏ２及び２ｅ‐から硫酸塩を生成したい。硝酸塩、過酸化物又は他の富酸素原材料の添加は、手助けになり得るものの、溶融の早期における硫酸塩の還元（これはそもそも、これらの添加の便益と反作用し得る）に対して不利に作用する場合もある。ＳＯ２は大半のガラス中での可溶性が極めて低く、従ってガラス溶融プロセスへの添加は現実的でない。電子は、還元された多価イオンによって「添加」できる。例えば第１鉄（Ｆｅ２＋）に関する適当な電子供与半反応は、２Ｆｅ２＋→２Ｆｅ３＋＋２ｅ‐として表される。
この電子の「活性（ａｃｔｉｖｉｔｙ）」は、硫酸塩還元反応を左へと進めて、ガラス中でＳＯ４＝を安定させることができる。好適な還元された多価イオンとしては、限定するものではないが、Ｆｅ２＋、Ｍｎ２＋、Ｓｎ２＋、Ｓｂ３＋、Ａｓ３＋、Ｖ３＋、Ｔｉ３＋、及び当業者に公知の他のイオンが挙げられる。各場合において、ガラスの色に対する有害な影響を回避するために、又はＡｓ及びＳｂの場合には、エンドユーザによるプロセスにおける廃棄物の管理が複雑になるような高いレベルでこれらの成分を添加することを回避するために、これらの成分の濃度を最小化することが重要となり得る。
例示的なガラスの主要な酸化物成分、及び上述の微量または混入構成成分に加えて、ハロゲン化物は、原材料の選択によって導入される汚染物質として、又はガラス中の気体包有を排除するために使用される意図的な成分として、様々なレベルで存在し得る。清澄剤として、ハロゲン化物を約０．４モル％以下のレベルで組み込むことができるが、一般には、オフガス処理装置の腐食を回避するために、可能であれば更に低いレベルでの使用が望ましい。いくつかの実施形態では、個々のハロゲン化物要素の濃度は、個々のハロゲン化物に関して約２００ｐｐｍ重量未満、又は全てのハロゲン化物要素の合計に関して約８００ｐｐｍ重量未満である。
これらの主要な酸化物成分、微量および混入成分、多価イオン及びハロゲン化物清澄剤に加えて、所望の物理的特性、ソラリゼーション特性、光学的特性又は粘弾性特性を達成するために、他の無色の酸化物成分を低濃度で組み込むと有益となり得る。このような酸化物としては、限定するものではないが、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＭｏＯ３、ＷＯ３、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＰｂＯ、ＳｅＯ３、ＴｅＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、及び当業者に公知の他の酸化物が挙げられる。例示的なガラスの主要な酸化物成分の相対比を調整することにより、このような無色酸化物を、アニール点、Ｔ３５ｋ‐Ｔｌｉｑ又は液相粘度に許容できない影響を及ぼすことなく、最大約２モル％〜３モル％のレベルまで添加できる。例えばいくつかの実施形態は、ＵＶ色中心の形成を最小化するために、以下の遷移金属酸化物のうちのいずれの１つ又は組み合わせを含むことができる：約０．１モル％〜約３．０モル％の酸化亜鉛；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化チタン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化バナジウム；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化ニオブ；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化マンガン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化ジルコニウム；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化ヒ素；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化スズ；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化モリブデン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化アンチモン；約０．１モル％〜約１．０モル％の酸化セリウム；及びこれらの間の全ての部分範囲内の、上で列挙した遷移金属酸化物のうちのいずれ。いくつかの実施形態では、例示的なガラスは、０．１モル％〜約３．０モル％未満又は超の、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化マンガン、酸化ジルコニウム、酸化ヒ素、酸化スズ、酸化モリブデン、酸化アンチモン、及び酸化セリウムのいずれの組み合わせを含有できる。
表５は、本明細書に記載の高い透過性を有するガラスの実施例（試料１〜１０６）を示す。
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追加の実施例は、以下の組成（モル％）を含むことができる。
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上の表に記載されているように、いくつかの実施形態における例示的なガラス物品は：約６５．７９モル％〜約７８．１７モル％のＳｉＯ２、約２．９４モル％〜約１２．１２モル％のＡｌ２Ｏ３、約０モル％〜約１１．１６モル％のＢ２Ｏ３、約０モル％〜約２．０６モル％のＬｉ２Ｏ、約３．５２モル％〜約１３．２５モル％のＮａ２Ｏ、約０モル％〜約４．８３モル％のＫ２Ｏ、約０モル％〜約３．０１モル％のＺｎＯ、約０モル％〜約８．７２モル％のＭｇＯ、約０モル％〜約４．２４モル％のＣａＯ、約０モル％〜約６．１７モル％のＳｒＯ、約０モル％〜約４．３モル％のＢａＯ、及び約０．０７モル％〜約０．１１モル％のＳｎＯ２を含む、ガラスを含むことができる。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は＜０．００８の色ずれを備える。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は＜０．００５の色ずれを備える。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は０．９５〜３．２３のＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３を含み、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２である。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は１．１８〜５．６８のＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３を含み、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２であるか、又はＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａであり、ｘは１である。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は‐４．２５〜４．０のＲｘＯ‐Ａｌ２Ｏ３‐ＭｇＯを含み、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２である。いくつかの実施形態では、上記ガラスの歪み点は約５２２℃〜５９０℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスのアニール点は約５６６℃〜６４１℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスの軟化点は約８００℃〜９１４℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスのＣＴＥは約４９．６×１０−７／℃〜約８０×１０−７／℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスの密度は、約２．３４ｇｍ／ｃｃ＠２０℃〜約２．５３ｇｍ／ｃｃ＠２０℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は導光板である。いくつかの実施形態では、上記導光板の厚さは約０．２ｍｍ〜約８ｍｍである。いくつかの実施形態では、上記厚さのばらつきは５％未満である。いくつかの実施形態では、上記導光板は、フュージョンドロープロセス、スロットドロープロセス又はフロートプロセスから製造される。いくつかの実施形態では、上記ガラスは、Ｃｏ、Ｎｉ及びＣｒをそれぞれ１ｐｐｍ未満含む。いくつかの実施形態では、Ｆｅの濃度は＜約５０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ又は＜約１０ｐｐｍである。いくつかの実施形態では、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉは、＜約６０ｐｐｍ、＜約４０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ又は＜約１０ｐｐｍである。いくつかの実施形態では、少なくとも５００ｍｍの長さでの、４５０ｎｍにおける透過率が８５％以上であるか、少なくとも５００ｍｍの長さでの、５５０ｎｍにおける透過率が９０％以上であるか、又は少なくとも５００ｍｍの長さでの、６３０ｎｍにおける透過率が８５％以上であり、これらの組み合わせでもある。いくつかの実施形態では、上記ガラスは化学強化される。更なる実施形態では、上記ガラスは、約０．１モル％〜約３．０モル％のＺｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＴｉＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＶ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＮｂ２Ｏ５、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＺｒＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＡｓ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｎＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｏＯ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｂ２Ｏ３、又は約０．１モル％〜約１．０モル％のＣｅＯ２を含む。追加の実施形態では、上記ガラスは、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｎＯ、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、及びＣｅＯ２のうちの１つ又は組み合わせを、０．１モル％〜約３．０モル％以下含む。
更なる実施形態では、ガラス物品が提供され、上記ガラス物品は：約６６モル％〜約７８モル％のＳｉＯ２、約４モル％〜約１１モル％のＡｌ２Ｏ３、約４モル％〜約１１モル％のＢ２Ｏ３、約０モル％〜約２モル％のＬｉ２Ｏ、約４モル％〜約１２モル％のＮａ２Ｏ、約０モル％〜約２モル％のＫ２Ｏ、約０モル％〜約２モル％のＺｎＯ、約０モル％〜約５モル％のＭｇＯ、約０モル％〜約２モル％のＣａＯ、約０モル％〜約５モル％のＳｒＯ、約０モル％〜約２モル％のＢａＯ、及び約０モル％〜約２モル％のＳｎＯ２を含む、ガラスを含む。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は＜０．００８の色ずれを備える。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は＜０．００５の色ずれを備える。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は０．９５〜３．２３のＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３を含み、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２である。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は１．１８〜５．６８のＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３を含み、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２であるか、又はＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａであり、ｘは１である。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は‐４．２５〜４．０のＲｘＯ‐Ａｌ２Ｏ３‐ＭｇＯを含み、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２である。いくつかの実施形態では、上記ガラスの歪み点は約５２２℃〜５９０℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスのアニール点は約５６６℃〜６４１℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスの軟化点は約８００℃〜９１４℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスのＣＴＥは約４９．６×１０−７／℃〜約８０×１０−７／℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスの密度は、約２．３４ｇｍ／ｃｃ＠２０℃〜約２．５３ｇｍ／ｃｃ＠２０℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は導光板である。いくつかの実施形態では、上記導光板の厚さは約０．２ｍｍ〜約８ｍｍである。いくつかの実施形態では、上記厚さのばらつきは５％未満である。いくつかの実施形態では、上記導光板は、フュージョンドロープロセス、スロットドロープロセス又はフロートプロセスから製造される。いくつかの実施形態では、上記ガラスは、Ｃｏ、Ｎｉ及びＣｒをそれぞれ１ｐｐｍ未満含む。いくつかの実施形態では、Ｆｅの濃度は＜約５０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ又は＜約１０ｐｐｍである。いくつかの実施形態では、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉは、＜約６０ｐｐｍ、＜約４０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ又は＜約１０ｐｐｍである。いくつかの実施形態では、少なくとも５００ｍｍの長さでの、４５０ｎｍにおける透過率が８５％以上であるか、少なくとも５００ｍｍの長さでの、５５０ｎｍにおける透過率が９０％以上であるか、又は少なくとも５００ｍｍの長さでの、６３０ｎｍにおける透過率が８５％以上であり、これらの組み合わせでもある。いくつかの実施形態では、上記ガラスは化学強化される。更なる実施形態では、上記ガラスは、約０．１モル％〜約３．０モル％のＺｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＴｉＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＶ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＮｂ２Ｏ５、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＺｒＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＡｓ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｎＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｏＯ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｂ２Ｏ３、又は約０．１モル％〜約１．０モル％のＣｅＯ２を含む。追加の実施形態では、上記ガラスは、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｎＯ、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、及びＣｅＯ２のうちの１つ又は組み合わせを、０．１モル％〜約３．０モル％以下含む。
追加の実施形態では、ガラス物品が提供され、上記ガラス物品は：約７２モル％〜約８０モル％のＳｉＯ２、約３モル％〜約７モル％のＡｌ２Ｏ３、約０モル％〜約２モル％のＢ２Ｏ３、約０モル％〜約２モル％のＬｉ２Ｏ、約６モル％〜約１５モル％のＮａ２Ｏ、約０モル％〜約２モル％のＫ２Ｏ、約０モル％〜約２モル％のＺｎＯ、約２モル％〜約１０モル％のＭｇＯ、約０モル％〜約２モル％のＣａＯ、約０モル％〜約２モル％のＳｒＯ、約０モル％〜約２モル％のＢａＯ、及び約０モル％〜約２モル％のＳｎＯ２を含む、ガラスを含む。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は＜０．００８の色ずれを備える。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は＜０．００５の色ずれを備える。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は０．９５〜３．２３のＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３を含み、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２である。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は１．１８〜５．６８のＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３を含み、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２であるか、又はＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａであり、ｘは１である。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は‐４．２５〜４．０のＲｘＯ‐Ａｌ２Ｏ３‐ＭｇＯを含み、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２である。いくつかの実施形態では、上記ガラスの歪み点は約５２２℃〜５９０℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスのアニール点は約５６６℃〜６４１℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスの軟化点は約８００℃〜９１４℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスのＣＴＥは約４９．６×１０−７／℃〜約８０×１０−７／℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラスの密度は、約２．３４ｇｍ／ｃｃ＠２０℃〜約２．５３ｇｍ／ｃｃ＠２０℃である。いくつかの実施形態では、上記ガラス物品は導光板である。いくつかの実施形態では、上記導光板の厚さは約０．２ｍｍ〜約８ｍｍである。いくつかの実施形態では、上記厚さのばらつきは５％未満である。いくつかの実施形態では、上記導光板は、フュージョンドロープロセス、スロットドロープロセス又はフロートプロセスから製造される。いくつかの実施形態では、上記ガラスは、Ｃｏ、Ｎｉ及びＣｒをそれぞれ１ｐｐｍ未満含む。いくつかの実施形態では、Ｆｅの濃度は＜約５０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ又は＜約１０ｐｐｍである。いくつかの実施形態では、Ｆｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉは、＜約６０ｐｐｍ、＜約４０ｐｐｍ、＜約２０ｐｐｍ又は＜約１０ｐｐｍである。いくつかの実施形態では、少なくとも５００ｍｍの長さでの、４５０ｎｍにおける透過率が８５％以上であるか、少なくとも５００ｍｍの長さでの、５５０ｎｍにおける透過率が９０％以上であるか、又は少なくとも５００ｍｍの長さでの、６３０ｎｍにおける透過率が８５％以上であり、これらの組み合わせでもある。いくつかの実施形態では、上記ガラスは化学強化される。更なる実施形態では、上記ガラスは、約０．１モル％〜約３．０モル％のＺｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＴｉＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＶ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＮｂ２Ｏ５、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＺｒＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＡｓ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｎＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｏＯ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｂ２Ｏ３、又は約０．１モル％〜約１．０モル％のＣｅＯ２を含む。追加の実施形態では、上記ガラスは、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｎＯ、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、及びＣｅＯ２のうちの１つ又は組み合わせを、０．１モル％〜約３．０モル％以下含む。
追加の実施形態では、ガラス物品が提供され、上記ガラス物品は、約６０モル％〜約８０モル％のＳｉＯ２、約０モル％〜約１５モル％のＡｌ２Ｏ３、約０モル％〜約１５モル％のＢ２Ｏ３、及び約２モル％〜約５０モル％のＲｘＯを有するガラスを備え、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２であるか、又はＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａであり、ｘは１であり、またここでＦｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉは＜約６０ｐｐｍである。いくつかの実施形態では、上記ガラスは＜０．００８の色ずれを備える。いくつかの実施形態では、上記ガラスは＜０．００５の色ずれを備える。更なる実施形態では、上記ガラスは、約０．１モル％〜約３．０モル％のＺｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＴｉＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＶ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＮｂ２Ｏ５、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＺｒＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＡｓ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｎＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｏＯ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｂ２Ｏ３、又は約０．１モル％〜約１．０モル％のＣｅＯ２を含む。追加の実施形態では、上記ガラスは、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｎＯ、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、及びＣｅＯ２のうちの１つ又は組み合わせを、０．１モル％〜約３．０モル％以下含む。
また更なる実施形態では、ガラス物品が提供され、上記ガラス物品は、約６０モル％〜約８０モル％のＳｉＯ２、約０モル％〜約１５モル％のＡｌ２Ｏ３、約０モル％〜約１５モル％のＢ２Ｏ３、及び約２モル％〜約５０モル％のＲｘＯを有するガラスを備え、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２であるか、又はＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａであり、ｘは１であり、またここで上記ガラスは＜０．００８の色ずれを備える。いくつかの実施形態では、上記ガラスは＜０．００５の色ずれを備える。更なる実施形態では、上記ガラスは、約０．１モル％〜約３．０モル％のＺｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＴｉＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＶ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＮｂ２Ｏ５、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＺｒＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＡｓ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｎＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｏＯ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｂ２Ｏ３、又は約０．１モル％〜約１．０モル％のＣｅＯ２を含む。追加の実施形態では、上記ガラスは、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｎＯ、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、及びＣｅＯ２のうちの１つ又は組み合わせを、０．１モル％〜約３．０モル％以下含む。
また更なる実施形態では、ガラス物品が提供され、上記ガラス物品は、約６５．７９モル％〜約７８．１７モル％のＳｉＯ２、約２．９４モル％〜約１２．１２モル％のＡｌ２Ｏ３、約０モル％〜約１１．１６モル％のＢ２Ｏ３、及び約３．５２モル％〜約４２．３９モル％のＲｘＯを有するガラスを備え、ここでＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、ｘは２であるか、又はＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａであり、ｘは１であり、またここで上記ガラスは＜０．００８の色ずれを備える。いくつかの実施形態では、上記ガラスは＜０．００５の色ずれを備える。更なる実施形態では、上記ガラスは、約０．１モル％〜約３．０モル％のＺｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＴｉＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＶ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＮｂ２Ｏ５、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＺｒＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＡｓ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｎＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｏＯ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｂ２Ｏ３、又は約０．１モル％〜約１．０モル％のＣｅＯ２を含む。追加の実施形態では、上記ガラスは、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｎＯ、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、及びＣｅＯ２のうちの１つ又は組み合わせを、０．１モル％〜約３．０モル％以下含む。
更なる実施形態では、ガラス物品が提供され、上記ガラス物品は約６０モル％〜約８１モル％のＳｉＯ２、約０モル％〜約２モル％のＡｌ２Ｏ３、約０モル％〜約１５モル％のＭｇＯ、約０モル％〜約２モル％のＬｉ２Ｏ、約９モル％〜約１５モル％のＮａ２Ｏ、約０モル％〜約１．５モル％のＫ２Ｏ、約７モル％〜約１４モル％のＣａＯ、約０モル％〜約２モル％のＳｒＯを有するガラスを備え、ここでＦｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉは＜約６０ｐｐｍである。いくつかの実施形態では、上記ガラスは＜０．００８の色ずれを備える。いくつかの実施形態では、上記ガラスは＜０．００５の色ずれを備える。更なる実施形態では、上記ガラスは、約０．１モル％〜約３．０モル％のＺｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＴｉＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＶ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＮｂ２Ｏ５、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＺｒＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＡｓ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｎＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｏＯ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｂ２Ｏ３、又は約０．１モル％〜約１．０モル％のＣｅＯ２を含む。追加の実施形態では、上記ガラスは、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｎＯ、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、及びＣｅＯ２のうちの１つ又は組み合わせを、０．１モル％〜約３．０モル％以下含む。
追加の実施形態では、ガラス物品が提供され、上記ガラス物品は約６０モル％〜約８１モル％のＳｉＯ２、約０モル％〜約２モル％のＡｌ２Ｏ３、約０モル％〜約１５モル％のＭｇＯ、約０モル％〜約２モル％のＬｉ２Ｏ、約９モル％〜約１５モル％のＮａ２Ｏ、約０モル％〜約１．５モル％のＫ２Ｏ、約７モル％〜約１４モル％のＣａＯ、及び約０モル％〜約２モル％のＳｒＯを有するガラスを備え、ここで上記ガラスは＜０．００８の色ずれを備える。いくつかの実施形態では、上記ガラスは＜０．００５の色ずれを備える。更なる実施形態では、上記ガラスは、約０．１モル％〜約３．０モル％のＺｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＴｉＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＶ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＮｂ２Ｏ５、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｎＯ、約０．１モル％〜約１．０モル％のＺｒＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＡｓ２Ｏ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｎＯ２、約０．１モル％〜約１．０モル％のＭｏＯ３、約０．１モル％〜約１．０モル％のＳｂ２Ｏ３、又は約０．１モル％〜約１．０モル％のＣｅＯ２を含む。追加の実施形態では、上記ガラスは、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｎＯ、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、及びＣｅＯ２のうちの１つ又は組み合わせを、０．１モル％〜約３．０モル％以下含む。
自己蛍光測定
様々な組成を有するガラスの自己蛍光を、共焦点顕微鏡検査を用いて決定した。レーザからの励起波長を各ガラスの試料に当て、続いてガラス試料から放出される蛍光を、波長５１４ｎｍ及び６３３ｎｍで検出した。光電子増倍管（ＰＭＴ）と、迷光がＰＭＴへと通過するのを防止するためのカットオフフィルタとを有する、Ｚｅｉｓｓ ５１０ＬＳＭ共焦点顕微鏡を利用した。各ガラス試料に関して、レーザを異なる出力設定（２５％、５０％及び１００％）で動作させ、また測定システム内及び測定環境内に存在するバックグラウンドノイズを決定するために、ガラス試料にレーザを当てることなく、ベースライン測定値を得た。表６Ａは、波長５１４ｎｍでの測定結果を示し、表６Ｂは、波長６３３ｎｍでの測定結果を示す。試料Ａは、ボロシリケートガラス（Ｓｃｈｏｔｔ ＡＧ（ドイツ、マインツ）がＤ２６３（登録商標）Ｔとして市販）から形成された、パターン形成済みガラスフローセル（Ｉｌｌｕｍｉｎａ， Ｉｎｃ．（カリフォルニア州サンディエゴ）がＨｉＳｅｑ Ｘ Ｓｅｒｉｅｓ Ｓｙｓｔｅｍｓとして市販）であった。試料Ｂは、Ｄ２６３ Ｔボロシリケートガラスから形成された、パターン未形成ガラスフローセル（Ｉｌｌｕｍｉｎａ， Ｉｎｃ．（カリフォルニア州サンディエゴ）がＨｉＳｅｑ ２５００／ＨｉＳｅｑ ３０００／ＨｉＳｅｑ ４０００ Ｓｙｓｔｅｍｓとして市販）であった。試料Ｃは、重金属非含有のボロシリケートガラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ， Ｉｎｃ．（ニューヨーク州コーニング）がＥａｇｌｅ ＸＧとして市販）から形成されたガラススライドであった。試料Ｄは、高純度溶融シリカ（Ｃｏｒｎｉｎｇ， Ｉｎｃ．（ニューヨーク州コーニング）がＨＰＦＳ（登録商標）溶融シリカとして市販）から形成されたガラススライドであった。試料Ｅは、本明細書に記載のガラス組成から形成されたガラススライドであった。特に試料Ｅのスライドのガラスは：約６０モル％〜約８０モル％のＳｉＯ２；約０モル％〜約１５モル％のＡｌ２Ｏ３；約０モル％〜約１５モル％のＢ２Ｏ３；及び約２モル％〜約５０モル％のＲｘＯを含み、ここでＲは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１である。
Figure 2018532684
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表６Ａ及び６Ｂに提示された結果が示すように、本明細書に記載のガラス組成は、蛍光検出法で使用するための基板として従来使用されてきたガラスよりも低い自己蛍光を有する。より詳細には、本明細書に記載のガラス組成は、微生物学、細胞培養、組織培養、細胞アッセイ、ＩＶＦ及びＤＮＡシーケンシングの分野で従来利用されてきたガラスよりも低い自己蛍光を有する。例えば試料Ａ及び試料Ｂは、当該技術分野において現在使用されている、市販のガラスフローセルを含んでいた。表６Ａ及び６Ｂの結果はまた、本明細書に記載のガラス組成が、より高価な、重金属を含まないボロシリケートガラス、及びより高価な高純度溶融シリカと同等の自己蛍光を有することを示している。
本開示の態様（１）によると、蛍光検出法で使用するための基板が提供される。上記基板は少なくとも１つのガラス基板部分を含み、上記少なくとも１つのガラス基板部分は：約６０モル％〜約８０モル％のＳｉＯ２；約０モル％〜約１５モル％のＡｌ２Ｏ３；約０モル％〜約１５モル％のＢ２Ｏ３；及び約２モル％〜約５０モル％のＲｘＯを含み、ここでＲは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１である。
本開示の態様（２）によると、上記基板は、顕微鏡スライド、マイクロアレイ、フラスコ、毛細管、マルチウェルプレート、微小流体チャネル、微小流体リザーバ又はペトリ皿を含む、態様（１）の基板が提供される。
本開示の態様（３）によると、上記基板はマルチウェルプレートを含み、上記少なくとも１つのガラス基板部分は、上記マルチウェルプレートの下側プレートを含む、態様（１）の基板が提供される。
本開示の態様（４）によると、上記下側プレートは略平坦である、態様（３）の基板が提供される。
本開示の態様（５）によると、上記マルチウェルプレートは更に、周縁スカート、上面、及び端部開放型ウェルのアレイを備える、上側部分を含む、態様（３）又は（４）の基板が提供される。
本開示の態様（６）によると、上記基板は、少なくとも１つの層を備えるフローセルデバイスを含み、上記少なくとも１つのガラス基板部分は、上記少なくとも１つの層のうちの少なくとも１つを含む、態様（１）の基板が提供される。
本開示の態様（７）によると、上記フローセルデバイスは、上記少なくとも１つの層のうちの少なくとも１つに、少なくとも１つのフローチャネルを備える、態様（６）の基板が提供される。
本開示の態様（８）によると、上記少なくとも１つのフローチャネルは、上記少なくとも１つの層のうちの少なくとも１つに酸エッチングされる、態様（７）の基板が提供される。
本開示の態様（９）によると、少なくとも２つの層を備え、上記少なくとも２つの層のうちの少なくとも１つはポリマー材料を含む、態様（６）〜（８）のいずれか１つの基板が提供される。
本開示の態様（１０）によると、少なくとも２つの層を備え、更に上記少なくとも２つの層のうちの少なくとも２つの間に結合剤を含む、態様（６）〜（９）のいずれか１つの基板が提供される。
本開示の態様（１１）によると、上記結合剤は、金属、金属酸化物、ガラス、セラミック又はプラスチックから選択される、態様（１０）の基板が提供される。
本開示の態様（１２）によると、上記フローセルデバイスは、ベース層、上記ベース層の上に重なったチャネル層、及びカバー層を備える、態様（６）〜（１１）のいずれか１ 本開示の態様（１３）によると、上記少なくとも１つのガラス基板部分は、上記ベース層を含む、態様（１２）の基板が提供される。
本開示の態様（１４）によると、上記少なくとも１つのガラス基板部分は、上記カバー層を含む、態様（１２）の基板が提供される。
本開示の態様（１５）によると、上記基板はペトリ皿を含み、上記ペトリ皿は、平坦底部パネルと、上記底部パネルから略垂直上向きに延在するベース側壁とを有する、ベースを備え、上記少なくとも１つのガラス基板部分は、上記底部パネル及び上記ベース側壁のうちの少なくとも１つを含む、態様（１）の基板が提供される。
本開示の態様（１６）によると、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１であり、ここでｘ＝２であり、ＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３は０．９５〜３．２３である、態様（１）〜（１５）のいずれかの基板が提供される。
本開示の態様（１７）によると、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１であり、ここでＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３は１．１８〜５．６８である、態様（１）〜（１６）のいずれかの基板が提供される。
本開示の態様（１８）によると、Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１であり、ここでｘ＝２であり、ＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３は‐４．２５〜４．０である、態様（１）〜（１７）のいずれかの基板が提供される。
本開示の態様（１９）によると、上記少なくとも１つのガラス基板部分は：約６５．７９モル％〜約７８．１７モル％のＳｉＯ２、約２．９４モル％〜約１２．１２モル％のＡｌ２Ｏ３、約０モル％〜約１１．１６モル％のＢ２Ｏ３、約０モル％〜約２．０６モル％のＬｉ２Ｏ、約３．５２モル％〜約１３．２５モル％のＮａ２Ｏ、約０モル％〜約４．８３モル％のＫ２Ｏ、約０モル％〜約３．０１モル％のＺｎＯ、約０モル％〜約８．７２モル％のＭｇＯ、約０モル％〜約４．２４モル％のＣａＯ、約０モル％〜約６．１７モル％のＳｒＯ、約０モル％〜約４．３モル％のＢａＯ、及び約０．０７モル％〜約０．１１モル％のＳｎＯ２を含む、態様（１）〜（１８）のいずれかの基板が提供される。
本開示の態様（２０）によると、上記少なくとも１つのガラス基板部分は、０．１モル％〜約３．０モル％以下の、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｎＯ、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３及びＣｅＯ２のうちのいずれの１つ又は組み合わせを含む、態様（１）〜（１９）のいずれかの基板が提供される。
本開示の態様（２１）によると、上記厚さは５％未満のばらつきを有する、態様（１）〜（２０）のいずれかの基板が提供される。
本開示の態様（２２）によると、上記少なくとも１つのガラス基板部分は、Ｃｏ、Ｎｉ及びＣｒをそれぞれ１ｐｐｍ未満含む、態様（１）〜（２１）のいずれかの基板が提供される。
本開示の態様（２３）によると、上記少なくとも１つのガラス基板部分のＦｅの濃度は、約５０ｐｐｍ未満である、態様（１）〜（２２）のいずれかの基板が提供される。
本開示の態様（２４）によると、上記少なくとも１つのガラス基板部分は、約６０ｐｐｍ未満のＦｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉを含む、態様（１）〜（２３）のいずれかの基板が提供される。
本開示の態様（２５）によると、少なくとも５００ｍｍの長さでの、４５０ｎｍにおける透過率が８５％以上であるか、少なくとも５００ｍｍの長さでの、５５０ｎｍにおける透過率が９０％以上であるか、又は少なくとも５００ｍｍの長さでの、６３０ｎｍにおける透過率が８５％以上であり、これらの組み合わせでもある、態様（１）〜（２４）のいずれかの基板が提供される。
本開示の態様（２６）によると、上記少なくとも１つのガラス基板部分は化学強化されている、態様（１）〜（２５）のいずれかの基板が提供される。
本開示の様々な実施形態は、当該特定の実施形態に関連して記載されている特定の特徴、要素又はステップを伴い得ることが理解されるだろう。また、ある特定の特徴、要素又はステップは、ある特定の実施形態に関連して記載されていても、例示されていない組み合わせ又は順列で、相互交換してよく、又は代替実施形態と組み合わせてよいことが理解されるだろう。
また本明細書中で使用される場合、用語「上記（ｔｈｅ）」、「ある（ａ又はａｎ）」は「少なくとも１つの（ａｔ ｌｅａｓｔ ｏｎｅ）」を意味し、そうでないことが明示されていない限り、「唯一の（ｏｎｌｙ ｏｎｅ）」に限定されてはならないことも理解されたい。従って例えば「あるリング（ａ ｒｉｎｇ）」に関する言及は、文脈によってそうでないことが明示されていない限り、２つ以上のこのようなリングを有する例を含む。同様に「複数の（ｐｌｕｒａｌｉｔｙ）」又は「アレイ（ａｒｒａｙ）」は、「２つ以上（ｍｏｒｅ ｔｈａｎ ｏｎｅ）」のものを指すことを意図している。従って「複数の液滴（ｐｌｕｒａｌｉｔｙ ｏｆ ｄｒｏｐｌｅｔｓ）」は、２つ以上のこのような液滴、例えば３つ以上のこのような液滴等を含み、また「リングのアレイ（ａｒｒａｙ ｏｆ ｒｉｎｇｓ）は、２つ以上のこのようなリング、例えば３つ以上のこのようなリング等を含む。
本明細書において、範囲は、「約（ａｂｏｕｔ）」ある特定の値から、及び／又は「約」別の特定の値までとして表現され得る。このような範囲が表現されている場合、その例は、上記ある特定の値から、及び／又は上記別の特定の値までを含む。同様に、先行詞「約」を用いることにより、値が概数として表現されている場合、上記特定の値は別の態様を形成することが理解されるだろう。更に、各範囲の端点は、他方の端点との関連でも、他方の端点とは独立しても、重要であることが理解されるだろう。
本明細書中で使用される場合、用語「略（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌ）」、「実質的に、略（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ）」及びこれらの変形形態は、記載されている特徴が、ある値又は記載と等しいか又はおおよそ等しいことを記述することを意図している。例えば「略平面状の（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ ｐｌａｎａｒ）」表面は、平面状の又はおおよそ平面状の表面を指すことを意図している。更に、上で定義したように、「略同様の（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ ｓｉｍｉｌａｒ）」は、２つの値が等しいか又はおおよそ等しいことを指すことを意図している。いくつかの実施形態では、「略同様の」は、互いの約１０％以内、例えば互いの約５％以内又は互いの約２％以内の値を指すことができる。
そうでないことが言明されていない限り、本明細書に記載のいずれの方法が、そのステップを特定の順序で実施することを必要とするものとして解釈されることは、全く意図されていない。従って、ある方法クレームが、そのステップが従うべき順序を実際に列挙していない場合、又はステップをある特定の順序に限定するべきであることが、特許請求の範囲若しくは説明中で具体的に言明されていない場合、いずれの特定の順序が推定されることは全く意図されていない。
特定の実施形態の様々な特徴、要素又はステップが、移行句「…を含む／備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」を用いて開示される場合があるが、移行句「…からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」又は「…から本質的になる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」を用いて記載され得るものを含む代替実施形態も含意されていることを理解されたい。従って例えば、Ａ＋Ｂ＋Ｃを備えるデバイスに対して含意されている代替実施形態は、デバイスがＡ＋Ｂ＋Ｃからなる実施形態、及びデバイスがＡ＋Ｂ＋Ｃから本質的になる実施形態を含む。
本開示の精神及び範囲から逸脱することなく、様々な修正及び変形を本開示に対して実施できることは、当業者には理解されるだろう。本開示の精神及び内容を組み込んだ、本開示の実施形態の修正、組み合わせ、部分的組み合わせ及び変形が、当業者には想起され得るため、本開示は、添付の特許請求の範囲及びその均等物の範囲内にある全てを含むものとして解釈されるものとする。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態１
蛍光検出法で使用するための基板であって、
上記基板は少なくとも１つのガラス基板部分を含み、
上記少なくとも１つのガラス基板部分は：
約６０モル％〜約８０モル％のＳｉＯ２；
約０モル％〜約１５モル％のＡｌ２Ｏ３；
約０モル％〜約１５モル％のＢ２Ｏ３；及び
約２モル％〜約５０モル％のＲｘＯ
を含み、ここでＲは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１である、基板。
実施形態２
上記基板は、顕微鏡スライド、マイクロアレイ、フラスコ、毛細管、マルチウェルプレート、微小流体チャネル、微小流体リザーバ、フローセルデバイス又はペトリ皿を含む、実施形態１に記載の基板。
実施形態３
上記基板はマルチウェルプレートを含み、上記少なくとも１つのガラス基板部分は、上記マルチウェルプレートの下側プレートを含む、実施形態１に記載の基板。
実施形態４
上記下側プレートは略平坦である、実施形態３に記載の基板。
実施形態５
上記マルチウェルプレートは更に、周縁スカート、上面、及び端部開放型ウェルのアレイを備える、上側部分を含む、実施形態３又は４に記載の基板。
実施形態６
上記基板は、少なくとも１つの層を備えるフローセルデバイスを含み、上記少なくとも１つのガラス基板部分は、上記少なくとも１つの層のうちの少なくとも１つを含む、実施形態１に記載の基板。
実施形態７
上記フローセルデバイスは、上記少なくとも１つの層のうちの少なくとも１つに、少なくとも１つのフローチャネルを備える、実施形態６に記載の基板。
実施形態８
上記少なくとも１つのフローチャネルは、上記少なくとも１つの層のうちの少なくとも１つに酸エッチングされる、実施形態７に記載の基板。
実施形態９
少なくとも２つの層を備え、
上記少なくとも２つの層のうちの少なくとも１つはポリマー材料を含む、実施形態６〜８のいずれか１つに記載の基板。
実施形態１０
少なくとも２つの層を備え、
更に上記少なくとも２つの層のうちの少なくとも２つの間に結合剤を含む、実施形態６〜９のいずれか１つに記載の基板。
実施形態１１
上記結合剤は、金属、金属酸化物、ガラス、セラミック又はプラスチックから選択される、実施形態１０に記載の基板。
実施形態１２
上記フローセルデバイスは、ベース層、上記ベース層の上に重なったチャネル層、及びカバー層を備える、実施形態６〜１１のいずれか１つに記載の基板。
実施形態１３
上記少なくとも１つのガラス基板部分は、上記ベース層を含む、実施形態１２に記載の基板。
実施形態１４
上記少なくとも１つのガラス基板部分は、上記カバー層を含む、実施形態１２に記載の基板。
実施形態１５
上記基板はペトリ皿を含み、
上記ペトリ皿は、平坦底部パネルと、上記底部パネルから略垂直上向きに延在するベース側壁とを有する、ベースを備え、上記少なくとも１つのガラス基板部分は、上記底部パネル及び上記ベース側壁のうちの少なくとも１つを含む、実施形態１の基板。
実施形態１６
Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１であり、
ｘ＝２であり、ＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３は０．９５〜３．２３である、実施形態１〜１５のいずれか１つに記載の基板。
実施形態１７
Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１であり、
ＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３は１．１８〜５．６８である、実施形態１〜１６のいずれか１つに記載の基板。
実施形態１８
Ｒは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１であり、
ｘ＝２であり、ＲｘＯ／Ａｌ２Ｏ３は‐４．２５〜４．０である、実施形態１〜１７のいずれか１つに記載の基板。
実施形態１９
上記少なくとも１つのガラス基板部分は：
約６５．７９モル％〜約７８．１７モル％のＳｉＯ２、
約２．９４モル％〜約１２．１２モル％のＡｌ２Ｏ３、
約０モル％〜約１１．１６モル％のＢ２Ｏ３、
約０モル％〜約２．０６モル％のＬｉ２Ｏ、
約３．５２モル％〜約１３．２５モル％のＮａ２Ｏ、
約０モル％〜約４．８３モル％のＫ２Ｏ、
約０モル％〜約３．０１モル％のＺｎＯ、
約０モル％〜約８．７２モル％のＭｇＯ、
約０モル％〜約４．２４モル％のＣａＯ、
約０モル％〜約６．１７モル％のＳｒＯ、
約０モル％〜約４．３モル％のＢａＯ、及び
約０．０７モル％〜約０．１１モル％のＳｎＯ２を含む、実施形態１〜１８のいずれか１つに記載の基板。
実施形態２０
上記少なくとも１つのガラス基板部分は、０．１モル％〜約３．０モル％以下の、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｎＯ、ＺｒＯ２、Ａｓ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３及びＣｅＯ２のうちのいずれの１つ又は組み合わせを含む、実施形態１〜１９のいずれか１つに記載の基板。
実施形態２１
上記厚さは５％未満のばらつきを有する、実施形態１〜２０のいずれか１つに記載の基板。
実施形態２２
上記少なくとも１つのガラス基板部分は、Ｃｏ、Ｎｉ及びＣｒをそれぞれ１ｐｐｍ未満含む、実施形態１〜２１のいずれか１つに記載の基板。
実施形態２３
上記少なくとも１つのガラス基板部分のＦｅの濃度は、約５０ｐｐｍ未満である、実施形態１〜２２のいずれか１つに記載の基板。
実施形態２４
上記少なくとも１つのガラス基板部分は、約６０ｐｐｍ未満のＦｅ＋３０Ｃｒ＋３５Ｎｉを含む、実施形態１〜２３のいずれか１つに記載の基板。
実施形態２５
少なくとも５００ｍｍの長さでの、４５０ｎｍにおける透過率が８５％以上であるか、少なくとも５００ｍｍの長さでの、５５０ｎｍにおける透過率が９０％以上であるか、又は少なくとも５００ｍｍの長さでの、６３０ｎｍにおける透過率が８５％以上であり、これらの組み合わせでもある、実施形態１〜２４のいずれか１つに記載の基板。
実施形態２６
上記少なくとも１つのガラス基板部分は化学強化されている、実施形態１〜２５のいずれか１つに記載の基板。
１００ マルチウェルプレート
１２０ 周縁スカート
１４０ 上面
１６０ ウェル
２００ 上側部分
２２０ 下側プレート
２４０ 側壁
２６０ 底部壁
２８０ 接着剤
４００ フローセル
４１０ 底部又はベース層
４１２ フローチャネル
４１４ 流入ポート
４１６ 流出ポート
４２０ チャネルスペーサ又は層
４３０ カバー層
５００ ペトリ皿
５０２ 円形ベース
５０４ 円形蓋
５０６ 平坦底部パネル
５０８ ベース側壁
５１０ 蓋パネル
５１２ 蓋側壁

Claims (10)

  1. 蛍光検出法で使用するための基板であって、
    前記基板は少なくとも１つのガラス基板部分を含み、
    前記少なくとも１つのガラス基板部分は：
    約６０モル％〜約８０モル％のＳｉＯ２；
    約０モル％〜約１５モル％のＡｌ２Ｏ３；
    約０モル％〜約１５モル％のＢ２Ｏ３；及び
    約２モル％〜約５０モル％のＲｘＯ
    を含み、ここでＲは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは２であるか、又はＲは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ若しくはＢａのうちのいずれの１つ以上であり、かつｘは１である、基板。
  2. 前記基板は、顕微鏡スライド、マイクロアレイ、フラスコ、毛細管、マルチウェルプレート、微小流体チャネル、微小流体リザーバ、フローセルデバイス又はペトリ皿を含む、請求項１に記載の基板。
  3. 前記基板はマルチウェルプレートを含み、前記少なくとも１つのガラス基板部分は、前記マルチウェルプレートの下側プレートを含む、請求項１に記載の基板。
  4. 前記基板は、少なくとも１つの層を備えるフローセルデバイスを含み、前記少なくとも１つのガラス基板部分は、前記少なくとも１つの層のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の基板。
  5. 前記フローセルデバイスは、前記少なくとも１つの層のうちの少なくとも１つに、少なくとも１つのフローチャネルを備える、請求項４に記載の基板。
  6. 前記少なくとも１つのフローチャネルは、前記少なくとも１つの層のうちの少なくとも１つに酸エッチングされる、請求項５に記載の基板。
  7. 少なくとも２つの層を備え、
    前記少なくとも２つの層のうちの少なくとも１つはポリマー材料を含む、請求項５又は６に記載の基板。
  8. 少なくとも２つの層を備え、
    更に前記少なくとも２つの層のうちの少なくとも２つの間に結合剤を含む、請求項５〜７のいずれか１項に記載の基板。
  9. 前記フローセルデバイスは、ベース層、前記ベース層の上に重なったチャネル層、及びカバー層を備える、請求項５〜８のいずれか１項に記載の基板。
  10. 前記少なくとも１つのガラス基板部分は：
    約６５．７９モル％〜約７８．１７モル％のＳｉＯ２、
    約２．９４モル％〜約１２．１２モル％のＡｌ２Ｏ３、
    約０モル％〜約１１．１６モル％のＢ２Ｏ３、
    約０モル％〜約２．０６モル％のＬｉ２Ｏ、
    約３．５２モル％〜約１３．２５モル％のＮａ２Ｏ、
    約０モル％〜約４．８３モル％のＫ２Ｏ、
    約０モル％〜約３．０１モル％のＺｎＯ、
    約０モル％〜約８．７２モル％のＭｇＯ、
    約０モル％〜約４．２４モル％のＣａＯ、
    約０モル％〜約６．１７モル％のＳｒＯ、
    約０モル％〜約４．３モル％のＢａＯ、及び
    約０．０７モル％〜約０．１１モル％のＳｎＯ２を含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の基板。
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