JP2018517059A5

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Publication number: JP2018517059A5
Application number: JP2017559821A
Authority: JP
Filing date: 2016-05-25
Publication date: 2019-05-09
Anticipated expiration: 2036-05-25

Claims

４０ｎｍ以上の厚さを有する少なくとも１つのＭｏＮ層を備えるコーティングでコーティングされる基板表面を備える構成要素であって、
前記基板表面と前記少なくとも１つのＭｏＮ層との間に、
i）基板表面の硬化層が備えられ、前記基板表面の硬化層は硬化された窒素を含む基板表面層であり、前記基板表面層は前記基板表面で実施される窒化処理の結果であり、１０μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上１５０μｍ以下の厚さを有し、
および／または
ii）２以上のＭｏＮ層および２以上のＣｒＮ層からなる層系が備えられ、前記層系を形成する前記ＭｏＮ層および前記ＣｒＮ層は、互いに交互に堆積されて多層ＭｏＮ／ＣｒＮコーティング膜を形成する個別の層であることを特徴とする、構成要素。
多層ＭｏＮ／ＣｒＮコーティング膜が前記基板表面と前記少なくとも１つのＭｏＮ層との間に備えられず、前記少なくとも１つのＭｏＮ層は５００ｎｍ以上の厚さを有する、請求項１に記載の構成要素。
硬化された窒素を含む基板表面が前記基板表面と前記少なくとも１つのＭｏＮ層との間に備えられず、前記多層ＭｏＮ／ＣｒＮコーティング膜は４６０ｎｍ以上の厚さを有する、請求項１に記載の構成要素。
少なくとも、１つの個別のＭｏＮ層と１つの個別のＣｒＮ層との間に、Ｍｏ、ＣｒおよびＮを含む個別の中間層が備えられる、請求項３に記載の構成要素。
前記個別の中間層は、１０ｎｍ以上、かつ、前記個別の中間層の隣にある前記個別のＣｒＮ層の厚さまたは前記個別のＭｏＮ層の厚さ以下の厚さを有する、請求項４に記載の構成要素。
前記個別のＭｏＮ層の少なくとも大部分は、４０ｎｍ以上、好ましくは５００ｎｍ以下の個別の層の厚さを有する、請求項５に記載の構成要素。
前記個別のＣｒＮ層の少なくとも大部分は、２０ｎｍ以上、好ましくは５００ｎｍ以下の個別の層の厚さを有する、請求項５または６に記載の構成要素。
４０ｎｍ以上の厚さを有する少なくとも１つのＭｏＮ層の表面上に、第２の多層ＭｏＮ／ＣｒＮコーティング層が堆積され、好ましくは多層ＭｏＮ／ＣｒＮコーティング膜および前記少なくとも１つのＭｏＮ層の両方の厚さの合計が、１μｍ以上１５μｍ以下、好ましくは１．５μｍ以上１０μｍ以下である、先行する請求項３〜７の少なくとも１つに記載の構成要素。
前記少なくとも１つのＭｏＮ層の厚さは、１μｍ以上１５μｍ以下、好ましくは１．５μｍ以上１０μｍ以下である、請求項２に記載の構成要素。
前記少なくとも１つのＭｏＮ層は、少なくとも大部分で六方晶相δ−ＭｏＮを含む、または六方晶相δ−ＭｏＮのみを含む窒化モリブデンからなる、請求項２または９に記載の構成要素。
前記少なくとも１つのＭｏＮ層は、相の混合物を含む窒化モリブデンからなり、前記混合物は、
−六方晶相δ−ＭｏＮおよび立方晶相γ−Ｍｏ₂Ｎ、または
−六方晶相δ−ＭｏＮおよび過飽和立方晶相ζ−ＭｏＮ、または
−六方晶相δ−ＭｏＮおよび立方晶相γ−Ｍｏ₂Ｎおよび過飽和立方晶相ζ−ＭｏＮ
を含む、先行する請求項１〜１０の少なくとも１つに記載の構成要素。
前記個別のＭｏＮ層は、相の混合物を含む窒化モリブデンからなり、前記混合物は、
−六方晶相δ−ＭｏＮおよび立方晶相γ−Ｍｏ₂Ｎ、または
−六方晶相δ−ＭｏＮおよび過飽和立方晶相ζ−ＭｏＮ、または
−六方晶相δ−ＭｏＮおよび立方晶相γ−Ｍｏ₂Ｎおよび過飽和立方晶相ζ−ＭｏＮ
を含む、先行する請求項３〜８の少なくとも１つに記載の構成要素。
前記構成要素は自転車構成要素または精密構成要素であり、前記構成要素の前記基板表面は好ましくは６５ＨＲＣ以下の硬度を有する、先行する請求項１〜１２の少なくとも１つに記載の構成要素。
前記少なくとも１つのＭｏＮ層または前記個別のＭｏＮ層の少なくとも１つは、反応性ＰＶＤプロセスによって堆積される、先行する請求項１〜１３の少なくとも１つに記載の構成要素を製造する方法。
前記反応性ＰＶＤプロセスは、反応性アークＰＶＤプロセスであり、前記ＭｏＮ層または前記ＭｏＮの個別の層の堆積の間に、Ｍｏの少なくとも１つのターゲットがカソードとして作動され、この方法では反応性ガスとして窒素を含む雰囲気でアークＰＶＤ技術を用いることによって蒸着されることを特徴とする、請求項１４に記載の方法。