JP2018515875A - 連続波レーザ維持プラズマ光源 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (59)
- 光維持プラズマ形成によって広帯域光を生成する光学システムであって、
第1相のバッファ材料と、第2相のプラズマ形成材料とを収容するように構成されたチャンバと、
連続波ポンプ光を生成するように構成された光源と、
前記バッファ材料を通って前記バッファ材料と前記プラズマ形成材料の界面に連続波ポンプ光を集束し、少なくとも前記プラズマ形成材料を励起することによってプラズマを生成するように構成された集束光学部品一式と、
前記プラズマから発散する広帯域放射線を受け取るように構成された集光光学部品一式と、
を含む光学システム。 - 前記バッファ材料の相は、気相又は液相の少なくとも一方を含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記バッファ材料の流れを前記プラズマに送るように構成されたフローサブシステムを更に含む、請求項2に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の相は固相を含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、円筒対称要素を含む、請求項4に記載の光学システム。
- 前記円筒対称要素は、円筒体、ドラム、又はディスクの少なくとも一つを含む、請求項4に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料はワイヤを含む、請求項4に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の相は液相を含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、プラズマ形成要素の水溶液を含む、請求項8に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成要素は塩形態である、請求項9に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は溶媒を含む、請求項8に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の流れを前記プラズマに送るように構成された液流アセンブリを更に含む、請求項8に記載の光学システム。
- 前記液流アセンブリは、前記プラズマ形成材料内に少なくとも部分的に浸漬された回転要素を含む、請求項12に記載の光学システム。
- 前記回転要素の回転は、前記回転要素の表面近傍に前記プラズマ形成材料の流動層を形成する、請求項13に記載の光学システム。
- 前記液流アセンブリはノズルを含む、請求項12に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の流れは液体ジェットである、請求項8に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、ニッケル、銅、又はベリリウムの少なくとも一つを含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記バッファ材料は、アルゴン、窒素、又はキセノンの少なくとも一つを含む、請求項1に記載の光学システム。
- 冷却アセンブリを更に含み、前記冷却アセンブリは、前記プラズマ形成材料の温度を制御する、請求項1に記載の光学システム。
- 前記冷却アセンブリは、液体冷却によって前記プラズマ形成材料の温度を制御する、請求項19に記載の光学システム。
- 前記冷却アセンブリは、空冷によって前記プラズマ形成材料の温度を制御する、請求項19に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の一部は、前記プラズマの生成によって除去される、請求項1に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、前記プラズマの生成によって除去された前記プラズマ形成材料の一部が補充されるように移送される、請求項22に記載の光学システム。
- 前記集光光学部品一式によって収集された前記広帯域放射線は、サンプルに送られる、請求項1に記載の光学システム。
- 前記集光光学部品一式によって収集された前記広帯域放射線は、検査器具、計測器具、又は半導体装置の製造ライン器具の少なくとも一つによって利用される、請求項1に記載の光学システム。
- 光維持プラズマ形成によって広帯域光を生成する光学システムであって、
バッファガスを収容するように構成されたチャンバと、
連続波ポンプ光を生成するように構成された光源と、
前記チャンバ内に配置されたプラズマ形成材料であって、当該プラズマ形成材料の相が固相又は液相の少なくとも一方を含み、当該プラズマ形成材料の少なくとも一部は、プラズマの近傍で当該プラズマ形成材料の表面の一部から除去されるプラズマ形成材料と、
前記プラズマ形成材料の表面の一部から除去された前記プラズマ形成材料の少なくとも一部の上に前記連続波ポンプ光を集束してプラズマを生成するように構成された集束光学部品一式と、
前記プラズマから放出された広帯域放射線を受け取るように構成された集光光学部品一式と、
を含む光学システム。 - 気体の流れを前記プラズマに送るように構成された気体流サブシステムを更に含む、請求項26に記載の光学システム。
- 前記気体は前記バッファガスを含む、請求項27に記載の光学システム。
- 前記気体流サブシステムは、前記プラズマの近傍で前記プラズマ形成材料の表面の一部から除去された前記プラズマ形成材料を、前記集束光学部品一式又は前記集光光学部品一式の少なくとも一方から離れる方向に送る、請求項27に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の除去により、前記プラズマ形成材料の、10気圧の蒸気圧が提供される、請求項26に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の相は固相を含む、請求項26に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の少なくとも一部は、昇華によって、前記プラズマの近傍で前記プラズマ形成材料の表面の一部から除去される、請求項31に記載の光学システム。
- 前記プラズマの近傍の前記プラズマ形成材料の表面の一部は、液相を含み、
前記プラズマの近傍で前記プラズマ形成材料の表面の前記一部から除去される前記プラズマ形成材料の少なくとも一部は、蒸発によって除去される、請求項31に記載の光学システム。 - 前記プラズマ形成材料は円筒対称要素を含む、請求項31に記載の光学システム。
- 前記円筒対称要素は、円筒体、ドラム、又はディスクの少なくとも一つを含む、請求項34に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料はワイヤを含む、請求項31に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、前記プラズマの近傍で前記プラズマ形成材料の表面の前記一部から除去される前記プラズマ形成材料のうちの少なくとも一部が補充されるように移送される、請求項26に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、ニッケル、銅、又はベリリウムの少なくとも一つを含む、請求項26に記載の光学システム。
- 前記バッファガスは、アルゴン、窒素、又はキセノンの少なくとも一つを含む、請求項26に記載の光学システム。
- 冷却アセンブリを更に含み、前記冷却アセンブリは、前記プラズマ形成材料の温度を制御する、請求項26に記載の光学システム。
- 前記冷却アセンブリは、液体冷却によって前記プラズマ形成材料の温度を制御する、請求項40に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の相は液相を含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の流れを前記プラズマに送るように構成された液流アセンブリを更に含む、請求項42に記載の光学システム。
- 前記プラズマの近傍で前記表面の一部から除去される前記プラズマ形成材料のうちの少なくとも一部は、前記プラズマに関わる熱に少なくとも部分的に反応して除去される、請求項26に記載の光学システム。
- 前記プラズマの近傍で前記表面の一部から除去される前記プラズマ形成材料のうちの少なくとも一部は、前記連続波ポンプ光の吸収に少なくとも部分的に反応して除去される、請求項26に記載の光学システム。
- 前記プラズマの近傍の前記表面の一部から除去される前記プラズマ形成材料のうちの少なくとも一部は、第2光源によって生成される電子ビーム、電気アーク、又は照明の少なくとも一つに関わるエネルギの吸収に少なくとも部分的に反応して除去される、請求項26に記載の光学システム。
- 前記集光光学部品一式によって収集された前記広帯域放射線はサンプルに送られる、請求項26に記載の光学システム。
- 前記集光光学部品一式によって収集された前記広帯域放射線は、検査器具、計測器具、又は半導体装置製造ライン器具の少なくとも一つによって利用される、請求項26に記載の光学システム。
- 光維持プラズマ形成によって広帯域光を生成する光学システムであって、
液相のプラズマ形成材料の流れを生成するように構成された液流アセンブリと、
連続波ポンプ光を生成するように構成された光源と、
前記プラズマ形成材料の体積内に前記連続波ポンプ光を集束して、前記プラズマ形成材料を励起することによってプラズマを生成するように構成された集束光学部品一式と、
前記プラズマから放出された広帯域放射線を受け取るように構成された集光光学系一式と、
を含む光学システム。 - 前記プラズマ形成材料は、ニッケル、銅、又はベリリウムの少なくとも一つを含む、請求項49に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、プラズマ形成要素の水溶液を含む、請求項49に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成要素は塩形態である、請求項51に記載の光学システム。
- 前記液流アセンブリはノズルを含む、請求項49に記載の光学システム。
- 前記プラズマは、前記プラズマ形成材料の体積内で気孔に囲まれる、請求項49に記載の光学システム。
- 前記気孔は、前記プラズマから移流される気体を含む、請求項54に記載の光学システム。
- 前記プラズマの断面長は、前記プラズマ形成材料の流れの断面長よりも大きい、請求項49に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、超臨界気体であり、前記プラズマは、前記超臨界気体によって囲まれる、請求項49に記載の光学システム。
- 前記集光光学部品一式によって収集された前記広帯域放射線はサンプルに送られる、請求項49に記載の光学システム。
- 前記集光光学部品一式によって収集された前記広帯域放射線は、検査器具、計測器具、又は半導体装置製造ライン器具の少なくとも一つによって利用される、請求項49に記載の光学システム。
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