JP6737799B2 - 連続波レーザ維持プラズマ光源 - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 235
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 81
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 79
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 47
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 41
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 31
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 26
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 claims description 15
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 5
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 3
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 claims description 3
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 claims description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 230000031070 response to heat Effects 0.000 claims 1
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 379
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 19
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 9
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 5
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 3
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 2
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- -1 argon ions Chemical class 0.000 description 1
- BKZJXSDQOIUIIG-UHFFFAOYSA-N argon mercury Chemical compound [Ar].[Hg] BKZJXSDQOIUIIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 239000008207 working material Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
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Description
Claims (45)
- 光維持プラズマ形成によって広帯域光を生成する光学システムであって、
第1相のバッファ材料と、固相と液相の少なくともいずれかである第2相のプラズマ形成材料とを収容するように構成されたチャンバと、
連続波ポンプ光を生成するように構成された光源と、
前記バッファ材料を通って前記バッファ材料と前記プラズマ形成材料の界面に連続波ポンプ光を集束し、少なくとも前記プラズマ形成材料を励起することによってプラズマを生成するように構成された集束光学部品一式と、
前記プラズマから発散する広帯域放射線を受け取るように構成された集光光学部品一式と、
前記バッファ材料の流れを前記プラズマに送るように構成され、前記バッファ材料の流れが、前記バッファ材料とプラズマ形成材料との境界において前記連続波ポンプ光の光路と交差するように前記プラズマに送るノズルを備えたフローサブシステムと、
を含む光学システム。 - 前記バッファ材料の相は、気相又は液相の少なくとも一方を含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の相は固相を含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、円筒対称要素を含む、請求項3に記載の光学システム。
- 前記円筒対称要素は、円筒体、ドラム、又はディスクの少なくとも一つを含む、請求項3に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料はワイヤを含む、請求項3に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の相は液相を含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、プラズマ形成要素の水溶液を含む、請求項7に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成要素は塩形態である、請求項8に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は溶媒を含む、請求項7に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の流れを前記プラズマに送るように構成された液流アセンブリを更に含む、請求項7に記載の光学システム。
- 前記液流アセンブリは、前記プラズマ形成材料内に少なくとも部分的に浸漬された回転要素を含む、請求項11に記載の光学システム。
- 前記回転要素の回転は、前記回転要素の表面近傍に前記プラズマ形成材料の流動層を形成する、請求項12に記載の光学システム。
- 前記液流アセンブリはノズルを含む、請求項11に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の流れは液体ジェットである、請求項7に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、ニッケル、銅、又はベリリウムの少なくとも一つを含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記バッファ材料は、アルゴン、窒素、又はキセノンの少なくとも一つを含む、請求項1に記載の光学システム。
- 冷却アセンブリを更に含み、前記冷却アセンブリは、前記プラズマ形成材料の温度を制御する、請求項1に記載の光学システム。
- 前記冷却アセンブリは、液体冷却によって前記プラズマ形成材料の温度を制御する、請求項18に記載の光学システム。
- 前記冷却アセンブリは、空冷によって前記プラズマ形成材料の温度を制御する、請求項18に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の一部は、前記プラズマの生成によって除去される、請求項1に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、前記プラズマの生成によって除去された前記プラズマ形成材料の一部が補充されるように移送される、請求項21に記載の光学システム。
- 前記集光光学部品一式によって収集された前記広帯域放射線は、サンプルに送られる、請求項1に記載の光学システム。
- 前記集光光学部品一式によって収集された前記広帯域放射線は、検査器具、計測器具、又は半導体装置の製造ライン器具の少なくとも一つによって利用される、請求項1に記載の光学システム。
- 光維持プラズマ形成によって広帯域光を生成する光学システムであって、
バッファガスを収容するように構成されたチャンバと、
連続波ポンプ光を生成するように構成された光源と、
前記チャンバ内に配置されたプラズマ形成材料であって、当該プラズマ形成材料の相が固相又は液相の少なくとも一方を含み、当該プラズマ形成材料の少なくとも一部は、プラズマの近傍で当該プラズマ形成材料の表面の一部から除去されるプラズマ形成材料と、
前記プラズマ形成材料の表面の一部から除去された前記プラズマ形成材料の少なくとも一部の上に前記連続波ポンプ光を集束してプラズマを生成するように構成された集束光学部品一式と、
前記プラズマから放出された広帯域放射線を受け取るように構成された集光光学部品一式と、
前記バッファ材料の流れを前記プラズマに送るように構成され、前記バッファ材料の流れが、前記バッファ材料とプラズマ形成材料との境界において前記連続波ポンプ光の光路と交差するように前記プラズマに送るノズルを備えたフローサブシステムと、
を含む光学システム。 - 前記気体流サブシステムは、前記プラズマの近傍で前記プラズマ形成材料の表面の一部から除去された前記プラズマ形成材料を、前記集束光学部品一式又は前記集光光学部品一式の少なくとも一方から離れる方向に送る、請求項25に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の除去により、前記プラズマ形成材料の、10気圧の蒸気圧が提供される、請求項25に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の相は固相を含む、請求項25に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の少なくとも一部は、昇華によって、前記プラズマの近傍で前記プラズマ形成材料の表面の一部から除去される、請求項28に記載の光学システム。
- 前記プラズマの近傍の前記プラズマ形成材料の表面の一部は、液相を含み、
前記プラズマの近傍で前記プラズマ形成材料の表面の前記一部から除去される前記プラズマ形成材料の少なくとも一部は、蒸発によって除去される、請求項28に記載の光学システム。 - 前記プラズマ形成材料は円筒対称要素を含む、請求項28に記載の光学システム。
- 前記円筒対称要素は、円筒体、ドラム、又はディスクの少なくとも一つを含む、請求項31に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料はワイヤを含む、請求項28に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、前記プラズマの近傍で前記プラズマ形成材料の表面の前記一部から除去される前記プラズマ形成材料のうちの少なくとも一部が補充されるように移送される、請求項25に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料は、ニッケル、銅、又はベリリウムの少なくとも一つを含む、請求項25に記載の光学システム。
- 前記バッファガスは、アルゴン、窒素、又はキセノンの少なくとも一つを含む、請求項25に記載の光学システム。
- 冷却アセンブリを更に含み、前記冷却アセンブリは、前記プラズマ形成材料の温度を制御する、請求項25に記載の光学システム。
- 前記冷却アセンブリは、液体冷却によって前記プラズマ形成材料の温度を制御する、請求項37に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の相は液相を含む、請求項1に記載の光学システム。
- 前記プラズマ形成材料の流れを前記プラズマに送るように構成された液流アセンブリを更に含む、請求項39に記載の光学システム。
- 前記プラズマの近傍で前記表面の一部から除去される前記プラズマ形成材料のうちの少なくとも一部は、前記プラズマに関わる熱に少なくとも部分的に反応して除去される、請求項25に記載の光学システム。
- 前記プラズマの近傍で前記表面の一部から除去される前記プラズマ形成材料のうちの少なくとも一部は、前記連続波ポンプ光の吸収に少なくとも部分的に反応して除去される、請求項25に記載の光学システム。
- 前記プラズマの近傍の前記表面の一部から除去される前記プラズマ形成材料のうちの少なくとも一部は、第2光源によって生成される電子ビーム、電気アーク、又は照明の少なくとも一つに関わるエネルギの吸収に少なくとも部分的に反応して除去される、請求項25に記載の光学システム。
- 前記集光光学部品一式によって収集された前記広帯域放射線はサンプルに送られる、請求項25に記載の光学システム。
- 前記集光光学部品一式によって収集された前記広帯域放射線は、検査器具、計測器具、又は半導体装置製造ライン器具の少なくとも一つによって利用される、請求項25に記載の光学システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020121843A JP6916937B2 (ja) | 2015-03-11 | 2020-07-16 | 光維持プラズマ形成によって広帯域光を生成する光学システム |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562131645P | 2015-03-11 | 2015-03-11 | |
US62/131,645 | 2015-03-11 | ||
US15/064,294 US10217625B2 (en) | 2015-03-11 | 2016-03-08 | Continuous-wave laser-sustained plasma illumination source |
US15/064,294 | 2016-03-08 | ||
PCT/US2016/021816 WO2016145221A1 (en) | 2015-03-11 | 2016-03-10 | Continuous-wave laser-sustained plasma illumination source |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020121843A Division JP6916937B2 (ja) | 2015-03-11 | 2020-07-16 | 光維持プラズマ形成によって広帯域光を生成する光学システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018515875A JP2018515875A (ja) | 2018-06-14 |
JP6737799B2 true JP6737799B2 (ja) | 2020-08-12 |
Family
ID=56879087
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017547142A Active JP6737799B2 (ja) | 2015-03-11 | 2016-03-10 | 連続波レーザ維持プラズマ光源 |
JP2020121843A Active JP6916937B2 (ja) | 2015-03-11 | 2020-07-16 | 光維持プラズマ形成によって広帯域光を生成する光学システム |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020121843A Active JP6916937B2 (ja) | 2015-03-11 | 2020-07-16 | 光維持プラズマ形成によって広帯域光を生成する光学システム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10217625B2 (ja) |
EP (1) | EP3213339B1 (ja) |
JP (2) | JP6737799B2 (ja) |
KR (2) | KR102539898B1 (ja) |
IL (2) | IL254018B (ja) |
WO (1) | WO2016145221A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US10806016B2 (en) * | 2017-07-25 | 2020-10-13 | Kla Corporation | High power broadband illumination source |
US10690589B2 (en) * | 2017-07-28 | 2020-06-23 | Kla-Tencor Corporation | Laser sustained plasma light source with forced flow through natural convection |
US11317500B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-26 | Kla-Tencor Corporation | Bright and clean x-ray source for x-ray based metrology |
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-
2016
- 2016-03-08 US US15/064,294 patent/US10217625B2/en active Active
- 2016-03-10 KR KR1020237007909A patent/KR102539898B1/ko active IP Right Grant
- 2016-03-10 KR KR1020177028803A patent/KR102600360B1/ko active IP Right Grant
- 2016-03-10 EP EP16762534.2A patent/EP3213339B1/en active Active
- 2016-03-10 WO PCT/US2016/021816 patent/WO2016145221A1/en active Application Filing
- 2016-03-10 JP JP2017547142A patent/JP6737799B2/ja active Active
-
2017
- 2017-08-16 IL IL254018A patent/IL254018B/en active IP Right Grant
-
2018
- 2018-12-21 US US16/231,048 patent/US10381216B2/en active Active
-
2019
- 2019-09-09 IL IL269229A patent/IL269229B/en active IP Right Grant
-
2020
- 2020-07-16 JP JP2020121843A patent/JP6916937B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20170128441A (ko) | 2017-11-22 |
EP3213339A4 (en) | 2018-11-14 |
KR102539898B1 (ko) | 2023-06-02 |
US20190115203A1 (en) | 2019-04-18 |
EP3213339B1 (en) | 2021-11-10 |
IL269229A (en) | 2019-11-28 |
US10217625B2 (en) | 2019-02-26 |
US10381216B2 (en) | 2019-08-13 |
JP6916937B2 (ja) | 2021-08-11 |
JP2018515875A (ja) | 2018-06-14 |
IL254018B (en) | 2021-06-30 |
IL269229B (en) | 2021-03-25 |
EP3213339A1 (en) | 2017-09-06 |
US20160268120A1 (en) | 2016-09-15 |
JP2020198306A (ja) | 2020-12-10 |
WO2016145221A1 (en) | 2016-09-15 |
KR102600360B1 (ko) | 2023-11-08 |
IL254018A0 (en) | 2017-10-31 |
KR20230035469A (ko) | 2023-03-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190306 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200311 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200317 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200623 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200716 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6737799 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |