JP2018511559A5 - - Google Patents
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Description
前述の発明の概要及び以下の発明を実施するための形態はともに、例を提供し、説明するだけのものである。したがって、前述の発明の概要及び以下の発明を実施するための形態は、限定的であるとみなすべきではない。さらに、本明細書において記載されるものに加えて、特徴または変形物を提供することができる。例えば、ある種の実施形態は、発明を実施するための形態において記載される種々の特徴の組み合わせ及び部分的組み合わせを対象とすることができる。
他との重複もあるが、本発明を以下に示す。
[発明1]
硫黄含有化合物を含むポリチオール組成物であって、前記硫黄含有化合物が、
(i)5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び/または5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオールと、
(ii)2つのチオール硫黄基(−SH)のみ、1つの分子間スルフィド基(−S−)のみ、ならびに5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−2−イル基及び5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−3−イル基から独立して選択される2つの基のみを有する1つ以上のスルフィド分子と、を含む、ポリチオール組成物。
[発明2]
硫黄含有化合物を含むポリチオール組成物であって、前記硫黄含有化合物が、
5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び/または5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオールを含み、
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、2重量%〜90重量%の範囲で分子間スルフィド化合物の重量百分率を有する、ポリチオール組成物。
[発明3]
硫黄含有化合物を含むポリチオール組成物であって、前記硫黄含有化合物が、
5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び/または5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオールを含み、
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、1.5:1〜1000:1の範囲で平均チオール硫黄(−SH)対スルフィド硫黄(−S−)モル比を有する、ポリチオール組成物。
[発明4]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、2つのチオール硫黄基(−SH)のみ、2つの分子間スルフィド基(−S−)のみ、ならびに5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−2−イル基及び5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−3−イル基から独立して選択される3つの基のみを有する1つ以上のスルフィド分子をさらに含む、発明1〜3のいずれか一項に記載の組成物。
[発明5]
前記ポリチオール組成物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、5重量%以下、1重量%以下、0.5重量%以下、0.1重量%以下などで前記ポリチオール組成物中に5−ビニルノルボルナ−2−エンの最大重量百分率を有する、発明1〜4のいずれか一項に記載の組成物。
[発明6]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、5重量%以下、2重量%以下、1重量%以下、0.5重量%以下などで構造:
[化1]
を有する化合物の最大重量百分率を有する、発明1〜5のいずれか一項に記載の組成物。
[発明7]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、5重量%以下、2重量%以下、1重量%以下、0.5重量%以下などでモノ硫黄化合物の最大重量百分率を有する、発明1〜6のいずれか一項に記載の組成物。
[発明8]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、10重量%〜95重量%、30重量%〜90重量%、50重量%〜95重量%、50重量%〜90重量%、70重量%〜95重量%、70重量%〜90重量%などで5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオール(合計で)の重量百分率を有する、発明1〜7のいずれか一項に記載の組成物。
[発明9]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、2重量%〜90重量%、5重量%〜90重量%、10重量%〜70重量%、5重量%〜50重量%、10重量%〜50重量%、5重量%〜35重量%、10重量%〜30重量%などで分子間スルフィド化合物の重量百分率を有する、発明1〜8のいずれか一項に記載の組成物。
[発明10]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、1:1〜10:1、1.2:1〜8:1、1.4:1〜7:1で5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオール(合計で)対分子間スルフィド化合物の重量比を有する、発明1〜9のいずれか一項に記載の組成物。
[発明11]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される平均チオール硫黄対スルフィド硫黄モル比の任意の範囲、例えば、1.5:1〜1000:1、2:1〜100:1、2:1〜40:1などで平均チオール硫黄対スルフィド硫黄モル比を有する、発明1〜10のいずれか一項に記載の組成物。
[発明12]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示されるスルフィド硫黄の平均重量百分率の任意の範囲、例えば、0.1〜10重量%、0.1〜8重量%、1〜8重量%、1〜6重量%、1〜5重量%、1.5〜8重量%、1.5〜6重量%、1.5〜4重量%、1.5〜3重量%、2〜7重量%などでスルフィド硫黄の平均重量百分率を有する、発明1〜11のいずれか一項に記載の組成物。
[発明13]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示されるチオール硫黄(−SH)の平均重量百分率の任意の範囲、例えば、20〜34重量%、21〜34重量%、22〜32重量%、27〜33重量%などでチオール硫黄の平均重量百分率を有する、発明1〜12のいずれか一項に記載の組成物。
[発明14]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示されるSHEWの任意の範囲、例えば、94〜150g/eq、95〜150g/eq、98〜150g/eq、100〜125g/eqなどでSHEWを有する、発明1〜13のいずれか一項に記載の組成物。
[発明15]
ポリチオール組成物を製造するための方法であって、
1)以下を接触させることと、
a)5−ビニルノルボルナ−2−エン、
b)H2S、及び
c)任意選択で、ホスファイト化合物、
2)前記ポリチオール組成物を形成することと、を含み、
H2S対5−ビニルノルボルナ−2−エンの炭素−炭素二重結合のモル比が、2:1〜500:1の範囲である、方法。
[発明16]
前記方法が、前記H2Sの少なくとも一部、前記ホスファイト化合物(使用される場合)の少なくとも一部、前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの少なくとも一部、1つの硫黄原子のみを有する化合物の少なくとも一部、またはそれらの組み合わせを前記ポリチオール組成物から除去するステップをさらに含む、発明15に記載の方法。
[発明17]
前記H2S、前記ホスファイト化合物(使用される場合)、前記5−ビニルノルボルナ−2−エン、前記1つの硫黄原子のみを有する化合物、またはそれらの組み合わせが、拭き取りフィルム蒸発、蒸留、短行程蒸留、またはそれらの組み合わせによって除去される、発明16に記載の方法。
[発明18]
H2S対前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの炭素−炭素二重結合のモル比が、本明細書において開示されるH2S対炭素−炭素二重結合のモル比の任意の範囲、例えば、2:1〜150:1、2:1〜50:1、3:1〜50:1、5:1〜35:1、8:1〜25:1などである、発明15〜17のいずれか一項に記載の方法。
[発明19]
前記ホスファイト化合物対前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの炭素−炭素二重結合のモル比が、本明細書において開示される前記ホスファイト化合物対炭素−炭素二重結合のモル比の任意の範囲、例えば、0.0005:1〜0.10:1、0.005:1〜0.05:1などである、発明15〜18のいずれか一項に記載の方法。
[発明20]
前記ホスファイト化合物が、式(P(OR1)3)(式中、各R1は、独立して本明細書において開示される任意のC1〜C10ヒドロカルビル基である)を有する化合物を含む、発明19に記載の方法。
[発明21]
前記ホスファイト化合物が、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブチルホスファイト、または任意のそれらの組み合わせを含む、発明19に記載の方法。
[発明22]
前記ポリチオール組成物が、本明細書において開示される温度の任意の範囲、例えば−30℃〜150℃、−20℃〜130℃、−10℃〜100℃、−5℃〜80℃、0℃〜60℃などの温度で形成される、発明15〜21のいずれか一項に記載の方法。
[発明23]
前記ポリチオール組成物が、電磁放射線の存在下で形成される、発明15〜22のいずれか一項に記載の方法。
[発明24]
前記ポリチオール組成物が、紫外線の存在下で形成される、発明15〜22のいずれか一項に記載の方法。
[発明25]
前記ポリチオール組成物が、紫外線及び光開始剤の存在下で形成され、前記光開始剤が、前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの重量に対して、本明細書において開示される任意の重量百分率の範囲内の量、例えば、5重量%以下、3重量%以下、2重量%以下、1.5重量%以下などで存在する、発明15〜22のいずれか一項に記載の方法。
[発明26]
前記ポリチオール組成物が、フリーラジカル開始剤の存在下で形成され、前記フリーラジカル開始剤が、前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの重量に対して、本明細書において開示される任意の重量百分率の範囲内の量、例えば、0.1〜9重量%、0.1〜2重量%などで存在する、発明15〜22のいずれか一項に記載の方法。
[発明27]
前記ポリチオール組成物が、前記フリーラジカル開始剤の熱分解に好適な条件で形成される、発明26に記載の方法。
[発明28]
前記ポリチオール組成物が、本明細書において開示される任意の溶媒、例えば、炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、ケトン溶媒、アルコール溶媒、エーテル溶媒、または任意のそれらの組み合わせの存在下で形成される、発明15〜27のいずれか一項に記載の方法。
[発明29]
前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの前記炭素−炭素二重結合の少なくとも90%、少なくとも95%、少なくとも98%などが、硫黄含有基を形成するように反応している、発明15〜28のいずれか一項に記載の方法。
[発明30]
発明1〜14のいずれか一項に記載のポリチオール組成物が、製造される、発明15〜29のいずれか一項に記載の方法。
[発明31]
発明15〜29のいずれか一項に記載の方法によって製造される、発明1〜14のいずれか一項に記載の組成物。
[発明32]
発明1〜14及び31のいずれか一項に記載の組成物を含む、製品。
[発明33]
発明1〜14及び31のいずれか一項に記載の組成物を含み、接着剤を含む、製品。
他との重複もあるが、本発明を以下に示す。
[発明1]
硫黄含有化合物を含むポリチオール組成物であって、前記硫黄含有化合物が、
(i)5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び/または5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオールと、
(ii)2つのチオール硫黄基(−SH)のみ、1つの分子間スルフィド基(−S−)のみ、ならびに5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−2−イル基及び5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−3−イル基から独立して選択される2つの基のみを有する1つ以上のスルフィド分子と、を含む、ポリチオール組成物。
[発明2]
硫黄含有化合物を含むポリチオール組成物であって、前記硫黄含有化合物が、
5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び/または5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオールを含み、
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、2重量%〜90重量%の範囲で分子間スルフィド化合物の重量百分率を有する、ポリチオール組成物。
[発明3]
硫黄含有化合物を含むポリチオール組成物であって、前記硫黄含有化合物が、
5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び/または5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオールを含み、
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、1.5:1〜1000:1の範囲で平均チオール硫黄(−SH)対スルフィド硫黄(−S−)モル比を有する、ポリチオール組成物。
[発明4]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、2つのチオール硫黄基(−SH)のみ、2つの分子間スルフィド基(−S−)のみ、ならびに5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−2−イル基及び5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−3−イル基から独立して選択される3つの基のみを有する1つ以上のスルフィド分子をさらに含む、発明1〜3のいずれか一項に記載の組成物。
[発明5]
前記ポリチオール組成物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、5重量%以下、1重量%以下、0.5重量%以下、0.1重量%以下などで前記ポリチオール組成物中に5−ビニルノルボルナ−2−エンの最大重量百分率を有する、発明1〜4のいずれか一項に記載の組成物。
[発明6]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、5重量%以下、2重量%以下、1重量%以下、0.5重量%以下などで構造:
[化1]
を有する化合物の最大重量百分率を有する、発明1〜5のいずれか一項に記載の組成物。
[発明7]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、5重量%以下、2重量%以下、1重量%以下、0.5重量%以下などでモノ硫黄化合物の最大重量百分率を有する、発明1〜6のいずれか一項に記載の組成物。
[発明8]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、10重量%〜95重量%、30重量%〜90重量%、50重量%〜95重量%、50重量%〜90重量%、70重量%〜95重量%、70重量%〜90重量%などで5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオール(合計で)の重量百分率を有する、発明1〜7のいずれか一項に記載の組成物。
[発明9]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、2重量%〜90重量%、5重量%〜90重量%、10重量%〜70重量%、5重量%〜50重量%、10重量%〜50重量%、5重量%〜35重量%、10重量%〜30重量%などで分子間スルフィド化合物の重量百分率を有する、発明1〜8のいずれか一項に記載の組成物。
[発明10]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される任意の範囲、例えば、1:1〜10:1、1.2:1〜8:1、1.4:1〜7:1で5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオール(合計で)対分子間スルフィド化合物の重量比を有する、発明1〜9のいずれか一項に記載の組成物。
[発明11]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示される平均チオール硫黄対スルフィド硫黄モル比の任意の範囲、例えば、1.5:1〜1000:1、2:1〜100:1、2:1〜40:1などで平均チオール硫黄対スルフィド硫黄モル比を有する、発明1〜10のいずれか一項に記載の組成物。
[発明12]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示されるスルフィド硫黄の平均重量百分率の任意の範囲、例えば、0.1〜10重量%、0.1〜8重量%、1〜8重量%、1〜6重量%、1〜5重量%、1.5〜8重量%、1.5〜6重量%、1.5〜4重量%、1.5〜3重量%、2〜7重量%などでスルフィド硫黄の平均重量百分率を有する、発明1〜11のいずれか一項に記載の組成物。
[発明13]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示されるチオール硫黄(−SH)の平均重量百分率の任意の範囲、例えば、20〜34重量%、21〜34重量%、22〜32重量%、27〜33重量%などでチオール硫黄の平均重量百分率を有する、発明1〜12のいずれか一項に記載の組成物。
[発明14]
前記ポリチオール組成物の前記硫黄含有化合物が、本明細書において開示されるSHEWの任意の範囲、例えば、94〜150g/eq、95〜150g/eq、98〜150g/eq、100〜125g/eqなどでSHEWを有する、発明1〜13のいずれか一項に記載の組成物。
[発明15]
ポリチオール組成物を製造するための方法であって、
1)以下を接触させることと、
a)5−ビニルノルボルナ−2−エン、
b)H2S、及び
c)任意選択で、ホスファイト化合物、
2)前記ポリチオール組成物を形成することと、を含み、
H2S対5−ビニルノルボルナ−2−エンの炭素−炭素二重結合のモル比が、2:1〜500:1の範囲である、方法。
[発明16]
前記方法が、前記H2Sの少なくとも一部、前記ホスファイト化合物(使用される場合)の少なくとも一部、前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの少なくとも一部、1つの硫黄原子のみを有する化合物の少なくとも一部、またはそれらの組み合わせを前記ポリチオール組成物から除去するステップをさらに含む、発明15に記載の方法。
[発明17]
前記H2S、前記ホスファイト化合物(使用される場合)、前記5−ビニルノルボルナ−2−エン、前記1つの硫黄原子のみを有する化合物、またはそれらの組み合わせが、拭き取りフィルム蒸発、蒸留、短行程蒸留、またはそれらの組み合わせによって除去される、発明16に記載の方法。
[発明18]
H2S対前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの炭素−炭素二重結合のモル比が、本明細書において開示されるH2S対炭素−炭素二重結合のモル比の任意の範囲、例えば、2:1〜150:1、2:1〜50:1、3:1〜50:1、5:1〜35:1、8:1〜25:1などである、発明15〜17のいずれか一項に記載の方法。
[発明19]
前記ホスファイト化合物対前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの炭素−炭素二重結合のモル比が、本明細書において開示される前記ホスファイト化合物対炭素−炭素二重結合のモル比の任意の範囲、例えば、0.0005:1〜0.10:1、0.005:1〜0.05:1などである、発明15〜18のいずれか一項に記載の方法。
[発明20]
前記ホスファイト化合物が、式(P(OR1)3)(式中、各R1は、独立して本明細書において開示される任意のC1〜C10ヒドロカルビル基である)を有する化合物を含む、発明19に記載の方法。
[発明21]
前記ホスファイト化合物が、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブチルホスファイト、または任意のそれらの組み合わせを含む、発明19に記載の方法。
[発明22]
前記ポリチオール組成物が、本明細書において開示される温度の任意の範囲、例えば−30℃〜150℃、−20℃〜130℃、−10℃〜100℃、−5℃〜80℃、0℃〜60℃などの温度で形成される、発明15〜21のいずれか一項に記載の方法。
[発明23]
前記ポリチオール組成物が、電磁放射線の存在下で形成される、発明15〜22のいずれか一項に記載の方法。
[発明24]
前記ポリチオール組成物が、紫外線の存在下で形成される、発明15〜22のいずれか一項に記載の方法。
[発明25]
前記ポリチオール組成物が、紫外線及び光開始剤の存在下で形成され、前記光開始剤が、前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの重量に対して、本明細書において開示される任意の重量百分率の範囲内の量、例えば、5重量%以下、3重量%以下、2重量%以下、1.5重量%以下などで存在する、発明15〜22のいずれか一項に記載の方法。
[発明26]
前記ポリチオール組成物が、フリーラジカル開始剤の存在下で形成され、前記フリーラジカル開始剤が、前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの重量に対して、本明細書において開示される任意の重量百分率の範囲内の量、例えば、0.1〜9重量%、0.1〜2重量%などで存在する、発明15〜22のいずれか一項に記載の方法。
[発明27]
前記ポリチオール組成物が、前記フリーラジカル開始剤の熱分解に好適な条件で形成される、発明26に記載の方法。
[発明28]
前記ポリチオール組成物が、本明細書において開示される任意の溶媒、例えば、炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒、ケトン溶媒、アルコール溶媒、エーテル溶媒、または任意のそれらの組み合わせの存在下で形成される、発明15〜27のいずれか一項に記載の方法。
[発明29]
前記5−ビニルノルボルナ−2−エンの前記炭素−炭素二重結合の少なくとも90%、少なくとも95%、少なくとも98%などが、硫黄含有基を形成するように反応している、発明15〜28のいずれか一項に記載の方法。
[発明30]
発明1〜14のいずれか一項に記載のポリチオール組成物が、製造される、発明15〜29のいずれか一項に記載の方法。
[発明31]
発明15〜29のいずれか一項に記載の方法によって製造される、発明1〜14のいずれか一項に記載の組成物。
[発明32]
発明1〜14及び31のいずれか一項に記載の組成物を含む、製品。
[発明33]
発明1〜14及び31のいずれか一項に記載の組成物を含み、接着剤を含む、製品。
Claims (17)
- 硫黄含有化合物を含むポリチオール組成物であって、前記硫黄含有化合物が、
(i)50重量%〜95重量%の5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び/または5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオールと、
(ii)2つのチオール硫黄基(−SH)のみ、1つの分子間スルフィド基(−S−)のみ、ならびに5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−2−イル基及び5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−3−イル基から独立して選択される2つの基のみを有する1つ以上のスルフィド分子と、
(iii)1重量%未満のモノ硫黄化合物と、
を含む、ポリチオール組成物であって、
1重量%未満の5−ビニルノルボルナ−2−エンを含有する、ポリチオール組成物。 - 前記硫黄含有化合物が、2つのチオール硫黄基のみ、2つの分子間スルフィド基のみ、ならびに5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−2−イル基及び5−(エチル−2−イル)ノルボルナ−3−イル基から独立して選択される3つの基のみを有する1つ以上のスルフィド分子をさらに含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記硫黄含有化合物が、1.5:1〜1000:1の範囲の平均チオール硫黄対スルフィド硫黄モル比、0.1〜10重量%のスルフィド硫黄の平均、20〜34重量%のチオール硫黄の平均、及び94〜150g/eqの範囲のメルカプタン当量重量により特徴付けられる、請求項1に記載のル組成物。
- 前記硫黄含有化合物が、2:1〜40:1の範囲の平均チオール硫黄対スルフィド硫黄モル比、1〜8重量%のスルフィド硫黄の平均、及び22〜32重量%のチオール硫黄の平均により特徴付けられる、請求項1に記載の組成物。
- 前記硫黄含有化合物が、5重量%〜35重量%の分子間スルフィド化合物を含有する、請求項1に記載の組成物。
- 前記硫黄含有化合物が、1.2:1〜8:1の範囲で5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオールの合計対分子間スルフィド化合物の重量比を有する、請求項1に記載の組成物。
- 請求項1に記載のポリチオール組成物を含む、製造の品。
- さらに基材を含む、請求項7に記載の品。
- 前記硫黄含有化合物が、1.5:1〜1000:1の範囲で平均チオール硫黄対スルフィド硫黄モル比を有する、請求項1に記載の組成物。
- 前記ポリチオール組成物が、0.5重量%未満の5−ビニルノルボルナ−2−エンを含有し、前記硫黄含有化合物が0.5重量%未満のモノ硫黄化合物を含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記ポリチオール組成物が、0.1重量%未満の5−ビニルノルボルナ−2−エンを含有し、前記硫黄含有化合物が0.1重量%未満のモノ硫黄化合物を含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記硫黄含有化合物が、70重量%〜90重量%の5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び/または5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオールを含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記硫黄含有化合物が、1.5〜3重量%のスルフィド硫黄の平均及び27〜33重量%のチオール硫黄の平均により特徴付けられる、請求項1に記載の組成物。
- 前記硫黄含有化合物が、1:1〜10:1の範囲で5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−2−チオール及び5−(2−メルカプトエチル)ノルボルナン−3−チオールの合計対分子間スルフィド化合物の重量比を有する、請求項1に記載の組成物。
- 前記硫黄含有化合物が、5重量%〜35重量%の分子間スルフィド化合物を含有する、請求項2に記載の組成物。
- 前記硫黄含有化合物が、10重量%〜30重量%の分子間スルフィド化合物を含有する、請求項2に記載の組成物。
- 前記硫黄含有化合物が、10重量%〜30重量%の分子間スルフィド化合物を含有する、請求項5に記載の組成物。
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