JP2018207014A - マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム調整方法 - Google Patents
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Abstract
Description
12 電子ビーム鏡筒
14 電子銃
16 照明レンズ
18 成形アパーチャアレイ
20 ブランキングアパーチャアレイ
22 投影レンズ
24 第1アライメントコイル
26 ストッピングアパーチャ
28 第1対物レンズ
30 第2対物レンズ
32 第2アライメントコイル
40 描画室
42 XYステージ
44 基板
50 移動部
60 制御部
Claims (5)
- 荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の第1開口が形成され、前記複数の第1開口が含まれる領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の第1開口を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することによりマルチビームを形成する成形アパーチャアレイと、
前記複数の第1開口を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームが通過する複数の第2開口が形成され、前記複数の第2開口に、それぞれ通過する前記ビームのブランキング偏向を行うブランカが設けられたブランキングアパーチャアレイと、
第3開口が形成され、前記マルチビームのうち、前記複数のブランカによってビームOFFの状態になるように偏向されたビームを前記第3開口から外れた位置にて遮蔽し、ビームONの状態になるビームを前記第3開口から通過させるストッピングアパーチャと、
前記ブランキングアパーチャアレイと前記ストッピングアパーチャとの間に配置され、ビーム軌道の調整を行う第1アライメントコイルと、
前記ストッピングアパーチャと前記ビームにより描画される基板を載置するステージとの間に配置された対物レンズと、
前記ストッピングアパーチャの面内方向に前記第3開口の位置を移動する移動部と、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記対物レンズは、第1対物レンズ及び第2対物レンズを含み、
前記第1対物レンズと前記第2対物レンズとの間に配置され、前記第2対物レンズを通過するビームの軌道の調整を行う第2アライメントコイルをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記移動部は、前記第1アライメントコイルのビーム軌道調整により前記第3開口を通過したビームが前記第1対物レンズの中心を通るように、前記第3開口の位置を調整することを特徴とする請求項2に記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
- 荷電粒子ビームを放出する工程と、
複数の第1開口が形成された成形アパーチャアレイを用いて、前記複数の第1開口が含まれる領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の第1開口を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することによりマルチビームを形成する工程と、
ブランキングアパーチャアレイの複数の第2開口と、初期位置に配置されたストッピングアパーチャに形成された第3開口を通過した前記マルチビームについて、軌道を調整する対物レンズの励磁を搖動させ、ビーム位置の面内移動量を測定する工程と、
前記ビーム位置の面内移動量が最少となる面内位置に前記第3開口の位置を移動し、前記第3開口を通過したビームが、前記ストッピングアパーチャと前記対物レンズの中心を通るように、ビーム軌道を調整する工程と、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム調整方法。 - 前記対物レンズは、第1対物レンズ及び第2対物レンズを含み、
前記第3開口を通過したビームが前記第1対物レンズの中心を通過可能となる位置に前記ストッピングアパーチャを移動し、
前記第1対物レンズを通過したビームが前記第2対物レンズの中心を通るようにビーム軌道を調整することを特徴とする請求項4に記載のマルチ荷電粒子ビーム調整方法。
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