JP2018202444A - レーザ加工装置の光軸確認方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】レーザ加工装置の光軸確認方法を提供することである。【解決手段】レーザビームの集光点位置を第1高さ位置に位置付けた状態で、該検査用ウェーハの第1の座標位置に該レーザビームを照射し、該検査用ウェーハの表面に積層された該金属膜に第1レーザ加工痕を形成する第1レーザ加工痕形成ステップ、該第1レーザ加工痕形成ステップを実施後、該レーザビームの集光点位置を該第1高さ位置から上昇または下降させた第2高さ位置に位置付けた状態で、該検査用ウェーハの第2の座標位置に該レーザビームを照射し、該検査用ウェーハの表面に積層された該金属膜に第2レーザ加工痕を形成する第2レーザ加工痕形成ステップと、該第1の座標位置に対する該第1レーザ加工痕の位置と、該第2の座標位置に対する該第2レーザ加工痕の位置とにずれがない場合には該光軸に傾きがないと判定し、ずれがある場合には該光軸に傾きがあると判定する判定ステップ。【選択図】図6

Description

本発明は、レーザ加工装置の光軸確認方法に関する。
近年では、レーザ加工装置を用いてウェーハを個々のデバイスチップに分割する方法が開発され、実用化されている。レーザ加工装置を用いてウェーハを個々のデバイスチップに分割する方法として、以下に説明する第1及び第2の加工方法が知られている。
第1の加工方法は、ウェーハに対して吸収性を有する波長(例えば355nm)のレーザビームの集光点を分割予定ラインに対応する領域に照射してアブレーション加工によりレーザ加工溝を形成し、その後外力を付与してウェーハをレーザ加工溝を分割起点として個々のデバイスチップに分割する方法である(例えば、特開平10−305420号公報参照)。
第2の加工方法は、ウェーハに対して透過性を有する波長(例えば1064nm)のレーザビームの集光点を分割予定ラインに対応するウェーハの内部に位置付けて、レーザビームを分割予定ラインに沿って照射してウェーハ内部に改質層を形成し、分割装置によりウェーハに外力を付与してウェーハを改質層を分割起点として個々のデバイスチップに分割する方法である(例えば、特許第3408805号公報参照)。
何れの加工方法を採用する場合にも、レーザ加工装置は、搭載したレーザ発振器から発振されたレーザビームをミラーやレンズ等の多くの光学部品を介してチャックテーブルに保持された被加工物に垂直に照射する。換言すると、レーザ加工装置の光軸はチャックテーブルに保持された被加工物に対して厳密に垂直となるように調整されている。
然し、レーザ加工装置に衝撃が加えられた場合等には、レーザ加工装置の光軸が傾く恐れがある。従来は、光軸が傾いているか否かを確認するためには、専用のカメラを取り付け、遮光パーティションでレーザ加工装置を覆い光軸確認作業を実施していた。
特開平10−305420号公報 特許第3408805号公報 特開2013−132674号公報
上述したように、従来の光軸確認方法では、専用のカメラや遮光パーティションを使用するため、基材の準備や設置に時間が掛かるうえ、設置作業が手間であり、光軸確認作業が非常に煩雑であるという課題があった。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、従来に比べてより容易に光軸の確認ができるレーザ加工装置の光軸確認方法を提供することである。
本発明によると、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物にレーザビームを照射するレーザビーム照射手段と、を備えたレーザ加工装置の光軸確認方法であって、表面に金属膜が積層された検査用ウェーハを準備するウェーハ準備ステップと、ウェーハ準備ステップを実施した後、該チャックテーブルで該検査用ウェーハの裏面側を保持し表面に積層された該金属膜を露出させる保持ステップと、該保持ステップを実施した後、該レーザビームの集光点位置を第1高さ位置に位置付けた状態で、該検査用ウェーハの第1の座標位置に該レーザビームを照射して、該検査用ウェーハの表面に積層された該金属膜に第1レーザ加工痕を形成する第1レーザ加工痕形成ステップと、該第1レーザ加工痕形成ステップを実施した後、該レーザビームの集光点位置を該第1高さ位置から上昇または下降させた第2高さ位置に位置付けた状態で、該検査用ウェーハの第2の座標位置に該レーザビームを照射して、該検査用ウェーハの表面に積層された該金属膜に第2レーザ加工痕を形成する第2レーザ加工痕形成ステップと、該第1の座標位置に対する該第1レーザ加工痕の位置と、該第2の座標位置に対する該第2レーザ加工痕の位置とにずれがない場合には該光軸に傾きがないと判定し、ずれがある場合には該光軸に傾きがあると判定する判定ステップと、を備えたことを特徴とするレーザ加工装置の光軸確認方法が提供される。
好ましくは、レーザ加工装置の光軸確認方法は、少なくとも該第1レーザ加工痕形成ステップを実施した後、撮像手段で該検査用ウェーハの表面に積層された該金属膜の該第1の座標位置を撮像して第1撮像画像を形成する第1撮像画像形成ステップと、少なくとも該第2レーザ加工痕形成ステップを実施した後、該撮像手段で該検査用ウェーハの表面に積層された該金属膜の該第2の座標位置を撮像して第2撮像画像を形成する第2撮像画像形成ステップと、を更に備え、該第1撮像画像形成ステップと該第2撮像画像形成ステップを実施した後、該第1撮像画像の該第1座標位置と該第2撮像画像の該第2座標位置とが一致するように重ねて、該第1レーザ加工痕と該第2レーザ加工痕の位置にずれがあるか否かによって該光軸に傾きがあるか否かを判定する前記判定ステップを実施する。
本発明によると、チャックテーブルで保持した検査用ウェーハにレーザビームを照射してウェーハの表面に積層された金属膜にレーザ加工痕を形成する。レーザビームを照射した座標位置とレーザ加工痕の位置を基に光軸の傾きが確認できるため、光軸確認用に専用カメラや遮光パーティション等の基材が不要となり、従来に比べてより容易にレーザ加工装置の光軸の確認をすることができる。
レーザ加工装置の斜視図である。 レーザビーム発生ユニットのブロック図である。 表面に金属膜が積層された検査用ウェーハの斜視図である。 保持ステップを示す一部断面側面図である。 レーザ加工痕形成ステップを示す一部断面側面図である。 レーザビーム照射座標位置とレーザ加工痕形成位置との関係を示す模式的説明図である。 複数の撮像画像の重ね合わせにより、光軸に傾きがあるか否かを判定する判定ステップを示す模式図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、レーザ加工装置2の概略構成を示す斜視図が示されている。レーザ加工装置2は、静止基台4上に搭載されたY軸方向に伸長する一対のガイドレール6を含んでいる。
Y軸移動ブロック8は、ボールねじ10及びパルスモータ12とから構成されるY軸送り機構(Y軸送り手段)14により割り出し送り方向、即ちY軸方向に移動される。Y軸移動ブロック8上には、X軸方向に伸長する一対のガイドレール16が固定されている。
X軸移動ブロック18は、ボールねじ20及びパルスモータ22とから構成されるX軸移動機構(X軸送り手段)28により、ガイドレール16に案内されて加工送り方向、即ちX軸方向に移動される。
X軸移動ブロック18上には円筒状支持部材30を介してチャックテーブル24が搭載されている。チャックテーブル24は回転可能に構成されており、チャックテーブル24には、複数のクランプ26が配設されている。
ベース4の後方にはコラム32が立設されている。コラム32には、レーザビーム照射ユニット34のケーシング36が固定されている。ケーシング36中には、図2に示すレーザビーム発生ユニット35が収容されている。
レーザビーム照射ユニット34は、図2に示すレーザビーム発生ユニット35と、ケーシング36の先端に取り付けられた集光器38とから構成される。集光器38は、上下方向(Z軸方向)に移動可能にケーシング36の先端に取り付けられている。
図2に示すように、レーザビーム発生ユニット35は、YAGパルスレーザ又はYVO4パルスレーザを発振するレーザ発振器42と、繰り返し周波数設定手段44と、パルス幅調整手段46と、パワー調整手段48とを含んでいる。
レーザビーム発生ユニット35のパワー調整手段48により所定パワーに調整されたパルスレーザビームは、ケーシング36の先端に取り付けられた集光器38のミラー50で反射され、更に集光用対物レンズ52によって集光されてチャックテーブル24に保持されているウェーハ11に照射される。
ケーシング36の先端部には、集光器38に隣接してレーザ加工すべき加工領域を検出する撮像ユニット40が配設されている。撮像ユニット40は、顕微鏡及び顕微鏡で拡大されたウェーハ11の加工領域を撮像する撮像素子を含んでいる。
図3を参照すると、表面11aに金属膜13が積層された検査用ウェーハ11の斜視図が示されている。好ましくは、金属膜13としては錫(Sn)膜が採用される。金属膜13は錫膜に限定されるものではなく、Pt,Au,Ag,In,Pb,Cu等の金属膜を適宜選択可能である。金属膜13の厚みは、50nm〜500nmの範囲が好ましい。
本発明のレーザ加工装置の光軸確認方法では、まずウェーハ準備ステップとして図3に示すような検査用ウェーハ11を準備する。その後、図4に示すように、レーザ加工装置2のチャックテーブル24で検査用ウェーハ11の裏面11b側を吸引保持し、ウェーハ11の表面11aに積層された金属膜13を露出させる保持ステップを実施する。
保持ステップを実施した後、検査用ウェーハ11の表面に積層された金属膜13にレーザ加工痕を形成するレーザ加工痕形成ステップを実施する。このレーザ加工痕形成ステップを、図5及び図6を参照して詳細に説明する。
図5に示すように、集光器38から照射されるレーザビームの集光点位置P1を第1高さ位置に位置付けた状態で、検査用ウェーハ11の第1の座標位置C1(図6参照)にレーザビームを照射して、検査用ウェーハ11の表面に積層された金属膜13に第1レーザ加工痕Q1を形成する第1レーザ加工痕形成ステップを実施する。図6でO1は第1レーザ加工痕Q1の中心位置を示している。
第1レーザ加工痕形成ステップを実施した後、レーザビームの集光点位置P2を第1高さ位置から上昇または下降させた第2高さ位置に位置付けた状態で、検査用ウェーハ11の第2の座標位置C2にレーザビームを照射して、検査用ウェーハ11の表面に積層された金属膜13に第2レーザ加工痕Q2を形成する第2レーザ加工痕形成ステップを実施する。
同様に、レーザビームの集光点位置P3を第1及び第2高さ位置と異なる第3高さ位置に位置付けた状態で、検査用ウェーハ11の第3座標位置C3にレーザビームを照射して、検査用ウェーハ11の表面に積層された金属膜13に第3レーザ加工痕Q3を形成する第3レーザ加工痕形成ステップを実施する。
このようにレーザビームの集光点位置を異ならせた状態で、第4の座標位置、第5の座標位置、・・・第9の座標位置にレーザビームを照射して、検査用ウェーハ11の表面に積層された金属膜13に第4レーザ加工痕Q4、第5レーザ加工痕Q5、・・・第9レーザ加工痕Q9を形成するレーザ加工痕形成ステップを次々と実施する。
図5でP1〜P9は集光点位置を示しており、図6でC1〜C9はレーザビーム照射座標位置を示しており、Q1〜Q9はレーザ加工痕を示しており、O1〜O9は第1レーザ加工痕Q1〜第9レーザ加工痕Q9の中心位置をそれぞれ示している。
本発明のレーザ加工装置の光軸確認方法では、少なくとも第1レーザ加工痕形成ステップと第2レーザ加工痕形成ステップは必須である。この場合、第2レーザ加工痕形成ステップの集光点位置P2は、第1レーザ加工痕形成ステップの集光点位置P1と高さ方向に大きくずれているのが好ましい。
即ち、図5に示した実施形態の場合には、第8レーザ加工痕形成ステップ又は第9レーザ加工痕形成ステップを第2レーザ加工痕形成ステップとして採用するのが好ましい。
図5及び図6を参照して説明した実施形態では、第1レーザ加工痕形成ステップ乃至第9レーザ加工痕形成ステップを実施した後、第1の座標位置C1に対する第1レーザ加工痕Q1の中心位置O1と、第2の座標位置C2に対する第2レーザ加工痕Q2の中心位置O2と、・・・第9の座標位置C9に対する第9レーザ加工痕Q9の中心位置O9と、にずれがあるか否かを判定する判定ステップを実施する。
即ち、レーザビーム照射座標位置とレーザ加工痕の中心位置との間の距離が等しくかつ両者を結んだ線分の傾斜角が等しいか否かを判定する。距離と線分の傾斜角が等しい場合には、光軸に傾きがなく、集光器38から照射されるレーザビームはチャックテーブル24に保持された検査用ウェーハ11の表面に積層された金属膜13に垂直に照射されていると判定する。
一方、レーザビーム照射座標位置とレーザ加工痕の中心位置との間の距離又は両者を結んだ線分の傾きの何れか一方が等しくない場合には、光軸に傾きがあると判定し、光軸調整作業を実施する。
レーザ加工痕の形成位置を基に1ショット毎にレーザビームの照射位置を確認してもよいし、数ショットレーザビームを照射した後、レーザ加工痕形成位置を基にまとめてレーザビームの照射位置を確認するようにしてもよい。
ここで注意すべきは、レーザビーム照射座標位置とレーザ加工痕の中心位置は図6に示すように必ずしも一致しなくてもよく、集光点Pの深さ位置を変えてレーザ加工したレーザ加工痕でレーザビーム照射座標位置とレーザ加工痕の位置関係がずれていなければ光軸は傾いていないと判定する。
但し、レーザビーム照射座標位置とレーザ加工痕の中心位置がずれている場合は、被加工物をレーザ加工する前に、別途レーザ加工位置の補正を実施して、レーザビーム照射座標位置とレーザ加工痕の中心位置が一致するように調整する必要がある。
レーザビーム照射座標位置とレーザ加工痕の形成位置とにずれがあるか否かを目視で判定するのは困難であるため、好ましくは、撮像ユニット40でレーザビーム照射座標位置を撮像して撮像画像を形成し、複数の撮像画像からレーザ加工痕の形成位置にずれがあるか否かによって光軸に傾きがあるか否かを判定する。
即ち、図7に示すように、第1レーザビーム照射座標位置C1を第1撮像画像56aの中心に一致させて第1レーザ加工痕Q1を撮像する。次いで、第2レーザビーム照射座標位置C2を第2撮像画像56bの中心に一致させて第2レーザ加工痕Q2を撮像する。次いで、第3レーザビーム照射座標位置C3を第3撮像画像56cの中心に一致させて第3レーザ加工痕Q3を撮像する。
第1撮像画像56a、第2撮像画像56b及び第3撮像画像56cを重ね合わせて第1レーザ加工痕Q1、第2レーザ加工痕Q2及び第3レーザ加工痕Q3の位置にずれがあるか否かによって、光軸に傾きがあるか否かを判定する。図7に示す撮像画像においては、第1乃至第3レーザ加工痕の位置にずれがあるため、光軸に傾きがあると判定する。
このレーザ加工痕の撮像は、例えば、1ショット加工毎に撮像する。或いは、複数位置レーザ加工した後で、それぞれのレーザビーム照射座標位置を撮像するようにしてもよい。
図7に示したように、撮像画像の中心にレーザビーム照射座標位置が来るように撮像しておくと、撮像画像の重ね合わせが容易であるが、必ずしもレーザビーム照射座標位置を撮像画像の中心に撮像しなくてもよい。
判定ステップでは、撮像画像を下層が透けるように透過レイヤーとして重ねてレーザ加工痕の位置にずれがあるかを確認してもよいし、ぱらぱら漫画のように撮像画像を重ねた後、コマ送りすることでレーザ加工痕の位置にずれがあるかを確認するようにしてもよい。
11 検査用ウェーハ
13 金属膜
24 チャックテーブル
35 レーザビーム発生ユニット
38 集光器
42 レーザ発振器
52 集光用対物レンズ
P1〜P9 集光点
C1〜C9 レーザビーム照射座標位置
Q1〜Q9 レーザ加工痕
O1〜O9 レーザ加工痕の中心位置
56a〜56c 撮像画像

Claims (2)

  1. 被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物にレーザビームを照射するレーザビーム照射手段と、を備えたレーザ加工装置の光軸確認方法であって、
    表面に金属膜が積層された検査用ウェーハを準備するウェーハ準備ステップと、
    ウェーハ準備ステップを実施した後、該チャックテーブルで該検査用ウェーハの裏面側を保持し表面に積層された該金属膜を露出させる保持ステップと、
    該保持ステップを実施した後、該レーザビームの集光点位置を第1高さ位置に位置付けた状態で、該検査用ウェーハの第1の座標位置に該レーザビームを照射して、該検査用ウェーハの表面に積層された該金属膜に第1レーザ加工痕を形成する第1レーザ加工痕形成ステップと、
    該第1レーザ加工痕形成ステップを実施した後、該レーザビームの集光点位置を該第1高さ位置から上昇または下降させた第2高さ位置に位置付けた状態で、該検査用ウェーハの第2の座標位置に該レーザビームを照射して、該検査用ウェーハの表面に積層された該金属膜に第2レーザ加工痕を形成する第2レーザ加工痕形成ステップと、
    該第1の座標位置に対する該第1レーザ加工痕の位置と、該第2の座標位置に対する該第2レーザ加工痕の位置とにずれがない場合には該光軸に傾きがないと判定し、ずれがある場合には該光軸に傾きがあると判定する判定ステップと、
    を備えたことを特徴とするレーザ加工装置の光軸確認方法。
  2. 少なくとも該第1レーザ加工痕形成ステップを実施した後、撮像手段で該検査用ウェーハの表面に積層された該金属膜の該第1の座標位置を撮像して第1撮像画像を形成する第1撮像画像形成ステップと、
    少なくとも該第2レーザ加工痕形成ステップを実施した後、該撮像手段で該検査用ウェーハの表面に積層された該金属膜の該第2の座標位置を撮像して第2撮像画像を形成する第2撮像画像形成ステップと、を更に備え、
    該第1撮像画像形成ステップと該第2撮像画像形成ステップを実施した後、該第1撮像画像の該第1座標位置と該第2撮像画像の該第2座標位置とが一致するように重ねて、該第1レーザ加工痕と該第2レーザ加工痕の位置にずれがあるか否かによって該光軸に傾きがあるか否かを判定する前記判定ステップを実施する請求項1記載のレーザ加工装置の光軸確認方法。
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