JP2018194301A - Automatic analyzer, and adjusting method of cleaning liquid amount - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態は、自動分析装置、及び洗浄液量の調整方法に関する。 Embodiments described herein relate generally to an automatic analyzer and a method for adjusting the amount of cleaning liquid.
自動分析装置は、試料容器に収容される試料に含まれる、生化学検査項目、及び免疫検査項目等の検査項目に関する成分を測定するための装置である。自動分析装置では、試料容器に収容される試料は、サンプル分注プローブにより、反応管へ分注される。また、反応管へは、試薬分注プローブにより、試薬庫に収容される試薬が分注される。反応管において試料と試薬とは混合され、試料と試薬との混合液における所定の成分が光学的に測定される。 The automatic analyzer is a device for measuring components related to test items such as biochemical test items and immunological test items included in a sample contained in a sample container. In the automatic analyzer, a sample accommodated in a sample container is dispensed into a reaction tube by a sample dispensing probe. Moreover, the reagent accommodated in the reagent storage is dispensed into the reaction tube by the reagent dispensing probe. The sample and the reagent are mixed in the reaction tube, and a predetermined component in the mixed solution of the sample and the reagent is optically measured.
ところで、自動分析装置では、試料等を分注した後、例えばプローブの内外壁に付着した試料等を洗浄プールにおいて洗浄することにより、キャリーオーバー等の発生を防止している。このとき、例えばプローブの洗浄に用いられる洗浄水の量(以下、洗浄水量と称する)は、ポンプ及び流路上の弁によって調整される。 By the way, in an automatic analyzer, after dispensing a sample or the like, for example, the sample attached to the inner or outer wall of the probe is washed in a washing pool, thereby preventing the occurrence of carryover or the like. At this time, for example, the amount of cleaning water used for cleaning the probe (hereinafter referred to as cleaning water amount) is adjusted by a pump and a valve on the flow path.
洗浄水量は、測定データの精度を保つ上で重要な要素であるが、ポンプの経年劣化による性能低下、単一故障、及び流路詰まり等で変化する。プローブの内外壁を洗浄する洗浄水量が所定の基準値より少ない場合、例えば、プローブを十分洗浄できず、キャリーオーバー等が発生する可能性がある。また、プローブの外壁を洗浄する洗浄水量が所定の基準値より多い場合、プローブの先端に水滴が残留してしまう可能性がある。このため、測定データの精度を維持することが困難となる。 The amount of washing water is an important factor in maintaining the accuracy of the measurement data, but changes due to performance deterioration due to aging of the pump, single failure, clogging of the flow path, and the like. When the amount of cleaning water for cleaning the inner and outer walls of the probe is less than a predetermined reference value, for example, the probe cannot be sufficiently cleaned, and carryover or the like may occur. In addition, when the amount of cleaning water for cleaning the outer wall of the probe is larger than a predetermined reference value, water droplets may remain at the tip of the probe. For this reason, it becomes difficult to maintain the accuracy of the measurement data.
また、洗浄水量の変化を検知することは難しく、装置管理者等による定期的な洗浄水量の確認、及び洗浄水量を調整するバルブの調整等のメンテナンスが必要なる。洗浄水量のメンテナンスは、通常、装置管理者等により手動で行われる。このとき、洗浄水量は非常に狭いレンジ内で調整する必要がある。このため、装置管理者等の作業負担が大きかった。 In addition, it is difficult to detect a change in the amount of washing water, and maintenance such as periodic confirmation of the amount of washing water and adjustment of a valve for adjusting the amount of washing water is required by an apparatus manager or the like. Maintenance of the amount of washing water is usually performed manually by an apparatus manager or the like. At this time, the amount of washing water needs to be adjusted within a very narrow range. For this reason, the work burden on the device manager or the like was large.
実施形態の目的は、測定データの精度維持、及び装置管理者等の負担軽減を実現することにある。 An object of the embodiment is to realize maintenance of accuracy of measurement data and reduction of a burden on an apparatus manager or the like.
実施形態によれば、自動分析装置は、洗浄液供給部、洗浄プール、液面検知部、洗浄液量算出部、洗浄液量判定部、及び洗浄液量調整部を具備する。洗浄液供給部は、プローブの洗浄に用いられる洗浄液を供給する。洗浄プールは、前記供給された洗浄液を貯留する。液面検知部は、前記洗浄プールに貯留された洗浄液の液面を検知する。洗浄液量算出部は、前記液面検知部により前記洗浄液の液面が検知された結果に基づいて当該洗浄液の洗浄液量を算出する。洗浄液量判定部は、前記算出された洗浄液量が、所定の範囲に収まるか否かを判定する。洗浄液量調整部は、前記算出された洗浄液量が、前記洗浄液量判定部により所定の範囲に収まらないと判定された場合に、前記洗浄液供給部から供給される洗浄液の洗浄液量を前記所定の範囲に収まるように調整する。 According to the embodiment, the automatic analyzer includes a cleaning liquid supply unit, a cleaning pool, a liquid level detection unit, a cleaning liquid amount calculation unit, a cleaning liquid amount determination unit, and a cleaning liquid amount adjustment unit. The cleaning liquid supply unit supplies a cleaning liquid used for cleaning the probe. The cleaning pool stores the supplied cleaning liquid. The liquid level detection unit detects the liquid level of the cleaning liquid stored in the cleaning pool. The cleaning liquid amount calculation unit calculates the cleaning liquid amount of the cleaning liquid based on the result of detection of the liquid level of the cleaning liquid by the liquid level detection unit. The cleaning liquid amount determination unit determines whether or not the calculated cleaning liquid amount falls within a predetermined range. The cleaning liquid amount adjusting unit sets the cleaning liquid amount supplied from the cleaning liquid supply unit to the predetermined range when the calculated cleaning liquid amount is determined not to fall within a predetermined range by the cleaning liquid amount determining unit. Adjust to fit.
以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.
図1は、本実施形態に係る自動分析装置1の機能構成を示すブロック図である。図1に示される自動分析装置1は、分析機構2、解析回路3、駆動機構4、入力インタフェース5、表示回路6、記憶回路7、及び制御回路8を具備する。 FIG. 1 is a block diagram showing a functional configuration of an automatic analyzer 1 according to the present embodiment. An automatic analyzer 1 shown in FIG. 1 includes an analysis mechanism 2, an analysis circuit 3, a drive mechanism 4, an input interface 5, a display circuit 6, a storage circuit 7, and a control circuit 8.
分析機構2は、標準試料又は被検試料等の試料と、この試料に設定された各検査項目で用いられる試薬とを混合する。分析機構2は、試料と試薬との混合液を測定し、例えば吸光度で表される標準データ、及び被検データを生成する。 The analysis mechanism 2 mixes a sample such as a standard sample or a test sample and a reagent used for each inspection item set for the sample. The analysis mechanism 2 measures a mixed solution of a sample and a reagent, and generates standard data represented by, for example, absorbance and test data.
解析回路3は、分析機構2により生成された標準データ、被検データに基づいて検量データ及び分析データ等を解析するプロセッサである。解析回路3は、記憶回路7から動作プログラムを読み出し、動作プログラムに従って検量データ及び分析データ等を生成する。例えば、解析回路3は、標準データと、標準試料に予め設定された標準値との関係を示す検量データを生成する。また、解析回路3は、被検データと、この被検データに対応する検査項目の検量データとに基づいて、濃度値及び酵素の活性値として表される分析データを生成する。解析回路3は生成した検量データ及び分析データ等を制御回路8へ出力する。 The analysis circuit 3 is a processor that analyzes calibration data, analysis data, and the like based on the standard data and test data generated by the analysis mechanism 2. The analysis circuit 3 reads the operation program from the storage circuit 7 and generates calibration data, analysis data, and the like according to the operation program. For example, the analysis circuit 3 generates calibration data indicating the relationship between the standard data and a standard value preset in the standard sample. The analysis circuit 3 generates analysis data represented as a concentration value and an enzyme activity value based on the test data and the calibration data of the test item corresponding to the test data. The analysis circuit 3 outputs the generated calibration data and analysis data to the control circuit 8.
駆動機構4は、ギア、ステッピングモータ、ベルトコンベア、及びリードスクリュー等により実現される。駆動機構4は、制御回路8の制御に従い、分析機構2を駆動させる。 The drive mechanism 4 is realized by a gear, a stepping motor, a belt conveyor, a lead screw, and the like. The drive mechanism 4 drives the analysis mechanism 2 under the control of the control circuit 8.
入力インタフェース5は、例えば、マウス、キーボード、及び、操作面へ触れることで指示が入力されるタッチパッド等により実現される。入力インタフェース5は、例えば、操作者から検査を行う検査対象の試料を識別する試料ID、この試料IDに対する検査項目、及び各検査項目の分析パラメータを受け付ける。入力インタフェース5は、制御回路8に接続され、操作者から入力される操作指示を電気信号へ変換し、電気信号を制御回路8へ出力する。なお、本明細書において入力インタフェース5はマウス及びキーボード等の物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、自動分析装置1とは別体に設けられた外部の入力機器から入力される操作指示に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を制御回路8へ出力する電気信号の処理回路も入力インタフェース5の例に含まれる。 The input interface 5 is realized by, for example, a mouse, a keyboard, and a touch pad on which an instruction is input by touching an operation surface. The input interface 5 receives, for example, a sample ID for identifying a sample to be inspected, an inspection item for the sample ID, and an analysis parameter of each inspection item from the operator. The input interface 5 is connected to the control circuit 8, converts an operation instruction input from the operator into an electric signal, and outputs the electric signal to the control circuit 8. In the present specification, the input interface 5 is not limited to the one having physical operation parts such as a mouse and a keyboard. For example, an electrical signal processing circuit that receives an electrical signal corresponding to an operation instruction input from an external input device provided separately from the automatic analyzer 1 and outputs the electrical signal to the control circuit 8 is also an input interface. It is included in 5 examples.
表示回路6は、例えばCRT(Cathdode-Ray Tube)ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等を有する。また、表示回路6は、制御回路8に接続され、制御回路8から供給される信号を外部へ表示する。表示回路6は、例えば制御回路8から供給される検量データ及び分析データを表示する。 The display circuit 6 includes, for example, a CRT (Cathode-Ray Tube) display, a liquid crystal display, an organic EL display, a plasma display, and the like. The display circuit 6 is connected to the control circuit 8 and displays a signal supplied from the control circuit 8 to the outside. The display circuit 6 displays calibration data and analysis data supplied from the control circuit 8, for example.
記憶回路7は、磁気的若しくは光学的記録媒体又は半導体メモリ等の、プロセッサにより読み取り可能な記録媒体等を含む。記憶回路7は、解析回路3で実行される動作プログラム、及び制御回路8で実行される動作プログラムを記憶する。記憶回路7は、解析回路3により生成される検量データを検査項目毎に記憶する。記憶回路7は、解析回路3により生成される分析データを被検試料毎に記憶する。自動分析装置1が備える洗浄プールの形状に関する情報を記憶している。洗浄プールの形状に関する情報は、例えば、洗浄プールの断面積である。 The storage circuit 7 includes a processor-readable recording medium such as a magnetic or optical recording medium or a semiconductor memory. The storage circuit 7 stores an operation program executed by the analysis circuit 3 and an operation program executed by the control circuit 8. The storage circuit 7 stores the calibration data generated by the analysis circuit 3 for each inspection item. The storage circuit 7 stores the analysis data generated by the analysis circuit 3 for each test sample. Information on the shape of the cleaning pool provided in the automatic analyzer 1 is stored. The information regarding the shape of the cleaning pool is, for example, the cross-sectional area of the cleaning pool.
制御回路8は、自動分析装置1の中枢として機能するプロセッサである。制御回路8は、記憶回路7に記憶されている動作プログラムを実行することで、この動作プログラムに対応する機能を実現する。 The control circuit 8 is a processor that functions as the center of the automatic analyzer 1. The control circuit 8 executes an operation program stored in the storage circuit 7, thereby realizing a function corresponding to the operation program.
図2及び図3は、図1に示される分析機構2の構成の一例を示す模式図である。図2及び図3に示される分析機構2は、反応ディスク201、及び試薬庫202を備える。 2 and 3 are schematic views showing an example of the configuration of the analysis mechanism 2 shown in FIG. The analysis mechanism 2 shown in FIGS. 2 and 3 includes a reaction disk 201 and a reagent store 202.
反応ディスク201内には、恒温水で満たされた恒温槽2012が設けられている。恒温槽2012は円周形状を有している。反応ディスク201は、恒温槽2012により、複数の反応管2011を保持する。反応ディスク201は、駆動機構4によって既定の時間間隔で回動と停止とが交互に繰り返される。反応管2011は、例えば、ガラスにより形成される。 A constant temperature bath 2012 filled with constant temperature water is provided in the reaction disk 201. The constant temperature bath 2012 has a circumferential shape. The reaction disk 201 holds a plurality of reaction tubes 2011 by a constant temperature bath 2012. The reaction disk 201 is alternately rotated and stopped at predetermined time intervals by the drive mechanism 4. The reaction tube 2011 is made of, for example, glass.
試薬庫202は、試薬が収容されている試薬容器を複数保持する試薬庫の一例であり、この実施形態では、反応ディスク201の内側に配置される。試薬庫202は、試薬容器ラックにより、円周状に複数の試薬容器を保持する。図2及び図3に示される試薬庫202内の外円2021は、試薬庫202内で円周状に配列される試薬容器のうち、外側の円周に配列される試薬容器の開口部の位置を表す。試薬庫202内の内円2022は、試薬庫202内で円周状に配列される試薬容器のうち、内側の円周に配列される試薬容器の開口部の位置を表す。試薬庫202に保持されている試薬容器は、反応管2011に分注される試薬を収容している。開口部が外円2021に沿って配置される試薬容器101は、各検査項目に対応する第1試薬を収容している。第1試薬は、検査項目毎に使われるものが決められている。開口部が内円2022に沿って配置される試薬容器101は、各検査項目に対応する第2試薬を収容している。第2試薬は、第1試薬同様に検査項目毎に使われるものが決められている。試薬容器ラックは、駆動機構4によって試薬庫202の中心を回転中心として回動される。 The reagent storage 202 is an example of a reagent storage that holds a plurality of reagent containers that store reagents. In this embodiment, the reagent storage 202 is disposed inside the reaction disk 201. The reagent store 202 holds a plurality of reagent containers circumferentially by a reagent container rack. The outer circle 2021 in the reagent container 202 shown in FIGS. 2 and 3 is the position of the opening of the reagent container arranged on the outer circumference among the reagent containers arranged circumferentially in the reagent container 202. Represents. The inner circle 2022 in the reagent storage 202 represents the position of the opening of the reagent container arranged on the inner circumference among the reagent containers arranged in a circle in the reagent storage 202. The reagent container held in the reagent storage 202 contains the reagent dispensed into the reaction tube 2011. The reagent container 101 whose opening is arranged along the outer circle 2021 contains the first reagent corresponding to each test item. The first reagent to be used is determined for each inspection item. The reagent container 101 in which the opening is arranged along the inner circle 2022 contains the second reagent corresponding to each test item. Similar to the first reagent, the second reagent is determined for each inspection item. The reagent container rack is rotated around the center of the reagent storage 202 by the drive mechanism 4.
また、図2及び図3に示される分析機構2は、ラック投入ユニット230、ラック移動ユニット240、ラック回収ユニット250、及びSTATラック投入レーン260を備える。
ラック投入ユニット230は、投入レーン231を備える。投入レーン231には、サンプルラック102が投入される。サンプルラック102は、試料を収容する試料容器100を複数保持している。サンプルラック102の両端の側面には、ラック移動ユニット240に設けられる搬送アーム241によりピックアップ可能な形状、例えば1対の溝が形成される。また、サンプルラック102には、サンプルラック102の有無を識別するためのRFID(Radio Frequency IDentification)チップ(無線タグ)が取り付けられている。
2 and 3 includes a rack loading unit 230, a rack moving unit 240, a rack collection unit 250, and a STAT rack loading lane 260.
The rack input unit 230 includes an input lane 231. The sample rack 102 is loaded into the loading lane 231. The sample rack 102 holds a plurality of sample containers 100 that store samples. Forms that can be picked up by a transfer arm 241 provided in the rack moving unit 240, for example, a pair of grooves, are formed on the side surfaces of both ends of the sample rack 102. In addition, an RFID (Radio Frequency IDentification) chip (wireless tag) for identifying the presence or absence of the sample rack 102 is attached to the sample rack 102.
試料容器100には、標準試料又は被検試料等の試料が収容される。試料容器100には、試料容器100に収容される試料の識別情報等が記載される光学式マークが印刷されたラベルが貼付されている。光学式マークは、試料容器100に関する情報、及び試料の識別情報等を符号化したマーク、例えば、バーコード、1次元コード、及び2次元コード等である。 Sample container 100 accommodates a sample such as a standard sample or a test sample. The sample container 100 is affixed with a label printed with an optical mark on which identification information or the like of the sample stored in the sample container 100 is written. The optical mark is a mark obtained by encoding information related to the sample container 100, sample identification information, and the like, for example, a bar code, a one-dimensional code, a two-dimensional code, and the like.
サンプルラック102は、投入レーン231へ投入される。投入レーン231へ投入されるサンプルラック102は、駆動機構4により駆動され、ラック移動ユニット240へ移動可能な投入位置へ移動される。このとき、投入レーン231におけるサンプルラック102の移動は、例えば、ベルトコンベア、及びリードスクリュー等により実現される。 The sample rack 102 is loaded into the loading lane 231. The sample rack 102 loaded into the loading lane 231 is driven by the drive mechanism 4 and moved to a loading position where it can move to the rack moving unit 240. At this time, the movement of the sample rack 102 in the loading lane 231 is realized by, for example, a belt conveyor and a lead screw.
ラック移動ユニット240は、搬送アーム241、搬送レール242、サンプリングレーン243、バッファレーン244、及びリーダ245を備える。 The rack moving unit 240 includes a transfer arm 241, a transfer rail 242, a sampling lane 243, a buffer lane 244, and a reader 245.
搬送アーム241は、例えば、1対の爪を上下動自在に有する。搬送アーム241は、サンプルラック102に形成される1対の溝に爪を差し込んだ状態で、フォークリフトがそのフォークで荷物を抱えて運ぶように、サンプルラック102を搬送する。 The transfer arm 241 has, for example, a pair of claws that can move up and down. The transport arm 241 transports the sample rack 102 so that the forklift carries the load with the fork lift while the claws are inserted into the pair of grooves formed in the sample rack 102.
搬送アーム241は、駆動機構4によって駆動され、サンプルラック102を搬送する。例えば、搬送アーム241は、投入レーン231における投入位置に載置されているサンプルラック102を抱えた後、搬送レール242上を移動する。これにより、搬送アーム241は、抱えたサンプルラック102をサンプリングレーン243へ搬送する。搬送レール242は、サンプリングレーン243と、バッファレーン244との間に設けられ、搬送アーム241が移動する際のガイドの役割を担う。また、搬送アーム241は、サンプリングレーン243における、ラック回収ユニット250へ移動可能な搬出位置に位置するサンプルラック102を抱えた後、搬送レール242上を移動する。これにより、搬送アーム241は、抱えたサンプルラック102をバッファレーン244又はラック回収ユニット250へ搬送する。また、搬送アーム241は、バッファレーン244上に載置されたサンプルラック102を、ラック回収ユニット250へ搬送する。また、搬送アーム241は、バッファレーン244上に載置されたサンプルラック102を、STATラック投入レーン260へ搬送する。 The transport arm 241 is driven by the drive mechanism 4 and transports the sample rack 102. For example, the transfer arm 241 moves on the transfer rail 242 after holding the sample rack 102 placed at the input position in the input lane 231. As a result, the transport arm 241 transports the held sample rack 102 to the sampling lane 243. The transport rail 242 is provided between the sampling lane 243 and the buffer lane 244 and serves as a guide when the transport arm 241 moves. In addition, the transport arm 241 moves on the transport rail 242 after holding the sample rack 102 located at the unloading position in the sampling lane 243 that can be moved to the rack recovery unit 250. Thereby, the transport arm 241 transports the held sample rack 102 to the buffer lane 244 or the rack collection unit 250. Further, the transport arm 241 transports the sample rack 102 placed on the buffer lane 244 to the rack collection unit 250. The transfer arm 241 transfers the sample rack 102 placed on the buffer lane 244 to the STAT rack input lane 260.
サンプリングレーン243は、分注対象となる試料容器100が保持される複数のサンプルラックを、サンプル分注プローブ205が試料を吸引する位置であるサンプル吸引位置2432の下へ搬送するためのレーンである。サンプリングレーン243は、駆動機構4により、投入レーン231における投入位置から搬入されたサンプルラック102を移動させる。例えば、サンプリングレーン243は、サンプルラック102に保持される試料容器100各々の開口を、サンプル吸引位置2432の下へ移動させる。また、サンプリングレーン243は、サンプルラック102に保持される全ての試料容器100に収容される試料の分注が正常に終了すると、サンプルラック102を、サンプル吸引位置2432の下から、ラック回収ユニット250へ移動可能な搬出位置へ移動させる。サンプリングレーン243におけるサンプルラック102の移動は、例えば、ベルトコンベア、及びリードスクリュー等により実現される。 The sampling lane 243 is a lane for transporting a plurality of sample racks in which the sample containers 100 to be dispensed are held under a sample suction position 2432 where the sample dispensing probe 205 sucks the sample. . The sampling lane 243 moves the sample rack 102 loaded from the loading position in the loading lane 231 by the driving mechanism 4. For example, the sampling lane 243 moves the opening of each sample container 100 held in the sample rack 102 below the sample suction position 2432. In addition, the sampling lane 243 moves the sample rack 102 from below the sample suction position 2432 to the rack collection unit 250 when dispensing of the samples stored in all the sample containers 100 held in the sample rack 102 is normally completed. Move to an unloadable position. The movement of the sample rack 102 in the sampling lane 243 is realized by, for example, a belt conveyor and a lead screw.
バッファレーン244は、所定のエラーを発生させた試料を収容する試料容器100を保持するサンプルラック102を一時的に滞留させるための滞留エリアである。 The buffer lane 244 is a retention area for temporarily retaining the sample rack 102 that holds the sample container 100 that stores a sample in which a predetermined error has occurred.
リーダ245は、例えばサンプル吸引位置2432の近傍に設けられる。リーダ245は、制御回路8からのID読取開始の指示を契機として、読取りを開始する。リーダ245は、分注対象となる試料容器100が光学式マークを読取り可能な位置に到達すると、当該試料容器100に付された光学式マークから試料の識別情報を読み取る。リーダ245は、読取った試料の識別情報を制御回路8に供給する。なお、リーダ245は、RFID等を利用した他のセンサで代替してもよい。 The reader 245 is provided in the vicinity of the sample suction position 2432, for example. The reader 245 starts reading when triggered by an instruction to start reading ID from the control circuit 8. When the sample container 100 to be dispensed reaches a position where the optical mark can be read, the reader 245 reads the identification information of the sample from the optical mark attached to the sample container 100. The reader 245 supplies the read sample identification information to the control circuit 8. Note that the reader 245 may be replaced with another sensor using RFID or the like.
ラック回収ユニット250は、第1回収レーン251、及び第2回収レーン252を有する。第1回収レーン251及び第2回収レーン252は、測定が正常に終了した試料容器100が保持されるサンプルラック102の回収先の役割を有する。また、第1回収レーン251及び第2回収レーン252は、所定のエラーを発生させた試料を収容する試料容器100を保持するサンプルラック102の排出先の役割も有する。第1回収レーン251及び第2回収レーン252は、駆動機構4により駆動され、ラック移動ユニット240から搬送アーム241により搬送されたサンプルラック102を、取り出し位置へ移動させる。 The rack collection unit 250 includes a first collection lane 251 and a second collection lane 252. The first collection lane 251 and the second collection lane 252 serve as collection destinations for the sample rack 102 that holds the sample container 100 for which measurement has been completed normally. In addition, the first recovery lane 251 and the second recovery lane 252 also serve as a discharge destination of the sample rack 102 that holds the sample container 100 that stores a sample in which a predetermined error has occurred. The first collection lane 251 and the second collection lane 252 are driven by the drive mechanism 4 to move the sample rack 102 conveyed by the conveyance arm 241 from the rack moving unit 240 to the take-out position.
STATラック投入レーン260は、緊急で測定する必要のある試料を収容する試料容器100が保持されるサンプルラック102を投入するためのレーンである。 The STAT rack loading lane 260 is a lane for loading the sample rack 102 in which the sample container 100 that stores a sample that needs to be measured urgently is held.
また、図2及び図3に示される分析機構2は、サンプル分注アーム204、サンプル分注プローブ205、液面検知器207、洗浄プール208、第1試薬分注アーム210、第1試薬分注プローブ211、液面検知器213、洗浄プール214、第2試薬分注アーム216、第2試薬分注プローブ217、液面検知器219、洗浄プール220、第1撹拌ユニット222、及び第2撹拌ユニット223を備える。 2 and 3 includes a sample dispensing arm 204, a sample dispensing probe 205, a liquid level detector 207, a cleaning pool 208, a first reagent dispensing arm 210, and a first reagent dispensing. Probe 211, liquid level detector 213, cleaning pool 214, second reagent dispensing arm 216, second reagent dispensing probe 217, liquid level detector 219, cleaning pool 220, first stirring unit 222, and second stirring unit 223.
サンプル分注アーム204は、反応ディスク201とサンプリングレーン243との間に、鉛直方向には上下動自在に水平方向には回動自在に設けられている。サンプル分注アーム204は、一端にサンプル分注プローブ205を保持する。サンプル分注アーム204は、駆動機構4によって回動される。サンプル分注アーム204が回動に伴って、サンプル分注プローブ205は、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、サンプル分注プローブ205が試料容器100から試料を吸引する位置である、サンプル吸引位置P1が設定されている。サンプル吸引位置P1は、サンプリングレーン243上に位置するように予め設定されている。また、当該回動軌道上のサンプル吸引位置とは異なった位置には、サンプル分注プローブ205が吸引した試料を反応管2011へ吐出するサンプル吐出位置P2が設定されている。サンプル分注プローブ205の回動軌跡は、サンプリングレーン243上に載置されるサンプルラック102に保持されている試料容器100の移動軌跡、反応ディスク201に保持されている反応管2011の移動軌跡それぞれと交差している。それぞれの移動軌跡との交差点が、サンプル吸引位置P1、サンプル吐出位置P2である。 The sample dispensing arm 204 is provided between the reaction disk 201 and the sampling lane 243 so as to be vertically movable and rotatable in the horizontal direction. The sample dispensing arm 204 holds a sample dispensing probe 205 at one end. The sample dispensing arm 204 is rotated by the drive mechanism 4. As the sample dispensing arm 204 rotates, the sample dispensing probe 205 rotates along an arcuate rotation trajectory. A sample suction position P1, which is a position where the sample dispensing probe 205 sucks the sample from the sample container 100, is set on the rotation trajectory. The sample suction position P1 is set in advance so as to be positioned on the sampling lane 243. A sample discharge position P2 for discharging the sample sucked by the sample dispensing probe 205 to the reaction tube 2011 is set at a position different from the sample suction position on the rotation trajectory. The rotation trajectory of the sample dispensing probe 205 includes a movement trajectory of the sample container 100 held on the sample rack 102 placed on the sampling lane 243 and a movement trajectory of the reaction tube 2011 held on the reaction disk 201, respectively. Intersects. Intersections with the respective movement trajectories are the sample suction position P1 and the sample discharge position P2.
サンプル分注プローブ205は、駆動機構4によって駆動され、サンプル吸引位置P1、及びサンプル吐出位置P2において上下方向に移動する。また、サンプル分注プローブ205は、制御回路8の制御に従い、サンプル吸引位置P1に位置する試料容器100から試料を吸引する。また、サンプル分注プローブ205は、制御回路8の制御に従い、吸引した試料を、サンプル吐出位置P2に位置する反応管2011へ吐出する。 The sample dispensing probe 205 is driven by the drive mechanism 4 and moves in the vertical direction at the sample suction position P1 and the sample discharge position P2. Further, the sample dispensing probe 205 sucks the sample from the sample container 100 located at the sample suction position P <b> 1 according to the control of the control circuit 8. Further, the sample dispensing probe 205 discharges the sucked sample to the reaction tube 2011 located at the sample discharge position P <b> 2 according to the control of the control circuit 8.
液面検知器207は、一端が電気的にサンプル分注プローブ205に接続される。液面検知器207は、発振回路、ブリッジ回路、差動アンプ、同期検波回路、積分回路、及び増幅回路等を備える。液面検知器207は、例えばサンプル分注プローブ205が洗浄プール208内の洗浄液に接触したときの例えば静電容量の変化(電位の変化)により、洗浄液へのサンプル分注プローブ205の接触を検出する。液面検知器207は、サンプル分注プローブ205の接触に関する検出信号を制御回路8へ出力する。 One end of the liquid level detector 207 is electrically connected to the sample dispensing probe 205. The liquid level detector 207 includes an oscillation circuit, a bridge circuit, a differential amplifier, a synchronous detection circuit, an integration circuit, an amplification circuit, and the like. The liquid level detector 207 detects contact of the sample dispensing probe 205 with the cleaning liquid, for example, by a change in capacitance (change in potential) when the sample dispensing probe 205 comes into contact with the cleaning liquid in the cleaning pool 208, for example. To do. The liquid level detector 207 outputs a detection signal related to the contact of the sample dispensing probe 205 to the control circuit 8.
洗浄プール208は、サンプルプローブ洗浄位置P3に配置されている。洗浄プール208は、洗浄プール208内に吐出される洗浄液を一時的に貯留する。 The cleaning pool 208 is disposed at the sample probe cleaning position P3. The cleaning pool 208 temporarily stores the cleaning liquid discharged into the cleaning pool 208.
図4は、本実施形態に係る分析機構2が備える洗浄機構の構成例を示す模式図である。図4に示される洗浄機構は、一端がサンプル分注プローブ205に接続されるチューブ281、チューブ281の他端部に接続されるシリンジ282、及びシリンジ282の下端部に設けられる開口に勘合するプランジャ283を備える。また、洗浄機構は、サンプル分注プローブ205、チューブ281、及びシリンジ282の各内部に充填される圧力伝達媒体を貯留するタンク289を備える。タンク289に充填される圧力伝達媒体は、例えば純水である。 FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a cleaning mechanism included in the analysis mechanism 2 according to the present embodiment. The cleaning mechanism shown in FIG. 4 includes a tube 281 whose one end is connected to the sample dispensing probe 205, a syringe 282 connected to the other end of the tube 281 and a plunger that fits into an opening provided at the lower end of the syringe 282. 283. Further, the cleaning mechanism includes a tank 289 that stores a pressure transmission medium filled in each of the sample dispensing probe 205, the tube 281, and the syringe 282. The pressure transmission medium filled in the tank 289 is pure water, for example.
また、図4に示される洗浄機構は、タンク289に貯留された圧力伝達媒体を吸引し、吸引した圧力伝達媒体を洗浄液としてシリンジ282、及びチューブ281を経由してサンプル分注プローブ205内に供給する洗浄ポンプ284を備える。また、洗浄機構は、シリンジ282と洗浄ポンプ284との間を連通する流路を開閉する電磁弁285を備える。電磁弁285では、例えば、入力される電気信号に応じて弁の開口度、及び/又は、開口時間を調整可能である。電磁弁285には、例えば、当該弁の開口度を調整するリニアソレノイド弁、及び、弁の開口時間を調整するデューティーソレノイド弁が含まれる。 Further, the cleaning mechanism shown in FIG. 4 sucks the pressure transmission medium stored in the tank 289 and supplies the sucked pressure transmission medium into the sample dispensing probe 205 via the syringe 282 and the tube 281 as the cleaning liquid. A cleaning pump 284 is provided. Further, the cleaning mechanism includes an electromagnetic valve 285 that opens and closes a flow path that communicates between the syringe 282 and the cleaning pump 284. In the electromagnetic valve 285, for example, the degree of opening of the valve and / or the opening time can be adjusted in accordance with the input electric signal. The electromagnetic valve 285 includes, for example, a linear solenoid valve that adjusts the opening degree of the valve and a duty solenoid valve that adjusts the opening time of the valve.
具体的には、例えば電磁弁285がリニアソレノイド弁である場合、電磁弁285に印加される電流の大きさに応じて、当該弁の開口度が調整される。また、電磁弁285がデューティーソレノイド弁である場合、電磁弁285に印加されるパルス電圧の繰返し周期に対するパルス幅の比率を示すデューディー比の変化に応じて、当該弁の開口時間が調整される。これにより、洗浄ポンプ284からサンプル分注プローブ205内に供給される洗浄液の量(以下、洗浄液量と称する)の調整が可能となる。なお、電磁弁285は、開閉のみが制御されるものであってもよい。 Specifically, for example, when the electromagnetic valve 285 is a linear solenoid valve, the degree of opening of the valve is adjusted according to the magnitude of the current applied to the electromagnetic valve 285. When the solenoid valve 285 is a duty solenoid valve, the opening time of the valve is adjusted according to a change in the duty ratio indicating the ratio of the pulse width to the repetition period of the pulse voltage applied to the solenoid valve 285. . This makes it possible to adjust the amount of cleaning liquid supplied from the cleaning pump 284 into the sample dispensing probe 205 (hereinafter referred to as cleaning liquid amount). Note that the solenoid valve 285 may be controlled only for opening and closing.
試料を分注する際、シリンジ282と洗浄ポンプ284との間の流路は、制御回路8により制御される電磁弁285により閉鎖される。駆動機構4がプランジャ283を矢印L1方向へ吸引駆動することにより、サンプル分注プローブ205は、サンプル吸引位置2432で試料容器100内の試料を吸引する。また、駆動機構4がプランジャ283を矢印L2方向へ吐出駆動することにより、サンプル分注プローブ205は、サンプル吐出位置P2に位置する反応管2011内へ試料を吐出する。 When dispensing the sample, the flow path between the syringe 282 and the washing pump 284 is closed by an electromagnetic valve 285 controlled by the control circuit 8. When the drive mechanism 4 sucks and drives the plunger 283 in the direction of the arrow L1, the sample dispensing probe 205 sucks the sample in the sample container 100 at the sample suction position 2432. Further, when the driving mechanism 4 drives the plunger 283 to discharge in the direction of the arrow L2, the sample dispensing probe 205 discharges the sample into the reaction tube 2011 located at the sample discharge position P2.
同一試料の分注が終了したとき、定期メンテナンス時、又は自動分析装置1の初期設定時、シリンジ282と洗浄ポンプ284との間の流路は、制御回路8により制御される電磁弁285により所定の開口度で開放される。洗浄ポンプ284は、駆動機構4により駆動され、サンプル分注プローブ205内へ洗浄液を供給する。 The flow path between the syringe 282 and the washing pump 284 is predetermined by an electromagnetic valve 285 controlled by the control circuit 8 when dispensing of the same sample is completed, during regular maintenance, or when the automatic analyzer 1 is initially set. It is opened with an opening degree of. The cleaning pump 284 is driven by the drive mechanism 4 and supplies the cleaning liquid into the sample dispensing probe 205.
また、図4に示される洗浄プール208には、洗浄液を洗浄プール208内に洗浄液を受け入れるための吐出するための吐出口2081、及び吐出口2082、並びに洗浄プール208内に貯留された洗浄液を排液するための排液口2083が設けられている。 In addition, the cleaning pool 208 shown in FIG. 4 discharges the cleaning liquid stored in the cleaning pool 208 and the discharge ports 2081 and the discharge ports 2082 for discharging the cleaning liquid into the cleaning pool 208. A drainage port 2083 for liquid is provided.
図4に示される洗浄機構は、タンク289に貯留された圧力伝達媒体を吸引し、吸引した圧力伝達媒体を洗浄液としてチューブ286を経由して洗浄プール208に供給する洗浄ポンプ287を備える。洗浄ポンプ287から供給された洗浄液は、途中で二手に分かれ、吐出口2081及び吐出口2082からサンプル分注プローブ205の接触外面に向けて吐出される。 The cleaning mechanism shown in FIG. 4 includes a cleaning pump 287 that sucks the pressure transmission medium stored in the tank 289 and supplies the suctioned pressure transmission medium as a cleaning liquid to the cleaning pool 208 via the tube 286. The cleaning liquid supplied from the cleaning pump 287 is divided into two in the middle, and discharged from the discharge port 2081 and the discharge port 2082 toward the contact outer surface of the sample dispensing probe 205.
また、図4に示される洗浄機構は、分岐管290と洗浄ポンプ287との間を連通する流路を開閉する電磁弁288を備える。電磁弁288は、例えば、入力される電気信号に応じて弁の開口度、及び/又は、開口時間を調整可能である。電磁弁288には、例えば、リニアソレノイド弁、及び、デューティーソレノイド弁が含まれる。 The cleaning mechanism shown in FIG. 4 includes an electromagnetic valve 288 that opens and closes a flow path that communicates between the branch pipe 290 and the cleaning pump 287. The electromagnetic valve 288 can adjust the opening degree and / or opening time of the valve in accordance with, for example, an input electric signal. The electromagnetic valve 288 includes, for example, a linear solenoid valve and a duty solenoid valve.
具体的には、例えば電磁弁288がリニアソレノイド弁である場合、電磁弁288に印加される電流の大きさに応じて、当該弁の開口度が調整される。また、電磁弁288がデューティーソレノイド弁である場合、電磁弁288に印加されるパルス電圧の繰返し周期に対するパルス幅の比率を示すデューディー比の変化に応じて、当該弁の開口時間が調整される。これにより、洗浄ポンプ287からサンプル分注プローブ205の接触外面に供給される洗浄液量の調整が可能となる。なお、電磁弁288は、開口度、及び、開口時間を調整可能なものであってもよく、洗浄液の流量を無段階に調整できるものであればどのようなものを用いてもよい。 Specifically, for example, when the electromagnetic valve 288 is a linear solenoid valve, the degree of opening of the valve is adjusted according to the magnitude of the current applied to the electromagnetic valve 288. When the solenoid valve 288 is a duty solenoid valve, the opening time of the valve is adjusted according to a change in the duty ratio indicating the ratio of the pulse width to the repetition period of the pulse voltage applied to the solenoid valve 288. . This makes it possible to adjust the amount of cleaning liquid supplied from the cleaning pump 287 to the contact outer surface of the sample dispensing probe 205. Note that the solenoid valve 288 may be capable of adjusting the degree of opening and the opening time, and any type may be used as long as the flow rate of the cleaning liquid can be adjusted steplessly.
図4に示される洗浄機構は、一端が洗浄プール208に設けられた排液口2083に接続されるチューブ293、洗浄プール208に供給された洗浄液を貯留する電磁弁294を備える。電磁弁294は、洗浄プール208内に供給された洗浄液を貯留する場合は、制御回路8の制御により閉鎖される。また、洗浄プール208内に貯留された洗浄液を排出する場合は、制御回路8の制御により開放される。 The cleaning mechanism shown in FIG. 4 includes a tube 293 connected at one end to a drainage port 2083 provided in the cleaning pool 208, and an electromagnetic valve 294 that stores the cleaning liquid supplied to the cleaning pool 208. The electromagnetic valve 294 is closed under the control of the control circuit 8 when storing the cleaning liquid supplied in the cleaning pool 208. Further, when the cleaning liquid stored in the cleaning pool 208 is discharged, the cleaning liquid is opened under the control of the control circuit 8.
同一試料の分注が終了したとき、定期メンテナンス時、又は自動分析装置1の初期設定時、分岐管290と洗浄ポンプ287との間の流路は、制御回路8により制御される電磁弁288により所定の開口度で開放される。洗浄ポンプ287は、駆動機構4により駆動され、サンプル分注プローブ205の接触外面へ向けて洗浄液を供給する。 When dispensing of the same sample is completed, at the time of regular maintenance, or at the initial setting of the automatic analyzer 1, the flow path between the branch pipe 290 and the washing pump 287 is controlled by an electromagnetic valve 288 controlled by the control circuit 8. It is opened with a predetermined opening degree. The cleaning pump 287 is driven by the drive mechanism 4 and supplies the cleaning liquid toward the contact outer surface of the sample dispensing probe 205.
第1試薬分注アーム210は、反応ディスク201とサンプリングレーン243との間に、鉛直方向には上下動自在に水平方向には回動自在に設けられている。第1試薬分注アーム210は、一端に第1試薬分注プローブ211を保持する。第1試薬分注アーム210は、駆動機構4によって回動される。第1試薬分注アーム210が回動されることにより、第1試薬分注プローブ211は、円弧状の回動軌道に沿って回動される。この回動軌道上には、第1試薬分注プローブ211が、試薬庫202の外円2021上に配置される試薬容器から各検査項目に対応する第1試薬を吸引する試薬吸引位置と、吸引した第1試薬を反応管2011へ吐出する第1試薬吐出位置P4とが設定されている。第1試薬分注プローブ211の回動軌跡は、試薬庫202の外円2021上に配置される試薬容器(の試薬吸引口)の移動軌跡、反応ディスク201に保持されている反応管2011の移動軌跡それぞれと交差している。それぞれの移動軌跡との交差点が、試薬吸引位置、第1試薬吐出位置P4である。 The first reagent dispensing arm 210 is provided between the reaction disk 201 and the sampling lane 243 so as to be vertically movable in the vertical direction and rotatable in the horizontal direction. The first reagent dispensing arm 210 holds the first reagent dispensing probe 211 at one end. The first reagent dispensing arm 210 is rotated by the drive mechanism 4. When the first reagent dispensing arm 210 is rotated, the first reagent dispensing probe 211 is rotated along an arcuate rotation trajectory. On this rotation trajectory, the first reagent dispensing probe 211 sucks the first reagent corresponding to each test item from the reagent container disposed on the outer circle 2021 of the reagent storage 202, and the suction. A first reagent discharge position P4 for discharging the first reagent to the reaction tube 2011 is set. The rotation trajectory of the first reagent dispensing probe 211 is the movement trajectory of the reagent container (reagent suction port) disposed on the outer circle 2021 of the reagent storage 202, and the movement of the reaction tube 2011 held on the reaction disk 201. Crosses with each trajectory. The intersection with each movement locus is the reagent suction position and the first reagent discharge position P4.
第1試薬分注プローブ211は、駆動機構4によって駆動され、回動軌道上の試薬吸引位置、及び第1試薬吐出位置P4において上下方向に移動する。また、第1試薬分注プローブ211は、制御回路8の制御に従い、回動軌道上の試薬吸引位置に位置する試薬容器101から第1試薬を吸引する。また、第1試薬分注プローブ211は、制御回路8の制御に従い、吸引した第1試薬を、第1試薬吐出位置P4に位置する反応管2011へ吐出する。 The first reagent dispensing probe 211 is driven by the drive mechanism 4 and moves in the vertical direction at the reagent suction position on the rotation path and the first reagent discharge position P4. Further, the first reagent dispensing probe 211 aspirates the first reagent from the reagent container 101 located at the reagent aspirating position on the rotation path in accordance with the control of the control circuit 8. The first reagent dispensing probe 211 discharges the aspirated first reagent to the reaction tube 2011 located at the first reagent discharge position P4 according to the control of the control circuit 8.
液面検知器213の構成及び機能については、液面検知器207と同様である。 The configuration and function of the liquid level detector 213 are the same as those of the liquid level detector 207.
洗浄プール214は、第1試薬プローブ洗浄位置P5に配置されている。洗浄プール214の構成及び機能は、図4に示される洗浄プール208の構成及び機能と同様である。 The cleaning pool 214 is disposed at the first reagent probe cleaning position P5. The configuration and function of the cleaning pool 214 are the same as the configuration and function of the cleaning pool 208 shown in FIG.
第1試薬分注プローブ211を洗浄する洗浄機構の構成及び機能については、図4に示されるサンプル分注プローブ205を洗浄する洗浄機構の構成及び機能と同様である。 The configuration and function of the cleaning mechanism for cleaning the first reagent dispensing probe 211 are the same as the configuration and function of the cleaning mechanism for cleaning the sample dispensing probe 205 shown in FIG.
第2試薬分注アーム216は、試薬庫202とラック投入ユニット230との間に、鉛直方向には上下動自在に水平方向には回動自在に設けられている。第2試薬分注アーム216は、一端に第2試薬分注プローブ217を保持する。第2試薬分注アーム216は、駆動機構4によって回動される。第2試薬分注アーム216が回動されることにより、第2試薬分注プローブ217は、円弧状の回動軌道に沿って回動される。この回動軌道上には、第2試薬分注プローブ217が、試薬庫202の内円2022上に配置される試薬容器101から各検査項目に対応する第2試薬を吸引する試薬吸引位置と、吸引した第2試薬を反応管2011へ吐出する第2試薬吐出位置P6とが設定されている。第2試薬分注プローブ217の回動軌跡は、試薬庫202の内円2022上に配置される試薬容器(の試薬吸引口)の移動軌跡、反応ディスク201に保持されている反応管2011の移動軌跡それぞれと交差している。それぞれの移動軌跡との交差点が、試薬吸引位置、第2試薬吐出位置P6である。 The second reagent dispensing arm 216 is provided between the reagent storage 202 and the rack loading unit 230 so as to be movable up and down in the vertical direction and rotatable in the horizontal direction. The second reagent dispensing arm 216 holds the second reagent dispensing probe 217 at one end. The second reagent dispensing arm 216 is rotated by the drive mechanism 4. As the second reagent dispensing arm 216 is rotated, the second reagent dispensing probe 217 is rotated along an arcuate rotation trajectory. A reagent aspirating position where the second reagent dispensing probe 217 aspirates the second reagent corresponding to each inspection item from the reagent container 101 disposed on the inner circle 2022 of the reagent storage 202 on the rotation trajectory, A second reagent discharge position P6 for discharging the sucked second reagent to the reaction tube 2011 is set. The rotation trajectory of the second reagent dispensing probe 217 is the movement trajectory of the reagent container (reagent suction port) arranged on the inner circle 2022 of the reagent storage 202, and the movement of the reaction tube 2011 held on the reaction disk 201. Crosses with each trajectory. The intersections with the respective movement trajectories are the reagent suction position and the second reagent discharge position P6.
第2試薬分注プローブ217は、駆動機構4によって駆動され、回動軌道上の試薬吸引位置、及び第2試薬吐出位置P6において上下方向に移動する。また、第2試薬分注プローブ217は、制御回路8の制御に従い、回動軌道上の試薬吸引位置に位置する試薬容器101から第2試薬を吸引する。また、第2試薬分注プローブ217は、制御回路8の制御に従い、吸引した第2試薬を、第2試薬吐出位置P6に位置する反応管2011へ吐出する。 The second reagent dispensing probe 217 is driven by the drive mechanism 4 and moves in the vertical direction at the reagent suction position on the rotation path and the second reagent discharge position P6. In addition, the second reagent dispensing probe 217 sucks the second reagent from the reagent container 101 located at the reagent suction position on the rotation path in accordance with the control of the control circuit 8. The second reagent dispensing probe 217 discharges the aspirated second reagent to the reaction tube 2011 located at the second reagent discharge position P6 according to the control of the control circuit 8.
液面検知器219の構成及び機能については、液面検知器207と同様である。 The configuration and function of the liquid level detector 219 are the same as those of the liquid level detector 207.
洗浄プール220は、第2試薬プローブ洗浄位置P7に配置されている。洗浄プール220の構成及び機能は、図4に示される洗浄プール208の構成及び機能と同様である。 The cleaning pool 220 is disposed at the second reagent probe cleaning position P7. The configuration and function of the cleaning pool 220 are the same as the configuration and function of the cleaning pool 208 shown in FIG.
第2試薬分注プローブ217を洗浄する洗浄機構の構成及び機能については、図4に示されるサンプル分注プローブ205を洗浄する洗浄機構の構成及び機能と同様である。 The configuration and function of the cleaning mechanism for cleaning the second reagent dispensing probe 217 are the same as the configuration and function of the cleaning mechanism for cleaning the sample dispensing probe 205 shown in FIG.
第1撹拌ユニット222、及び第2撹拌ユニット223は、撹拌アーム、及び撹拌子をそれぞれ有する。撹拌アームは、先端近傍に、回動可能、且つ、上下動可能に撹拌子を支持する。第1撹拌ユニット222は、制御回路8の制御に従い、反応ディスク201における撹拌位置に位置する反応管2011へ撹拌子を移動させ、撹拌子により反応管2011内で試料及び第1試薬を混合した混合液、すなわち第1薬分注後の反応管2011内の混合液を撹拌する。第2撹拌ユニット223は、制御回路8の制御に従い、反応ディスク201における撹拌位置に位置する反応管2011へ撹拌子を移動させ、撹拌子により反応管2011内で試料、第1試薬、及び第2試薬を混合した混合液、すなわち第2試薬分注後の反応管2011内の混合液を撹拌する。 The first stirring unit 222 and the second stirring unit 223 have a stirring arm and a stirring bar, respectively. The stirring arm supports the stirring bar in the vicinity of the tip so as to be rotatable and movable up and down. The first stirring unit 222 moves the stirrer to the reaction tube 2011 located at the stirring position in the reaction disk 201 in accordance with the control of the control circuit 8 and mixes the sample and the first reagent in the reaction tube 2011 by the stirrer. The liquid, that is, the mixed liquid in the reaction tube 2011 after the first medicine is dispensed is stirred. The second stirring unit 223 moves the stirrer to the reaction tube 2011 located at the stirring position in the reaction disk 201 according to the control of the control circuit 8, and the sample, the first reagent, and the second reagent in the reaction tube 2011 by the stirrer. The mixed liquid in which the reagent is mixed, that is, the mixed liquid in the reaction tube 2011 after dispensing the second reagent is stirred.
また、図2及び図3に示される分析機構2は、測光ユニット224、洗浄ユニット225、及び電解質測定ユニット226を備える。
測光ユニット224は、反応管2011内に吐出された試料及び試薬の混合液等に光を照射し、当該混合液等を通過した光を光学的に測定する。測光ユニット224は、光源、及び光検出器を有する。測光ユニット224は、制御回路8の制御に従い、光源から反応管2011へ光を照射する。光検出器は、反応管2011内の標準試料と試薬との混合液、又は被検試料と試薬との混合液を通過した光を検出する。光検出器は、検出した光の強度に基づいて例えば吸光度で表される標準データ又は被検データを生成する。測光ユニット224は、生成した標準データ及び被検データを、解析回路3へ出力する。
2 and 3 includes a photometric unit 224, a cleaning unit 225, and an electrolyte measurement unit 226.
The photometry unit 224 irradiates light to the mixed solution of the sample and reagent discharged into the reaction tube 2011, and optically measures the light that has passed through the mixed solution. The photometric unit 224 has a light source and a photodetector. The photometric unit 224 emits light from the light source to the reaction tube 2011 under the control of the control circuit 8. The photodetector detects light that has passed through the mixed solution of the standard sample and the reagent in the reaction tube 2011 or the mixed solution of the sample to be tested and the reagent. The photodetector generates standard data or test data represented by, for example, absorbance based on the detected light intensity. The photometry unit 224 outputs the generated standard data and test data to the analysis circuit 3.
洗浄ユニット225は、廃液ノズル、洗浄ノズル、及び乾燥ノズルを備える。洗浄ユニット225は、廃液ノズルにより、反応管洗浄位置に位置する反応管2011内の混合液を廃液として吸引する。洗浄ユニット225は、洗浄ノズルにより、反応管洗浄位置に位置する反応管2011へ洗浄液を吐出し、反応管2011を洗浄する。洗浄ユニット225は、乾燥ノズルにより、反応管2011へ乾燥空気を供給することで、洗浄液により洗浄された反応管2011を乾燥させる。 The cleaning unit 225 includes a waste liquid nozzle, a cleaning nozzle, and a drying nozzle. The cleaning unit 225 sucks the mixed liquid in the reaction tube 2011 located at the reaction tube cleaning position as waste liquid by the waste liquid nozzle. The cleaning unit 225 cleans the reaction tube 2011 by discharging a cleaning solution to the reaction tube 2011 located at the reaction tube cleaning position by the cleaning nozzle. The cleaning unit 225 dries the reaction tube 2011 cleaned with the cleaning liquid by supplying dry air to the reaction tube 2011 with a drying nozzle.
電解質測定ユニット226は、反応管2011内の混合液中に存在する特定電解質の測定を行う。電解質測定ユニット226は、例えば特定電解質から発生するイオン濃度を測定する。 The electrolyte measurement unit 226 measures a specific electrolyte present in the mixed liquid in the reaction tube 2011. The electrolyte measurement unit 226 measures, for example, the concentration of ions generated from a specific electrolyte.
本実施形態に係る制御回路8は、記憶回路7から読み出した動作プログラムを実行することで、図1に示される各種機能を実現する。すなわち、制御回路8は、システム制御機能81、洗浄液量算出機能82、洗浄液量判定機能83、及び洗浄液量調整機能84を備える。なお、本実施形態では、単一のプロセッサによってシステム制御機能81、洗浄液量算出機能82、洗浄液量判定機能83、及び洗浄液量調整機能84が実現される場合を説明するが、これに限定されない。例えば、複数の独立したプロセッサを組み合わせて制御回路を構成し、各プロセッサが動作プログラムを実行することによりシステム制御機能81、洗浄液量算出機能82、洗浄液量判定機能83、及び洗浄液量調整機能84を実現しても構わない。 The control circuit 8 according to the present embodiment implements various functions shown in FIG. 1 by executing the operation program read from the storage circuit 7. That is, the control circuit 8 includes a system control function 81, a cleaning liquid amount calculation function 82, a cleaning liquid amount determination function 83, and a cleaning liquid amount adjustment function 84. In the present embodiment, a case where the system control function 81, the cleaning liquid amount calculation function 82, the cleaning liquid amount determination function 83, and the cleaning liquid amount adjustment function 84 are realized by a single processor will be described, but the present invention is not limited to this. For example, a control circuit is configured by combining a plurality of independent processors, and each processor executes an operation program, whereby a system control function 81, a cleaning liquid amount calculation function 82, a cleaning liquid amount determination function 83, and a cleaning liquid amount adjustment function 84 are provided. It does not matter if it is realized.
システム制御機能81は、入力インタフェース5から入力される入力情報に基づき、自動分析装置1における各部を統括して制御する機能である。システム制御機能81が実行されると、制御回路8は、入力情報に基づき、駆動機構4を制御し、駆動パルスをステッピングモータに供給することで、サンプル分注プローブ205、第1試薬分注プローブ211、及び第2試薬分注プローブ217の上下移動を制御する。また、制御回路8は、入力情報に基づき、例えば電磁弁294の開閉を制御する。 The system control function 81 is a function that controls each unit in the automatic analyzer 1 based on input information input from the input interface 5. When the system control function 81 is executed, the control circuit 8 controls the drive mechanism 4 based on the input information and supplies the drive pulse to the stepping motor, whereby the sample dispensing probe 205 and the first reagent dispensing probe are supplied. 211 and the vertical movement of the second reagent dispensing probe 217 are controlled. Further, the control circuit 8 controls, for example, opening / closing of the electromagnetic valve 294 based on the input information.
洗浄液量算出機能82は、自動分析装置1が備える洗浄プールに吐出される洗浄液量を算出する機能である。洗浄液量算出機能82が実行されると、制御回路8は、例えば2回の液面検知の結果に基づいて洗浄液量を算出する。 The cleaning liquid amount calculation function 82 is a function for calculating the amount of cleaning liquid discharged to the cleaning pool provided in the automatic analyzer 1. When the cleaning liquid amount calculation function 82 is executed, the control circuit 8 calculates the cleaning liquid amount based on, for example, the results of two liquid level detections.
具体的には、制御回路8は、液面検知器207から1回目のサンプル分注プローブ205の接触に関する検出信号を受信するまで待機する。制御回路8は、1回目の液面検知における検出信号を受信すると、例えばサンプル分注プローブ205の先端が上下動の初期位置(待機位置)から下降を開始し、洗浄プールに貯留された洗浄液に接触するまでに供給された駆動パルスの数に基づいて、第1の下降量を算出する。 Specifically, the control circuit 8 stands by until a detection signal related to the first contact with the sample dispensing probe 205 is received from the liquid level detector 207. When the control circuit 8 receives the detection signal in the first liquid level detection, for example, the tip of the sample dispensing probe 205 starts to descend from the initial position (standby position) of the vertical movement, and the cleaning liquid stored in the cleaning pool The first descending amount is calculated based on the number of driving pulses supplied until the contact.
制御回路8は、第1の下降量を算出した後、液面検知器207から2回目のサンプル分注プローブ205の接触に関する検出信号を受信するまで待機する。また、制御回路8は、2回目の液面検知における検出信号を受信すると、例えばサンプル分注プローブ205の先端が上下動の初期位置から下降を開始し、洗浄プールに貯留された洗浄液に接触するまでに供給された駆動パルスの数に基づいて、第2の下降量を算出する。制御回路8は、算出された第2の下降量と第1の下降量との差分値を算出する。これにより、制御回路8は、1回目の液面検知の後に洗浄プールに供給された洗浄液量を認識する。 After calculating the first descending amount, the control circuit 8 waits until a detection signal related to the second contact with the sample dispensing probe 205 is received from the liquid level detector 207. Further, when the control circuit 8 receives the detection signal in the second liquid level detection, for example, the tip of the sample dispensing probe 205 starts to descend from the initial vertical movement position and comes into contact with the cleaning liquid stored in the cleaning pool. Based on the number of driving pulses supplied until then, the second descending amount is calculated. The control circuit 8 calculates a difference value between the calculated second descending amount and the first descending amount. As a result, the control circuit 8 recognizes the amount of the cleaning liquid supplied to the cleaning pool after the first liquid level detection.
洗浄液量判定機能83は、洗浄プールに供給された洗浄液量が所定の範囲に収まるか否か判定する機能である。洗浄液量判定機能83が実行されると、制御回路8は、洗浄液量算出機能82により算出された下降量の差分値に基づいて、例えば洗浄プール208に吐出された洗浄液量が所定の範囲に収まるか否か判定する。 The cleaning liquid amount determination function 83 is a function for determining whether or not the cleaning liquid amount supplied to the cleaning pool falls within a predetermined range. When the cleaning liquid amount determination function 83 is executed, the control circuit 8 causes the cleaning liquid amount discharged to the cleaning pool 208 to fall within a predetermined range based on the difference value of the descending amount calculated by the cleaning liquid amount calculation function 82, for example. It is determined whether or not.
洗浄液量調整機能84は、洗浄プールに吐出される洗浄液量を調整する機能である。洗浄液量調整機能84が実行されると、制御回路8は、洗浄液量判定機能83の判定結果に基づき、例えば電磁弁288を制御し、電磁弁288に印加される電流の大きさを変化させることにより、電磁弁288の開口度を調整する。また、制御回路8は、電磁弁288に印加されるパルス電圧の繰返し周期に対するパルス幅の比率を示すデューディー比を変化させることにより、電磁弁288の開口時間を調整する。また、制御回路8は、洗浄液量判定機能83の判定結果に基づき、例えば電磁弁285を制御し、電磁弁285に印加される電流の大きさを変化させることにより、電磁弁285の開口度を調整する。また、制御回路8は、電磁弁285に印加されるパルス電圧の繰返し周期に対するパルス幅の比率を示すデューディー比を変化させることにより、電磁弁285の開口時間を調整する。 The cleaning liquid amount adjusting function 84 is a function for adjusting the amount of cleaning liquid discharged to the cleaning pool. When the cleaning liquid amount adjustment function 84 is executed, the control circuit 8 controls, for example, the electromagnetic valve 288 based on the determination result of the cleaning liquid amount determination function 83 to change the magnitude of the current applied to the electromagnetic valve 288. Thus, the opening degree of the electromagnetic valve 288 is adjusted. Further, the control circuit 8 adjusts the opening time of the electromagnetic valve 288 by changing the duty ratio indicating the ratio of the pulse width to the repetition period of the pulse voltage applied to the electromagnetic valve 288. Further, the control circuit 8 controls the electromagnetic valve 285, for example, based on the determination result of the cleaning liquid amount determination function 83, and changes the magnitude of the current applied to the electromagnetic valve 285, thereby changing the opening degree of the electromagnetic valve 285. adjust. Further, the control circuit 8 adjusts the opening time of the electromagnetic valve 285 by changing the duty ratio indicating the ratio of the pulse width to the repetition period of the pulse voltage applied to the electromagnetic valve 285.
次に、本実施形態に係る自動分析装置1の動作について説明する。図5は、本実施形態に係る制御回路8が洗浄プール208に供給される洗浄液量が所定の範囲に収まらない場合に、電磁弁288を制御して洗浄液量を調整する流れの例を示すフローチャートである。以下では、定期メンテナンス時に、入力インタフェース5を介し、洗浄ポンプ287から洗浄プール208内に向けて供給される洗浄液量をチェックし、調整するための所定の指示が入力された場合を例に説明する。このとき、図4に示される洗浄機構が備える電磁弁294は、開放されているものとする。また、電磁弁288は、リニアソレノイド弁であるものとする。また、予め設定されている電磁弁288の開口度によって調整される洗浄液量は、許容される所定の範囲に収まらないものとする。なお、電磁弁288は、デューティーソレノイド弁であってもよいし、弁の開口度、及び、開口時間を同時に制御可能な弁であってもよい。 Next, the operation of the automatic analyzer 1 according to this embodiment will be described. FIG. 5 is a flowchart showing an example of a flow in which the control circuit 8 according to the present embodiment controls the electromagnetic valve 288 to adjust the cleaning liquid amount when the cleaning liquid amount supplied to the cleaning pool 208 does not fall within a predetermined range. It is. Hereinafter, a case where a predetermined instruction for checking and adjusting the amount of the cleaning liquid supplied from the cleaning pump 287 into the cleaning pool 208 via the input interface 5 during the regular maintenance will be described as an example. . At this time, it is assumed that the electromagnetic valve 294 provided in the cleaning mechanism shown in FIG. 4 is opened. The electromagnetic valve 288 is assumed to be a linear solenoid valve. In addition, it is assumed that the amount of cleaning liquid adjusted by the preset opening degree of the electromagnetic valve 288 does not fall within a predetermined allowable range. The solenoid valve 288 may be a duty solenoid valve, or a valve capable of controlling the opening degree and the opening time of the valve at the same time.
制御回路8は、所定の指示が入力されると、システム制御機能81を実行し、電磁弁294を閉鎖する(ステップSA1)。これにより、洗浄プール208は、洗浄プール208内に吐出された洗浄液を貯留可能となる。 When a predetermined instruction is input, the control circuit 8 executes the system control function 81 and closes the electromagnetic valve 294 (step SA1). Thereby, the cleaning pool 208 can store the cleaning liquid discharged into the cleaning pool 208.
制御回路8は、駆動機構4及び電磁弁288を制御し、洗浄ポンプ287から洗浄プール208内に向けて洗浄液を供給する(ステップSA2)。吐出された洗浄液は、洗浄プール208内に貯留される。このとき、供給される洗浄液の量は、例えば洗浄プール208内を断面の形状が一定となる高さまで貯留可能な量である。 The control circuit 8 controls the drive mechanism 4 and the electromagnetic valve 288, and supplies the cleaning liquid from the cleaning pump 287 toward the cleaning pool 208 (step SA2). The discharged cleaning liquid is stored in the cleaning pool 208. At this time, the amount of the cleaning liquid supplied is, for example, an amount that can be stored in the cleaning pool 208 to a height at which the cross-sectional shape becomes constant.
制御回路8は、システム制御機能81を実行し、サンプル分注プローブ205の先端を上下動の初期位置から洗浄液の液面が検知されるまで下降させる(ステップSA3)。 The control circuit 8 executes the system control function 81 and lowers the tip of the sample dispensing probe 205 from the initial position of the vertical movement until the cleaning liquid level is detected (step SA3).
制御回路8は、液面検知器207からのサンプル分注プローブ205の接触に関する検出信号を受信すると、洗浄液量算出機能82を実行し、ステップSA3においてサンプル分注プローブ205の先端が上下動の初期位置から下降を開始し、洗浄プールに貯留された洗浄液に接触するまでに供給された駆動パルスの数に基づいて、第1の下降量を算出する(ステップSA4)。 When receiving the detection signal related to the contact of the sample dispensing probe 205 from the liquid level detector 207, the control circuit 8 executes the cleaning liquid amount calculation function 82, and the tip of the sample dispensing probe 205 is initially moved up and down in step SA3. The first descent amount is calculated based on the number of drive pulses that are started from the position and come into contact with the cleaning liquid stored in the cleaning pool (step SA4).
制御回路8は、システム制御機能81を実行し、サンプル分注プローブ205の先端を洗浄液の液面から上下動の初期位置まで上昇させる。そして、制御回路8は、駆動機構4及び電磁弁288を制御し、洗浄ポンプ287から洗浄プール208内に向けて所定量の洗浄液を供給する(ステップSA5)。 The control circuit 8 executes the system control function 81 to raise the tip of the sample dispensing probe 205 from the liquid level of the cleaning liquid to the initial position of the vertical movement. Then, the control circuit 8 controls the drive mechanism 4 and the electromagnetic valve 288, and supplies a predetermined amount of cleaning liquid from the cleaning pump 287 toward the cleaning pool 208 (step SA5).
制御回路8は、システム制御機能81を実行し、サンプル分注プローブ205の先端を上下動の初期位置から洗浄液の液面が検知されるまで下降させる(ステップSA6)。 The control circuit 8 executes the system control function 81 and lowers the tip of the sample dispensing probe 205 from the initial position of vertical movement until the liquid level of the cleaning liquid is detected (step SA6).
制御回路8は、液面検知器207からのサンプル分注プローブ205の接触に関する検出信号を受信すると、洗浄液量算出機能82により、ステップSA3においてサンプル分注プローブ205の先端が上下動の初期位置から下降を開始し、洗浄プール208に貯留された洗浄液に接触するまでに供給された駆動パルスの数に基づいて、第2の下降量を算出する。そして、制御回路8は、算出された第2の下降量とステップSA4において算出された第1の下降量との差分値を算出する(ステップSA7)。制御回路8は、例えば、算出された下降量の差分値と、記憶回路7に記憶された洗浄プール208の断面積とに基づいて、ステップSA5において供給された洗浄液量を認識する。 When the control circuit 8 receives a detection signal relating to the contact of the sample dispensing probe 205 from the liquid level detector 207, the cleaning liquid amount calculation function 82 causes the tip of the sample dispensing probe 205 to move from the initial vertical movement position in step SA3. The second descending amount is calculated based on the number of drive pulses supplied until the descent starts and the cleaning liquid stored in the cleaning pool 208 comes into contact. Then, the control circuit 8 calculates a difference value between the calculated second descending amount and the first descending amount calculated in Step SA4 (Step SA7). The control circuit 8 recognizes the amount of cleaning liquid supplied in step SA5 based on, for example, the calculated difference value of the descent amount and the cross-sectional area of the cleaning pool 208 stored in the storage circuit 7.
制御回路8は、算出した下降量の差分値に基づいて、洗浄プール208に供給された洗浄液量が所定の範囲に収まるか否か判定する(ステップSA8)。具体的には、制御回路8は、算出した下降量の差分値と、予め設定された閾値D1及びD1より小さい閾値D2とを比較することにより、洗浄プール208に供給された洗浄液量が所定の範囲に収まるか否か判定する。本実施形態では、算出された下降量の差分値が閾値D1より大きい、又は閾値D2より小さいため、制御回路8は、洗浄プール208に供給された洗浄液量は所定の範囲に収まらないと判定し(ステップSA8のNo)、洗浄液量が過剰であるか否か、すなわち算出された下降量の差分値が閾値D1より大きいか否か判定する(ステップSA9)。 The control circuit 8 determines whether or not the amount of cleaning liquid supplied to the cleaning pool 208 falls within a predetermined range based on the calculated difference value of the descending amount (step SA8). Specifically, the control circuit 8 compares the calculated difference value of the descent amount with a threshold value D2 that is smaller than the preset threshold values D1 and D1, so that the amount of the cleaning liquid supplied to the cleaning pool 208 is a predetermined value. It is determined whether it falls within the range. In the present embodiment, since the calculated difference value of the descending amount is larger than the threshold value D1 or smaller than the threshold value D2, the control circuit 8 determines that the cleaning liquid amount supplied to the cleaning pool 208 does not fall within a predetermined range. (No in Step SA8), it is determined whether or not the amount of the cleaning liquid is excessive, that is, whether or not the calculated difference value of the descending amount is larger than the threshold value D1 (Step SA9).
制御回路8は、洗浄液量が過剰であると判定した場合(ステップSA69Yes)、電磁弁288を制御し、洗浄ポンプ287から供給される洗浄液量が正常範囲になるように、すなわち算出される下降量の差分値が閾値D1以下になるように電磁弁288の開口度を小さくする(ステップSA10)。 When the control circuit 8 determines that the amount of the cleaning liquid is excessive (step SA69 Yes), the control circuit 8 controls the electromagnetic valve 288 so that the amount of the cleaning liquid supplied from the cleaning pump 287 falls within the normal range, that is, the calculated decrease amount The degree of opening of the electromagnetic valve 288 is reduced so that the difference value of the value becomes equal to or less than the threshold value D1 (step SA10).
制御回路8は、洗浄液量が過剰でない、すなわち算出された下降量の差分値が閾値D2より小さいと判定した場合(ステップSA9のNo)、電磁弁288を制御し、洗浄ポンプ287から供給される洗浄液量が正常範囲になるように、すなわち算出される下降量の差分値が閾値D2以上になるように電磁弁288の開口度を大きくする(ステップSA11)。 When the control circuit 8 determines that the amount of the cleaning liquid is not excessive, that is, the calculated difference value of the descending amount is smaller than the threshold value D2 (No in Step SA9), the control circuit 8 controls the electromagnetic valve 288 and is supplied from the cleaning pump 287. The degree of opening of the electromagnetic valve 288 is increased so that the cleaning liquid amount falls within the normal range, that is, the difference value of the calculated lowering amount is equal to or greater than the threshold value D2 (step SA11).
ステップSA10又はステップSA11の後、制御回路8は、電磁弁294を制御し、電磁弁294を開放することにより、洗浄プール208から洗浄液を排出する(ステップSA12)。その後、制御回路8は、再びステップSA1からステップSA8までを実行し、ステップSA10又はステップSA11において調整した結果が適切であることを検証する。 After step SA10 or step SA11, the control circuit 8 controls the electromagnetic valve 294 to open the electromagnetic valve 294, thereby discharging the cleaning liquid from the cleaning pool 208 (step SA12). Thereafter, the control circuit 8 executes steps SA1 to SA8 again, and verifies that the result adjusted in step SA10 or step SA11 is appropriate.
なお、ステップSA5において、制御回路8は、算出された下降量の差分値がD2以上D1以下である、すなわち所定の範囲に収まると判定した場合(ステップSA9のYes)、一連の洗浄液量をチェックする処理を終了する。 In step SA5, the control circuit 8 checks a series of cleaning liquid amounts when it is determined that the calculated difference value of the descent amount is not less than D2 and not more than D1, that is, falls within a predetermined range (Yes in step SA9). To finish the processing.
上記実施形態によれば、制御回路8は、駆動機構4を制御し、例えば洗浄プール208に所定量の洗浄液を供給し、洗浄プール208に洗浄液を貯留する。制御回路8は、サンプル分注プローブ205が洗浄プール208内に貯留された洗浄液に接触する際に取得される検出信号を液面検知器207から受信する。制御回路8は、液面検知器207から受信した検出信号に基づいて、洗浄プール208に吐出された洗浄液の洗浄液量を示すサンプル分注プローブ205の下降量の差分値を算出する。制御回路8は、算出されたサンプル分注プローブ205の下降量の差分値と、予め設定された閾値D1及び閾値D2を比較することにより、洗浄ポンプ287から供給された洗浄液量が所定の範囲に収まるか否かを判定する。制御回路8は、洗浄ポンプ287から供給された洗浄液量が所定の範囲に収まらないと判定した場合、電磁弁288を制御し、洗浄ポンプ287から供給される洗浄液量が適正範囲になるように洗浄プール208に供給される洗浄液量を調整する。 According to the embodiment, the control circuit 8 controls the drive mechanism 4 to supply a predetermined amount of cleaning liquid to the cleaning pool 208 and store the cleaning liquid in the cleaning pool 208, for example. The control circuit 8 receives from the liquid level detector 207 a detection signal acquired when the sample dispensing probe 205 comes into contact with the cleaning liquid stored in the cleaning pool 208. Based on the detection signal received from the liquid level detector 207, the control circuit 8 calculates a difference value of the descending amount of the sample dispensing probe 205 indicating the amount of the cleaning liquid discharged to the cleaning pool 208. The control circuit 8 compares the calculated difference value of the descending amount of the sample dispensing probe 205 with the threshold values D1 and D2 set in advance, so that the amount of the cleaning liquid supplied from the cleaning pump 287 falls within a predetermined range. Judge whether it fits. When the control circuit 8 determines that the amount of cleaning liquid supplied from the cleaning pump 287 does not fall within a predetermined range, the control circuit 8 controls the electromagnetic valve 288 to perform cleaning so that the amount of cleaning liquid supplied from the cleaning pump 287 falls within an appropriate range. The amount of cleaning liquid supplied to the pool 208 is adjusted.
これにより、ポンプの経年劣化による性能低下、単一故障、及び流路詰まり等により、洗浄プールに供給される洗浄液量が変化してしまった場合でも自動的に洗浄液量を調整することができる。また、洗浄プール内に洗浄液が貯留されるため、溜め洗いにより洗浄プール内が洗浄されることが期待できる。 As a result, even when the amount of cleaning liquid supplied to the cleaning pool has changed due to performance degradation due to deterioration over time of the pump, single failure, flow path clogging, or the like, the amount of cleaning liquid can be automatically adjusted. Further, since the cleaning liquid is stored in the cleaning pool, it can be expected that the cleaning pool is cleaned by pool cleaning.
したがって、本実施形態に係る自動分析装置によれば、測定データの精度維持、及び装置管理者等の負担軽減を実現することが可能となる。 Therefore, according to the automatic analyzer according to the present embodiment, it is possible to maintain the accuracy of the measurement data and reduce the burden on the device manager or the like.
[変形例]
上記実施形態では、自動分析装置が、例えば液面検知器207から出力されるサンプル分注プローブ205の接触に関する検出信号を利用して洗浄プールに貯留された洗浄液量が所定の範囲に収まるか否か判定する場合について説明した。通常、液面検知器207により検出される検出信号には、サンプル分注プローブ205が液面に接触する際に取得される電位に関する情報が含まれる。変形例では、自動分析装置が、上記洗浄液量が所定の範囲に収まるか否かの判定に加え、洗浄液量が所定の範囲に収まる場合には、液面検知器207により検出される検出信号に含まれる電位の値に基づいて汚染度を認識し、認識した汚染度に応じて洗浄プールが汚染されているか否か判定する場合について説明する。
[Modification]
In the above-described embodiment, whether or not the amount of the cleaning liquid stored in the cleaning pool falls within a predetermined range using the detection signal related to the contact of the sample dispensing probe 205 output from the liquid level detector 207, for example. The case where it is determined has been described. Normally, the detection signal detected by the liquid level detector 207 includes information on the potential acquired when the sample dispensing probe 205 comes into contact with the liquid level. In a modified example, in addition to determining whether or not the amount of the cleaning liquid falls within a predetermined range, the automatic analyzer uses the detection signal detected by the liquid level detector 207 when the amount of the cleaning liquid falls within the predetermined range. A case will be described in which the contamination level is recognized based on the included potential value, and it is determined whether or not the cleaning pool is contaminated according to the recognized contamination level.
図6は、変形例に係る自動分析装置1Aの機能構成を示すブロック図である。図1に示される自動分析装置1Aは、分析機構2、解析回路3、駆動機構4、入力インタフェース5、表示回路6、記憶回路7、及び制御回路8Aを具備する。 FIG. 6 is a block diagram showing a functional configuration of the automatic analyzer 1A according to the modification. An automatic analyzer 1A illustrated in FIG. 1 includes an analysis mechanism 2, an analysis circuit 3, a drive mechanism 4, an input interface 5, a display circuit 6, a storage circuit 7, and a control circuit 8A.
変形例に係る制御回路8Aは、記憶回路7から読み出した動作プログラムを実行することで、図6に示される各種機能を実現する。すなわち、制御回路8Aは、システム制御機能81、洗浄液量算出機能82、洗浄液量判定機能83、洗浄液量調整機能84、汚染判定機能85、及び出力制御機能86を備える。 The control circuit 8A according to the modification implements various functions shown in FIG. 6 by executing the operation program read from the storage circuit 7. That is, the control circuit 8A includes a system control function 81, a cleaning liquid amount calculation function 82, a cleaning liquid amount determination function 83, a cleaning liquid amount adjustment function 84, a contamination determination function 85, and an output control function 86.
汚染判定機能85は、自動分析装置1Aが備える洗浄プールに貯留されている洗浄液の汚染度に応じて洗浄プールが汚染されているか否かを判定する機能である。汚染判定機能85が実行されると、制御回路8Aは、液面検知器207から出力される検出信号から電位の値を取得する。制御回路8Aは、取得した電位の値と、予め設定された閾値とを比較することにより、汚染度を認識する。制御回路8Aは、認識した汚染度に応じて、洗浄プール208が汚染されているか否か判定する。 The contamination determination function 85 is a function for determining whether or not the cleaning pool is contaminated according to the contamination degree of the cleaning liquid stored in the cleaning pool provided in the automatic analyzer 1A. When the contamination determination function 85 is executed, the control circuit 8A acquires the potential value from the detection signal output from the liquid level detector 207. The control circuit 8A recognizes the contamination level by comparing the acquired potential value with a preset threshold value. The control circuit 8A determines whether or not the cleaning pool 208 is contaminated according to the recognized degree of contamination.
出力制御機能86は、装置管理者等に自動分析装置1Aが備える洗浄プールが汚染されている旨を報知する機能である。出力制御機能86が実行されると、制御回路8Aは、表示回路6を制御し、例えば汚染判定機能85により洗浄プール208が汚染されていると判定された場合、洗浄プール208が汚染されている旨を表示する。 The output control function 86 is a function for notifying an apparatus administrator or the like that the cleaning pool included in the automatic analyzer 1A is contaminated. When the output control function 86 is executed, the control circuit 8A controls the display circuit 6, and when the cleaning pool 208 is determined to be contaminated by the contamination determination function 85, for example, the cleaning pool 208 is contaminated. A message is displayed.
次に、本実施形態に係る自動分析装置1Aの動作について説明する。図7は、変形例に係る制御回路8Aが、洗浄プール208は汚染されていると判定した場合に、外部に当該洗浄プール208が汚染されている旨を報知する流れを示すフローチャートである。以下では、定期メンテナンス時に、入力インタフェース5を介し、洗浄ポンプ287から洗浄プール208内に供給される洗浄液量をチェックし、調整するための所定の指示が入力された場合を例に説明する。このとき、図4に示される洗浄機構が備える電磁弁294は、開放されているものとする。また、電磁弁288は、リニアソレノイド弁であるものとする。また、予め設定されている電磁弁288の開口度によって調整される洗浄液量は、許容される範囲内の量であるものとする。なお、電磁弁288は、デューティーソレノイド弁であってもよいし、弁の開口度、及び、開口時間を同時に制御可能な弁であってもよい。 Next, the operation of the automatic analyzer 1A according to this embodiment will be described. FIG. 7 is a flowchart showing a flow of notifying that the cleaning pool 208 is contaminated outside when the control circuit 8A according to the modification determines that the cleaning pool 208 is contaminated. Hereinafter, a case will be described as an example where a predetermined instruction for checking and adjusting the amount of the cleaning liquid supplied from the cleaning pump 287 into the cleaning pool 208 is input via the input interface 5 during the periodic maintenance. At this time, it is assumed that the electromagnetic valve 294 provided in the cleaning mechanism shown in FIG. 4 is opened. The electromagnetic valve 288 is assumed to be a linear solenoid valve. In addition, it is assumed that the amount of the cleaning liquid adjusted by the preset opening degree of the electromagnetic valve 288 is within an allowable range. The solenoid valve 288 may be a duty solenoid valve, or a valve capable of controlling the opening degree and the opening time of the valve at the same time.
図7に示されるステップSB1からステップSB12までの動作は、図5に示されるステップSA1からステップSA12までと同様である。 The operation from step SB1 to step SB12 shown in FIG. 7 is the same as that from step SA1 to step SA12 shown in FIG.
制御回路8Aは、ステップSB8において洗浄プール208に吐出された洗浄液量が所定の範囲に収まると判定すると(ステップSB8のYes)、汚染判定機能85を実行する(ステップSB13)。汚染判定機能85の実行により制御回路8Aは、例えばステップSB7において液面検知器207から受信した検出信号から電位の値を取得する。制御回路8Aは、取得した電位の値と、予め設定された閾値とを比較することにより、汚染度を認識する。制御回路8Aは、認識した汚染度に応じて、洗浄プール208が汚染されているか否か判定する。 If the control circuit 8A determines that the amount of the cleaning liquid discharged to the cleaning pool 208 in step SB8 falls within a predetermined range (Yes in step SB8), the control circuit 8A executes the contamination determination function 85 (step SB13). By executing the contamination determination function 85, the control circuit 8A acquires the value of the potential from the detection signal received from the liquid level detector 207 in step SB7, for example. The control circuit 8A recognizes the contamination level by comparing the acquired potential value with a preset threshold value. The control circuit 8A determines whether or not the cleaning pool 208 is contaminated according to the recognized degree of contamination.
図8は、変形例に係る制御回路8Aが洗浄プール208が汚染されているか否か判定する方法の例を説明するための図である。図8に示されるグラフの縦軸は電位の変化量を表す。図8では、2つの閾値T0及びThが予め設定されている。制御回路8Aは、取得した電位の値が閾値T0と等しい場合、「汚染なし」と認識する。このとき、制御回路8Aは、洗浄プール208は汚染されていないと判定する。制御回路8Aは、取得した電位の値が閾値Thを超える場合、「汚染度大」と認識する。このとき、制御回路8Aは、洗浄プール208は汚染されていると判定する。なお、制御回路8Aは、取得した電位の値がT0以上Th以下である場合、「汚染度小」と認識する。このとき、制御回路8Aは、洗浄プール208は汚染されていないと判定する。本フローチャートでは、取得した電位の値が閾値Thを超える場合について説明する。 FIG. 8 is a diagram for explaining an example of a method by which the control circuit 8A according to the modification determines whether or not the cleaning pool 208 is contaminated. The vertical axis of the graph shown in FIG. 8 represents the amount of change in potential. In FIG. 8, two threshold values T0 and Th are preset. When the acquired potential value is equal to the threshold value T0, the control circuit 8A recognizes “no contamination”. At this time, the control circuit 8A determines that the cleaning pool 208 is not contaminated. When the acquired potential value exceeds the threshold Th, the control circuit 8A recognizes that the degree of contamination is high. At this time, the control circuit 8A determines that the cleaning pool 208 is contaminated. Note that the control circuit 8A recognizes that the contamination level is low when the value of the acquired potential is T0 or more and Th or less. At this time, the control circuit 8A determines that the cleaning pool 208 is not contaminated. In this flowchart, a case where the acquired potential value exceeds the threshold Th will be described.
ステップSB13において、取得された電位の値は予め設定される閾値Thより大きいため、制御回路8Aは、洗浄プール208は汚染されていると判定する(ステップSB13のYes)。洗浄プール208は汚染されていると判定すると(ステップSB13のYes)、制御回路8Aは、表示回路6を制御し、洗浄プール208が汚染されている旨を表示する(ステップSB14)。 In step SB13, since the value of the acquired potential is larger than the preset threshold value Th, the control circuit 8A determines that the cleaning pool 208 is contaminated (Yes in step SB13). If it is determined that the cleaning pool 208 is contaminated (Yes in step SB13), the control circuit 8A controls the display circuit 6 to display that the cleaning pool 208 is contaminated (step SB14).
図9は、変形例に係る表示回路6に表示される洗浄プール208が汚染されている旨を通知するための通知画面の例である。図9に示されるように、表示回路6には、洗浄プール208の清掃を促すメンテナンスを支援する情報として、通知番号「95」、通知日時「2017/2/19 15:30:55」、及び内容「洗浄プール208の汚染度が閾値を超過しました。洗浄プール208を清掃して下さい」が表示されている。これにより、装置管理者等は、洗浄プール208を清掃しなければならないことを認識できる。 FIG. 9 is an example of a notification screen for notifying that the cleaning pool 208 displayed on the display circuit 6 according to the modification is contaminated. As shown in FIG. 9, the display circuit 6 has a notification number “95”, a notification date and time “2017/2/19 15:30:55” as information for supporting maintenance that prompts cleaning of the cleaning pool 208, and The content “The contamination level of the cleaning pool 208 has exceeded the threshold value. Please clean the cleaning pool 208” is displayed. Thereby, the device manager or the like can recognize that the cleaning pool 208 must be cleaned.
変形例によれば、制御回路8Aは、液面検知器207から受信した検出信号から電位の値を取得する。制御回路8Aは、取得した電位の値と、予め設定された閾値とを比較することにより、汚染度を認識する。制御回路8Aは、認識した汚染度に応じて、洗浄プール208が汚染されているか否か判定する。これにより、例えば洗浄プール208における試料等の汚れによる流路詰まり等の問題に適切なタイミングで対応することが可能となる。 According to the modification, the control circuit 8A acquires the value of the potential from the detection signal received from the liquid level detector 207. The control circuit 8A recognizes the contamination level by comparing the acquired potential value with a preset threshold value. The control circuit 8A determines whether or not the cleaning pool 208 is contaminated according to the recognized degree of contamination. As a result, for example, it is possible to cope with a problem such as clogging of a flow path due to contamination of a sample or the like in the cleaning pool 208 at an appropriate timing.
[他の実施形態]
なお、この発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、変形例に係る制御回路8Aは、図7に示されるフローチャートのステップSB8において洗浄液量が所定の範囲に収まるか否かを判定した後に、ステップSB13において洗浄プール208が汚染されているか否かを判定していたがこれに限定されない。例えば、制御回路8Aは、洗浄プール208内に洗浄液を貯留した直後に、図7に示されるステップSB13及びステップSB14を実行するようにしてもよい。
[Other Embodiments]
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, the control circuit 8A according to the modification example determines whether or not the cleaning pool 208 is contaminated in step SB13 after determining whether or not the cleaning liquid amount falls within a predetermined range in step SB8 of the flowchart shown in FIG. However, it is not limited to this. For example, the control circuit 8A may execute Step SB13 and Step SB14 shown in FIG. 7 immediately after storing the cleaning liquid in the cleaning pool 208.
また、制御回路8Aは、例えば洗浄プール208の汚染度について、液面検知器207から受信した検出信号に含まれる電位の値が閾値Th以下になるまで、洗浄プール208内への洗浄液の供給及び洗浄液の貯留、洗浄プール208が汚染されているか否かの判定、並びに、洗浄プール208内からの洗浄液の排出を繰り返してもよい。これにより、洗浄プール208を自動的に清掃することが可能となる。 Further, the control circuit 8A, for example, supplies the cleaning liquid into the cleaning pool 208 until the value of the potential included in the detection signal received from the liquid level detector 207 is equal to or lower than the threshold Th for the degree of contamination of the cleaning pool 208. Storage of the cleaning liquid, determination of whether or not the cleaning pool 208 is contaminated, and discharge of the cleaning liquid from the cleaning pool 208 may be repeated. As a result, the cleaning pool 208 can be automatically cleaned.
また、変形例において、制御回路8Aは、表示回路6を制御し、例えば汚染判定機能85により洗浄プール208が汚染されていると判定された場合、洗浄プール208が汚染されている旨を表示していたがこれに限定されない。例えば、制御回路8Aは、スピーカー等を用いて音声等により洗浄プール208が汚染されている旨を通知してもよい。 Further, in the modification, the control circuit 8A controls the display circuit 6, and displays that the cleaning pool 208 is contaminated when, for example, the contamination determination function 85 determines that the cleaning pool 208 is contaminated. However, it is not limited to this. For example, the control circuit 8A may notify that the cleaning pool 208 is contaminated by sound or the like using a speaker or the like.
上記説明において用いた「プロセッサ」という文言は、例えば、CPU(central processing unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、或いは、特定用途向け集積回路(Application Specific Integrated Circuit:ASIC))、プログラマブル論理デバイス(例えば、単純プログラマブル論理デバイス(Simple Programmable Logic Device:SPLD)、複合プログラマブル論理デバイス(Complex Programmable Logic Device:CPLD)、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ(Field Programmable Gate Array:FPGA))等の回路を意味する。プロセッサは記憶回路に保存されたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。なお、本実施形態の各プロセッサは、プロセッサごとに単一の回路として構成される場合に限らず、複数の独立した回路を組み合わせて1つのプロセッサとして構成し、その機能を実現するようにしてもよい。さらに、図1、及び図6における複数の構成要素を1つのプロセッサへ統合してその機能を実現するようにしてもよい。 The term “processor” used in the above description is, for example, a central processing unit (CPU), a graphics processing unit (GPU), or an application specific integrated circuit (ASIC)), a programmable logic device (for example, It means a circuit such as a simple programmable logic device (SPLD), a complex programmable logic device (CPLD), and a field programmable gate array (FPGA). The processor implements a function by reading and executing a program stored in the storage circuit. Note that each processor of the present embodiment is not limited to being configured as a single circuit for each processor, but may be configured as a single processor by combining a plurality of independent circuits to realize the function. Good. Furthermore, a plurality of components shown in FIGS. 1 and 6 may be integrated into one processor to realize the function.
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 Although several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.
1、1A…自動分析装置、2…分析機構、3…解析回路、4…駆動機構、5…入力インタフェース、6…表示回路、7…記憶回路、8、8A…制御回路、81…システム制御機能、82…洗浄液量算出機能、83…洗浄液量判定機能、84…洗浄液量調整機能、85…汚染判定機能、86…出力制御機能、100…試料容器、101…試薬容器、102…サンプルラック、201…反応ディスク、202…試薬庫、204…サンプル分注アーム、205…サンプル分注プローブ、207…液面検知器、208…洗浄プール、210…第1試薬分注アーム、211…第1試薬分注プローブ、213…液面検知器、214…洗浄プール、216…第2試薬分注アーム、217…第2試薬分注プローブ、219…液面検知器、220…洗浄プール、222…第1撹拌ユニット、223…第2撹拌ユニット、224…測光ユニット、225…洗浄ユニット、226…電解質測定ユニット、230…ラック投入ユニット、231…投入レーン、240…ラック移動ユニット、241…搬送アーム、242…搬送レール、243…サンプリングレーン、244…バッファレーン、245…リーダ、250…ラック回収ユニット、251…第1回収レーン、252…第2回収レーン、260…STATラック投入レーン、281…チューブ、282…シリンジ、283…プランジャ、284…洗浄ポンプ、285…電磁弁、286…チューブ、287…洗浄ポンプ、288…電磁弁、289…タンク、293…チューブ、294…電磁弁、2011…反応管、2012…恒温槽、2021…外円、2022…内円、2081…吐出口、2082…吐出口、2083…排液口、2432…サンプル吸引位置。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1A ... Automatic analyzer, 2 ... Analysis mechanism, 3 ... Analysis circuit, 4 ... Drive mechanism, 5 ... Input interface, 6 ... Display circuit, 7 ... Memory circuit, 8, 8A ... Control circuit, 81 ... System control function 82 ... Cleaning liquid amount calculation function, 83 ... Cleaning liquid amount determination function, 84 ... Cleaning liquid amount adjustment function, 85 ... Contamination determination function, 86 ... Output control function, 100 ... Sample container, 101 ... Reagent container, 102 ... Sample rack, 201 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Reaction disk, 202 ... Reagent storage, 204 ... Sample dispensing arm, 205 ... Sample dispensing probe, 207 ... Liquid level detector, 208 ... Washing pool, 210 ... First reagent dispensing arm, 211 ... First reagent dispensing Injection probe, 213 ... Liquid level detector, 214 ... Washing pool, 216 ... Second reagent dispensing arm, 217 ... Second reagent dispensing probe, 219 ... Liquid level detector, 220 ... Cleaning pool, 22 ... 1st stirring unit, 223 ... 2nd stirring unit, 224 ... photometry unit, 225 ... cleaning unit, 226 ... electrolyte measurement unit, 230 ... rack loading unit, 231 ... loading lane, 240 ... rack moving unit, 241 ... transport Arm, 242 ... Conveying rail, 243 ... Sampling lane, 244 ... Buffer lane, 245 ... Reader, 250 ... Rack collection unit, 251 ... First collection lane, 252 ... Second collection lane, 260 ... STAT rack loading lane, 281 ... Tube, 282 ... Syringe, 283 ... Plunger, 284 ... Washing pump, 285 ... Solenoid valve, 286 ... Tube, 287 ... Washing pump, 288 ... Solenoid valve, 289 ... Tank, 293 ... Tube, 294 ... Solenoid valve, 2011 ... Reaction Tube 2012 constant temperature bath 2021 outer circle 022 ... inner circle, 2081 ... discharge port, 2082 ... discharge port, 2083 ... drain port, 2432 ... sample suction position.
Claims (7)
前記供給された洗浄液を貯留する洗浄プールと、
前記洗浄プールに貯留された洗浄液の液面を検知する液面検知部と、
前記液面検知部により前記洗浄液の液面が検知された結果に基づいて当該洗浄液の洗浄液量を算出する洗浄液量算出部と、
前記算出された洗浄液量が、所定の範囲に収まるか否かを判定する洗浄液量判定部と、
前記算出された洗浄液量が、前記洗浄液量判定部により所定の範囲に収まらないと判定された場合に、前記洗浄液供給部から供給される洗浄液の洗浄液量を前記所定の範囲に収まるように調整する洗浄液量調整部と
を具備する自動分析装置。 A cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid used for cleaning the probe;
A cleaning pool for storing the supplied cleaning liquid;
A liquid level detector for detecting the level of the cleaning liquid stored in the cleaning pool;
A cleaning liquid amount calculation unit that calculates a cleaning liquid amount of the cleaning liquid based on a result of detection of the liquid level of the cleaning liquid by the liquid level detection unit;
A cleaning liquid amount determination unit that determines whether or not the calculated cleaning liquid amount falls within a predetermined range;
When the calculated cleaning liquid amount is determined not to fall within a predetermined range by the cleaning liquid amount determination unit, the cleaning liquid amount of the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply unit is adjusted to be within the predetermined range. An automatic analyzer comprising a cleaning liquid amount adjusting unit.
前記洗浄液供給部は、前記洗浄プールにさらに前記プローブの洗浄に用いられる量の前記洗浄液を供給し、
前記洗浄液量算出部は、前記供給された洗浄液の増加量に基づいて前記洗浄液量を算出する、
請求項1に記載の自動分析装置。 The cleaning pool stores a predetermined amount of the cleaning liquid in advance,
The cleaning liquid supply unit supplies the cleaning liquid in an amount used for cleaning the probe further to the cleaning pool,
The cleaning liquid amount calculation unit calculates the cleaning liquid amount based on the increased amount of the supplied cleaning liquid.
The automatic analyzer according to claim 1.
前記洗浄液量調整部は、前記電磁弁の開口度、及び/又は、開口時間を調整する、
請求項1又は2に記載の自動分析装置。 The cleaning liquid supply unit has an electromagnetic valve whose opening degree and / or opening time is adjusted according to an input electric signal,
The cleaning liquid amount adjusting unit adjusts an opening degree and / or an opening time of the electromagnetic valve;
The automatic analyzer according to claim 1 or 2.
定期メンテナンス時、又は初期設定時において、前記開閉弁を閉制御するシステム制御部をさらに具備し、
前記洗浄液供給部は、前記システム制御部の制御により前記開閉弁が閉鎖された後に、前記洗浄プールに前記洗浄液を供給し、
前記洗浄プールは、前記供給された洗浄液を貯留する、
請求項1乃至3のうちいずれかに記載の自動分析装置。 The cleaning pool has an open / close valve for storing the cleaning liquid,
Further comprising a system control unit for closing the on-off valve at the time of regular maintenance or initial setting,
The cleaning liquid supply unit supplies the cleaning liquid to the cleaning pool after the on-off valve is closed under the control of the system control unit.
The cleaning pool stores the supplied cleaning liquid.
The automatic analyzer according to any one of claims 1 to 3.
前記供給された洗浄液を前記自動分析装置が備える洗浄プールに貯留し、
前記洗浄プールに貯留された洗浄液の液面を検知し、
前記洗浄液の液面が検知された結果に基づいて当該洗浄液の洗浄液量を算出し、
前記算出された洗浄液量が、所定の範囲に収まるか否かを判定し、
前記算出された洗浄液量が所定の範囲に収まらないと判定された場合に、前記洗浄プールに供給される洗浄液の洗浄液量を前記所定の範囲に収まるように調整する、
洗浄液量の調整方法。 Supply the cleaning solution used for cleaning the probe provided in the automatic analyzer,
The supplied cleaning liquid is stored in a cleaning pool provided in the automatic analyzer,
Detecting the liquid level of the cleaning liquid stored in the cleaning pool,
Calculate the amount of the cleaning liquid based on the result of detection of the liquid level of the cleaning liquid,
Determining whether or not the calculated amount of the cleaning liquid falls within a predetermined range;
When it is determined that the calculated amount of the cleaning liquid does not fall within a predetermined range, the amount of the cleaning liquid supplied to the cleaning pool is adjusted to be within the predetermined range.
How to adjust the amount of cleaning liquid.
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