JP2018192808A - 電磁波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及び、金属薄膜 - Google Patents
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この態様の電磁波透過性金属光沢部材によれば、酸化インジウム含有層を下地層として用いることにより、通常は不連続構造になり難い、例えば、アルミニウム(Al)等その他の金属から成る金属層をも不連続構造とすることができ、この結果、シート抵抗を大きくして電磁波透過性を向上させることができるため、クロム(Cr)又はインジウム(In)だけでなく、例えば、アルミニウム(Al)等その他の金属を金属層として用いた、容易に製造可能な電磁波透過性金属光沢部材が提供される。また、アルミニウム(Al)に加えて銀(Ag)や、亜鉛(Zn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、又はこれらの合金をも金属層として使用した電磁波透過性金属光沢部材が提供される。
上記態様の電磁波透過性金属光沢部材において、前記酸化インジウム含有層は、連続状態であってもよい。連続状態とすることにより、平滑性や耐食性を向上させることができ、また、酸化インジウム含有層を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。
尚、前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかであってもよい。
金属薄膜を転写可能とすることによって、様々な物品に金属薄膜を容易に設けることができる。
図1の(a)に、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢部材(以下、「金属光沢部材」という。)1と、この金属光沢部材1を用いた電磁波透過性金属フィルム(以下、「金属フィルム」という。)3の概略断面図を示し、また、図1の(b)に、本発明の一実施形態による金属光沢部材1の表面の電子顕微鏡写真(SEM画像)を示す。尚、電子顕微鏡写真における画像サイズは1.16μm×0.85μmである。
基材フィルム10には、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート(PC)、シクロオレフィンポリマー(COP)、ポリスチレン、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル(PMMA)、ABSなどの単独重合体や共重合体からなる透明フィルムを用いることができる。これらの部材によれば、光輝性や電磁波透過性に影響を与えることもない。但し、酸化インジウム含有層11や金属層12を後に形成する観点から、蒸着やスパッタ等の高温に耐え得るものであることが好ましく、従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ABS、ポリプロピレン、ポリウレタンが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことからポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリルが好ましい。基材フィルム10は、単層フィルムでもよいし積層フィルムでもよい。加工のし易さ等から、厚さは、例えば、6μm〜250μm程度が好ましい。酸化インジウム含有層11との付着力を強くするために、プラズマ処理や易接着処理などが施されてもよい。
酸化インジウム含有層11として、酸化インジウム(In2O3)そのものを使用することもできるし、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)や、インジウム亜鉛酸化物(IZO)のような金属含有物を使用することもできる。但し、第二の金属を含有したITOやIZOの方が、スパッタリング工程での放電安定性が高い点で、より好ましい。これらの酸化インジウム含有層11を用いることにより、基体の面に沿って連続状態の膜を形成することもでき、また、この場合には、酸化インジウム含有層の上に積層される金属層を、例えば、島状の不連続構造とすることもできる。更に、後述するように、この場合には、金属層に、クロム(Cr)又はインジウム(In)だけでなく、通常は不連続構造になり難く、本用途には適用が難しかった、アルミニウム等の様々な金属を含めることができる。ITOにおけるIn2O3の重量に対する錫(Sn)の含有率は特に限定されるものではないが、例えば、2.5wt%〜30wt%、より好ましくは、3wt%〜10wt%である。また、IZOにおけるIn2O3の重量に対する酸化亜鉛(ZnO)の含有率は、例えば、2wt%〜20wt%である。酸化インジウム含有層11の厚さは、シート抵抗や電波透過性、生産性の観点から、通常1000nm以下が好ましく、50nm以下がより好ましく、20nm以下が更に好ましい。一方、積層される金属層12が不連続状態となるように、1nm以上であることが好ましく、確実に不連続状態にするために2nm以上であることがより好ましく、5nm以上であることが更に好ましい。
金属層12は、十分な光輝性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低いものであることが望ましい。金属層12は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって付与されるためである。このような理由から、金属層12としては、融点が約1000℃以下の金属が適しており、例えば、アルミニウム(Al)、亜鉛(Zn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、銀(Ag)から選択された少なくとも一種の金属、および該金属を主成分とする合金のいずれかを含むことが好ましい。特に、物質の光輝性や安定性、価格等の理由からAlおよびそれらの合金が好ましい。
酸化インジウム含有層11を設けることなく、基体の上に直接的に金属層12を成膜した場合、金属層11は基体10上で連続状態となってしまう。この場合、十分な光輝性は得られるものの、シート抵抗は非常に小さくなり、従って、電波透過性を確保することはできない。これに対し、基体の上に成膜した酸化インジウム含有層11の上に金属層12を積層した場合、例えば連続状態で形成された酸化インジウム含有層11の上で、金属層11は不連続の状態で形成され、この結果、十分な光輝性が得られることは勿論、電波透過性を確保することもできる。金属層11が酸化インジウム含有層11の上で不連続状態となるメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、おおよそ、次のようなものであると推測される。即ち、金属層11の薄膜形成プロセスにおいて、不連続構造の形成しやすさは、金属層11が付与される被付与部材(本件では、酸化インジウム含有層11)上での表面拡散と関連性があり、被付与部材の温度が高く、被付与部材に対する金属層の濡れ性が小さく、金属層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすい、というものである。従って、以下の実施例で特に使用したアルミニウム(Al))以外の金属についても、亜鉛(Zn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、銀(Ag)などの比較的融点の低い金属については、同様の手法で不連続構造を形成しうると考えられる。
金属光沢部材1の製造方法の一例について、基体として基材フィルム10を用いた場合、即ち、金属フィルム3を製造する場合を例に挙げて説明する。特に説明しないが、基材フィルム10以外の基体を用いた場合についても同様の方法で製造することができる。
基材フィルム10に対し、酸化インジウム含有層11を成膜する。酸化インジウム含有層11は、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等によって形成することができる。但し、大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリングが好ましい。
次いで、酸化インジウム含有層11の上に、金属層12を積層する。この場合も、例えば、スパッタリングを用いることができる。尚、酸化インジウム含有層11と金属層12の間には、他の層を介在させずに直接接触させるのが好ましい。但し、上に説明した酸化インジウム含有層11上における金属層12の表面拡散のメカニズムが確保されるのであれば、他の層を介在させることもできる。
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。金属フィルム3に関して各種試料を準備し、シート抵抗、電波透過減衰量、及び可視光反射率を評価した。シート抵抗と電波透過減衰量は、電波透過性に関する評価、可視光反射率は、光輝性に関する評価である。可視光反射率とシート抵抗の値は大きい方が好ましく、電波透過減衰量の値は小さい方が好ましい。
評価方法の詳細は以下のとおりである。
ナプソン社製非接触式抵抗測定装置NC−80MAPを用い、JIS−Z2316に準拠し、渦電流測定法により金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗を測定した。
このシート抵抗は、100Ω/□以上であることが必要であり、200Ω/□以上であるのが好ましく、更に600Ω/□以上であることがより好ましい。100Ω/□より小さいと、充分な電波透過性が得られないという問題がある。
1GHzにおける電波透過減衰量をKEC法測定評価治具およびアジレント社製スペクトルアナライザCXA signal Analyzer NA9000Aを用いて評価した。ミリ波レーダーの周波数帯域(76〜80GHz)における電磁波透過性と、マイクロ波帯域(1GHz)における電磁波透過性には相関性があり、比較的近い値を示すことから、今回の評価では、マイクロ波帯域(1GHz)における電磁波透過性、即ち、マイクロ波電界透過減衰量を指標とした。
このマイクロ波電界透過減衰量は、10[−dB]以下であることが必要であり、5[−dB]以下であるのが好ましく、2[−dB]以下であることがより好ましい。10[−dB]以上であると、90%以上の電波が遮断されるという問題がある。
日立ハイテクノロジーズ社製分光光度計U4100を用い、550nmの測定波長における反射率を測定した。基準として、Al蒸着ミラーの反射率を反射率100%とした。
この可視光反射率は、十分な光輝性を有するために20%以上が必要であり、40%以上であるのが好ましく、更に好ましくは50%以上である。可視光反射率が、20%より小さいと、光輝性が低下し、外観に優れないという問題がある。
基材フィルムとして、三菱樹脂社製PETフィルム(厚さ125μm)を用いた。
先ず、DCマグネトロンスパッタリングを用いて、基材フィルムの面に沿って、50nmの厚さのITO層をその上に直接形成した。ITO層を形成する際の基材フィルムの温度は、130℃に設定した。ITOは、In2O3に対してSnを10wt%含有させたものである。
また、この金属光沢部材の可視光反射率は56%となり、光輝性についても良好な結果が得られた。尚、便宜上、表1では、可視光反射率の「評価」結果として、当該可視光反射率が50%より大きい場合を「◎」で、50%以下で且つ40%より大きい場合を「○」で、40%以下で且つ20%より大きい場合を「△」で、20%以下を「×」で、それぞれ表している。更に、電波透過性と光輝性の「総合評価」として、両者が同じ評価結果の場合には同じ評価結果を、一方が片方より悪い結果の場合には悪い方の評価結果を、それぞれ示している。結果、実施例1について、総合評価は「○」となり、電波透過性と光輝性の双方を兼ね備えた良好な金属光沢部材、或いは、金属フィルムが得られた。
ITO層の上に積層するアルミニウム層の厚さを、実施例2、3については実施例1のそれよりも薄くなるように変更し、一方、実施例4については実施例1のそれよりも厚くなるように変更した。その他の条件については実施例1と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例2〜実施例4の全てにおいて、実施例1と同様の値及び結果が得られた。一方、可視光反射率については、アルミニウム層の厚さが実施例1のそれより薄い実施例2、3については若干劣る結果となったが、実施例4については、実施例1よりも良好な結果が得られた。但し、実施例2、3についても、実用に十分耐え得るものである。
ITO層の厚さを、実施例1よりも薄くなるように設定した。その他の条件については、実施例1と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例5〜実施例8の全てにおいて、実施例1よりも良好な結果が得られた。また、可視光反射率については、実施例5〜実施例8の全てにおいて、実施例1と同様の値及び結果が得られた。これらの実施例により、ITO層の厚さは薄くてもよいことが明らかとなり、ITO層の厚さを薄くすることにより、材料コストを抑制できることが明らかとなった。
ITO層におけるSnの含有率を、実施例9については実施例1のそれより大きくなるように変更し、一方、実施例10乃至12については実施例1のそれより小さくなるように変更した。尚、実施例12のITO層ではSnをゼロとしていることから、より正確には、ITO層ではなく、酸化インジウム(In2O3)層となっている。その他、実施例12では、アルミニウム層は40nmとした。その他の条件については、実施例1と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例9〜実施例11において、実施例1と同様の結果が得られ、実施例12においては、実施例1より若干劣る結果となった。また、可視光反射率については、実施例9〜実施例11において、実施例1と同様の値及び結果が得られ、実施例12において、実施例1より若干劣る結果となった。これの結果から、ITO層は、Snを含有するのがより好ましいことが明らかとなった。
ITOではなく、酸化インジウムにZnOを含有させたIZOを用いた。ZnOは、In2O3に対して11wt%含有する。その他の条件については、実施例1と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例1よりも若干劣る結果となった。一方、可視光反射率については、実施例1と同様の値及び結果が得られた。実施例1より総合評価は劣るものの、ZnOを含有させた場合でも、十分に実用可能であることが明らかとなった。
ITO層の上に積層するアルミニウム層の厚さを、実施例1のそれよりも厚くなるように変更した。その他の条件については、実施例1と同じである。
この場合、可視光反射率については、厚さを増した分、実施例1よりも良好な結果が得られた。一方、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例1のそれらよりも大きく劣る結果となり、実用不可能なものとなった。
ITO層を設けることなく、基材フィルム上にアルミニウム層を直接成膜した。その他の条件については、実施例1と同じである。
この場合、可視光反射率については、実施例1と同様の値及び結果が得られたが、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例1のそれらよりも大きく劣る結果となり、実用不可能なものとなった。
金属光沢部材1に形成された金属層12は、厚さ20nm〜100nm程度の薄いものであって、これのみを金属薄膜として使用することもできる。例えば、基材フィルム10のような基体に積層されたインジウム酸化物含有層11の上に、スパッタリングで金属層12を形成して、フィルムを得る。また、これとは別に、接着剤を基材の上に塗工して接着剤層付きの基材を作成する。フィルムと基材を、金属層12と接着剤層が接するように貼り合せ、十分に密着させた後にフィルムと基材を剥離させることで、フィルムの最表面に存在した金属層(金属薄膜)12を基材の最表面に転写させることができる。
3 金属フィルム
10 基材フィルム
11 酸化インジウム含有層
12 金属層
Claims (13)
- 基体の面に設けた酸化インジウム含有層と、前記酸化インジウム含有層に積層された金属層と、を備え、前記金属層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含むことを特徴とする電磁波透過性金属光沢部材。
- 前記酸化インジウム含有層は連続状態で設けられている請求項1に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
- 前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム(In2O3)、インジウム錫酸化物(ITO)、又はインジウム亜鉛酸化物(IZO)のいずれかである請求項1又は2に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
- 前記酸化インジウム含有層の厚さは、1nm〜1000nmである請求項1乃至3のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
- 前記金属層の厚さは、20nm〜100nmである請求項1乃至4のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
- 前記金属層の厚さと前記酸化インジウム含有層の厚さとの比(前記金属層の厚さ/前記酸化インジウム含有層の厚さ)は、0.02〜100である請求項1乃至5のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
- 前記金属層と酸化インジウム含有層の積層体としてのシート抵抗は、100〜100000Ω/□である請求項1乃至6のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
- 前記部分は島状に形成されている請求項1乃至7のいずれかに記載の電磁波透過性積層部材。
- 前記金属層は、アルミニウム(Al)、亜鉛(Zn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、銀(Ag)、又はこれらの合金のいずれかである請求項1乃至8のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
- 前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかである請求項1乃至9のいずれかに記載の電磁波透過性金属光沢部材。
- 請求項10に記載の基材フィルム、樹脂成型物基材、又はガラス基材を用いた物品、又は、請求項10に記載の金属光沢を付与すべき物品に請求項1乃至9の何れかに記載の電磁波透過性金属光沢部材を設けた物品。
- 基体の面に沿って設けた金属薄膜であって、前記金属薄膜は、20nm〜100nmの厚さを有し、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の島状部分を含むことを特徴とする金属薄膜。
- 前記金属層は、アルミニウム(Al)、亜鉛(Zn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、銀(Ag)、又はこれらの合金のいずれかである請求項12に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
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