JP2018190973A - フレキシブル配線回路基板、その製造方法、および、撮像装置 - Google Patents
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Abstract
Description
1.撮像素子実装基板
図1〜図4を参照して、本発明のフレキシブル配線回路基板の一実施形態である撮像素子実装基板1(以下、単に実装基板とも略する。)を説明する。
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂などが挙げられる。
D1は、ベース絶縁層4の弾性率を示し、T1は、ベース絶縁層4の厚みを示す。
D2は、第1配線12の弾性率を示し、T2は、第1配線12の厚みを示す。
D3は、第1カバー絶縁層6の弾性率を示し、T3は、第1カバー絶縁層6の厚みを示す。
実装基板1の製造方法は、図3A〜図4Gに示すように、例えば、配線積層体35、接着剤積層体36および強化繊維層17を用意する用意工程と、これらを配置する配置工程と、これらを積層する積層工程とを備える。
用意工程は、配線積層体35、接着剤積層体36および強化繊維層17をそれぞれ用意する。
配置工程では、図4Eに示すように、配線積層体35と、強化繊維層17と、接着剤積層体36とを対向配置する。
積層工程では、図4Fおよび図4Gに示すように、配線積層体35と、強化繊維層17と、接着剤積層体36とを積層する。
図5を参照して、実装基板1を備える撮像装置20を説明する。
上記実施形態の実装基板1では、異方導電性接着剤層7において、強化繊維層17は、第1カバー絶縁層6と接触していないが、例えば、図6に示すように、強化繊維層17は、第1カバー絶縁層6と接触することもできる。
図9〜図10Cを参照して、実装基板1の第2実施形態について説明する。なお、第2実施形態の実装基板1において、上記した図2に示す第1実施形態と同様の部材には同様の符号を付し、その説明を省略する。
図11を参照して、実装基板1の第3実施形態について説明する。なお、第3実施形態の実装基板1において、上記した図2および図9に示す第1〜2実施形態と同様の部材には同様の符号を付し、その説明を省略する。
図12を参照して、実装基板1の第4実施形態について説明する。なお、第4実施形態の実装基板1において、上記した図2、図9および図11に示す第1〜3実施形態と同様の部材には同様の符号を付し、その説明を省略する。
図13を参照して、実装基板1の第5実施形態について説明する。なお、第5実施形態の実装基板1において、上記した図2に示す第1実施形態と同様の部材には同様の符号を付し、その説明を省略する。
厚み18μmのステンレスからなる金属支持体を用意した。
銅からなる導体パターンの厚みを5μmに変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2の実装基板を製造した。配線積層体の配線領域の等価弾性率は、51GPaであった。実装基板の0〜50℃における線熱膨張係数を測定したところ、14ppm/Kであった。
銅からなる導体パターンの厚みを10μmに変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例3の実装基板を製造した。配線積層体の配線領域の等価弾性率は、71GPaであった。実装基板の0〜50℃における線熱膨張係数を測定したところ、16ppm/Kであった。
4 ベース絶縁層
5 導体パターン
6 第1カバー絶縁層
7 異方導電性接着剤層
8 シールド層
9 第2カバー絶縁層
12 第1配線
14 グランド配線
15 グランド開口部
17 強化繊維層
20 撮像装置
35 配線積層体
36 接着剤積層体
50 第2導体パターン
51 第3カバー絶縁層
52 第2配線
54 第2グランド配線
55 第2グランド開口部
57 第2配線積層体
60 第2異方導電性接着剤層
62 第1ビア開口部
70 絶縁性接着剤層
Claims (18)
- 第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の厚み方向一方側に配置される第1配線と、
前記第1配線の厚み方向一方側に配置される接着剤層と、
前記接着剤層の厚み方向一方側に配置される第2絶縁層と
を備え、
前記接着剤層は、絶縁性を有する強化繊維層を含有していることを特徴とする、フレキシブル配線回路基板。 - 前記強化繊維層の厚みが、5μm以上25μm以下であることを特徴とする、請求項1に記載のフレキシブル配線回路基板。
- 前記強化繊維層が、ガラス繊維層であることを特徴とする、請求項1または2に記載のフレキシブル配線回路基板。
- 前記第1配線および前記接着剤層の間に配置される第3絶縁層をさらに備えることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のフレキシブル配線回路基板。
- 前記接着剤層および前記第2絶縁層の間に配置されるシールド層をさらに備えることを特徴とする、請求項4に記載のフレキシブル配線回路基板。
- 前記第3絶縁層は、厚み方向に貫通する第1開口部を有し、
前記接着剤層が、導電性接着剤を含有し、
前記導電性接着剤が、前記第1開口部に充填されていることを特徴とする、請求項5に記載のフレキシブル配線回路基板。 - 前記導電性接着剤が、異方導電性接着剤であることを特徴とする、請求項6に記載のフレキシブル配線回路基板。
- 前記第1絶縁層、前記第1配線および前記第3絶縁層の等価弾性率が、55GPa以下であることを特徴とする、請求項4〜7のいずれか一項に記載のフレキシブル配線回路基板。
- 前記第3絶縁層および前記接着剤層の間に配置される第2配線をさらに備えることを特徴とする、請求項5〜8のいずれか一項に記載のフレキシブル配線回路基板。
- 前記第2配線の厚み方向一方側に配置される第4絶縁層を備え、
前記第4絶縁層は、厚み方向に貫通する第2開口部を有し、
前記接着剤層が、導電性接着剤を含有し、
前記導電性接着剤が、前記第2開口部に充填されていることを特徴とする、請求項9に記載のフレキシブル配線回路基板。 - 前記第1配線および前記第2配線の間に配置される第2接着剤層をさらに備え、
前記第2接着剤層が、絶縁性を有する強化繊維層を含有していることを特徴とする、請求項9または10に記載のフレキシブル配線回路基板。 - 前記接着剤層および前記シールド層の間に配置される第2配線をさらに備えていることを特徴とする、請求項5〜8のいずれか一項に記載のフレキシブル配線回路基板。
- 前記接着剤層が、絶縁性接着剤層であり、前記第1配線の厚み方向一方側の表面および前記第2絶縁層の厚み方向他方側の表面に直接接触することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のフレキシブル配線回路基板。
- 請求項1〜13のいずれか一項に記載のフレキシブル配線回路基板と、
前記フレキシブル配線回路基板に実装される撮像素子と
を備えることを特徴とする、撮像装置。 - 第1絶縁層と、前記第1絶縁層の厚み方向一方側に配置される第1配線とを備える配線積層体を用意する工程、
接着剤層と、前記接着剤層の厚み方向一方側に配置される第2絶縁層と
を備える接着剤積層体を用意する工程、
絶縁性を有する強化繊維層を用意する工程、
前記配線積層体の厚み方向一方側の表面と、前記接着剤積層体の前記接着剤層の表面とが対向し、かつ、これらの間に前記強化繊維層が位置するように、前記配線積層体、前記接着剤積層体および前記強化繊維層を配置する工程、ならびに、
前記接着剤層が、前記強化繊維層を厚み方向に貫通し、前記配線積層体の厚み方向一方側に接触するように、前記配線積層体および前記接着剤積層体を積層する工程
を備えることを特徴とする、フレキシブル配線回路基板の製造方法。 - 前記強化繊維層の厚みが、5μm以上25μm以下であることを特徴とする、請求項15に記載のフレキシブル配線回路基板の製造方法。
- 前記接着剤層が、導電性接着剤層であることを特徴とする、請求項15または16に記載のフレキシブル配線回路基板の製造方法。
- 前記接着剤層および前記第2絶縁層の間に配置されるシールド層をさらに備えることを特徴とする、請求項15〜17のいずれか一項に記載のフレキシブル配線回路基板の製造方法。
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