JP2018190875A - Semiconductor device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which can ensure heat dissipation properties while reducing concentration of thermal stress acting on a sealing resin.SOLUTION: A semiconductor device comprises: a die pad 1 having a mounting surface 11 and a pad rear face 12; a semiconductor element 2 mounted on the mounting surface 11; a plurality of terminals 3 which are arranged to surround the die pad 1 and electrically connected with the semiconductor element 2; and a sealing resin 5 which has a resin rear face 52 facing the same direction with a pad rear face 12 and partially covers the semiconductor element 2, the die pad 1 and the plurality of terminals 3. Both of the pad rear face 12 and the terminal rear face 32 are exposed from the resin rear face 52; and pad recesses 14 denting from the pad rear face 12 are formed on the die pad 1.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、パッケージ形式がQFNである半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device whose package format is QFN.

複数の端子(リード)の基となるリードフレームの一部であるダイパッドに半導体素子を搭載し、これらを封止樹脂で覆った半導体装置には、様々な種類のパッケージ形式が存在する。これらのパッケージ形式のうち、QFN(Quad Flat No-leads)は、封止樹脂から複数の端子が側方に全く突出しない形式である。QFNは、回路基板に対する実装範囲を縮小することができるため、電子機器の小型化に寄与する。   There are various types of package formats for semiconductor devices in which semiconductor elements are mounted on a die pad, which is a part of a lead frame that is a base of a plurality of terminals (leads), and these are covered with a sealing resin. Among these package types, QFN (Quad Flat No-leads) is a type in which a plurality of terminals do not protrude sideways at all from the sealing resin. Since QFN can reduce the mounting range on the circuit board, it contributes to downsizing of electronic devices.

特許文献1には、パッケージ形式がQFNである半導体装置の一例が開示されている。当該半導体装置は、半導体素子(半導体チップ)が搭載されるダイパッドと、ダイパッドの周囲に配置された複数の端子(リード)と、これらを覆う封止樹脂(封止体)とを備える。当該半導体装置では、ダイパッドの裏面が封止樹脂から露出し、かつ平面視におけるダイパッドの面積が装置面積の大半を占める構成となっている。このため、当該半導体装置では、半導体素子から発生した熱をダイパッドから効率よく外部に放出することができる。ただし、ダイパッドの体積が比較的大きいため、当該半導体装置の使用にかかる温度サイクルなどによってダイパッドに熱膨張が生じる。そして、当該熱膨張に起因した熱応力が封止樹脂に作用する。封止樹脂に作用する熱応力の集中が顕著になると、封止樹脂に亀裂が発生するおそれがある。当該亀裂に水分などが進入すると、当該半導体装置に不具合が発生することが懸念される。こうした理由から、封止樹脂に作用する熱応力の集中を緩和するためダイパッドの大きさを縮小させた場合、封止樹脂から露出するダイパッドの表面積が減少する。この場合においては、半導体素子から発生した熱にかかる放熱性の低下が課題となる。   Patent Document 1 discloses an example of a semiconductor device whose package format is QFN. The semiconductor device includes a die pad on which a semiconductor element (semiconductor chip) is mounted, a plurality of terminals (leads) arranged around the die pad, and a sealing resin (sealing body) covering these. In the semiconductor device, the back surface of the die pad is exposed from the sealing resin, and the area of the die pad in plan view occupies most of the device area. For this reason, in the semiconductor device, heat generated from the semiconductor element can be efficiently released from the die pad to the outside. However, since the volume of the die pad is relatively large, thermal expansion occurs in the die pad due to a temperature cycle for use of the semiconductor device. And the thermal stress resulting from the said thermal expansion acts on sealing resin. If the concentration of thermal stress acting on the sealing resin becomes significant, the sealing resin may crack. If moisture or the like enters the crack, there is a concern that a defect may occur in the semiconductor device. For these reasons, when the size of the die pad is reduced in order to reduce the concentration of thermal stress acting on the sealing resin, the surface area of the die pad exposed from the sealing resin is reduced. In this case, there is a problem of a decrease in heat dissipation due to heat generated from the semiconductor element.

特開2013−16624号公報JP 2013-16624 A

本発明は上記事情に鑑み、封止樹脂に作用する熱応力の集中を緩和しつつ、放熱性を確保することが可能な半導体装置を提供することをその課題とする。   In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of ensuring heat dissipation while relaxing the concentration of thermal stress acting on the sealing resin.

本発明によって提供される半導体装置は、厚さ方向において互いに反対側を向く搭載面およびパッド裏面を有するダイパッドと、前記搭載面に搭載された半導体素子と各々が前記パッド裏面と同方向を向く端子裏面を有するとともに、前記ダイパッドの厚さ方向視において前記ダイパッドを囲むように配置され、かつ前記半導体素子に導通する複数の端子と、前記パッド裏面と同方向を向く樹脂裏面を有し、かつ前記半導体素子と、前記ダイパッドおよび複数の前記端子のそれぞれ一部ずつとを覆う封止樹脂と、を備える半導体装置であって、前記パッド裏面および前記端子裏面は、ともに前記樹脂裏面から露出し、前記ダイパッドには、前記パッド裏面から凹むパッド凹部が形成されていることを特徴としている。   A semiconductor device provided by the present invention includes a die pad having a mounting surface and a pad back surface facing in opposite directions in the thickness direction, a semiconductor element mounted on the mounting surface, and a terminal each facing in the same direction as the pad back surface A plurality of terminals that are disposed so as to surround the die pad as viewed in the thickness direction of the die pad and that are electrically connected to the semiconductor element; and a resin back surface that faces in the same direction as the pad back surface, and A semiconductor device comprising a semiconductor element and a sealing resin that covers each of the die pad and each of the plurality of terminals, wherein the pad back surface and the terminal back surface are both exposed from the resin back surface, The die pad is characterized in that a pad recess recessed from the back surface of the pad is formed.

本発明の実施において好ましくは、前記パッド凹部は、前記樹脂裏面から露出している。   In the practice of the present invention, the pad recess is preferably exposed from the resin back surface.

本発明の実施において好ましくは、前記パッド凹部は、前記パッド裏面の中央を囲む複数の環状溝から構成され、前記パッド裏面において各々の前記環状溝によって囲まれた領域の中心位置は、いずれも同一である。   Preferably, in the implementation of the present invention, the pad recess is composed of a plurality of annular grooves surrounding the center of the back surface of the pad, and the center positions of the regions surrounded by the annular grooves on the pad back surface are all the same. It is.

本発明の実施において好ましくは、前記パッド凹部は、前記厚さ方向に対して直角である方向に沿って延びる複数の溝から構成される。   In the practice of the present invention, the pad recess is preferably composed of a plurality of grooves extending along a direction perpendicular to the thickness direction.

本発明の実施において好ましくは、前記ダイパッドは、前記パッド裏面に交差し、かつ複数の前記端子に対向するパッド側面をさらに有し、前記ダイパッドには、前記搭載面と面一であり、かつ前記パッド側面から複数の前記端子に向けて突出するパッド突出部が形成されている。   Preferably, in the embodiment of the present invention, the die pad further includes a pad side surface that intersects the pad back surface and faces the plurality of terminals, the die pad being flush with the mounting surface, and the Pad protrusions that protrude from the side surface of the pad toward the plurality of terminals are formed.

本発明の実施において好ましくは、前記パッド凹部には、前記封止樹脂が充填され、前記パッド裏面は、パッド中央部と、前記パッド中央部の周囲に位置するパッド外周部と、を有し、前記パッド中央部および前記パッド外周部は、前記厚さ方向視において前記パッド凹部により互いに隔てられている。   Preferably, in the implementation of the present invention, the pad recess is filled with the sealing resin, and the back surface of the pad has a pad center part and a pad outer peripheral part located around the pad center part, The pad center portion and the pad outer peripheral portion are separated from each other by the pad recess when viewed in the thickness direction.

本発明の実施において好ましくは、前記パッド外周部は、前記厚さ方向に対して直角である一方向において互いに離間した一対の第1領域を有する。   In an embodiment of the present invention, preferably, the pad outer peripheral portion has a pair of first regions separated from each other in one direction perpendicular to the thickness direction.

本発明の実施において好ましくは、前記パッド外周部は、前記厚さ方向および前記一方向の双方に対して直角である方向において互いに離間した一対の第2領域を有する。   In the practice of the present invention, preferably, the pad outer peripheral portion has a pair of second regions spaced from each other in a direction perpendicular to both the thickness direction and the one direction.

本発明の実施において好ましくは、前記搭載面の端縁には、前記厚さ方向視において前記搭載面の四隅から前記ダイパッドの内側に向かって凹む搭載面凹部が形成され、前記厚さ方向視において前記半導体素子の一部が前記搭載面凹部に重なっている。   Preferably, in the implementation of the present invention, a mounting surface recess that is recessed from the four corners of the mounting surface toward the inside of the die pad in the thickness direction view is formed at an edge of the mounting surface, and in the thickness direction view. A part of the semiconductor element overlaps the mounting surface recess.

本発明の実施において好ましくは、前記厚さ方向視において前記半導体素子の一部が前記パッド外周部に重なっている。   In the implementation of the present invention, preferably, a part of the semiconductor element overlaps the outer peripheral portion of the pad in the thickness direction view.

本発明の実施において好ましくは、前記厚さ方向において、前記パッド外周部の位置は、前記パッド中央部の位置に等しい。   In the embodiment of the present invention, preferably, in the thickness direction, the position of the pad outer peripheral portion is equal to the position of the pad central portion.

本発明の実施において好ましくは、前記端子は、前記搭載面と同方向を向く端子主面をさらに有し、前記半導体素子と前記端子主面とを接続するワイヤをさらに備える。   In the embodiment of the present invention, preferably, the terminal further includes a terminal main surface facing the same direction as the mounting surface, and further includes a wire connecting the semiconductor element and the terminal main surface.

本発明の実施において好ましくは、前記ダイパッドおよび前記端子には、前記搭載面および前記端子主面のいずれか一方に接する内装めっき層が設けられている。   In the embodiment of the present invention, preferably, the die pad and the terminal are provided with an interior plating layer in contact with either the mounting surface or the terminal main surface.

本発明の実施において好ましくは、前記端子は、前記端子主面および前記端子裏面の双方に交差し、かつ外側を向く端子外側面をさらに有し、前記封止樹脂は、前記樹脂裏面に交差する樹脂側面をさらに有し、前記端子外側面は、前記樹脂側面から露出している。   Preferably, in the embodiment of the present invention, the terminal further includes a terminal outer surface that intersects both the terminal main surface and the terminal back surface and faces outward, and the sealing resin intersects the resin back surface. It further has a resin side surface, and the terminal outer surface is exposed from the resin side surface.

本発明の実施において好ましくは、前記端子は、前記端子裏面に交差し、かつ前記端子外側面とは反対側を向く端子内側面をさらに有し、前記端子には、前記端子主面と面一であり、かつ前記端子内側面から前記ダイパッドに向けて突出する端子突出部が形成されている。   Preferably, in the implementation of the present invention, the terminal further includes a terminal inner surface that intersects the terminal back surface and faces away from the terminal outer surface, and the terminal is flush with the terminal main surface. And a terminal protrusion that protrudes from the inner surface of the terminal toward the die pad.

本発明の実施において好ましくは、複数の前記端子は、前記厚さ方向に対して直角である第1方向に沿って配列された複数の第1端子と、前記厚さ方向および前記第1方向の双方に対して直角である第2方向に沿って配列された複数の第2端子と、を含み、前記端子外側面は、前記樹脂側面と面一である。   Preferably, in the implementation of the present invention, the plurality of terminals include a plurality of first terminals arranged along a first direction perpendicular to the thickness direction, and the thickness direction and the first direction. A plurality of second terminals arranged along a second direction that is perpendicular to both, and the terminal outer surface is flush with the resin side surface.

本発明にかかる半導体装置によれば、封止樹脂に作用する熱応力の集中を緩和しつつ、放熱性を確保することが可能となる。   According to the semiconductor device of the present invention, it is possible to ensure heat dissipation while reducing the concentration of thermal stress acting on the sealing resin.

本発明のその他の特徴および利点は、添付図面に基づき以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。   Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

本発明の第1実施形態にかかる半導体装置の斜視図である。1 is a perspective view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. 図1に示す半導体装置の底面図である。FIG. 2 is a bottom view of the semiconductor device shown in FIG. 1. 図1に示す半導体装置の平面図(封止樹脂を透過)である。FIG. 2 is a plan view of the semiconductor device shown in FIG. 1 (through a sealing resin). 図1に示す半導体装置の正面図である。FIG. 2 is a front view of the semiconductor device shown in FIG. 1. 図1に示す半導体装置の右側面図である。FIG. 2 is a right side view of the semiconductor device shown in FIG. 1. 図3のVI−VI線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the VI-VI line of FIG. 図3のVII−VII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the VII-VII line of FIG. 図6の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of FIG. 図6の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of FIG. 本発明の第1実施形態の変形例にかかる半導体装置の底面図である。It is a bottom view of the semiconductor device concerning the modification of 1st Embodiment of this invention. 図10のXI−XI線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XI-XI line of FIG. 本発明の第2実施形態にかかる半導体装置の底面図である。It is a bottom view of the semiconductor device concerning 2nd Embodiment of this invention. 図12に示す半導体装置の底面図(封止樹脂を透過、ワイヤを省略)である。FIG. 13 is a bottom view of the semiconductor device shown in FIG. 12 (through sealing resin, omitting wires). 図12に示す半導体装置の平面図(封止樹脂を透過)である。FIG. 13 is a plan view of the semiconductor device shown in FIG. 12 (through a sealing resin). 図14のXV−XV線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XV-XV line | wire of FIG. 図15の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of FIG. 本発明の第3実施形態にかかる半導体装置の底面図である。It is a bottom view of the semiconductor device concerning 3rd Embodiment of this invention. 図17に示す半導体装置の平面図(封止樹脂を透過)である。FIG. 18 is a plan view of the semiconductor device shown in FIG. 17 (through a sealing resin). 図17に示す半導体装置の正面図である。FIG. 18 is a front view of the semiconductor device shown in FIG. 17. 図18のXX−XX線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XX-XX line of FIG. 図20の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of FIG. 図17に示す半導体装置の製造工程を説明する断面図である。FIG. 18 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing step of the semiconductor device shown in FIG. 17.

本発明を実施するための形態(以下「実施形態」という。)について、添付図面に基づいて説明する。   A mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “embodiment”) will be described with reference to the accompanying drawings.

〔第1実施形態〕
図1〜図11に基づき、本発明の第1実施形態にかかる半導体装置A10について説明する。半導体装置A10は、ダイパッド1、半導体素子2、複数の端子3および封止樹脂5を備える。本実施形態では、半導体装置A10は、ワイヤ4をさらに備える。
[First Embodiment]
A semiconductor device A10 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The semiconductor device A10 includes a die pad 1, a semiconductor element 2, a plurality of terminals 3, and a sealing resin 5. In the present embodiment, the semiconductor device A10 further includes a wire 4.

図3は、理解の便宜上、封止樹脂5を透過している。図3において透過した封止樹脂5を想像線(二点鎖線)で示している。図8は、図6に示す端子3付近を拡大している。図9は、図6に示すダイパッド1付近を拡大している。   In FIG. 3, the sealing resin 5 is transmitted for convenience of understanding. In FIG. 3, the transmitted sealing resin 5 is indicated by an imaginary line (two-dot chain line). FIG. 8 is an enlarged view of the vicinity of the terminal 3 shown in FIG. FIG. 9 is an enlarged view of the vicinity of the die pad 1 shown in FIG.

半導体装置A10は、様々な電子機器の回路基板に表面実装される。半導体装置A10は、パッケージ形式がQFNである。図1などに示すように、ダイパッド1の厚さ方向z視(以下「平面視」と呼ぶ。)における半導体装置A10は、矩形状である。ここで、説明の便宜上、ダイパッド1の厚さ方向z(以下、単に「厚さ方向z」と呼ぶ。)に対して直角である方向(図2における横方向)を第1方向xと呼ぶ。また、ダイパッド1の厚さ方向zおよび第1方向xの双方に対して直角である方向(図2における縦方向)を第2方向yと呼ぶ。   The semiconductor device A10 is surface-mounted on circuit boards of various electronic devices. The semiconductor device A10 has a QFN package format. As shown in FIG. 1 and the like, the semiconductor device A10 in the thickness direction z view of the die pad 1 (hereinafter referred to as “plan view”) has a rectangular shape. Here, for convenience of explanation, a direction (lateral direction in FIG. 2) perpendicular to the thickness direction z of the die pad 1 (hereinafter simply referred to as “thickness direction z”) is referred to as a first direction x. A direction (vertical direction in FIG. 2) perpendicular to both the thickness direction z and the first direction x of the die pad 1 is referred to as a second direction y.

ダイパッド1は、図3および図6に示すように、半導体素子2が搭載される部材である。ダイパッド1は、金属材料から構成され、当該金属材料は、たとえばCuである。ダイパッド1は、当該金属材料を加工したリードフレームをその由来としている。ダイパッド1は、搭載面11、パッド裏面12、パッド側面13およびパッド斜材16を有する。   As shown in FIGS. 3 and 6, the die pad 1 is a member on which the semiconductor element 2 is mounted. The die pad 1 is made of a metal material, and the metal material is, for example, Cu. The die pad 1 is derived from a lead frame obtained by processing the metal material. The die pad 1 has a mounting surface 11, a pad back surface 12, a pad side surface 13, and a pad diagonal material 16.

図6および図9に示すように、搭載面11は、厚さ方向zを向く。図3に示すように、搭載面11は、矩形状である。搭載面11に半導体素子2が搭載されている。搭載面11において、半導体素子2が搭載されない部分は、封止樹脂5に覆われている。   As shown in FIGS. 6 and 9, the mounting surface 11 faces the thickness direction z. As shown in FIG. 3, the mounting surface 11 has a rectangular shape. The semiconductor element 2 is mounted on the mounting surface 11. A portion of the mounting surface 11 where the semiconductor element 2 is not mounted is covered with the sealing resin 5.

図6および図9に示すように、パッド裏面12は、厚さ方向zにおいて搭載面11とは反対側を向く。図2に示すように、パッド裏面12は、矩形状であり、その面積は搭載面11よりも小に設定されている。本実施形態では、パッド裏面12は、封止樹脂5から露出している。   As shown in FIGS. 6 and 9, the pad back surface 12 faces the side opposite to the mounting surface 11 in the thickness direction z. As shown in FIG. 2, the pad back surface 12 has a rectangular shape, and its area is set to be smaller than the mounting surface 11. In the present embodiment, the pad back surface 12 is exposed from the sealing resin 5.

図3および図9に示すように、パッド側面13は、パッド裏面12に交差し、かつ複数の端子3に対向している。パッド側面13は、4つの面から構成されており、各々のパッド側面13は、第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方を向く。厚さ方向zにおいて、搭載面11とパッド裏面12との間に位置するパッド側面13の上端は、第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方に向けて屈曲している。パッド側面13は、封止樹脂5に覆われている。   As shown in FIGS. 3 and 9, the pad side surface 13 intersects the pad back surface 12 and faces the plurality of terminals 3. The pad side surface 13 includes four surfaces, and each pad side surface 13 faces either one of the first direction x and the second direction y. In the thickness direction z, the upper end of the pad side surface 13 positioned between the mounting surface 11 and the pad back surface 12 is bent toward either the first direction x or the second direction y. The pad side surface 13 is covered with the sealing resin 5.

図2、図6および図9に示すように、ダイパッド1には、パッド裏面12から凹むパッド凹部14が形成されている。本実施形態では、パッド凹部14は、パッド裏面12とともに封止樹脂5から露出している。また、本実施形態では、パッド凹部14は、パッド裏面12から凹み、かつパッド裏面12の中央を囲む複数の環状溝141から構成される。図2に示すように、パッド裏面12において各々の環状溝141によって囲まれた領域の中心位置Cは、いずれも同一である。本実施形態では、各々の環状溝141によって囲まれた領域がいずれも矩形であり、中心位置Cは、当該領域の対角線の交点を指す。ここで、パッド裏面12の中央は、中心位置Cと同一である。なお、各々の環状溝141によって囲まれた領域は、たとえば円形であってもよい。パッド凹部14は、たとえばエッチングによりダイパッド1に形成することができる。   As shown in FIGS. 2, 6, and 9, a pad recess 14 that is recessed from the pad back surface 12 is formed in the die pad 1. In the present embodiment, the pad recess 14 is exposed from the sealing resin 5 together with the pad back surface 12. In the present embodiment, the pad recess 14 includes a plurality of annular grooves 141 that are recessed from the pad back surface 12 and surround the center of the pad back surface 12. As shown in FIG. 2, the center positions C of the regions surrounded by the respective annular grooves 141 on the pad back surface 12 are all the same. In the present embodiment, the regions surrounded by the respective annular grooves 141 are all rectangular, and the center position C indicates the intersection of diagonal lines of the regions. Here, the center of the pad back surface 12 is the same as the center position C. In addition, the area | region enclosed by each annular groove 141 may be circular, for example. The pad recess 14 can be formed in the die pad 1 by etching, for example.

図10および図11は、半導体装置A10の変形例である半導体装置A11を示している。パッド凹部14は、半導体装置A10のような複数の環状溝141以外に、本変形例のように複数の溝142から構成される形態であってもよい。各々の溝142は、厚さ方向zに対して直角である方向に沿って延びている。本変形例では、複数の溝142は、パッド裏面12から凹み、かつ第1方向xに沿って配列されている。各々の溝142は、第2方向yに沿って延びている。なお、複数の溝142は、第2方向yに沿って配列され、かつ各々の溝142が第1方向xに沿って延びる構成であってもよい。また、各々の溝142は、第1方向xおよび第2方向yの双方に対して斜め方向に沿って延びる構成であってもよい。   10 and 11 show a semiconductor device A11 that is a modification of the semiconductor device A10. In addition to the plurality of annular grooves 141 as in the semiconductor device A10, the pad recess 14 may be configured by a plurality of grooves 142 as in this modification. Each groove 142 extends along a direction perpendicular to the thickness direction z. In the present modification, the plurality of grooves 142 are recessed from the pad back surface 12 and arranged along the first direction x. Each groove 142 extends along the second direction y. The plurality of grooves 142 may be arranged along the second direction y, and each groove 142 may extend along the first direction x. Each groove 142 may be configured to extend along an oblique direction with respect to both the first direction x and the second direction y.

図3、図6および図9に示すように、ダイパッド1には、搭載面11と面一であり、かつパッド側面13から複数の端子3に向けて突出する庇状のパッド突出部15が形成されている。パッド突出部15は、ダイパッド1において4箇所形成されており、各々のパッド突出部15は、第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方に向けて突出している。パッド突出部15は、パッド端面151およびパッド中間面152を有する。パッド端面151は、厚さ方向zに沿っており、かつ第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方を向く。パッド中間面152は、パッド裏面12と同方向を向き、かつパッド端面151に交差している。パッド中間面152は、ダイパッド1の内側においてパッド側面13につながっている。厚さ方向zにおいて、搭載面11からパッド中間面152までの距離は、搭載面11からパッド裏面12までの距離の約半分である。パッド突出部15は、封止樹脂5に覆われている。   As shown in FIGS. 3, 6, and 9, the die pad 1 is formed with a bowl-shaped pad protrusion 15 that is flush with the mounting surface 11 and protrudes from the pad side surface 13 toward the plurality of terminals 3. Has been. Four pad protrusions 15 are formed in the die pad 1, and each pad protrusion 15 protrudes in one of the first direction x and the second direction y. The pad protrusion 15 has a pad end surface 151 and a pad intermediate surface 152. The pad end surface 151 is along the thickness direction z and faces either the first direction x or the second direction y. The pad intermediate surface 152 faces the same direction as the pad back surface 12 and intersects the pad end surface 151. The pad intermediate surface 152 is connected to the pad side surface 13 inside the die pad 1. In the thickness direction z, the distance from the mounting surface 11 to the pad intermediate surface 152 is about half of the distance from the mounting surface 11 to the pad back surface 12. The pad protrusion 15 is covered with the sealing resin 5.

図3および図7に示すように、パッド斜材16は、2つのパッド端面151が交差する部分から第1方向xおよび第2方向yの双方に対して斜めに延びている。パッド斜材16は、4本から構成され、かつ平面視においてダイパッド1の四隅から放射状に延びている。パッド斜材16は、斜材上面161、斜材下面162および斜材端面163を有する。斜材上面161は、搭載面11と同方向を向き、かつ搭載面11に面一である。斜材下面162は、パッド裏面12と同方向を向く。パッド斜材16が延びる方向において、斜材下面162の一端は、パッド中間面152につながっている。また、厚さ方向zにおいて、斜材上面161から斜材下面162までの距離は、搭載面11からパッド中間面152までの距離に略等しい。斜材端面163は、パッド斜材16が延びる方向においてパッド斜材16の先端に位置し、かつ斜材上面161および斜材下面162の双方に交差している。斜材端面163は、L形状であり、かつ封止樹脂5から外部に露出している。なお、パッド斜材16において、斜材端面163を除く部分は、全て封止樹脂5に覆われている。   As shown in FIG. 3 and FIG. 7, the pad diagonal 16 extends obliquely with respect to both the first direction x and the second direction y from the portion where the two pad end surfaces 151 intersect. The pad diagonal 16 is composed of four pieces and extends radially from the four corners of the die pad 1 in plan view. The pad diagonal 16 has a diagonal upper surface 161, a diagonal lower surface 162, and a diagonal end surface 163. The diagonal material upper surface 161 faces the same direction as the mounting surface 11 and is flush with the mounting surface 11. The diagonal material lower surface 162 faces the same direction as the pad back surface 12. In the direction in which the pad diagonal 16 extends, one end of the diagonal lower surface 162 is connected to the pad intermediate surface 152. Further, in the thickness direction z, the distance from the diagonal material upper surface 161 to the diagonal material lower surface 162 is substantially equal to the distance from the mounting surface 11 to the pad intermediate surface 152. The diagonal end surface 163 is located at the tip of the pad diagonal 16 in the direction in which the pad diagonal 16 extends, and intersects both the diagonal upper surface 161 and the diagonal lower surface 162. The diagonal material end surface 163 has an L shape and is exposed to the outside from the sealing resin 5. Note that, in the pad diagonal material 16, all portions except the diagonal material end surface 163 are covered with the sealing resin 5.

半導体素子2は、図3および図6に示すように、ダイパッド1の搭載面11に搭載されている。本実施形態では、半導体素子2は、LEDなどの光源を点灯するための駆動回路が組み込まれた集積回路(IC)である。半導体素子2は、素子主面21および素子裏面22を有する。   As shown in FIGS. 3 and 6, the semiconductor element 2 is mounted on the mounting surface 11 of the die pad 1. In the present embodiment, the semiconductor element 2 is an integrated circuit (IC) in which a drive circuit for lighting a light source such as an LED is incorporated. The semiconductor element 2 has an element main surface 21 and an element back surface 22.

図6および図9に示すように、素子主面21は、ダイパッド1の搭載面11と同方向を向く。素子主面21には、複数の電極パッド211が設けられている。各々の電極パッド211は、半導体素子2の内部に組み込まれた回路に導通している。電極パッド211は、たとえばAlから構成される。本実施形態では、各々の電極パッド211にワイヤ4が接続されている。また、図6および図9に示すように、素子裏面22は、厚さ方向zにおいて搭載面11とは反対側を向く。素子裏面22は、搭載面11に対向している。   As shown in FIGS. 6 and 9, the element main surface 21 faces the same direction as the mounting surface 11 of the die pad 1. A plurality of electrode pads 211 are provided on the element main surface 21. Each electrode pad 211 is electrically connected to a circuit incorporated in the semiconductor element 2. The electrode pad 211 is made of Al, for example. In the present embodiment, the wire 4 is connected to each electrode pad 211. Further, as shown in FIGS. 6 and 9, the element back surface 22 faces the side opposite to the mounting surface 11 in the thickness direction z. The element back surface 22 faces the mounting surface 11.

接合層29は、図6および図9に示すように、ダイパッド1の搭載面11と半導体素子2の素子裏面22との間に介在する。接合層29は、たとえばAgを含むエポキシ樹脂を主剤とした合成樹脂(いわゆるAgペースト)から構成される。半導体素子2は、接合層29を介して搭載面11に搭載されている。   As shown in FIGS. 6 and 9, the bonding layer 29 is interposed between the mounting surface 11 of the die pad 1 and the element back surface 22 of the semiconductor element 2. The bonding layer 29 is made of, for example, a synthetic resin (so-called Ag paste) mainly composed of an epoxy resin containing Ag. The semiconductor element 2 is mounted on the mounting surface 11 via the bonding layer 29.

複数の端子3は、図3に示すように、平面視においてダイパッド1を囲むように配置され、かつ半導体素子2に導通している。複数の端子3は、いずれもダイパッド1が由来とするリードフレームから構成される。複数の端子3は、第1方向xに沿って配列された複数の第1端子3aと、第2方向yに沿って配列された複数の第2端子3bとを含む。本実施形態では、複数の第1端子3aは、平面視かつ第2方向yにおいて互いに離間した半導体装置A10の二辺において、それぞれ7つ配列されている。また、複数の第2端子3bは、平面視かつ第1方向xにおいて互いに離間した半導体装置A10の二辺において、それぞれ7つ配列されている。なお、半導体装置A10における複数の第1端子3aおよび第2端子3bの配列数は、本実施形態に限定されない。複数の端子3は、いずれも同一形状である。本実施形態では、端子3は、端子主面31、端子裏面32、端子外側面33および端子内側面34を有する。   As shown in FIG. 3, the plurality of terminals 3 are disposed so as to surround the die pad 1 in a plan view and are electrically connected to the semiconductor element 2. The plurality of terminals 3 are each composed of a lead frame from which the die pad 1 is derived. The plurality of terminals 3 include a plurality of first terminals 3a arranged along the first direction x and a plurality of second terminals 3b arranged along the second direction y. In the present embodiment, seven first terminals 3a are arranged on each of two sides of the semiconductor device A10 in plan view and separated from each other in the second direction y. The plurality of second terminals 3b are arranged in seven on each of the two sides of the semiconductor device A10 that are separated from each other in the first direction x in plan view. Note that the number of arrangements of the plurality of first terminals 3a and second terminals 3b in the semiconductor device A10 is not limited to this embodiment. The plurality of terminals 3 have the same shape. In the present embodiment, the terminal 3 has a terminal main surface 31, a terminal back surface 32, a terminal outer surface 33, and a terminal inner surface 34.

図3および図8に示すように、端子主面31は、ダイパッド1の搭載面11と同方向を向き、かつ形状が帯状である。端子主面31は、封止樹脂5に覆われている。端子主面31には、ワイヤ4が接続されており、端子3は、ワイヤ4を介して半導体素子2に導通している。   As shown in FIGS. 3 and 8, the terminal main surface 31 faces the same direction as the mounting surface 11 of the die pad 1 and has a strip shape. The terminal main surface 31 is covered with the sealing resin 5. A wire 4 is connected to the terminal main surface 31, and the terminal 3 is electrically connected to the semiconductor element 2 through the wire 4.

図2および図8に示すように、端子裏面32は、ダイパッド1のパッド裏面12と同方向を向き、かつ封止樹脂5から露出している。複数の第1端子3aおよび第2端子3bにおける端子裏面32は、いずれも平面視における半導体装置A10の各辺に接して配列されている。   As shown in FIGS. 2 and 8, the terminal back surface 32 faces the same direction as the pad back surface 12 of the die pad 1 and is exposed from the sealing resin 5. Terminal back surfaces 32 of the plurality of first terminals 3a and second terminals 3b are all in contact with each side of the semiconductor device A10 in plan view.

図2〜図6および図8に示すように、端子外側面33は、端子主面31および端子裏面32の双方に交差し、かつ外側を向く。本実施形態では、端子外側面33は、厚さ方向zに沿って端子裏面32から端子主面31に向けて起立している。端子外側面33は、封止樹脂5から露出し、かつ第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方を向く。端子外側面33は、平坦面である。   As shown in FIGS. 2 to 6 and 8, the terminal outer surface 33 intersects both the terminal main surface 31 and the terminal back surface 32 and faces outward. In the present embodiment, the terminal outer surface 33 stands up from the terminal back surface 32 toward the terminal main surface 31 along the thickness direction z. The terminal outer surface 33 is exposed from the sealing resin 5 and faces one of the first direction x and the second direction y. The terminal outer surface 33 is a flat surface.

図3および図8に示すように、端子内側面34は、端子裏面32に交差し、かつ端子外側面33とは反対側を向く。厚さ方向zにおいて、端子主面31と端子裏面32との間に位置する端子内側面34の上端は、第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方に向けて屈曲している。端子内側面34は、封止樹脂5に覆われている。   As shown in FIGS. 3 and 8, the terminal inner surface 34 intersects the terminal back surface 32 and faces the side opposite to the terminal outer surface 33. In the thickness direction z, the upper end of the terminal inner side surface 34 located between the terminal main surface 31 and the terminal back surface 32 is bent toward either the first direction x or the second direction y. The terminal inner surface 34 is covered with the sealing resin 5.

図3、図6および図8に示すように、端子3には、端子主面31と面一であり、かつ端子内側面34からダイパッド1に向けて突出する庇状の端子突出部35が形成されている。端子突出部35は、端子端面351および端子中間面352を有する。端子端面351は、厚さ方向zに沿っており、かつ第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方を向く。端子端面351は、ダイパッド1のパッド突出部15のパッド端面151に対向している。端子中間面352は、端子裏面32と同方向を向き、かつ端子端面351に交差している。端子中間面352は、端子3の内部において端子内側面34につながっている。厚さ方向zにおいて、端子主面31から端子中間面352までの距離は、端子主面31から端子裏面32までの距離の約半分である。端子突出部35は、封止樹脂5に覆われている。   As shown in FIGS. 3, 6, and 8, the terminal 3 is formed with a hook-like terminal protrusion 35 that is flush with the terminal main surface 31 and protrudes from the terminal inner surface 34 toward the die pad 1. Has been. The terminal protrusion 35 has a terminal end surface 351 and a terminal intermediate surface 352. The terminal end surface 351 is along the thickness direction z and faces either the first direction x or the second direction y. The terminal end surface 351 faces the pad end surface 151 of the pad protrusion 15 of the die pad 1. The terminal intermediate surface 352 faces in the same direction as the terminal back surface 32 and intersects the terminal end surface 351. The terminal intermediate surface 352 is connected to the terminal inner surface 34 inside the terminal 3. In the thickness direction z, the distance from the terminal main surface 31 to the terminal intermediate surface 352 is about half of the distance from the terminal main surface 31 to the terminal back surface 32. The terminal protrusion 35 is covered with the sealing resin 5.

ワイヤ4は、図3、図6、図8および図9に示すように、半導体素子2の電極パッド211と端子3の端子主面31とを接続している。ワイヤ4によって、複数の端子3は、半導体素子2に導通している。ワイヤ4は、たとえばAuなどの金属材料から構成される。   As shown in FIGS. 3, 6, 8, and 9, the wire 4 connects the electrode pad 211 of the semiconductor element 2 and the terminal main surface 31 of the terminal 3. The plurality of terminals 3 are electrically connected to the semiconductor element 2 by the wires 4. The wire 4 is made of a metal material such as Au.

封止樹脂5は、図6に示すように、半導体素子2と、ダイパッド1および複数の端子3のそれぞれ一部ずつとを覆う。封止樹脂5は、電気絶縁性を有する合成樹脂であり、たとえば黒色のエポキシ樹脂である。封止樹脂5は、樹脂主面51、樹脂裏面52および樹脂側面53を有する。   As shown in FIG. 6, the sealing resin 5 covers the semiconductor element 2 and a part of each of the die pad 1 and the plurality of terminals 3. The sealing resin 5 is a synthetic resin having electrical insulation, for example, a black epoxy resin. The sealing resin 5 has a resin main surface 51, a resin back surface 52, and a resin side surface 53.

図6に示すように、樹脂主面51は、ダイパッド1の搭載面11と同方向を向く。樹脂主面51は、矩形状でかつ平坦面である。図6に示すように、樹脂裏面52は、ダイパッド1のパッド裏面12と同方向を向く。このため、厚さ方向zにおいて樹脂主面51および樹脂裏面52は、互いに反対側を向く。図2に示すように、樹脂裏面52から、ダイパッド1のパッド裏面12およびパッド凹部14と、端子3の端子裏面32とが露出している。図4、図5および図8に示すように、樹脂側面53は、樹脂主面51および樹脂裏面52の双方に交差している。本実施形態では、樹脂側面53は、4つの面から構成されており、各々の樹脂側面53は、第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方を向く。各々の樹脂側面53から、ダイパッド1のパッド斜材16の斜材端面163と、端子3の端子外側面33とが露出している。本実施形態では、端子外側面33は、樹脂側面53と面一である。   As shown in FIG. 6, the resin main surface 51 faces the same direction as the mounting surface 11 of the die pad 1. The resin main surface 51 is a rectangular and flat surface. As shown in FIG. 6, the resin back surface 52 faces in the same direction as the pad back surface 12 of the die pad 1. For this reason, the resin main surface 51 and the resin back surface 52 face each other in the thickness direction z. As shown in FIG. 2, the pad back surface 12 and the pad recess 14 of the die pad 1 and the terminal back surface 32 of the terminal 3 are exposed from the resin back surface 52. As shown in FIGS. 4, 5, and 8, the resin side surface 53 intersects both the resin main surface 51 and the resin back surface 52. In the present embodiment, the resin side surface 53 includes four surfaces, and each resin side surface 53 faces one of the first direction x and the second direction y. From each resin side surface 53, the diagonal material end surface 163 of the pad diagonal material 16 of the die pad 1 and the terminal outer surface 33 of the terminal 3 are exposed. In the present embodiment, the terminal outer surface 33 is flush with the resin side surface 53.

内装めっき層61は、図8および図9に示すように、ダイパッド1の搭載面11と、端子3の端子主面31とを覆うように設けられている。内装めっき層61は、搭載面11および端子主面31のいずれか一方に接している。また、接合層29およびワイヤ4の一端は、内装めっき層61に接している。内装めっき層61は、たとえばAgから構成される。   As shown in FIGS. 8 and 9, the interior plating layer 61 is provided so as to cover the mounting surface 11 of the die pad 1 and the terminal main surface 31 of the terminal 3. The interior plating layer 61 is in contact with either the mounting surface 11 or the terminal main surface 31. Further, one end of the bonding layer 29 and the wire 4 is in contact with the interior plating layer 61. The interior plating layer 61 is made of Ag, for example.

外装めっき層62は、図8および図9に示すように、ダイパッド1のパッド裏面12と、端子3の端子裏面32とを覆うように設けられている。外装めっき層62は、パッド裏面12および端子裏面32のいずれか一方に接している。外装めっき層62は、たとえばSnから構成される。   As shown in FIGS. 8 and 9, the exterior plating layer 62 is provided so as to cover the pad back surface 12 of the die pad 1 and the terminal back surface 32 of the terminal 3. The exterior plating layer 62 is in contact with either the pad back surface 12 or the terminal back surface 32. The exterior plating layer 62 is made of Sn, for example.

次に、半導体装置A10の作用効果について説明する。   Next, functions and effects of the semiconductor device A10 will be described.

半導体装置A10では、ダイパッド1には、パッド裏面12から凹むパッド凹部14が形成されている。パッド裏面12およびパッド凹部14は、ともに封止樹脂5の樹脂裏面52から露出している。このような構成をとることによって、封止樹脂5に作用する熱応力の集中を緩和するためにダイパッド1の大きさを縮小した場合であっても、パッド凹部14により封止樹脂5から露出するダイパッド1の表面積について、所定の大きさを確保することができる。したがって、半導体装置A10によれば、封止樹脂5に作用する熱応力の集中を緩和しつつ、放熱性を確保することが可能である。   In the semiconductor device A <b> 10, a pad recess 14 that is recessed from the pad back surface 12 is formed in the die pad 1. Both the pad back surface 12 and the pad recess 14 are exposed from the resin back surface 52 of the sealing resin 5. By adopting such a configuration, even when the size of the die pad 1 is reduced to alleviate the concentration of thermal stress acting on the sealing resin 5, the pad recess 14 exposes the sealing resin 5. A predetermined size can be secured for the surface area of the die pad 1. Therefore, according to the semiconductor device A10, it is possible to ensure heat dissipation while relaxing the concentration of thermal stress acting on the sealing resin 5.

パッド凹部14の構成は、半導体装置A10のように複数の環状溝141や、半導体装置A11のように複数の溝142とすることができる。パッド凹部14は、エッチングによりパッド裏面12に容易に形成することができる。   The configuration of the pad recess 14 can be a plurality of annular grooves 141 as in the semiconductor device A10 or a plurality of grooves 142 as in the semiconductor device A11. The pad recess 14 can be easily formed on the pad back surface 12 by etching.

半導体装置A10では、ダイパッド1には、搭載面11と面一であり、かつパッド側面13から複数の端子3に向けて突出するパッド突出部15が形成されている。このような構成をとることによって、パッド側面13とパッド突出部15のパッド中間面152とが、ともに封止樹脂5に覆われ、パッド突出部15によりダイパッド1が封止樹脂5に支持された状態となる。このため、パッド突出部15によって、封止樹脂5からダイパッド1が脱落することを防止できる。   In the semiconductor device A10, the die pad 1 is formed with a pad protrusion 15 that is flush with the mounting surface 11 and protrudes from the pad side surface 13 toward the plurality of terminals 3. With this configuration, both the pad side surface 13 and the pad intermediate surface 152 of the pad protrusion 15 are covered with the sealing resin 5, and the die pad 1 is supported by the sealing resin 5 by the pad protrusion 15. It becomes a state. For this reason, the pad protrusion 15 can prevent the die pad 1 from falling off the sealing resin 5.

端子3は、封止樹脂5の樹脂側面53から露出する端子外側面33を有する。本実施形態では、端子外側面33は、樹脂側面53と面一である。このような構成をとることによって、半導体装置A10を回路基板に実装する際、端子外側面33がはんだフィレットの形成を促すため、回路基板に対する半導体装置A10の接合強度を向上させることができる。   The terminal 3 has a terminal outer surface 33 exposed from the resin side surface 53 of the sealing resin 5. In the present embodiment, the terminal outer surface 33 is flush with the resin side surface 53. By adopting such a configuration, when the semiconductor device A10 is mounted on the circuit board, the terminal outer surface 33 promotes the formation of solder fillets, so that the bonding strength of the semiconductor device A10 to the circuit board can be improved.

端子3には、端子主面31と面一であり、かつ端子内側面34からダイパッド1に向けて突出する端子突出部35が形成されている。このような構成をとることによって、端子内側面34と端子突出部35の端子中間面352とが、ともに封止樹脂5に覆われ、端子突出部35により端子3が封止樹脂5に支持された状態となる。このため、端子突出部35によって、封止樹脂5から端子3が脱落することを防止できる。   The terminal 3 is formed with a terminal protrusion 35 that is flush with the terminal main surface 31 and protrudes from the terminal inner surface 34 toward the die pad 1. With this configuration, both the terminal inner side surface 34 and the terminal intermediate surface 352 of the terminal protruding portion 35 are covered with the sealing resin 5, and the terminal 3 is supported by the sealing resin 5 by the terminal protruding portion 35. It becomes a state. For this reason, the terminal protrusion 35 can prevent the terminal 3 from dropping from the sealing resin 5.

ダイパッド1および端子3には、搭載面11および端子主面31のいずれか一方に接する内装めっき層61が設けられている。内装めっき層61によって、半導体素子2をダイパッド1に搭載する際、熱衝撃などからダイパッド1を保護することができる。これに加えて、ワイヤ4を端子3に接続する際、熱衝撃などから端子3を保護することができる。   The die pad 1 and the terminal 3 are provided with an interior plating layer 61 in contact with either the mounting surface 11 or the terminal main surface 31. The interior plating layer 61 can protect the die pad 1 from thermal shock or the like when the semiconductor element 2 is mounted on the die pad 1. In addition, when connecting the wire 4 to the terminal 3, the terminal 3 can be protected from thermal shock or the like.

〔第2実施形態〕
図12〜図16に基づき、本発明の第2実施形態にかかる半導体装置A20について説明する。これらの図において、先述した半導体装置A10と同一または類似の要素には同一の符号を付して、重複する説明を省略することとする。
[Second Embodiment]
A semiconductor device A20 according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In these drawings, the same or similar elements as those of the semiconductor device A10 described above are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

本実施形態にかかる半導体装置A20は、ダイパッド1の構成が先述した半導体装置A10と異なる。ここで、図13および図14は、理解の便宜上、封止樹脂5を透過している。図13および図14において透過した封止樹脂5を想像線で示している。また、図13は、理解の便宜上、ワイヤ4を省略している。図16は、図15に示すダイパッド1付近を拡大している。   The semiconductor device A20 according to the present embodiment is different from the semiconductor device A10 described above in the configuration of the die pad 1. Here, FIG. 13 and FIG. 14 are permeate | transmitting the sealing resin 5 for convenience of understanding. In FIG. 13 and FIG. 14, the transmitted sealing resin 5 is indicated by an imaginary line. Further, in FIG. 13, the wire 4 is omitted for convenience of understanding. FIG. 16 is an enlarged view of the vicinity of the die pad 1 shown in FIG.

図12、図13および図16に示すように、本実施形態では、ダイパッド1のパッド凹部14には封止樹脂5が充填されている。なお、本実施形態では、パッド凹部14は先述した半導体装置A11と同じく複数の溝142から構成される。各々の溝142は、第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方に沿って延びている。各々の溝142の両端は、他の溝142に交差している。   As shown in FIGS. 12, 13, and 16, in this embodiment, the pad recess 14 of the die pad 1 is filled with the sealing resin 5. In the present embodiment, the pad recess 14 includes a plurality of grooves 142 as in the semiconductor device A11 described above. Each groove 142 extends along one of the first direction x and the second direction y. Both ends of each groove 142 intersect the other groove 142.

図12〜図16に示すように、本実施形態では、ダイパッド1のパッド裏面12は、パッド中央部121およびパッド外周部122を有する。パッド中央部121は、平面視において半導体装置A20の中央に位置する矩形状の部分である。パッド中央部121の外縁に沿って、パッド凹部14が形成されている。パッド外周部122は、パッド中央部121の周囲に位置する部分である。パッド中央部121およびパッド外周部122は、平面視においてパッド凹部14により隔てられている。本実施形態では、パッド外周部122は、第1方向xにおいて互いに離間した一対の第1領域122aと、第2方向yにおいて互いに離間した一対の第2領域122bとを有する。本発明にかかる特許請求の範囲に記載の「一方向」は、第1方向xまたは第2方向yのいずれかを指す。なお、パッド外周部122は、一対の第1領域122aおよび一対の第2領域122bのいずれか一方のみからなる構成であってもよい。各々の第1領域122aは、第2方向yに沿って延びる帯状である。各々の第2領域122bは、第1方向xに沿って延びる帯状である。   As shown in FIGS. 12 to 16, in this embodiment, the pad back surface 12 of the die pad 1 has a pad center portion 121 and a pad outer peripheral portion 122. The pad center portion 121 is a rectangular portion located in the center of the semiconductor device A20 in plan view. A pad recess 14 is formed along the outer edge of the pad central portion 121. The pad outer peripheral portion 122 is a portion located around the pad central portion 121. The pad central portion 121 and the pad outer peripheral portion 122 are separated by the pad concave portion 14 in plan view. In the present embodiment, the pad outer peripheral portion 122 has a pair of first regions 122a spaced from each other in the first direction x and a pair of second regions 122b spaced from each other in the second direction y. “One direction” described in the claims of the present invention refers to either the first direction x or the second direction y. The pad outer peripheral portion 122 may be configured by only one of the pair of first regions 122a and the pair of second regions 122b. Each first region 122a has a strip shape extending along the second direction y. Each of the second regions 122b has a strip shape extending along the first direction x.

図15および図16に示すように、厚さ方向zにおいて、パッド外周部122の位置は、パッド中央部121の位置に等しい。また、図13〜図16に示すように、本実施形態では、平面視において半導体素子2の一部がパッド外周部122に重なっている。   As shown in FIGS. 15 and 16, the position of the pad outer peripheral portion 122 is equal to the position of the pad central portion 121 in the thickness direction z. As shown in FIGS. 13 to 16, in the present embodiment, a part of the semiconductor element 2 overlaps the pad outer peripheral portion 122 in a plan view.

図13および図14に示すように、本実施形態では、ダイパッド1の搭載面11の端縁には、搭載面凹部111が形成されている。搭載面凹部111は、平面視において搭載面11の四隅からダイパッド1の内側に向かって凹んでいる。本実施形態では、平面視において半導体素子2の一部が搭載面凹部111に重なっている。   As shown in FIGS. 13 and 14, in the present embodiment, a mounting surface recess 111 is formed at the edge of the mounting surface 11 of the die pad 1. The mounting surface recess 111 is recessed from the four corners of the mounting surface 11 toward the inside of the die pad 1 in plan view. In the present embodiment, a part of the semiconductor element 2 overlaps the mounting surface recess 111 in plan view.

なお、図16に示すように、本実施形態では、ダイパッド1には、パッド突出部15が形成されていない。また、図13〜図16に示すように、本実施形態では、ダイパッド1のパッド側面13は、搭載面11およびパッド裏面12の双方に交差している。本実施形態では、パッド側面13は、厚さ方向zに沿ってパッド裏面12から搭載面11に向けて起立している。パッド側面13は、平坦面であり、かつ第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方を向く。   As shown in FIG. 16, in this embodiment, the pad protrusion 15 is not formed on the die pad 1. Further, as shown in FIGS. 13 to 16, in this embodiment, the pad side surface 13 of the die pad 1 intersects both the mounting surface 11 and the pad back surface 12. In the present embodiment, the pad side surface 13 stands up from the pad back surface 12 toward the mounting surface 11 along the thickness direction z. The pad side surface 13 is a flat surface and faces one of the first direction x and the second direction y.

次に、半導体装置A20の作用効果について説明する。   Next, functions and effects of the semiconductor device A20 will be described.

半導体装置A20では、ダイパッド1には、パッド裏面12から凹むパッド凹部14が形成されている。パッド凹部14には、封止樹脂5が充填されている。パッド裏面12は、パッド中央部121およびパッド外周部122を有し、これらは封止樹脂5の樹脂裏面52から露出している。パッド中央部121およびパッド外周部122は、パッド凹部14により互いに隔てられている。このような構成をとることによって、厚さ方向zにおいて搭載面11からパッド裏面12までに至るダイパッド1の領域が複数に分割された状態となる。このため、ダイパッド1の熱膨張に起因した封止樹脂5のひずみが全体に分散され、封止樹脂5に作用する熱応力の集中が緩和される。この場合において、パッド中央部121およびパッド外周部122によりにより封止樹脂5から露出するダイパッド1の表面積について、所定の大きさを確保することができる。したがって、半導体装置A20によっても、封止樹脂5に作用する熱応力の集中を緩和しつつ、放熱性を確保することが可能である。   In the semiconductor device A <b> 20, the pad recess 14 that is recessed from the pad back surface 12 is formed in the die pad 1. The pad recess 14 is filled with a sealing resin 5. The pad back surface 12 has a pad center portion 121 and a pad outer peripheral portion 122, which are exposed from the resin back surface 52 of the sealing resin 5. The pad central portion 121 and the pad outer peripheral portion 122 are separated from each other by the pad concave portion 14. By adopting such a configuration, the region of the die pad 1 extending from the mounting surface 11 to the pad back surface 12 in the thickness direction z is divided into a plurality of states. For this reason, the distortion of the sealing resin 5 due to the thermal expansion of the die pad 1 is dispersed throughout, and the concentration of thermal stress acting on the sealing resin 5 is alleviated. In this case, a predetermined size can be secured for the surface area of the die pad 1 exposed from the sealing resin 5 by the pad central portion 121 and the pad outer peripheral portion 122. Therefore, also by the semiconductor device A20, it is possible to ensure heat dissipation while reducing the concentration of thermal stress acting on the sealing resin 5.

半導体装置A20では、ダイパッド1に形成されたパッド凹部14に封止樹脂5が充填されている。このような構成をとることによって、ダイパッド1が封止樹脂5に支持された状態となるため、封止樹脂5からダイパッド1が脱落することを防止できる。   In the semiconductor device A <b> 20, the sealing resin 5 is filled in the pad recess 14 formed in the die pad 1. By adopting such a configuration, the die pad 1 is supported by the sealing resin 5, so that the die pad 1 can be prevented from falling off from the sealing resin 5.

半導体装置A20では、ダイパッド1の搭載面11の端縁には、搭載面凹部111が形成されている。平面視において半導体素子2の一部が搭載面凹部111に重なっている。さらに、平面視において半導体素子2の一部がパッド外周部122に重なっている。このような構成をとることによって、平面視において、半導体素子2の面積をパッド裏面12よりも大きく確保できるため、半導体素子2に配置された電極パッド211と端子3との距離が短縮される。このため、電極パッド211と端子3とを接続するワイヤ4の長さを短くできるため、半導体装置A20のコスト縮減に寄与する。   In the semiconductor device A <b> 20, a mounting surface recess 111 is formed at the edge of the mounting surface 11 of the die pad 1. A part of the semiconductor element 2 overlaps the mounting surface recess 111 in plan view. Further, a part of the semiconductor element 2 overlaps the pad outer peripheral portion 122 in plan view. By adopting such a configuration, the area of the semiconductor element 2 can be secured larger than the pad back surface 12 in a plan view, so that the distance between the electrode pad 211 arranged on the semiconductor element 2 and the terminal 3 is shortened. For this reason, the length of the wire 4 connecting the electrode pad 211 and the terminal 3 can be shortened, which contributes to cost reduction of the semiconductor device A20.

また、この場合において、厚さ方向zにおいてパッド外周部122の位置をパッド中央部121の位置に等しくすることによって、パッド中央部121およびパッド外周部122が作業台などに対する支持面となる。このため、半導体素子2をダイパッド1に搭載する際、コレット(図示略)などにより半導体素子2をダイパッド1に押し当てたとき、半導体素子2が搭載面11から一様に反力を受ける。したがって、ダイパッド1に対する半導体素子2の接合強度を確保することができる。   In this case, by making the position of the pad outer peripheral portion 122 equal to the position of the pad central portion 121 in the thickness direction z, the pad central portion 121 and the pad outer peripheral portion 122 serve as a support surface for the work table or the like. Therefore, when the semiconductor element 2 is mounted on the die pad 1, when the semiconductor element 2 is pressed against the die pad 1 by a collet (not shown) or the like, the semiconductor element 2 receives a uniform reaction force from the mounting surface 11. Therefore, the bonding strength of the semiconductor element 2 to the die pad 1 can be ensured.

〔第3実施形態〕
図17〜図22に基づき、本発明の第3実施形態にかかる半導体装置A30について説明する。これらの図において、先述した半導体装置A10と同一または類似の要素には同一の符号を付して、重複する説明を省略することとする。
[Third Embodiment]
A semiconductor device A30 according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In these drawings, the same or similar elements as those of the semiconductor device A10 described above are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

本実施形態にかかる半導体装置A30は、複数の端子3および封止樹脂5の構成が先述した半導体装置A10と異なる。また、半導体装置A30は、ワイヤ4に替えて、外部ワイヤ41および内部ワイヤ42を備える。ここで、図18は、理解の便宜上、封止樹脂5を透過している。図18において透過した封止樹脂5を想像線で示している。図21は、図20に示す端子3付近を拡大している。図22の断面位置は、図20の断面位置と同一である。   The semiconductor device A30 according to this embodiment is different from the semiconductor device A10 described above in the configuration of the plurality of terminals 3 and the sealing resin 5. In addition, the semiconductor device A30 includes an external wire 41 and an internal wire 42 instead of the wire 4. Here, FIG. 18 is penetrating the sealing resin 5 for convenience of understanding. In FIG. 18, the transmitted sealing resin 5 is indicated by an imaginary line. FIG. 21 is an enlarged view of the vicinity of the terminal 3 shown in FIG. The cross-sectional position in FIG. 22 is the same as the cross-sectional position in FIG.

図17および図19〜図21に示すように、本実施形態では、封止樹脂5には、樹脂裏面52から凹み、かつ各々の端子3を貫通する溝部54が形成されている。本実施形態では、溝部54は、4箇所形成されており、各々の溝部54は、第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方に沿っている。   As shown in FIGS. 17 and 19 to 21, in this embodiment, the sealing resin 5 is formed with a groove portion 54 that is recessed from the resin back surface 52 and penetrates each terminal 3. In the present embodiment, four groove portions 54 are formed, and each groove portion 54 is along one of the first direction x and the second direction y.

図17および図20に示すように、本実施形態では、各々の端子3は、溝部54に対して外側に位置する外部端子301と、溝部54に対して内側(ダイパッド1側)に位置する内部端子302とを含む。外部端子301および内部端子302は、溝部54によって互いに隔てられている。外部端子301および内部端子302が、各々の第1端子3aおよび第2端子3bを構成している。   As shown in FIGS. 17 and 20, in this embodiment, each terminal 3 includes an external terminal 301 located outside the groove 54 and an internal located inside (die pad 1 side) relative to the groove 54. Terminal 302. The external terminal 301 and the internal terminal 302 are separated from each other by the groove 54. The external terminal 301 and the internal terminal 302 constitute the first terminal 3a and the second terminal 3b, respectively.

図17〜図21に示すように、外部端子301は、端子第1主面311、端子第1裏面321、外部端子外側面331および外部端子内側面341を有する。   As illustrated in FIGS. 17 to 21, the external terminal 301 includes a terminal first main surface 311, a terminal first back surface 321, an external terminal outer surface 331, and an external terminal inner surface 341.

図18、図20および図21に示すように、端子第1主面311は、ダイパッド1の搭載面11と同方向を向く。端子第1主面311には、外部ワイヤ41が接続されている。外部ワイヤ41は、半導体素子2の電極パッド211と端子第1主面311とを接続している。外部ワイヤ41は、たとえばAuなどの金属材料から構成される。また、端子第1主面311には、これに接する内装めっき層61が設けられている。外部ワイヤ41は、内装めっき層61に接している。   As shown in FIGS. 18, 20, and 21, the terminal first main surface 311 faces the same direction as the mounting surface 11 of the die pad 1. An external wire 41 is connected to the terminal first main surface 311. The external wire 41 connects the electrode pad 211 of the semiconductor element 2 and the terminal first main surface 311. The external wire 41 is made of a metal material such as Au. The terminal first main surface 311 is provided with an interior plating layer 61 in contact therewith. The external wire 41 is in contact with the interior plating layer 61.

図17、図20および図21に示すように、端子第1裏面321は、ダイパッド1のパッド裏面12と同方向を向き、かつ封止樹脂5から露出している。複数の第1端子3aおよび第2端子3bにおける端子第1裏面321は、いずれも平面視における半導体装置A10の各辺に接して配列されている。また、端子第1裏面321には、これに接する外装めっき層62が設けられている。   As shown in FIGS. 17, 20, and 21, the terminal first back surface 321 faces the same direction as the pad back surface 12 of the die pad 1 and is exposed from the sealing resin 5. The terminal first back surfaces 321 of the plurality of first terminals 3a and second terminals 3b are all in contact with each side of the semiconductor device A10 in plan view. The terminal first back surface 321 is provided with an exterior plating layer 62 in contact therewith.

図14および図19〜図21に示すように、外部端子外側面331は、端子第1主面311および端子第1裏面321の双方に交差している。本実施形態では、外部端子外側面331は、厚さ方向zに沿って端子第1裏面321から端子第1主面311に向けて起立している。外部端子外側面331は、封止樹脂5の樹脂側面53から露出し、かつ第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方を向く。外部端子外側面331は、平坦面であり、かつ樹脂側面53と面一である。   As shown in FIGS. 14 and 19 to 21, the external terminal outer surface 331 intersects both the terminal first main surface 311 and the terminal first back surface 321. In the present embodiment, the external terminal outer side surface 331 stands from the terminal first back surface 321 toward the terminal first main surface 311 along the thickness direction z. The external terminal outer surface 331 is exposed from the resin side surface 53 of the sealing resin 5 and faces one of the first direction x and the second direction y. The external terminal outer surface 331 is a flat surface and is flush with the resin side surface 53.

図21に示すように、外部端子内側面341は、端子第1裏面321に交差し、かつ外部端子外側面331とは反対側を向く。厚さ方向zにおいて、端子第1主面311と端子第1裏面321との間に位置する外部端子内側面341の上端は、第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方に向けて屈曲している。外部端子内側面341は、封止樹脂5に覆われている。   As shown in FIG. 21, the external terminal inner side surface 341 intersects the terminal first back surface 321 and faces away from the external terminal outer surface 331. In the thickness direction z, the upper end of the external terminal inner side surface 341 located between the terminal first main surface 311 and the terminal first back surface 321 is bent toward either the first direction x or the second direction y. doing. The external terminal inner side surface 341 is covered with the sealing resin 5.

図21に示すように、外部端子301には、端子第1主面311と面一であり、かつ外部端子内側面341から封止樹脂5の溝部54に向けて突出する庇状の外部端子突出部36が形成されている。外部端子突出部36は、外部端子端面361および外部端子中間面362を有する。外部端子端面361は、厚さ方向zに沿っており、かつ第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方を向く。外部端子端面361は、溝部54から露出している。外部端子中間面362は、端子第1裏面321と同方向を向き、かつ外部端子端面361に交差している。外部端子中間面362は、外部端子301の内側において外部端子内側面341につながっている。厚さ方向zにおいて、端子第1主面311から外部端子中間面362までの距離は、端子第1主面311から端子第1裏面321までの距離の約半分である。外部端子突出部36は、外部端子端面361を除いて封止樹脂5に覆われている。   As shown in FIG. 21, the external terminal 301 is flush with the terminal first main surface 311 and protrudes from the external terminal inner surface 341 toward the groove 54 of the sealing resin 5. A portion 36 is formed. The external terminal protrusion 36 has an external terminal end surface 361 and an external terminal intermediate surface 362. The external terminal end surface 361 is along the thickness direction z and faces either the first direction x or the second direction y. The external terminal end surface 361 is exposed from the groove 54. The external terminal intermediate surface 362 faces the same direction as the terminal first back surface 321 and intersects the external terminal end surface 361. The external terminal intermediate surface 362 is connected to the external terminal inner side surface 341 inside the external terminal 301. In the thickness direction z, the distance from the terminal first main surface 311 to the external terminal intermediate surface 362 is about half of the distance from the terminal first main surface 311 to the terminal first back surface 321. The external terminal protrusion 36 is covered with the sealing resin 5 except for the external terminal end surface 361.

図18に示すように、平面視における半導体装置A10の一辺に配列された複数の第1端子3aの一部を構成する複数の外部端子301において、中央に位置する外部端子301の外部端子突出部36は、第2方向yに沿った状態で形成されている。中央に位置する外部端子301から第1方向xに離間して配列された外部端子301の外部端子突出部36は、第2方向yに対して傾斜した状態で形成されている。外部端子301の外部端子突出部36は、中央に位置する外部端子301から第1方向xに遠ざかるほど、第2方向yに対する傾斜が大きくなるように設定されている。また、図18に示すように、平面視における半導体装置A10の一辺に配列された複数の第2端子3bの一部を構成する複数の外部端子301において、中央に位置する外部端子301の外部端子突出部36は、第1方向xに沿った状態で形成されている。中央に位置する外部端子301から第2方向yに離間して配列された外部端子301の外部端子突出部36は、第1方向xに対して傾斜した状態で形成されている。外部端子301の外部端子突出部36は、中央に位置する外部端子301から第2方向yに遠ざかるほど、第1方向xに対する傾斜が大きくなるように設定されている。   As shown in FIG. 18, in the plurality of external terminals 301 constituting a part of the plurality of first terminals 3a arranged on one side of the semiconductor device A10 in plan view, the external terminal protrusions of the external terminals 301 located at the center 36 is formed in a state along the second direction y. The external terminal protrusions 36 of the external terminals 301 arranged away from the external terminal 301 located at the center in the first direction x are formed in an inclined state with respect to the second direction y. The external terminal protrusion 36 of the external terminal 301 is set such that the inclination with respect to the second direction y increases as the distance from the external terminal 301 located at the center increases in the first direction x. In addition, as shown in FIG. 18, in the plurality of external terminals 301 constituting a part of the plurality of second terminals 3b arranged on one side of the semiconductor device A10 in plan view, the external terminals of the external terminal 301 located at the center The protrusion 36 is formed in a state along the first direction x. The external terminal protrusions 36 of the external terminals 301 arranged away from the external terminal 301 located in the center in the second direction y are formed in an inclined state with respect to the first direction x. The external terminal protrusion 36 of the external terminal 301 is set such that the inclination with respect to the first direction x increases as the distance from the external terminal 301 located at the center increases in the second direction y.

図17、図18、図20および図21に示すように、内部端子302は、端子第2主面312、端子第2裏面322および内部端子内側面342を有する。   As shown in FIGS. 17, 18, 20, and 21, the internal terminal 302 has a terminal second main surface 312, a terminal second back surface 322, and an internal terminal inner side surface 342.

図18、図20および図21に示すように、端子第2主面312は、ダイパッド1の搭載面11と同方向を向く。端子第2主面312には、内部ワイヤ42が接続されている。内部ワイヤ42は、半導体素子2の電極パッド211と端子第2主面312とを接続している。内部ワイヤ42は、たとえばAuなどの金属材料から構成される。また、端子第2主面312には、これに接する内装めっき層61が設けられている。内部ワイヤ42は、内装めっき層61に接している。   As shown in FIGS. 18, 20, and 21, the terminal second main surface 312 faces the same direction as the mounting surface 11 of the die pad 1. An internal wire 42 is connected to the terminal second main surface 312. The internal wire 42 connects the electrode pad 211 of the semiconductor element 2 and the terminal second main surface 312. The internal wire 42 is made of a metal material such as Au. The terminal second main surface 312 is provided with an interior plating layer 61 in contact therewith. The internal wire 42 is in contact with the interior plating layer 61.

図17、図20および図21に示すように、端子第2裏面322は、端子第1裏面321と同じくダイパッド1のパッド裏面12と同方向を向き、かつ封止樹脂5から露出している。各々の端子3における端子第2裏面322は、平面視において端子第1裏面321とパッド裏面12との間に位置する。また、複数の第1端子3aおよび第2端子3bにおいて、隣り合う端子第2裏面322どうしの間隔は、隣り合う端子第1裏面321どうしの間隔よりも短く設定されている。   As shown in FIGS. 17, 20, and 21, the terminal second back surface 322 faces the same direction as the pad back surface 12 of the die pad 1 as well as the terminal first back surface 321, and is exposed from the sealing resin 5. The terminal second back surface 322 in each terminal 3 is located between the terminal first back surface 321 and the pad back surface 12 in plan view. In the plurality of first terminals 3a and second terminals 3b, the interval between the adjacent terminal second back surfaces 322 is set to be shorter than the interval between the adjacent terminal first back surfaces 321.

図21に示すように、内部端子内側面342は、端子第2裏面322に交差し、かつ外部端子内側面341に対向している。厚さ方向zにおいて、端子第2主面312と端子第2裏面322との間に位置する内部端子内側面342の上端は、第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方に向けて屈曲している。内部端子内側面342は、封止樹脂5に覆われている。   As shown in FIG. 21, the inner terminal inner surface 342 intersects the terminal second back surface 322 and faces the outer terminal inner surface 341. In the thickness direction z, the upper end of the inner terminal inner side surface 342 positioned between the terminal second main surface 312 and the terminal second back surface 322 is bent toward either the first direction x or the second direction y. doing. The inner terminal inner side surface 342 is covered with the sealing resin 5.

図21に示すように、内部端子302には、端子第2主面312と面一であり、かつ内部端子内側面342から封止樹脂5の溝部54に向けて突出する庇状の内部端子突出部37が形成されている。内部端子突出部37は、内部端子端面371および内部端子中間面372を有する。内部端子端面371は、厚さ方向zに沿っており、かつ第1方向xおよび第2方向yのいずれか一方を向く。内部端子端面371は、溝部54から露出し、かつ外部端子突出部36の外部端子端面361に対向している。内部端子中間面372は、端子第2裏面322と同方向を向き、かつ内部端子端面371に交差している。内部端子中間面372は、内部端子302の内側において内部端子内側面342につながっている。厚さ方向zにおいて、端子第2主面312から内部端子中間面372までの距離は、端子第2主面312から端子第2裏面322までの距離の半分である。内部端子突出部37は、内部端子端面371を除いて封止樹脂5に覆われている。   As shown in FIG. 21, the internal terminal 302 is flush with the terminal second main surface 312 and protrudes from the internal terminal inner surface 342 toward the groove 54 of the sealing resin 5. A portion 37 is formed. The internal terminal protrusion 37 has an internal terminal end surface 371 and an internal terminal intermediate surface 372. The internal terminal end surface 371 is along the thickness direction z and faces either the first direction x or the second direction y. The internal terminal end surface 371 is exposed from the groove portion 54 and faces the external terminal end surface 361 of the external terminal protruding portion 36. The internal terminal intermediate surface 372 faces the same direction as the terminal second back surface 322 and intersects the internal terminal end surface 371. The internal terminal intermediate surface 372 is connected to the internal terminal inner surface 342 inside the internal terminal 302. In the thickness direction z, the distance from the terminal second main surface 312 to the internal terminal intermediate surface 372 is half of the distance from the terminal second main surface 312 to the terminal second back surface 322. The internal terminal protruding portion 37 is covered with the sealing resin 5 except for the internal terminal end surface 371.

図18に示すように、平面視における半導体装置A10の一辺に配列された複数の第1端子3aの一部を構成する複数の内部端子302において、中央に位置する内部端子302の内部端子突出部37は、第2方向yに沿った状態で形成されている。中央に位置する内部端子302から第1方向xに離間して配列された内部端子302の内部端子突出部37は、第2方向yに対して傾斜した状態で形成されている。内部端子302の内部端子突出部37は、中央に位置する内部端子302から第1方向xに遠ざかるほど、第2方向yに対する傾斜が大きくなるように設定されている。また、図18に示すように、平面視における半導体装置A10の一辺に配列された複数の第2端子3bの一部を構成する複数の内部端子302において、中央に位置する内部端子302の内部端子突出部37は、第1方向xに沿った状態で形成されている。中央に位置する内部端子302から第2方向yに離間して配列された内部端子302の内部端子突出部37は、第1方向xに対して傾斜した状態で形成されている。内部端子302の内部端子突出部37は、中央に位置する内部端子302から第2方向yに遠ざかるほど、第1方向xに対する傾斜が大きくなるように設定されている。   As shown in FIG. 18, in the plurality of internal terminals 302 constituting a part of the plurality of first terminals 3 a arranged on one side of the semiconductor device A <b> 10 in a plan view, the internal terminal protruding portion of the internal terminal 302 positioned at the center 37 is formed in a state along the second direction y. The internal terminal protrusions 37 of the internal terminals 302 arranged away from the central internal terminal 302 in the first direction x are formed in an inclined state with respect to the second direction y. The internal terminal protrusion 37 of the internal terminal 302 is set so that the inclination with respect to the second direction y increases as the distance from the internal terminal 302 located at the center increases in the first direction x. In addition, as shown in FIG. 18, among the plurality of internal terminals 302 constituting a part of the plurality of second terminals 3 b arranged on one side of the semiconductor device A <b> 10 in plan view, the internal terminals of the internal terminal 302 positioned at the center The protrusion 37 is formed in a state along the first direction x. The internal terminal protrusions 37 of the internal terminals 302 arranged away from the central internal terminal 302 in the second direction y are formed in an inclined state with respect to the first direction x. The internal terminal protrusion 37 of the internal terminal 302 is set so that the inclination with respect to the first direction x increases as the distance from the internal terminal 302 located at the center increases in the second direction y.

図19〜図21に示すように、封止樹脂5の溝部54には、外部端子突出部36の外部端子端面361と内部端子突出部37の内部端子端面371との間に介在する絶縁体55が注入されている。絶縁体55は、たとえばアンダーフィルに用いられる流動性を有する合成樹脂から構成される。   As shown in FIGS. 19 to 21, the insulator 55 interposed between the external terminal end surface 361 of the external terminal protruding portion 36 and the internal terminal end surface 371 of the internal terminal protruding portion 37 is provided in the groove portion 54 of the sealing resin 5. Has been injected. The insulator 55 is made of a synthetic resin having fluidity used for underfill, for example.

半導体装置A30は、図22に示すように、封止樹脂5を形成した後に樹脂裏面52から刃81を挿入することによって、溝部54と、外部端子301および内部端子302とを同時に形成することができる。   In the semiconductor device A30, as shown in FIG. 22, the groove portion 54, the external terminal 301, and the internal terminal 302 can be simultaneously formed by inserting the blade 81 from the resin back surface 52 after forming the sealing resin 5. it can.

次に、半導体装置A30の作用効果について説明する。   Next, functions and effects of the semiconductor device A30 will be described.

半導体装置A30では、先述した半導体装置A10と同様に、ダイパッド1には、パッド裏面12から凹むパッド凹部14が形成されている。パッド裏面12およびパッド凹部14は、ともに封止樹脂5の樹脂裏面52から露出している。したがって、半導体装置A30によっても、封止樹脂5に作用する熱応力の集中を緩和しつつ、放熱性を確保することが可能である。   In the semiconductor device A30, the pad recess 14 that is recessed from the pad back surface 12 is formed in the die pad 1 as in the semiconductor device A10 described above. Both the pad back surface 12 and the pad recess 14 are exposed from the resin back surface 52 of the sealing resin 5. Therefore, the semiconductor device A30 can also ensure heat dissipation while reducing the concentration of thermal stress acting on the sealing resin 5.

半導体装置A30では、封止樹脂5には、樹脂裏面52から凹み、かつ各々の端子3を貫通する溝部54が形成されている。また、各々の端子3は、溝部54に対して外側に位置し、かつ端子第1裏面321を有する外部端子301と、溝部54に対して内側に位置し、かつ端子第2裏面322を有する内部端子302とを含む。このような構成をとることによって、外部端子301と内部端子302とは電気絶縁された状態となり、各々を独立した端子3とすることができる。外部端子301は、端子第1主面311を有し、端子第1主面311には外部ワイヤ41が接続されている。内部端子302は、端子第2主面312を有し、端子第2主面312には内部ワイヤ42が接続されている。外部ワイヤ41と内部ワイヤ42には、それぞれ異なる電気信号を流すことができる。このため、半導体装置A20では、端子3の増加を図ることができるとともに、より稠密な回路が集積された半導体素子2を備えることができる。   In the semiconductor device A <b> 30, the sealing resin 5 is formed with a groove portion 54 that is recessed from the resin back surface 52 and penetrates each terminal 3. Further, each terminal 3 is located outside the groove 54 and has an external terminal 301 having a terminal first back surface 321, and an inside located inside the groove 54 and a terminal second back 322. Terminal 302. By adopting such a configuration, the external terminal 301 and the internal terminal 302 are in an electrically insulated state, and each can be an independent terminal 3. The external terminal 301 has a terminal first main surface 311, and the external wire 41 is connected to the terminal first main surface 311. The internal terminal 302 has a terminal second main surface 312, and the internal wire 42 is connected to the terminal second main surface 312. Different electrical signals can flow through the external wire 41 and the internal wire 42, respectively. For this reason, in the semiconductor device A20, the number of terminals 3 can be increased, and the semiconductor element 2 in which a denser circuit is integrated can be provided.

外部端子301は、封止樹脂5の樹脂側面53から露出する外部端子外側面331を有する。本実施形態では、外部端子外側面331は、樹脂側面53と面一である。このような構成をとることによって、半導体装置A30を回路基板に実装する際、外部端子外側面331がはんだフィレットの形成を促すため、回路基板に対する半導体装置A30の接合強度を向上させることができる。   The external terminal 301 has an external terminal outer side surface 331 exposed from the resin side surface 53 of the sealing resin 5. In the present embodiment, the external terminal outer surface 331 is flush with the resin side surface 53. By adopting such a configuration, when the semiconductor device A30 is mounted on the circuit board, the outer surface 331 of the external terminal promotes the formation of a solder fillet, so that the bonding strength of the semiconductor device A30 to the circuit board can be improved.

外部端子301には、端子第1主面311と面一であり、かつ外部端子内側面341から封止樹脂5の溝部54に向けて突出する外部端子突出部36が形成されている。このような構成をとることによって、外部端子内側面341と外部端子突出部36の外部端子中間面362とが、ともに封止樹脂5に覆われ、外部端子突出部36により外部端子301が封止樹脂5に支持された状態となる。このため、外部端子突出部36によって、封止樹脂5から外部端子301が脱落することを防止できる。   The external terminal 301 is formed with an external terminal protrusion 36 that is flush with the terminal first main surface 311 and protrudes from the external terminal inner surface 341 toward the groove 54 of the sealing resin 5. By adopting such a configuration, the external terminal inner side surface 341 and the external terminal intermediate surface 362 of the external terminal protruding portion 36 are both covered with the sealing resin 5, and the external terminal 301 is sealed by the external terminal protruding portion 36. The resin 5 is supported. For this reason, the external terminal protrusion 36 can prevent the external terminal 301 from dropping from the sealing resin 5.

また、内部端子302には、端子第2主面312と面一であり、かつ内部端子内側面342から封止樹脂5の溝部54に向けて突出する内部端子突出部37が形成されている。このような構成をとることによって、内部端子内側面342と内部端子突出部37の内部端子中間面372とが、ともに封止樹脂5に覆われ、内部端子突出部37により内部端子302が封止樹脂5に支持された状態となる。このため、内部端子突出部37によって、封止樹脂5から内部端子302が脱落することを防止できる。   Further, the internal terminal 302 is formed with an internal terminal protruding portion 37 that is flush with the terminal second main surface 312 and protrudes from the internal terminal inner surface 342 toward the groove portion 54 of the sealing resin 5. By adopting such a configuration, the inner terminal inner surface 342 and the inner terminal intermediate surface 372 of the inner terminal protruding portion 37 are both covered with the sealing resin 5, and the inner terminal 302 is sealed by the inner terminal protruding portion 37. The resin 5 is supported. For this reason, the internal terminal protrusion 37 can prevent the internal terminal 302 from dropping from the sealing resin 5.

外部端子突出部36の外部端子端面361と、内部端子突出部37の内部端子端面371は、ともに封止樹脂5の溝部54から露出している。溝部54には、外部端子端面361と内部端子端面371との間に介在する絶縁体55が注入されている。このような構成をとることによって、外部端子301と内部端子302との電気絶縁を適切に確保することができる。   Both the external terminal end surface 361 of the external terminal protruding portion 36 and the internal terminal end surface 371 of the internal terminal protruding portion 37 are exposed from the groove portion 54 of the sealing resin 5. An insulator 55 interposed between the external terminal end surface 361 and the internal terminal end surface 371 is injected into the groove portion 54. By adopting such a configuration, it is possible to appropriately ensure electrical insulation between the external terminal 301 and the internal terminal 302.

本発明は、先述した実施形態に限定されるものではない。本発明の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。   The present invention is not limited to the embodiment described above. The specific configuration of each part of the present invention can be changed in various ways.

A10,A11,A20,A30:半導体装置
1:ダイパッド
11:搭載面
111:搭載面凹部
12:パッド裏面
121:パッド中央部
122:パッド外周部
122a:第1領域
122b:第2領域
13:パッド側面
14:パッド凹部
141:環状溝
142:溝
15:パッド突出部
151:パッド端面
152:パッド中間面
16:パッド斜材
161:斜材上面
162:斜材下面
163:斜材端面
2:半導体素子
21:素子主面
211:電極パッド
22:素子裏面
29:接合層
3:端子
3a:第1端子
3b:第2端子
301:外部端子
302:内部端子
31:端子主面
311:端子第1主面
312:端子第2主面
32:端子裏面
321:端子第1裏面
322:端子第2裏面
33:端子外側面
331:外部端子外側面
34:端子内側面
341:外部端子内側面
342:内部端子内側面
35:端子突出部
351:端子端面
352:端子中間面
36:外部端子突出部
361:外部端子端面
362:外部端子中間面
37:内部端子突出部
371:内部端子端面
372:内部端子中間面
4:ワイヤ
41:外部ワイヤ
42:内部ワイヤ
5:封止樹脂
51:樹脂主面
52:樹脂裏面
53:樹脂側面
54:溝部
55:絶縁体
61:内装めっき層
62:外装めっき層
81:刃
C:中心位置
z:厚さ方向
x:第1方向
y:第2方向
A10, A11, A20, A30: Semiconductor device 1: Die pad 11: Mounting surface 111: Mounting surface recess 12: Pad back surface 121: Pad center portion 122: Pad outer peripheral portion 122a: First region 122b: Second region 13: Pad side surface 14: pad recess 141: annular groove 142: groove 15: pad protrusion 151: pad end surface 152: pad intermediate surface 16: pad diagonal material 161: diagonal material upper surface 162: diagonal material lower surface 163: diagonal material end surface 2: semiconductor element 21 : Element main surface 211: electrode pad 22: element back surface 29: bonding layer 3: terminal 3 a: first terminal 3 b: second terminal 301: external terminal 302: internal terminal 31: terminal main surface 311: terminal first main surface 312 : Terminal second main surface 32: Terminal back surface 321: Terminal first back surface 322: Terminal second back surface 33: Terminal outer surface 331: External terminal outer surface 4: Terminal inner surface 341: External terminal inner surface 342: Internal terminal inner surface 35: Terminal protrusion 351: Terminal end surface 352: Terminal intermediate surface 36: External terminal protruding portion 361: External terminal end surface 362: External terminal intermediate surface 37: Internal terminal protrusion 371: Internal terminal end surface 372: Internal terminal intermediate surface 4: Wire 41: External wire 42: Internal wire 5: Sealing resin 51: Resin main surface 52: Resin back surface 53: Resin side surface 54: Groove 55: Insulation Body 61: Interior plating layer 62: Exterior plating layer 81: Blade C: Center position z: Thickness direction x: First direction y: Second direction

Claims (16)

厚さ方向において互いに反対側を向く搭載面およびパッド裏面を有するダイパッドと、
前記搭載面に搭載された半導体素子と、
各々が前記パッド裏面と同方向を向く端子裏面を有するとともに、前記ダイパッドの厚さ方向視において前記ダイパッドを囲むように配置され、かつ前記半導体素子に導通する複数の端子と、
前記パッド裏面と同方向を向く樹脂裏面を有し、かつ前記半導体素子と、前記ダイパッドおよび複数の前記端子のそれぞれ一部ずつとを覆う封止樹脂と、を備える半導体装置であって、
前記パッド裏面および前記端子裏面は、ともに前記樹脂裏面から露出し、
前記ダイパッドには、前記パッド裏面から凹むパッド凹部が形成されていることを特徴とする、半導体装置。
A die pad having a mounting surface and a pad back surface facing opposite sides in the thickness direction;
A semiconductor element mounted on the mounting surface;
A plurality of terminals each having a terminal back surface facing in the same direction as the pad back surface, disposed so as to surround the die pad in the thickness direction of the die pad, and conducting to the semiconductor element;
A semiconductor device having a resin back surface facing in the same direction as the pad back surface, and including the semiconductor element and a sealing resin covering each of the die pad and each of the plurality of terminals,
The pad back surface and the terminal back surface are both exposed from the resin back surface,
The semiconductor device according to claim 1, wherein the die pad has a pad recess recessed from the back surface of the pad.
前記パッド凹部は、前記樹脂裏面から露出している、請求項1に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the pad recess is exposed from the resin back surface. 前記パッド凹部は、前記パッド裏面の中央を囲む複数の環状溝から構成され、
前記パッド裏面において各々の前記環状溝によって囲まれた領域の中心位置は、いずれも同一である、請求項2に記載の半導体装置。
The pad recess is composed of a plurality of annular grooves surrounding the center of the back surface of the pad,
The semiconductor device according to claim 2, wherein the center positions of the regions surrounded by the respective annular grooves on the back surface of the pad are all the same.
前記パッド凹部は、前記厚さ方向に対して直角である方向に沿って延びる複数の溝から構成される、請求項2に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 2, wherein the pad recess is configured by a plurality of grooves extending along a direction perpendicular to the thickness direction. 前記ダイパッドは、前記パッド裏面に交差し、かつ複数の前記端子に対向するパッド側面をさらに有し、
前記ダイパッドには、前記搭載面と面一であり、かつ前記パッド側面から複数の前記端子に向けて突出するパッド突出部が形成されている、請求項2ないし4のいずれかに記載の半導体装置。
The die pad further has a pad side surface that intersects the back surface of the pad and faces the plurality of terminals,
5. The semiconductor device according to claim 2, wherein the die pad includes a pad protrusion that is flush with the mounting surface and protrudes from the side surface of the pad toward the plurality of terminals. .
前記パッド凹部には、前記封止樹脂が充填され、
前記パッド裏面は、パッド中央部と、前記パッド中央部の周囲に位置するパッド外周部と、を有し、
前記パッド中央部および前記パッド外周部は、前記厚さ方向視において前記パッド凹部により互いに隔てられている、請求項1に記載の半導体装置。
The pad recess is filled with the sealing resin,
The pad back surface has a pad center part, and a pad outer peripheral part located around the pad center part,
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the pad central portion and the pad outer peripheral portion are separated from each other by the pad concave portion when viewed in the thickness direction.
前記パッド外周部は、前記厚さ方向に対して直角である一方向において互いに離間した一対の第1領域を有する、請求項6に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 6, wherein the pad outer peripheral portion has a pair of first regions separated from each other in one direction perpendicular to the thickness direction. 前記パッド外周部は、前記厚さ方向および前記一方向の双方に対して直角である方向において互いに離間した一対の第2領域を有する、請求項7に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 7, wherein the pad outer peripheral portion has a pair of second regions spaced from each other in a direction perpendicular to both the thickness direction and the one direction. 前記搭載面の端縁には、前記厚さ方向視において前記搭載面の四隅から前記ダイパッドの内側に向かって凹む搭載面凹部が形成され、
前記厚さ方向視において前記半導体素子の一部が前記搭載面凹部に重なっている、請求項6ないし8のいずれかに記載の半導体装置。
On the edge of the mounting surface, a mounting surface recess is formed that is recessed from the four corners of the mounting surface toward the inside of the die pad in the thickness direction view.
The semiconductor device according to claim 6, wherein a part of the semiconductor element overlaps with the mounting surface recess when viewed in the thickness direction.
前記厚さ方向視において前記半導体素子の一部が前記パッド外周部に重なっている、請求項9に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 9, wherein a part of the semiconductor element overlaps with the outer peripheral portion of the pad when viewed in the thickness direction. 前記厚さ方向において、前記パッド外周部の位置は、前記パッド中央部の位置に等しい、請求項10に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 10, wherein a position of the pad outer peripheral portion is equal to a position of the pad central portion in the thickness direction. 前記端子は、前記搭載面と同方向を向く端子主面をさらに有し、
前記半導体素子と前記端子主面とを接続するワイヤをさらに備える、請求項1ないし11のいずれかに記載の半導体装置。
The terminal further has a terminal main surface facing the same direction as the mounting surface,
The semiconductor device according to claim 1, further comprising a wire connecting the semiconductor element and the terminal main surface.
前記ダイパッドおよび前記端子には、前記搭載面および前記端子主面のいずれか一方に接する内装めっき層が設けられている、請求項12に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 12, wherein the die pad and the terminal are provided with an interior plating layer in contact with either the mounting surface or the terminal main surface. 前記端子は、前記端子主面および前記端子裏面の双方に交差し、かつ外側を向く端子外側面をさらに有し、
前記封止樹脂は、前記樹脂裏面に交差する樹脂側面をさらに有し、
前記端子外側面は、前記樹脂側面から露出している、請求項12または13に記載の半導体装置。
The terminal further has a terminal outer surface that intersects both the terminal main surface and the terminal back surface and faces outward.
The sealing resin further has a resin side surface intersecting the resin back surface,
The semiconductor device according to claim 12, wherein the terminal outer surface is exposed from the resin side surface.
前記端子は、前記端子裏面に交差し、かつ前記端子外側面とは反対側を向く端子内側面をさらに有し、
前記端子には、前記端子主面と面一であり、かつ前記端子内側面から前記ダイパッドに向けて突出する端子突出部が形成されている、請求項14に記載の半導体装置。
The terminal further has a terminal inner surface that intersects the terminal back surface and faces away from the terminal outer surface;
The semiconductor device according to claim 14, wherein the terminal is formed with a terminal protruding portion that is flush with the terminal main surface and protrudes from the inner surface of the terminal toward the die pad.
複数の前記端子は、前記厚さ方向に対して直角である第1方向に沿って配列された複数の第1端子と、前記厚さ方向および前記第1方向の双方に対して直角である第2方向に沿って配列された複数の第2端子と、を含み、
前記端子外側面は、前記樹脂側面と面一である、請求項14または15に記載の半導体装置。
The plurality of terminals include a plurality of first terminals arranged along a first direction that is perpendicular to the thickness direction, and a plurality of first terminals that are perpendicular to both the thickness direction and the first direction. A plurality of second terminals arranged along two directions,
The semiconductor device according to claim 14, wherein the terminal outer surface is flush with the resin side surface.
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