JP2018181963A - 塗布膜除去装置、塗布膜除去方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
円形の基板の表面に塗布液を供給して形成された塗布膜の周縁部を除去液により除去する塗布膜除去装置において、
基板を保持して回転する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板の表面の周縁部に、除去液が基板の回転方向の下流側に向かうように、除去液を吐出する除去液ノズルと、
前記除去液ノズルから除去液が吐出される前に当該除去液の表面張力を大きくするための表面張力調整部と、を備えたことを特徴とする。
円形の基板の表面に塗布液を供給して形成された塗布膜の周縁部を除去液により除去する塗布膜除去方法において、
除去液ノズルから除去液を吐出する前に当該除去液の表面張力を大きくするように調整する工程と、
基板を基板保持部に保持して回転させながら、基板の表面の周縁部に、除去液が基板の回転方向の下流側に向かうように、前記除去液ノズルから除去液を吐出する工程と、を含むことを特徴とする。
前記プログラムは本発明の塗布膜除去方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする。
(評価試験1:ハンプ高さ評価)
ウエハWに対して塗布膜の形成ステップとEBRステップを行い、処理後の塗布膜端部のハンプの高さについて評価した。塗布膜はSOC(Spin On Carbon)材料である薬液、溶剤はOK−73とし、カット位置をウエハ外縁から2.5mm内側の位置とした。ハンプ高さは段差測定器を用いて求め、塗布膜表面からの高さをハンプ高さとし、除去液に希釈水を混合する場合(OK−73+DIW:体積比率90%)と、除去液に希釈水を混合しない場合(OK−73)とについて夫々ハンプ高さを測定した。
ウエハWに対して塗布膜の形成ステップを行った後、OK−73よりなる除去液と希釈水とを混合した除去液を用いてEBRステップを行った。除去液と希釈水との体積比率を変えて、夫々EBRステップを行い、カット面の形状について評価した。塗布膜はSOC(Spin On Carbon)材料である薬液、カット位置をウエハ外縁から2.5mm内側の位置とし、カット面形状についてはエッジ検査装置を用いて塗布膜端部について撮像することにより評価した。EBR条件は、停止時間:0秒、回転数:2400rpm、繰り返し回数:1回〜5回とした。
ウエハWに対して塗布膜の形成ステップとEBRステップを行い、カット面の平滑性について評価した。塗布膜はSOC(Spin On Carbon)材料である薬液、除去液はOK−73とし、カット位置をウエハ外縁から2.5mm内側の位置とした。カット面の平滑性についてはエッジ検査装置を用いて、除去液に希釈水を混合する場合(体積比率90%)と、除去液に希釈水を混合しない場合とについて夫々評価した。
11 スピンチャック
21 回転機構
3 除去液ノズル
5 除去液供給路
54 希釈水供給路
52、56 冷却機構
W ウエハ
Claims (10)
- 円形の基板の表面に塗布液を供給して形成された塗布膜の周縁部を除去液により除去する塗布膜除去装置において、
基板を保持して回転する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板の表面の周縁部に、除去液が基板の回転方向の下流側に向かうように、除去液を吐出する除去液ノズルと、
前記除去液ノズルから除去液が吐出される前に当該除去液の表面張力を大きくするための表面張力調整部と、を備えたことを特徴とする塗布膜除去装置。 - 前記表面張力調整部は、除去液の表面張力を、調整前の表面張力と比較して1.1mN/m以上大きくするように構成されていることを特徴とする請求項1記載の塗布膜除去装置。
- 前記表面張力調整部は、除去液の表面張力が29.2mN/m以上となるように調整することを特徴とする請求項1又は2記載の塗布膜除去装置。
- 前記表面張力調整部は、除去液と希釈水とを混合する混合部であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の塗布膜除去装置。
- 前記混合部は、除去液と希釈水との合計に対する除去液の体積比率が75〜95%となるように除去液と希釈水とを混合するように構成されていることを特徴とする請求項4記載の塗布膜除去装置。
- 前記表面張力調整部は、前記除去液を冷却するための冷却部であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の塗布膜除去装置。
- 前記冷却部は、前記除去液を10℃以下に冷却するように構成されていることを特徴とする請求項6記載の塗布膜除去装置。
- 円形の基板の表面に塗布液を供給して形成された塗布膜の周縁部を除去液により除去する塗布膜除去方法において、
除去液ノズルから除去液を吐出する前に当該除去液の表面張力を大きくするように調整する工程と、
基板を基板保持部に保持して回転させながら、基板の表面の周縁部に、除去液が基板の回転方向の下流側に向かうように、前記除去液ノズルから除去液を吐出する工程と、
を含むことを特徴とする塗布膜除去方法。 - 前記除去液の表面張力を大きくするように調整する工程は、除去液と希釈水とを混合する工程及び除去液を冷却する工程のうちの少なくとも一方であることを特徴とする請求項8記載の塗布膜除去方法。
- 円形の基板の表面に塗布液を供給して形成された塗布膜の周縁部を除去液により除去する塗布膜除去装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶する記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項8又は9のいずれか一項に記載の塗布膜除去方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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