JP2018181433A - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 69
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 60
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims abstract description 60
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 120
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 41
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 12
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 7
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 153
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 8
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/873—Encapsulations
- H10K59/8731—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/14—Carrier transporting layers
- H10K50/15—Hole transporting layers
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/14—Carrier transporting layers
- H10K50/16—Electron transporting layers
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/17—Carrier injection layers
- H10K50/171—Electron injection layers
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/81—Anodes
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/82—Cathodes
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/842—Containers
- H10K50/8426—Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K1/189—Printed circuits structurally associated with non-printed electric components characterised by the use of a flexible or folded printed circuit
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10007—Types of components
- H05K2201/10128—Display
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
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- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
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Abstract
【課題】封止膜56のバリア性を確保しながらその上に設ける有機材料との密着性を確保することを目的とする。【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス層ELと、少なくとも最上面が第1無機材料からなり、有機エレクトロルミネッセンス層ELを封止する封止膜56と、有機材料からなり、封止膜56を覆う保護膜64と、第2無機材料からなり、封止膜56の最上面と保護膜64の間に密着して介在する密着層62と、を有する。第1無機材料は、第2無機材料よりも、バリア性が高い。第2無機材料は、第1無機材料よりも、有機材料との密着性が高い。【選択図】図4
Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法に関する。
有機エレクトロルミネッセンス層は、吸湿によって劣化するため、大気から遮断するために封止膜で覆うことが必要である(特許文献1〜3)。封止膜の少なくとも最上面は、バリア性に優れた無機材料からなる。
封止膜の上に、保護膜を設けることがある。保護膜は、製造工程では、封止膜をパターニングするためのエッチングマスクにされる。保護膜は有機材料からなる。封止膜の最上面を構成する無機材料は、バリア性を考慮して選択しているので、その上に設ける有機材料との密着性が低いという問題があった。あるいは、有機材料との密着性が比較的高い無機材料を選択すると、バリア性が低下する。
本発明は、封止膜のバリア性を確保しながらその上に設ける有機材料との密着性を確保することを目的とする。
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス層と、少なくとも最上面が第1無機材料からなり、前記有機エレクトロルミネッセンス層を封止する封止膜と、有機材料からなり、前記封止膜を覆う保護膜と、第2無機材料からなり、前記封止膜の前記最上面と前記保護膜の間に密着して介在する密着層と、を有し、前記第1無機材料は、前記第2無機材料よりも、バリア性が高く、前記第2無機材料は、前記第1無機材料よりも、前記有機材料との密着性が高いことを特徴とする。
本発明によれば、第1無機材料によってバリア性を確保しながら、第2無機材料によって有機材料との密着性を確保することができる。
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス層と、少なくとも最上面を構成する無機膜を含み、前記有機エレクトロルミネッセンス層を封止する封止膜と、有機材料からなり、前記封止膜を覆う保護膜と、無機材料からなり、前記封止膜の前記無機膜と前記保護膜の間に密着して介在する密着層と、を有し、前記無機膜は、前記密着層よりも、バリア性が高く、前記密着層は、前記無機膜よりも、前記保護膜との密着性が高いことを特徴としてもよい。
本発明によれば、無機膜によってバリア性を確保しながら、密着層によって保護膜との密着性を確保することができる。
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法は、有機エレクトロルミネッセンス層を、少なくとも最上面が第1無機材料からなる封止膜で封止する工程と、前記封止膜の前記最上面に密着するように、第2無機材料で密着層を形成する工程と、前記密着層の一部及び前記封止膜の一部を覆うように、有機材料で保護膜を形成する工程と、前記保護膜をエッチングマスクとして、前記密着層及び前記封止膜をエッチングする工程と、を含み、前記第1無機材料は、前記第2無機材料よりも、バリア性が高く、前記第2無機材料は、前記第1無機材料よりも、前記有機材料との密着性が高いことを特徴とする。
本発明によれば、第1無機材料によってバリア性を確保しながら、第2無機材料によって有機材料との密着性を確保することができる。
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法は、少なくとも最上面を構成する無機膜を含む封止膜によって、有機エレクトロルミネッセンス層を封止する工程と、前記封止膜の前記無機膜に密着するように、無機材料で密着層を形成する工程と、前記密着層の一部及び前記封止膜の一部を覆うように、有機材料で保護膜を形成する工程と、前記保護膜をエッチングマスクとして、前記密着層及び前記封止膜をエッチングする工程と、を含み、前記無機膜は、前記密着層よりもバリア性が高く、前記密着層は、前記無機膜よりも、前記保護膜との密着性が高いことを特徴とする。
本発明によれば、無機膜によってバリア性を確保しながら、密着層によって保護膜との密着性を確保することができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。但し、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲において様々な態様で実施することができ、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。本明細書と各図において、既出の図に関して説明したものと同様の機能を備えた要素には、同一の符号を付して、重複する説明を省略することがある。
さらに、本発明の詳細な説明において、ある構成物と他の構成物の位置関係を規定する際、「上に」「下に」とは、ある構成物の直上あるいは直下に位置する場合のみでなく、特に断りの無い限りは、間にさらに他の構成物を介在する場合を含むものとする。
図1は、本発明の実施形態に係る表示装置の平面図である。図2は、本発明の実施形態に係る表示装置の側面図である。表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。表示装置は、例えば、赤、緑及び青からなる複数色の単位画素(サブピクセル)を組み合わせて、フルカラーの画素を形成し、フルカラーの画像を表示するようになっている。表示装置は基板10を有する。基板10は、表示領域DA及び表示領域DAを囲む周辺領域PAを含む。基板10には、周辺領域PAで、第1フレキシブルプリント基板12を接続してもよい。第1フレキシブルプリント基板12には、画像を表示するための素子を駆動するための集積回路チップ14が搭載される。第1フレキシブルプリント基板12には、さらに、第2フレキシブルプリント基板16が接続されていてもよい。第2フレキシブルプリント基板16には、外部との電気的接続のためのコネクタ18が設けられ、電子部品20が搭載される。
図3は、図2に示す表示装置の使用状態を示す図である。表示装置は、基板10を曲げて例えば図示しない筐体に収納される。表示装置は、周辺領域PAで曲げられており、表示領域DAでは平坦な状態に維持される。
図4は、図1に示す表示装置のIV−IV線断面を一部省略して示す拡大図である。基板10は、ポリイミド樹脂やポリエチレンテレフタラート等からなり、例えば10〜20μmの膜厚で可撓性を有する。基板10には、それ自体が含有する不純物に対するバリアとなる下地絶縁膜22が形成されている。下地絶縁膜22は、シリコン酸化膜又はシリコン窒化膜などであり、それらの積層構造であってもよい。例えば、窒化膜、酸化膜及び窒化膜の3層構造であれば、それぞれ、20〜50nm、20〜50nm及び100〜500nmの膜厚を有する。
下地絶縁膜22の上には半導体層24が形成されている。半導体層24は、例えば、アモルファスシリコン層をエキシマレーザでアニール処理して50nmの膜厚で形成するポリシリコン層である。半導体層24にソース電極26及びドレイン電極28が電気的に接続し、半導体層24を覆ってゲート絶縁膜30が形成されている。ゲート絶縁膜30は、化学式がSi(OC2H5)4の化合物であるTEOS(TetraEthOxySilane)などで、80〜100nmの膜厚で形成する。ソース電極26及びドレイン電極28は、Mo、AlNd、MoあるいはTi、Al、Tiなどの積層構造を有し、3層であれば、100〜200nm、300〜600nm及び30〜100nmの膜厚をそれぞれ有する。
ゲート絶縁膜30の上にはゲート電極32が形成され、ゲート電極32を覆って層間絶縁層34が形成されている。ソース電極26及びドレイン電極28は、ゲート絶縁膜30を貫通している。ソース電極26及びドレイン電極28は、表示領域DAでは、層間絶縁層34の直上にあって層間絶縁層34を貫通する。半導体層24、ソース電極26、ドレイン電極28及びゲート電極32並びにゲート絶縁膜30から、薄膜トランジスタTFTの少なくとも一部が構成される。薄膜トランジスタTFTは、表示領域DAに設けられる。表示領域DAでは、ゲート絶縁膜30の直上にゲート電極32がある。薄膜トランジスタTFTを覆うように平坦化層36が設けられている。平坦化層36は、ポリイミド樹脂や感光性アクリル樹脂等の有機材料によって2〜3μmの膜厚で形成する。
平坦化層36の上には、複数の単位画素(サブピクセル)それぞれに対応するように構成される複数の画素電極38(例えば陽極)が設けられている。画素電極38は、MgAgなどで形成する。画素電極38は、電極膜と光反射膜の積層構造になるようにITO(Indium Tin Oxide)、ITO、Ag及びITOの膜を、それぞれ、30〜60nm、30〜60nm、100〜150nm及び10〜20nmtの膜厚で積層してもよい。あるいは、これらの膜厚でIZO(Indium Zinc Oxide)、IZO、Ag及びIZOの膜を積層して、画素電極38を形成してもよい。画素電極38は、平坦化層36を貫通するコンタクトホール40によって、層間絶縁層34の上でソース電極26及びドレイン電極28の一方に電気的に接続している。
画素電極38は、後述する発光素子42の一部を構成するが、キャパシタ44の一方の電極にもなっている。キャパシタ44は、画素電極38と、その下方にある容量電極46と、画素電極38と容量電極46の間に介在する誘電絶縁膜48と、を含む。誘電絶縁膜48は、窒化膜及び酸化膜の積層あるいは窒化膜であって200nm以下の膜厚を有する。容量電極46は、Mo、AlNd及びMoあるいはTi、Al及びTiなどの3層構造からなり、200nm以下の膜厚を有する。キャパシタ44は、画素電極38に供給する電流を制御するための信号を保持する。
画素電極38上に、ポリイミド樹脂やアクリル系樹脂などで、例えば1〜2μmの膜厚を有する絶縁層50が形成されている。絶縁層50は、画素電極38の周縁部に載り、画素電極38の一部(例えば中央部)を開口させるように形成されている。絶縁層50によって、画素電極38の一部を囲むバンクが形成される。
画素電極38上に発光層52が設けられている。発光層52は、画素電極38ごとに別々に(分離して)設けられ、絶縁層50にも載るようになっている。この場合は各画素に対応して青、赤又は緑で発光層52が発光するようになる。各画素に対応する色はこれに限られず、例えば、黄又は白等でもよい。発光層52は、例えば、蒸着により形成される。あるいは、発光層52は、表示領域DA(図1参照)を覆う全面に、複数の画素に亘るように形成してもよい。つまり、発光層52を絶縁層50上で連続するように形成してもよい。この場合、発光層52は溶媒分散による塗布により形成する。発光層52を複数の画素に亘るように形成する場合は、全サブピクセルにおいて白色で発光し、図示しないカラーフィルタを通して所望の色波長部分を取り出す構成になる。
発光層52の上には、対向電極54(共通電極又は陰極)が設けられている。対向電極54は、バンクとなる絶縁層50の上に載る。発光層52並びに発光層52を挟む画素電極38及び対向電極54から発光素子42の少なくとも一部が構成される。発光層52は、画素電極38及び対向電極54に挟まれ、両者間を流れる電流によって輝度が制御されて発光する。複数の発光素子42は、表示領域DAに設けられて、複数の薄膜トランジスタTFTによって駆動される。複数の発光素子42のそれぞれに対応してキャパシタ44が設けられている。
発光層52と画素電極38との間には、図示しない正孔輸送層及び正孔注入層の少なくとも一層を設けてもよい。発光層52と対向電極54との間には、図示しない電子輸送層及び電子注入層の少なくとも一層を設けてもよい。正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層及び電子注入層の少なくとも1層又はそれぞれの層は、画素電極38ごとに分離して設けてもよいし、表示領域の全体にわたって連続するように設けてもよい。発光層52に、必要に応じて正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層及び電子注入層を加えて、有機エレクトロルミネッセンス層ELが構成される。
有機エレクトロルミネッセンス層ELは、封止膜56によって封止されて水分から遮断される。複数の発光素子42は、封止膜56によって封止されている。封止膜56は、少なくとも最上面が、無機膜58によって構成される。無機膜58は第1無機材料からなる。第1無機材料は、窒化ケイ素である。
封止膜56は、厚み方向の中間に有機層60を含む複数層からなる。図4の例では、封止膜56は、一対の無機膜58の間に樹脂などからなる少なくとも一層の有機層60を挟む構造である。一対の無機膜58は、それぞれ、例えば1〜10μmの膜厚を有する。有機層60は、例えば5〜50μmの膜厚を有する。封止膜56は、表示領域DA(図1参照)を覆う。
封止膜56には、密着層62を介して、保護膜64が設けられている。保護膜64は、有機材料からなる。保護膜64は、封止膜56を覆う。密着層62は、封止膜56の最上面と保護膜64の間に密着する。密着層62は、第2無機材料からなる。第2無機材料は、アモルファスシリコン、酸化ケイ素及び酸窒化ケイ素からなる群より選ばれた一の材料である。第2無機材料(密着層62)は、第1無機材料(無機膜58)よりも、有機材料(保護膜64)との密着性が高い。第1無機材料(無機膜58)は、第2無機材料(密着層62)よりも、バリア性が高い。
本実施形態によれば、第1無機材料(無機膜58)によってバリア性を確保しながら、第2無機材料(密着層62)によって有機材料(保護膜64)との密着性を確保することができる。
図5は、図1に示す表示装置のV−V線断面を一部省略して示す拡大図である。対向電極54は、周辺領域PAでカソードコンタクト66を介して周辺回路68に接続されている。周辺領域PAでは、封止膜56の一対の無機膜58がその間にある有機層60からはみ出しており、有機層60の周囲で一対の無機膜58が上下に接触している。また、保護膜64の周縁、封止膜56(一対の無機膜58)の周縁及び密着層62の周縁が一致している。
基板10には、周辺領域PAに複数層が積層されている。複数層は、複数の配線70を含む。配線70は、MoWなどで形成する。配線70が、Ti、Al及びTiの積層構造であれば、それぞれ、100〜200nm、100〜300nm及び100〜200nmの膜厚を有する。複数の配線70は、それぞれ、信号線、走査線、電源線及びグランド線などである。
複数の配線70は、それぞれ、複数の端子72に向かう方向に延びる。複数の端子72は、図1に示す第1フレキシブルプリント基板12に電気的に接続される。端子72は、半導体膜74を含む。半導体膜74は、図4に示す薄膜トランジスタTFTの半導体層24と同じ材料で同時に形成されることで同層に位置する。端子72は、電極膜76を含む。電極膜76は、ソース電極26及びドレイン電極28と同じ材料で同時に形成されることで同層に位置する。半導体膜74と電極膜76が積層されている。
図4に示す表示領域DAにおいて、半導体層24の下にある下地絶縁膜22は、図5に示す周辺領域PAに延びて半導体膜74の下に至る。表示領域DAの層間絶縁層34は、周辺領域PAに延びて、半導体膜74の上で少なくともその中央部に開口78を有する。電極膜76は、層間絶縁層34の開口78では半導体膜74に接触して載るように、開口78の周縁では層間絶縁層34に接触して載るようになっている。
図4に示すゲート絶縁膜30は、図5に示すように、周辺領域PAに至るように延びる。周辺領域PAでは、ゲート絶縁膜30の直上に、複数の配線70がある。配線70は、ゲート電極32と同じ材料で同時に形成され、同層に位置する。
図6は、本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための図である。本実施形態では、端子72を覆うように、封止膜56を形成する。詳しくは、封止膜56の一対の無機膜58が端子72の上で重ねる。こうして、図4に示す有機エレクトロルミネッセンス層ELを封止膜56で封止する。封止膜56は、少なくとも最上面を、上述した第1無機材料から形成する。封止膜56の少なくとも最上面は、無機膜58から構成する。
封止膜56の最上面(無機膜58)に密着するように、上述した第2無機材料で密着層62を形成する。図6に示すように、密着層62も、端子72を覆うように形成する。第2無機材料(密着層62)は、第1無機材料(無機膜58)よりも、有機材料(保護膜64)との密着性が高い。一方で、第1無機材料(無機膜58)は、第2無機材料(密着層62)よりも、バリア性が高い。
密着層62の一部及び封止膜56の一部を覆うように、有機材料で保護膜64を形成する。保護膜64は、端子72の上方の領域を避けるように、フォトリソグラフィによってパターニングする。また、保護膜64は、図3に示すように、基板10の屈曲領域も避けるようにパターニングする。
保護膜64をエッチングマスクとして、密着層62及び封止膜56をエッチングする。エッチングによって、端子72は、封止膜56から露出し、密着層62からも露出する。なお、保護膜64は、その後に除去してもよいが、本実施形態では製品にそのまま残すものとする。これにより、図5に示す表示装置が得られる。
本実施形態によれば、第1無機材料(無機膜58)によってバリア性を確保しながら、第2無機材料(密着層62)によって有機材料(保護膜64)との密着性を確保することができる。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
10 基板、12 第1フレキシブルプリント基板、14 集積回路チップ、16 第2フレキシブルプリント基板、18 コネクタ、20 電子部品、22 下地絶縁膜、24 半導体層、26 ソース電極、28 ドレイン電極、30 ゲート絶縁膜、32 ゲート電極、34 層間絶縁層、36 平坦化層、38 画素電極、40 コンタクトホール、42 発光素子、44 キャパシタ、46 容量電極、48 誘電絶縁膜、50 絶縁層、52 発光層、54 対向電極、56 封止膜、58 無機膜、60 有機層、62 密着層、64 保護膜、66 カソードコンタクト、68 周辺回路、70 配線、72 端子、74 半導体膜、76 電極膜、78 開口。
Claims (7)
- 有機エレクトロルミネッセンス層と、
少なくとも最上面が第1無機材料からなり、前記有機エレクトロルミネッセンス層を封止する封止膜と、
有機材料からなり、前記封止膜を覆う保護膜と、
第2無機材料からなり、前記封止膜の前記最上面と前記保護膜の間に密着して介在する密着層と、
を有し、
前記第1無機材料は、前記第2無機材料よりも、バリア性が高く、
前記第2無機材料は、前記第1無機材料よりも、前記有機材料との密着性が高いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 - 請求項1に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記第1無機材料は、窒化ケイ素であり、
前記第2無機材料は、アモルファスシリコン、酸化ケイ素及び酸窒化ケイ素からなる群より選ばれた一の材料であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 - 有機エレクトロルミネッセンス層と、
少なくとも最上面を構成する無機膜を含み、前記有機エレクトロルミネッセンス層を封止する封止膜と、
有機材料からなり、前記封止膜を覆う保護膜と、
無機材料からなり、前記封止膜の前記無機膜と前記保護膜の間に密着して介在する密着層と、
を有し、
前記無機膜は、前記密着層よりも、バリア性が高く、
前記密着層は、前記無機膜よりも、前記保護膜との密着性が高いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記保護膜の周縁、前記封止膜の周縁及び前記密着層の周縁が一致していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記封止膜は、厚み方向の中間に有機層を含む複数層からなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 - 有機エレクトロルミネッセンス層を、少なくとも最上面が第1無機材料からなる封止膜で封止する工程と、
前記封止膜の前記最上面に密着するように、第2無機材料で密着層を形成する工程と、
前記密着層の一部及び前記封止膜の一部を覆うように、有機材料で保護膜を形成する工程と、
前記保護膜をエッチングマスクとして、前記密着層及び前記封止膜をエッチングする工程と、
を含み、
前記第1無機材料は、前記第2無機材料よりも、バリア性が高く、
前記第2無機材料は、前記第1無機材料よりも、前記有機材料との密着性が高いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 - 少なくとも最上面を構成する無機膜を含む封止膜によって、有機エレクトロルミネッセンス層を封止する工程と、
前記封止膜の前記無機膜に密着するように、無機材料で密着層を形成する工程と、
前記密着層の一部及び前記封止膜の一部を覆うように、有機材料で保護膜を形成する工程と、
前記保護膜をエッチングマスクとして、前記密着層及び前記封止膜をエッチングする工程と、
を含み、
前記無機膜は、前記密着層よりもバリア性が高く、
前記密着層は、前記無機膜よりも、前記保護膜との密着性が高いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017074158A JP2018181433A (ja) | 2017-04-04 | 2017-04-04 | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 |
US15/933,607 US10396303B2 (en) | 2017-04-04 | 2018-03-23 | Organic electroluminescence display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017074158A JP2018181433A (ja) | 2017-04-04 | 2017-04-04 | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018181433A true JP2018181433A (ja) | 2018-11-15 |
Family
ID=63670945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017074158A Pending JP2018181433A (ja) | 2017-04-04 | 2017-04-04 | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10396303B2 (ja) |
JP (1) | JP2018181433A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3506616A1 (en) | 2017-12-26 | 2019-07-03 | Seiko Epson Corporation | Medium feeding apparatus and image reading apparatus |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6990987B2 (ja) * | 2017-04-28 | 2022-01-12 | 日東電工株式会社 | フレキシブル配線回路基板、その製造方法および撮像装置 |
JP7442419B2 (ja) * | 2020-10-29 | 2024-03-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 有機elパネルの製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6866901B2 (en) | 1999-10-25 | 2005-03-15 | Vitex Systems, Inc. | Method for edge sealing barrier films |
JP2007273274A (ja) | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Canon Inc | 有機el素子及びその製造方法 |
JP6139196B2 (ja) | 2013-03-15 | 2017-05-31 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 |
US9806132B2 (en) * | 2013-11-22 | 2017-10-31 | General Electric Company | Organic X-ray detector with barrier layer |
KR102369498B1 (ko) * | 2015-09-07 | 2022-03-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 미러 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
-
2017
- 2017-04-04 JP JP2017074158A patent/JP2018181433A/ja active Pending
-
2018
- 2018-03-23 US US15/933,607 patent/US10396303B2/en active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3506616A1 (en) | 2017-12-26 | 2019-07-03 | Seiko Epson Corporation | Medium feeding apparatus and image reading apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180287086A1 (en) | 2018-10-04 |
US10396303B2 (en) | 2019-08-27 |
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