JP2018181396A - 高記録密度用磁気記録媒体及びその記録再生機構 - Google Patents
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Description
本発明の高記録密度用磁気記録媒体の実施形態について説明する。
表面潤滑剤層14は、磁性層13の外表面に形成された潤滑剤層であり、前述のとおり、磁性層13の表面をn−ヘキサンで洗浄した前後の磁性層13の表面のスペーシングをTSA(Tape Spacing Analyzer)で測定したとき、洗浄後のスペーシングSAと洗浄前のスペーシングSBとの差であるSA−SBから求められる表面潤滑剤層14の厚さTは、3nm以上8nm以下に設定されている。
磁性層13は、磁性体粒子と結合剤とを含むものである。上記磁性体粒子としては平均粒子径が15nm以下のε酸化鉄粒子を用いることが好ましい。
磁性層13の下には、潤滑剤の保持機能と、外部応力(例えば、磁気ヘッドによる加圧力)の緩衝機能とを有する下塗層12を設けることが好ましい。また、下塗層12を設けることにより、磁気記録媒体10の強度が高まるため、磁気記録媒体10を形成する際に、カレンダ処理を可能とし、磁性層13の充填性を向上できる。下塗層12は、非磁性粉末と結合剤と潤滑剤とを含むものである。
非磁性支持体11としては、従来から使用されている磁気記録媒体用の非磁性支持体を使用できる。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミド等からなるフィルム等が挙げられる。
非磁性支持体11の下塗層12が形成されている主面とは反対側の主面(ここでは、下面)には、走行性の向上等を目的としてバックコート層15を設けることが好ましい。バックコート層15の厚さは、好ましくは0.2〜0.8μmであり、より好ましくは0.3〜0.8μmである。バックコート層15の厚さが薄すぎると、走行性向上効果が不十分となり、厚すぎると磁気記録媒体10の全厚が厚くなり、例えば、磁気テープ1巻当たりの記録容量が小さくなる。
次に、本発明の高記録密度用磁気記録媒体の記録再生機構の実施形態について説明する。
[磁性塗料の調製]
表1に示す磁性塗料成分(1)を高速攪拌混合機で高速混合して混合物を調製した。次に、得られた混合物をサンドミルで20分間分散処理した後、表2に示す磁性塗料成分(2)を加えて230分間分散処理し、その後、表3に示す磁性塗料成分(3)を加えて分散液を調製した。次に、得られた分散液と、表4に示す磁性塗料成分(4)とをディスパを用いて撹拌し、これをフィルタでろ過して、磁性塗料を調製した。
表5に示す下塗塗料成分(1)を回分式ニーダで混練することにより混練物を調製した。次に、得られた混練物と、表6に示す下塗塗料成分(2)とをディスパを用いて撹拌して、混合液を調製した。次に、得られた混合液をサンドミルで100分間分散して分散液を調製した後、この分散液と、表7に示す下塗塗料成分(3)とをディスパを用いて撹拌し、これをフィルタでろ過して、下塗塗料を調製した。
表8に示すバックコート層用塗料成分を混合した混合液を、サンドミルで50分間分散して分散液を調製した。得られた分散液にポリイソシアネートを15部加えて撹拌し、これをフィルタでろ過して、バックコート層用塗料を調製した。
非磁性支持体(ポリエチレンナフタレートフィルム、厚さ:5μm)の上に、上記下塗塗料をカレンダ処理後の下塗層の厚さが1.1μmとなるように塗布し、100℃で乾燥して下塗層を形成した。次に、上記下塗層の上に、上記磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが55nmとなるように、ダイコータを用いてコーター張力を4.5N/インチとして塗布し、100℃で乾燥して磁性層を形成した。その後、N−S対抗磁石を用いて垂直方向に強度450kA/mの配向磁界を印加しながら、垂直配向処理を行った。
裁断後の磁気テープに対する潤滑処理を4回行った以外は、実施例1と同様にして、実施例2の評価用磁気テープを作製した。
表1に示す磁性塗料成分(1)のε−Fe2O3磁性粉末の平均粒子径を12nmに変更し、更に裁断後の磁気テープに対する潤滑処理を3回行った以外は、実施例1と同様にして、実施例3の評価用磁気テープを作製した。
磁性層の形成後の垂直配向処理の配向磁界の強度を550A/mに上昇させ、更に裁断後の磁気テープに対する潤滑処理を3回行った以外は、実施例1と同様にして、実施例4の評価用磁気テープを作製した。
表1に示す磁性塗料成分(1)のε−Fe2O3磁性粉末の保磁力を2800〔Oe〕に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例5の評価用磁気テープを作製した。
作製した原反ロールを、7段の金属ロールを有するカレンダ装置で温度90℃、線圧300kg/cmでカレンダ処理し、裁断後の磁気テープに対する潤滑処理を3回行った以外は、実施例1と同様にして、実施例6の評価用磁気テープを作製した。
表1に示す磁性塗料成分(1)のε−Fe2O3磁性粉末の平均粒子径を16nmに変更し、更に裁断後の磁気テープに対する潤滑処理を3回行った以外は、実施例1と同様にして、実施例7の評価用磁気テープを作製した。
裁断後の磁気テープに対して表面処理を行わず、潤滑処理を4回行った以外は、実施例1と同様にして、実施例8の評価用磁気テープを作製した。
磁性層の形成後の垂直配向処理の配向磁界の強度を350A/mに低下させ、更に裁断後の磁気テープに対する潤滑処理を3回行った以外は、実施例1と同様にして、比較例1の評価用磁気テープを作製した。
作製した原反ロールを、7段の金属ロールを有するカレンダ装置で温度110℃、線圧300kg/cmでカレンダ処理し、裁断後の磁気テープに対して表面処理を行わず、潤滑処理を1回行った以外は、実施例1と同様にして、比較例2の評価用磁気テープを作製した。
作製した原反ロールを、7段の金属ロールを有するカレンダ装置で温度90℃、線圧300kg/cmでカレンダ処理し、裁断後の磁気テープに対して表面処理を行わず、潤滑処理を5回行った以外は、実施例1と同様にして、比較例3の評価用磁気テープを作製した。
裁断後の磁気テープに対して表面処理を行わず、潤滑処理を1回行った以外は、実施例1と同様にして、比較例4の評価用磁気テープを作製した。
東英工業社製の振動試料型磁力計“VSM−P7型”(製品名)を用いて、評価用磁気テープのヒステリシス曲線を求めた。上記ヒステリシス曲線から磁性層の厚さ方向の角形比及び保磁力を求めた。具体的には、評価用磁気テープを直径8mmの円形に切断して切断サンプルとし、その切断サンプルを、磁気テープの厚さ方向を外部磁場の印加方向に揃えて20枚積層して測定サンプルとした。振動試料型磁力計からのデータのプロットモードとしては、印加磁界を−16kOe〜16kOeとし、時定数TCを0.03sec、描画ステップを6ビット、ウエイトタイムを0.3secと設定した。
Micro Physics社製のTSA(Tape Spacing Analyzer)を用いて、磁性層の表面をn−ヘキサンで洗浄後のスペーシングSAと、洗浄前のスペーシングSBとを測定し、SA−SBから表面潤滑剤層の厚さTを求めた。
LTOドライブを改造して作製したリニアテープ電磁変換特性測定装置を用いて、これに、書込みトラック幅5μm、読み出しトラック幅2.3μmの誘導型/GMR複合磁気ヘッドを取り付け、テープ速度1.5m/secで、記録波長200nm(G7×1.05倍の線記録密度)の信号を評価用磁気テープに記録して評価した。
実ドライブにおける繰り返し走行耐久性を評価するために、ステンレス鋼製の丸棒を用いて、評価用磁気テープの磁性層の摩擦係数を、繰り返し800パスまで測定した。この摩擦係数が大きくなると、テープ摺動によって走行不良を起こしやすくなり、繰り返し走行耐久性が劣化する。
摩擦係数=In〔測定荷重(g)/63.36(g)〕/0.5π
前述の出力特性の測定で作製したリニアテープ電磁変換特性測定装置を用いて、トラック幅0.2μmのTMRヘッドを取り付けて、テープ速度1.5m/secで、記録波長200nm(G7×1.05倍の線記録密度)の信号を評価用磁気テープに記録し、テープ長さ500mにおけるサーマルアスペリティノイズの個数を測定した。
11 非磁性支持体
12 下塗層
13 磁性層
14 表面潤滑剤層
15 バックコート層
Claims (9)
- 非磁性支持体と、磁性体粒子を含む磁性層とを備える高記録密度用磁気記録媒体であって、
前記磁性層の厚さ方向の角形比が、0.65以上であり、
前記磁性層の表面をn−ヘキサンで洗浄した前後の前記磁性層の表面のスペーシングをTSA(Tape Spacing Analyzer)で測定したとき、洗浄後のスペーシングSAと洗浄前のスペーシングSBとの差であるSA−SBから求められる表面潤滑剤層の厚さTは、3nm以上8nm以下であることを特徴とする高記録密度用磁気記録媒体。 - 前記表面潤滑剤層の厚さTが、7nm以上8nm以下である請求項1に記載の高記録密度用磁気記録媒体。
- 前記磁性層に記録された信号の磁化の長さであって前記磁性層の幅方向の前記磁化の長さを1μm以下とした場合、TMRヘッドで再生される請求項1又は2に記載の高記録密度用磁気記録媒体。
- 前記磁性体粒子は、平均粒子径が15nm以下のε酸化鉄からなる請求項1〜3のいずれか1項に記載の高記録密度用磁気記録媒体。
- 前記ε酸化鉄は、球状の粒子からなる請求項4に記載の高記録密度用磁気記録媒体。
- 前記磁性層の厚さ方向の保磁力が、3000エルステッド〔Oe〕以上である請求項1〜5のいずれか1項に記載の高記録密度用磁気記録媒体。
- 前記洗浄後のスペーシングSAが、5nm以上12nm以下である請求項1〜6のいずれか1項に記載の高記録密度用磁気記録媒体。
- 前記磁性層の平均厚さが、30nm以上200nm以下である請求項1〜7のいずれか1項に記載の高記録密度用磁気記録媒体。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の高記録密度用磁気記録媒体と、TMRヘッドとを含むことを特徴とする高記録密度用磁気記録媒体の記録再生機構。
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