JP2018163247A - 検出装置、パターン形成装置、取得方法、検出方法、および物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の検出装置が適用されるリソグラフィ装置の一例である露光装置1の構成を示す図である。露光装置1において、原版保持部2は、原版3(マスク、レチクル)を保持する。原版保持部2によって保持された原版3は、照明光学系4によって光源5からの光を照射される。投影光学系6は、原版3を透過した光を基板102(ウエハ)に投影する。基板102は、真空吸着など、基板保持部101(チャック)によって保持されている。基板保持部101は、移動可能に構成された基板ステージ7によって支持される。基板保持部101は、基板ステージ7に着脱可能に設けられるが、基板ステージ7と一体に形成されていてもよい。基板ステージ7は例えばX,Y,Z,ωX,ωY,ωZの6軸駆動機構を有し、制御部8からの指示値に基づいて駆動する。基板ステージ7の現在位置はレーザヘッド10,11から基板ステージ上のミラー12へ照射した光の反射光をレーザ測長器13で計測し姿勢量に変換することにより求められる。制御部8は、基板ステージ7の現在位置をレーザ測長器13から取得し、新たな駆動指示値を生成してフィードバックをかけることで基板ステージ7の姿勢を維持する。
y’=g(x,y) (式1)
y=g’(x’,y’) (式2)
y=g’(x’,y’)=y’+Σcy_mn(x’)m(y’)n (式3)
制御部8は、調整用基板200からマーク103(第1マーク)を1つ選び、それを図4において破線で示される位置にある撮像光学系110の視野中心に直接捉え、そのときのステージ座標でリレー光学系100の物側視野原点(0,0)を定義する。段階1の計測においては、リレー光学系100を介さずに調整用基板200の表面側からマークを撮像する。複数存在するマーク103を自然数iでラベルすることにすると、リレー光学系100の物側視野座標(xi,yi)(第1検出値)は、i番目のマーク103を同様に撮像光学系110の視野中心に追い込んだときの相対ステージ座標として取得できる(S1)。このようなステージ相対座標の読み値からリレー光学系の視野における被検物の位置に関する情報が構成される。なお、撮像光学系110の視野中心を使用しているため、撮像光学系110に関してのディストーションの影響は無視できる。
リレー光学系100が理想的なものであれば、理想像点への移動を行った先で撮像光学系110の視野中心に選択したマーク103の像が捉えられるはずである。しかし実際には、リレー光学系100がもつ収差の影響を受けて視野中心からずれた場所に像が見出される。視野中心に像を捉えるためには、そこからさらに(dx,dy)だけステージ移動が必要となり、この追加ステージ移動量(dx,dy)でもって、リレー光学系100の像側視野座標(x’,y’)が、x’=x−dx、y’=y−dyのように定義される。上述の操作をi番目の全てのマーク103に対して行えば、リレー光学系100の像側視野座標の組(x’i,y’i)(第2検出値)が得られる(S4)。
yi=g’(x’i,y’i)=y’i+Σcy_mn(x’i)m(y’i)n (式4)
Yi=Y’i+ΣCy_mn(X’i)m(Y’i)n (式5)
zy_mn=Cy_mn−(z・n0/hn)(Cy_mn−cx_mn) (式6)
yi=y’i+Σzy_mn(x’i)m(y’i)n (式7)
なお、リレー光学系の収差およびテレセントリシティに関する情報は、上記のようにして実測により取得してもよいし、リレー光学系および撮像光学系の設計値に基づくシミュレーションの結果に基づいて推定してもよい。
次に、第2実施形態の露光装置について説明する。第1実施形態では基板保持部101が基板ステージ7上にセットされた後で、実測によってリレー光学系100の収差および各像高における主光線の傾きに関する情報を求めた。これをリレー光学系100に関する初期情報と呼ぶことにする。だが露光シーケンスを多数回実行すると、下記の事由により初期情報の経時的補正が必要となる。本実施形態ではそのことについて説明する。
yi=y’i−Δy’i+Σzy_mn(x’i−Δx’i)m(y’i−Δy’i)n
次に、第3実施形態の露光装置について説明する。第1実施形態ではマーク103の基板のける高さ方向の位置zが既知であるものとして説明を行った。しかし、上述したように、実際にデバイスの製造に使われるプロセスにおいては、マーク103の高さ方向の位置zの不定性が大きく、事実上、高さ方向の位置zが既知パラメタとして扱えないような場合も想定しうる。
図5のS9では、式6により算出された展開係数zx_mnおよびzy_mnをRAM83に記憶するとした。しかし、本実施形態のように高さ位置zを別途求める場合には、S9では、式5により算出された展開係数zx_mnおよびzy_mnをRAM83に記憶すればよい。本実施形態に従い求めたマークの高さ位置zと、RAM83に記憶された展開係数zx_mnおよびzy_mnとを式6に当てはめることにより、高さ位置zに依存した展開係数zx_mnおよびzy_mnを算出することができる。
次に、本発明の一実施形態の露光方法について説明する。本露光方法を実行するには、第1実施形態に係る図4のフローチャートに従う処理または第2実施形態で述べた方法で、リレー光学系100の収差およびテレセントリシティに関する情報を予め取得しておく。それから実際に露光対象となる基板を露光装置に送り込み、基板を保持するための機構に置く。そして、撮像光学系110はリレー光学系100を経由して得られる基板に設けられたマーク103を撮像する。次に、制御部8は、RAM83から読み出されたリレー光学系100の収差およびテレセントリシティに関する情報に基づいて、観察されるマーク103の像ずれ量を式7に従い補正する。最後に、露光装置は補正後に得られたマーク103の位置に関する情報に基づいて位置合わせを実行し、露光を行う。
本発明の実施形態における物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、上記のリソグラフィ装置(露光装置やインプリント装置、描画装置など)を用いて基板に原版のパターンを転写する工程と、かかる工程でパターンが転写された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (13)
- 基板に形成されているマークを検出する検出装置であって、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部の内部に収容された光学系と、
前記光学系を介して前記基板の裏面側から前記マークを撮像する撮像素子と、
前記撮像素子によって撮像された前記マークの像に基づいて前記マークの検出処理を行う処理部と、
を有し、
前記処理部は、前記マークの前記基板における高さ方向の位置と、前記光学系のテレセントリシティに関する情報とに基づいて、検出された前記マークの位置の検出値を補正することを特徴とする検出装置。 - 前記テレセントリシティは、前記光学系の各像高における主光線の傾きの影響に関する情報を含むことを特徴とする請求項1に記載の検出装置。
- 前記処理部は、前記マークの位置の座標の値を変数とする補正関数を用いて前記検出値を補正することを特徴とする請求項1に記載の検出装置。
- 前記補正関数は、前記マークの前記高さ方向の位置に依存した係数を含むことを特徴とする請求項3に記載の検出装置。
- 前記処理部は、キャリブレーションモードにおいて、
前記撮像素子により前記光学系を介さずに調整用基板の表面側から該調整用基板の第1マークを撮像して該第1マークの位置の第1検出値を取得し、
前記撮像素子により前記光学系を介して前記調整用基板の裏面側から前記第1マークを撮像して該第1マークの位置の第2検出値を取得することを、
前記基板保持部によって保持された前記調整用基板の前記第1マークが第1高さ位置にある状態と、該第1高さ位置とは異なる第2高さ位置にある状態のそれぞれで行うことにより、前記テレセントリシティに関する情報を取得する
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の検出装置。 - 前記第1マークの前記第1高さ位置と前記第2高さ位置との変更は、前記調整用基板の表裏を反転することにより行われることを特徴とする請求項5に記載の検出装置。
- 前記処理部は、前記基板保持部の推定変形量に更に基づいて前記検出値を補正することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の検出装置。
- 前記処理部は、前記基板保持部の熱膨張/収縮に関する熱膨張率に基づいて前記推定変形量を推定することを特徴とする請求項7に記載の検出装置。
- 前記マークの前記高さ方向の位置を計測する計測部を更に有することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の検出装置。
- 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の検出装置を含み、基板にパターンを形成するパターン形成装置。
- 基板を保持する基板保持部の内部に収容された光学系の特性情報を取得するための取得方法であって、
撮像素子により、前記光学系を介さずに前記基板保持部によって保持された調整用基板の表面側から該調整用基板の第1マークを撮像して該第1マークの位置の第1検出値を取得し、
前記撮像素子により、前記光学系を介して前記調整用基板の裏面側から前記第1マークを撮像して該第1マークの位置の第2検出値を取得することを、
前記基板保持部によって保持された前記調整用基板の前記第1マークが第1高さ位置にある状態と、該第1高さ位置とは異なる第2高さ位置にある状態のそれぞれで行うことにより、前記光学系のテレセントリシティに関する情報を取得する
ことを特徴とする取得方法。 - 基板に形成されているマークを検出する検出方法であって、
前記基板を保持する基板保持部の内部に収容された光学系を用いて、前記基板の裏面側から前記マークを検出する工程と、
請求項11に記載の取得方法により、前記光学系のテレセントリシティに関する情報を取得する工程と、
前記マークの前記基板における高さ方向の位置と、取得した前記光学系のテレセントリシティに関する情報とに基づいて、検出された前記マークの位置の検出値を補正する工程と、
を有することを特徴とする検出方法。 - 請求項10に記載のパターン形成装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された基板を加工する工程と、
を有し、
前記加工された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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